DE4118725A1 - Verfahren und vorrichtung zur vollstaendigen regeneration von aetzloesungen - Google Patents
Verfahren und vorrichtung zur vollstaendigen regeneration von aetzloesungenInfo
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Description
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren und
eine Vorrichtung zur vollständigen Regeneration von sauren
Ätzlösungen.
Es ist bekannt, daß saure Ätzlösungen, welche als Oxida
tionsmittel FeCl3 oder CuCl2 enthalten zum Lösen von metal
lischem Kupfer, bei der Erzaufbereitung und insbesondere
zum Abätzung von überschüssigem Kupfer von Leiterplatten zu
verwenden. Das Kupfer geht dabei als CuCl in Lösung und die
Oxidationsmittel werden zu FeCl2 bzw. CuCl reduziert.
Es ist weiterhin bekannt, daß man das so gelöste Kupfer
durch Elektrolyse wieder abscheiden und die abgereicherten
Lösungen wieder regenerieren kann. Die Regeneration wird
vorzugsweise ebenfalls elektrolytisch durchgeführt, indem
das beim Ätzvorgang entstandene FeCl2 bzw. CuCl anodisch
wieder zu 3wertigem Eisen bzw. 2wertigem Kupfer oxidiert
wird. Wichtig ist es dabei, eine Abscheidung von Chlor mög
lichst zu vermeiden, indem man die Stromstärke der Elektro
lyse an die Kupfer(I)konzentration im Bereich der Anode
anpaßt, so daß dieses etwa gebildetes Chlorgas vollständig
absorbiert (vgl. DE-C 26 50 912 und DE-A 33 03 594). Bei
den geschilderten Verfahren erweist es sich als nachteilig,
daß das abgeschiedene Kupfer als Pulver (Mohr) anfällt, dem
erhebliche Mengen der Ätzlösungen anhaften. Darüber hinaus
oxidiert dieses Material leicht wieder, was ebenfalls die
Wiederverwendigung beeinträchtigt.
Die vorstehend geschilderten Reaktionen lassen sich durch
die folgenden Reaktionsgleichungen wiedergeben, wobei bei
spielhaft von CuCl2-Ätzlösungen ausgegangen wird.
1.) Cu++ + 2 Cl- + Cu⁰ → 2 Cu⁺ + 2 Cl-
2.) Cu⁺ + Cl- + e- → Cu⁰ + Cl-
(Kathodenreaktion)
(Kathodenreaktion)
3.) 2 Cl- → Cl₂ + 2 e-
(Anodenreaktion)
(Anodenreaktion)
4.) 2 Cu⁺ + 2 Cl- + Cl₂ → 2 CuCl₂
(Regenerationsvorgang)
(Regenerationsvorgang)
Bei der technischen Durchführung dieses Verfahrens wird in
einem mehr oder weniger großen Umfang beim Ätzvorgang als
Nebenreaktion beobachtet, daß ein Teil des beim Ätzvorgang
gebildeten CuCl durch den Sauerstoff der Luft bereits
wieder 2wertigem Kupfer aufoxidiert wird gemäß folgender
Reaktionsgleichung:
5.) 4 Cu⁺ + O₂ + 4 H⁺ → 4 Cu++ + 2 H₂O
(Luftoxidation)
(Luftoxidation)
Diese Nebenreaktion macht sich durch einen Protonen
verbrauch und damit durch einen pH-Anstieg der Ätzlösungen
bemerkbar. Die Luftoxidation tritt insbesondere in Erschei
nung, wenn die Ätzlösungen zum Sprühätzen eingesetzt wer
den, da dann die der Luft ausgesetzte Lösungsoberfläche
besonders groß ist. Insbesondere, wenn nur geringe Mengen
Metall abgeätzt werden, kann diese Luftoxidation erhebliche
Ausmaße annehmen und bis zu 50% der Gesamtoxidation aus
machen. Wird diese Reaktion zu stark, kann es bis zu einer
Ausfällung von Kupfer- oder Eisenoxidhydraten kommen. Um
ein optimales Ätzen aufrechtzuerhalten, ist es daher not
wendig, Salzsäure zuzudosieren, um den pH-Wert konstant zu
halten. In der Bilanz wird dabei jedoch zusätzliches
Kupferchlorid gebildet, welches in irgendeiner Weise wie
derum aus dem Kreislauf ausgeschleust werden muß.
