DE4122435A1 - Verfahren zur herstellung von beschleunigungssensoren und beschleunigungssensor - Google Patents
Verfahren zur herstellung von beschleunigungssensoren und beschleunigungssensorInfo
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Description
Die Erfindung geht aus von einem Verfahren zur Herstellung von Be
schleunigungssensoren nach der Gattung des Hauptanspruches.
Aus der EP A 03 69 352 sind Verfahren für die Herstellung von Be
schleunigungssensoren bekannt, bei denen verschiedene Methoden für
die Verbindung von strukturierten Siliziumplatten mit Glasplatten
oder Siliziumplatten mit oder ohne Hilfsschichten vorgestellt wer
den. Hierbei werden die Siliziumplatten luftdicht miteinander ver
bunden, so daß das eingeschlossene Sensorelement keinen Kontakt mit
der Außenluft bekommt.
Das erfindungsgemäße Verfahren mit den kennzeichnenden Merkmalen des
Hauptanspruchs hat den Vorteil, daß die Dichtheit der Verbindung
verschiedener Platten unmittelbar nach der Verbindung zu prüfen ist.
Insbesondere bei der parallelen Herstellung vieler Sensoren auf ei
nem Wafer, ist es von großem Vorteil, wenn diese Prüfung, in einem
frühen Stadium der Herstellung und ohne zusätzliche Bearbeitung der
Wafer möglich ist. Das Verfahren erlaubt außerdem, den Effekt jedes
weiteren Bearbeitungsschrittes auf die Verbindung der Platten und
auf den Innendruck der Sensoren zu verfolgen. Beim Sensor mit einer
Membran ist der Innendruck jedes Sensors auch nach dem Vereinzeln
der Sensoren jederzeit meßbar.
Durch die in den Unteransprüchen ausgeführten Maßnahmen sind vor
teilhafte Weiterbildungen des im Hauptanspruch gegebenen Verfahrens
bzw. des Sensors möglich.
Bei der Verbindung von mehreren Platten zur Herstellung der Sensoren
erlaubt das erfindungsgemäße Verfahren eine gezielte Lokalisierung
von mangelhaft erfolgten Verbindungen zwischen den Platten. Werden
die Hohlräume über mehrere Platten gebildet, so ist eine Beurteilung
der Verbindung aller beteiligten Platten möglich. Der Vorteil einer
Membran für jeden Sensor ist in der individuellen Beurteilung jedes
einzelnen Sensors zu sehen. Die Beurteilung der Verbindung mehrerer
Sensoren anhand eines neben den Sensoren angeordneten Hohlraums mit
einer Membran benötigt weniger Chipoberfläche und ist daher kosten
günstig. Die Verwendung von Maskierungs- und Ätzprozessen erlaubt
die parallele Herstellung einer Vielzahl von Sensoren. Fertigungs
technisch ist die Verwendung von drei Platten vorteilhaft, wobei das
Sensorelement aus der mittleren Platte herausgearbeitet ist. Die
Ausführung der Membranen in der mittleren Platte ist kostengünstig,
weil dabei die Prozesse für die Herstellung der Sensorelemente auch
für die Herstellung der Membrane genutzt werden. Bei den Sensoren
mit einer Membran ist der Innendruck der Sensoren jederzeit über
prüfbar. Besonders vorteilhaft wird dabei die Membran räumlich neben
die Sensorelemente angeordnet, um die Bewegung der Sensorelemente
nicht durch die Verformung der Membran zu behindern.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Zeichnungen darge
stellt und in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert. Es
zeigen
Fig. 1 den Schnitt durch zwei verbundene Platten,
Fig. 2
einen Schnitt durch vier verbundene Platten,
Fig. 3 einen Sensor
dessen Sensorelement aus der mittleren Platte herausgebildet ist,
Fig. 4 einen Sensor mit neben dem Sensor angeordnetem Hohlraum,
Fig. 5 zeigt die vorteilhafte Anordnung der Membranen bei drei Plat
ten.
Fig. 1 zeigt eine Unterplatte 2 und eine Oberplatte 3, die so bear
beitet und zusammengefügt sind, daß Hohlräume 4, 20 entstehen. In die
Oberplatte 3 ist zumindest ein Hohlraum 4 eingebracht, wobei der
Hohlraum durch Ätzen der Oberplatte gebildet wird. Hierbei ist die
Oberplatte 3 so dünn ausgestaltet, daß sie wie eine Membran verform
bar ist. Das Sensorelement 1, ist hermetisch in einem weiteren Hohl
raum 20 verkapselt. Die beiden Platten 2, 3 können beispielsweise
aus einkristallinem Material wie Silizium, Galliumarsenid, Germanium
oder Quarz bestehen, jedoch auch amorphe Materialien wie Glas sind
verwendbar. Die Verbindung der beiden Platten 2, 3 wird durch Sili
zium-Direkt-Bonden, durch anodisches Bonden, Kleben, Schweißen oder
Löten hergestellt. Die Bearbeitung der Platten wird typischerweise
durch Ätzprozesse wie reaktives Ionenätzen oder anisotrope oder iso
trope chemische Ätzprozesse erfolgen, aber auch mechanische Bearbei
tung und verschiedene Methoden zur Abscheidung von dünnen Filmen
sind anwendbar. Typischerweise werden die mikromechanische Sensor
elemente 1 hermetisch von der sie umgebenden Umwelt getrennt, um
Verschmutzungen oder Beschädigungen zu vermeiden. Dabei ist es sinn
voll, die Sensoren mit einem vom Normaldruck abweichenden Innen
druck zu verschließen. Insbesondere die Verkapselung mit Unterdruck
ist vorteilhaft, um die Reibung der beweglichen Sensorteile an der
Luft zu verringern. Die Membran 5 wird in ihren Dimensionen so aus
gelegt, daß sie durch eine Druckdifferenz zwischen Hohlraum 4 und
Umgebung verformt wird. Der Nachweis der Verformung der Membran kann
beispielsweise durch optische oder mechanische Messung erfolgen. Die
Messung dieser Verformung erlaubt eine Aussage über den eingeschlos
senen Druck im Hohlraum 4. Es ist so möglich, eine Aussage über den
Druck in den Beschleunigungssensoren zu machen, ohne daß die Wafer
zerteilt, kontaktiert oder sonst in irgendeiner Weise weiterbear
beitet werden.
Fig. 2 zeigt vier Platten 21-24 mit drei Hohlräumen 26-28 und Mem
branen 5. Über der Membran 5 des Hohlraums 26 sind die Platten 23, 24
mit Öffnungen 7 versehen, über der Membran des Hohlraums 27 ist die
Platte 24 mit einer Öffnung 7 versehen. Durch diese Öffnungen 7 kann
durch die Verformung der Membran 5 der Innendruck in jedem einzelnen
Hohlraum und somit die Dichtheit der Verbindung von jeweils zwei
Platten bestimmt werden, Hohlraum 26 erlaubt die Beurteilung der
Verbindung der Platten 21 und 22, Hohlraum 27 erlaubt die Beurtei
lung der Verbindung der Platten 22 und 23, und Hohlraum 28 erlaubt
die Beurteilung der Verbindung der Platten 23 und 24. Das in Fig. 2
für vier Platten 21-24 gezeigte Prinzip zur Überprüfung jeder ein
zelnen Verbindung von zwei Platten durch Hohlräume und darüberlie
gender Öffnungen, läßt sich in äquivalenter Weise auf beliebig viele
Platten erweitern.
Fig. 3 zeigt einen Beschleunigungssensor, der durch die Verbindung
der Unterplatte 2, einer mittleren Platte 8 und der Oberplatte 3 ge
bildet wird. Das Sensorelement 1, das im Ausführungsbeispiel aus ei
ner Zunge 32 und aus einer seismischen Masse 31 besteht, wird durch
Ätzprozesse aus der mittleren Platte 8, die aus Silizium oder einem
anderen einkristallinen Material besteht, herausgearbeitet. Die
Oberplatte 3 und die Unterplatte 2 schließen das Sensorelement 1
druckdicht ein. In die Oberplatte, die aus einkristallinen Materia
lien oder Glas besteht, ist durch Ätzprozesse eine Membran 5 einge
arbeitet. Der eingeschlossene Druck und die Qualität der Verbindung
der Platten wird durch die Auslenkung dieser Membran 5 bestimmt. Die
Membran 5 ist dabei räumlich neben dem Sensorelement 1 angeordnet.