In der EP-B 01 41 905 wird daher vorgeschlagen, eine voll
ständige Regenerierung der Ätzlösung dadurch zu bewirken,
daß anodisch neben der Bildung von Chlor zusätzlich eine
Abscheidung von gasförmigem Sauerstoff erfolgt, indem man
durch ein geeignetes Diaphragma den Zutritt von Chlorid
ionen an die Anode hemmt. Durch die Wahl der Stromdichte
läßt sich weiterhin das Verhältnis von Chlor zur Sauer
stoffbildung steuern, wobei bei geringer Stromdichte rela
tiv viel Chlor und bei hoher Stromdichte relativ viel
Sauerstoff gebildet wird. Es erweist sich dabei als nach
teilig, daß sich dadurch die Verhältnisse bei der Ätzung
nur teilweise umkehren lassen, weil bei geringer Kupferauf
lösung die Luftoxidation im Ätzraum relativ stärker zu tra
gen kommt und andererseits dabei während der Elektrolyse
nur wenig Kupfer abgeschieden werden muß und dadurch die
Stromdichte entsprechend geringer ist, so daß entgegen den
Erfordernissen relativ mehr Chlor und weniger Sauerstoff
anodisch erzeugt wird.
Es bestand daher ein Bedürfnis, ein Verfahren und eine Vor
richtung zu entwickeln, mit der die Ätzlösungen so regene
riert werden können, daß die Verhältnisse im Ätzbereich
sich gerade umkehren, das Kupfer in massiver Schicht abge
schieden wird und Chemikalien nicht bzw. nur insoweit zuge
führt werden müssen, wie sie durch anhaftende Reste an den
geätzten Produkten bzw. an dem abgeschiedenen Kupfer aus
dem System entfernt werden.
Diese Aufgabe wird durch die in den Hauptansprüchen gekenn
zeichneten Merkmale gelöst und durch die Merkmale der
Unteransprüche zusätzlich gefördert.
Gemäß der Erfindung wird die beim Ätzen erhaltene Lösung,
welche üblicherweise eine Kupferkonzentration von 5-100 g/l
bei FeCl3 als Oxidationsmittel und 80-130 g/l bei CuCl2 als
Oxidationsmittel und eine Temperatur von etwa 20 bis 80°C,
vorzugsweise 40-60°C, aus dem Ätzvorgang besitzt, kontinu
ierlich in den Anodenraum einer Elektrolysezelle einleitet,
der durch ein Diaphragma vom Kathodenraum abgeteilt ist.
Über ein Überlauf wird wiederum kontinuierlich die regene
rierte Lösung, gegebenenfalls über ein Pufferbehälter, zur
Ätzvorrichtung zurückgeführt. Das Anodenmaterial besteht
aus Graphit, Blei oder einem anderen geeigneten unlöslichen
Material. Ein Teilstrom der Ätzflüssigkeit wird in dem
Kathodenraum einer zweiten Elektrolysezelle geleitet, wel
cher durch ein Diaphragma unterteilt ist, um eine Strö
mungsführung zu gewährleisten. Die Elektrolysezelle enthält
ferner einen Anodenraum mit einer Tantaloxid oder Edelme
tall beschichteten Anode oder Bleianode, welche in eine
Schwefelsäurelösung eintaucht, die vom Kathodenraum durch
eine kationenselektive Membran getrennt ist. Da die Kup
ferionen in der Lösung weitgehend als Chloridkomplexe nega
tiv geladen sind, können praktisch nur Wasserstoffionen und
aufgrund ihrer hohen Konzentration in geringem Umfang
Chloridionen die Membran passieren. Die Schwefelsäurekon
zentration wird gemäß dem im Katolyt herrschenden osmoti
schen Druck eingestellt, da sie nur der Leitfähigkeitser
zeugung dient, so daß ein Übertritt von Sulfationen in die
Katolytlösung nur in geringem Maße beobachtet wird. Der
Überlauf dieser Zelle wird in den Katolytkreislauf einge
leitet. Ein Teilstrom der Ätzflüssigkeit wird laufend zur
Entkupferung in den Katolytkreislauf beider Zellen einge
leitet, welche als Kathoden dünne Kupferbleche enthalten,
an denen die Katolytflüssigkeit mit einer Strömungsge
schwindigkeit von ungefähr 0,5 bis 5 cm/s vorbeibewegt
wird, um eine möglichst gleichmäßige Abscheidung des
Kupfers als zusammenhängende Schicht zu erreichen. Eine
diesem Teilstrom entsprechende Menge entkupferte Lösung
wird durch eine Verbindungsleitung in den Eingang der
Anodenräume zur Regeneration zurückgeführt. Um die notwen
dige Strömungsgeschwindigkeit aufrechtzuerhalten und die
bei der Elektrolyse erzeugte Wärme abzuführen, wird die
Kathodenflüssigkeit dabei ständig über Wärmeaustauscher
umgepumpt, wobei die Zuführung am Boden und die Abführung
vorzugsweise im oberen Bereich angebracht sind.