Durch diese Maßnahme wird erreicht, daß die Bewegung des Sensorele
mentes 1 nicht durch die Auslenkung der Membran 5 gestört wird.
Fig. 4 zeigt einen Beschleunigungssensor, der wiederum durch die
Verbindung von drei Platten 2, 8, 3 hergestellt wurde und einen sepa
rat neben dem Sensor angeordneten Hohlraum 30. Die Herstellung des
Sensorelementes 1 erfolgt in bekannter Weise, zur Herstellung des
Hohlraums 30 werden die Ätzprozesse der mittleren Platte 8 so ge
führt, daß die mittlere Platte 8 im Bereich des Hohlraumes 30 voll
ständig entfernt ist. Die Oberplatte 3 ist im Bereich des Sensorele
mentes 1 im wesentlichen in ihrer ursprünglichen Dicke erhalten, im
Bereich des Hohlraumes 30 ist sie teilweise als Membran 5 ausge
führt. Die Auslenkung der Membran 5 des Hohlraums 30 erlaubt eine
indirekte Aussage über den im Hohlraum 4 des Sensors eingeschlosse
nen Drucks.
Eine besonders kostengünstige Massenproduktion ist die parallele
Fertigung, bei der oft mehrere Hundert Sensoren durch Zusammenfügen
von nur drei bearbeiteten Wafern hergestellt werden. Für die Bear
beitung der Wafer werden nur Methoden eingesetzt, die alle Sensoren
gleichzeitig bearbeiten, wie beispielsweise Ätztechniken oder Mas
kierungen. Für die parallele Herstellung einer Vielzahl von Be
schleunigungssensoren durch Zusammenfügen von Wafer, ist es oft aus
reichend, die Qualität der Verbindung durch wenige, neben den Senso
ren angeordnete Hohlräume mit einer Membran zu bestimmen.
Der in Fig. 4 gezeigte Hohlraum wird von allen drei im Herstel
lungsprozeß verwendeten Platten gebildet. Die Auslenkung der Membran
zeigt somit nicht die Dichtheit einer einzelnen Verbindung, sondern
die Dichtheit von zwei im Herstellungsprozeß erfolgten Verbindungen
an. Bei Herstellungsprozessen mit mehr als drei Platten läßt sich
die Qualität aller Verbindungen in äquivalenter Weise durch entspre
chende Hohlräume bestimmen.
Fig. 5 zeigt eine weitere Ausbildung der Erfindung bei der Herstel
lung von Sensoren durch Zusammenfügen von drei Platten 2, 8, 3. Die
Herstellung des Sensorelementes 1 erfolgt in bekannter Weise. Neben
dem Sensor sind zwei zusätzliche Hohlräume 9 angeordnet. Die mittle
re Platte 8 ist im Bereich dieser zusätzlichen Hohlräume 9 durch
entsprechende Ätzprozesse teilweise als Membran 5 ausgeführt. Bei
einem der Hohlräume 9 ist die Oberplatte 3, beim anderen die Un
terplatte 2 mit einer Öffnung 7 versehen.
Platten mit dünngeätzten Membranen verlangen besondere Ätzprozesse
und eine besondere Handhabung bei der Herstellung. Fertigungstech
nisch ist es daher kostengünstig, die Membranen 5 aus der mittleren
Platte 8 herauszuarbeiten, da die Prozesse zur Herstellung der Sen
sorelemente auch zur Herstellung der Membranen verwendet werden kön
nen. Durch die in Fig. 5 gezeigten Öffnungen 7 in der Oberplatte 3
und/oder Unterplatte 2 sind die Membranen 5 für eine Messung der
Verformung zugänglich. Die in Fig. 5 gezeigte Ausführung der Erfin
dung ermöglicht zudem eine gezielte Lokalisierung der undichten Ver
bindung.
Claims (10)
1. Verfahren zur Herstellung von Beschleunigungssensoren, bei dem
mindestens eine Oberplatte (3) und eine Unterplatte (2) verbunden
werden, und zwischen den Platten zumindest ein Hohlraum (4) gebil
det wird, dadurch gekennzeichnet, daß zumindest eine der Platten (2,
3) im Bereich des Hohlraums (4) in Form einer Membran (5) ausgebil
det wird, so daß die Membran (5) durch den im Hohlraum (4) einge
schlossenen Druck verformbar wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß bei mehr
als zwei miteinander verbundenen Platten (21-24) im Bereich der Mem
bran (5) Öffnungen (7) vorgesehen werden, so daß alle Membranen (5)
von außen zugänglich sind.
3. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge
kennzeichnet, daß der Hohlraum über mehrere Platten gebildet wird.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge
kennzeichnet, daß in dem Hohlraum das Sensorelement (1) eingebracht
wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß min
destens zwei Hohlräume vorgesehen sind, von denen lediglich ein Teil
eine Membran aufweist und daß in den Teil ohne Membran Sensorelemen
te (1) eingebracht sind.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge
kennzeichnet, daß die Platten durch Maskierung und Ätzprozesse bear
beitet werden.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch ge
kennzeichnet, daß zwischen der Unterplatte (2) und der Oberplatte
(3) eine mittlere Platte (8) eingebracht ist, aus der das Sensorele
ment (1) herausgearbeitet ist.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens
ein weiterer Hohlraum (9) gebildet wird, und daß die mittlere Platte
(8) im Bereich des zumindest einen weiteren Hohlraums (9) teilweise
als Membran (5) ausgebildet ist.
9. Beschleunigungssensor mit einer mittleren Platte (8), aus der ein
Sensorelement (1) herausgearbeitet ist, und mit einer Oberplatte (3)
und einer Unterplatte (2) die das Sensorelement druckdicht ein
schließt, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberplatte (3) und/oder
die Unterplatte (2) im Bereich des Sensorelementes (1) in der Form
einer Membran (5) ausgebildet ist, die durch den Innendruck des Sen
sors verformbar ist.
10. Beschleunigungssensor nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet,
daß Membran (5) und Sensorelement (1) räumlich nebeneinander ange
ordnet sind.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4122435A DE4122435A1 (de) | 1991-07-06 | 1991-07-06 | Verfahren zur herstellung von beschleunigungssensoren und beschleunigungssensor |
US07/900,187 US5310450A (en) | 1991-07-06 | 1992-06-17 | Method of making an acceleration sensor |
CH1989/92A CH684131A5 (de) | 1991-07-06 | 1992-06-24 | Verfahren zur Herstellung von Beschleunigungssensoren und Beschleunigungssensor. |
JP4177933A JPH05188076A (ja) | 1991-07-06 | 1992-07-06 | 加速センサを製造する方法及び加速センサ |
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---|---|---|---|
DE4122435A DE4122435A1 (de) | 1991-07-06 | 1991-07-06 | Verfahren zur herstellung von beschleunigungssensoren und beschleunigungssensor |
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CH (1) | CH684131A5 (de) |
DE (1) | DE4122435A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0664456A1 (de) * | 1994-01-20 | 1995-07-26 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Beschleunigungsmessaufnehmer |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2700065B1 (fr) * | 1992-12-28 | 1995-02-10 | Commissariat Energie Atomique | Procédé de fabrication d'accéléromètres utilisant la technologie silicium sur isolant. |
GB2276976B (en) * | 1993-04-07 | 1996-10-23 | British Aerospace | Method of manufacturing a motion sensor |
DE4315012B4 (de) * | 1993-05-06 | 2007-01-11 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Sensoren und Sensor |
US5425841A (en) * | 1993-06-16 | 1995-06-20 | Kulite Semiconductor Products, Inc. | Piezoresistive accelerometer with enhanced performance |
US5503285A (en) * | 1993-07-26 | 1996-04-02 | Litton Systems, Inc. | Method for forming an electrostatically force balanced silicon accelerometer |
JP3613838B2 (ja) * | 1995-05-18 | 2005-01-26 | 株式会社デンソー | 半導体装置の製造方法 |
US6911727B1 (en) * | 1995-06-06 | 2005-06-28 | Analog Devices, Inc. | Package for sealing an integrated circuit die |
JP3584635B2 (ja) | 1996-10-04 | 2004-11-04 | 株式会社デンソー | 半導体装置及びその製造方法 |
DE69929319T2 (de) * | 1998-04-03 | 2006-08-10 | Alliedsignal Inc. | Beschleunigungsaufnehmer |
US6062461A (en) * | 1998-06-03 | 2000-05-16 | Delphi Technologies, Inc. | Process for bonding micromachined wafers using solder |
FR2787194B1 (fr) * | 1998-12-11 | 2001-01-05 | Sagem | Detecteur d'acceleration de pneumatique de vehicule automobile |
US6761070B2 (en) | 2002-01-31 | 2004-07-13 | Delphi Technologies, Inc. | Microfabricated linear accelerometer |
US7122395B2 (en) * | 2002-12-23 | 2006-10-17 | Motorola, Inc. | Method of forming semiconductor devices through epitaxy |
US6916728B2 (en) * | 2002-12-23 | 2005-07-12 | Freescale Semiconductor, Inc. | Method for forming a semiconductor structure through epitaxial growth |
US6770506B2 (en) * | 2002-12-23 | 2004-08-03 | Motorola, Inc. | Release etch method for micromachined sensors |
US20050235751A1 (en) * | 2004-04-27 | 2005-10-27 | Zarabadi Seyed R | Dual-axis accelerometer |
US7194376B2 (en) * | 2004-04-27 | 2007-03-20 | Delphi Technologies, Inc. | Circuit and method of processing multiple-axis sensor output signals |
DE102004027501A1 (de) * | 2004-06-04 | 2005-12-22 | Robert Bosch Gmbh | Mikromechanisches Bauelement mit mehreren Kavernen und Herstellungsverfahren |
US7250322B2 (en) * | 2005-03-16 | 2007-07-31 | Delphi Technologies, Inc. | Method of making microsensor |
US20060207327A1 (en) | 2005-03-16 | 2006-09-21 | Zarabadi Seyed R | Linear accelerometer |
CN102183677B (zh) * | 2011-03-15 | 2012-08-08 | 迈尔森电子(天津)有限公司 | 集成惯性传感器与压力传感器及其形成方法 |
US9926190B2 (en) * | 2016-01-21 | 2018-03-27 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | MEMS devices and methods of forming the same |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4851080A (en) * | 1987-06-29 | 1989-07-25 | Massachusetts Institute Of Technology | Resonant accelerometer |
JPH0623782B2 (ja) * | 1988-11-15 | 1994-03-30 | 株式会社日立製作所 | 静電容量式加速度センサ及び半導体圧力センサ |
DE4009090A1 (de) * | 1990-03-21 | 1991-09-26 | Bosch Gmbh Robert | Verfahren zur herstellung von mehrschichtigen siliziumstrukturen |
-
1991
- 1991-07-06 DE DE4122435A patent/DE4122435A1/de not_active Withdrawn
-
1992
- 1992-06-17 US US07/900,187 patent/US5310450A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-06-24 CH CH1989/92A patent/CH684131A5/de not_active IP Right Cessation
- 1992-07-06 JP JP4177933A patent/JPH05188076A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0664456A1 (de) * | 1994-01-20 | 1995-07-26 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Beschleunigungsmessaufnehmer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05188076A (ja) | 1993-07-27 |
US5310450A (en) | 1994-05-10 |
CH684131A5 (de) | 1994-07-15 |
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