Entscheidend für eine optimale Verfahrensführung, d. h. für
die Abscheidung des Kupfers in kompakter Form auf den
Kathodenblechen, und die optimale Regenerierung der
Ätzflüssigkeit ist die Wahl der Verfahrensparameter.
Der Elektrodenabstand wird üblicherweise mit etwa 5 bis
25 cm gewählt, wobei Anoden und Kathoden als Platten ausge
bildet sind, die sich parallel gegenüberstehen. Die ange
legte Spannung beträgt etwa 2 bis 10 Volt und die Strom
dichte an Anode und Kathode 0,01 bis 0,1 Ampere/cm2. Für
technische Ausführungen werden Elektrodenflächen von 0,2
bis 2 m·0,2 bis 2 m gewählt und die Kathoden beim Einhän
gen als dünne Bleche von 0,2 bis 2 mm eingesetzt und nach
Ablagerung einer Kupferschicht von 0,5 bis 2 cm entnommen.
Die Anoden in den Chlorelektrolysezellen werden üblicher
weise aus Graphit gefertigt und verbrauchen sich praktisch
nicht.
Die Anoden in den Sauerstoffelektrolysezellen werden aus
mit Edelmetallen beschichteten Metallen gefertigt.
Eine besonders glatte Abscheidung des Kupfers an den Katho
denblechen wird erreicht, wenn die Kathodenflüssigkeit
Polyglykol in einer Menge von ca. 0,05 bis 5 g/l enthält.
Das Polyglykol ist vorzugsweise Polyethylenglykol mit einem
Molgewicht von 1000-10 000, insbesondere 4000-6000.
Die Steuerung der entsprechenden Prozesse an den Anoden und
Kathoden erfolgt durch die Regulierung des Zulaufs, der so
eingestellt werden sollte, daß bei Kupferätzlösungen im
Katolytraum ein Redoxpotential von 200 bis 500 mV und im
Ablauf des Anolyts ein Redoxpotential von 300 bis 650 mV
eingestellt wird (gemessen gegen Silber/Silberchloridelek
trode). Die elektrische Leistung der sauerstofferzeugenden
Zelle wird über eine Dichtemessung im Anolyten der Chlor
zelle geregelt. Sobald die Dichte der Anolytenlösung den
vorgeschriebenen Wert erreicht hat, d. h. die durch die
Luftoxidation im Ätzkreislauf zusätzlich eingebrachte
Kupfermenge kathodisch abgeschieden ist, wird die Spannung
zurückgenommen.
Soweit benötigt, kann die Kapazität der Anlage erhöht
werden, indem mehrere solcher Zellen parallel geschaltet
werden oder mehrere Anoden und/oder Kathoden sowie entspre
chende Diaphragmen in der gleichen Zelle parallel angeord
net sind.
Überraschenderweise läßt sich auf diese Weise nicht nur
eine kompakte Abscheidung des Kupfers in hoher Reinheit und
eine praktisch vollständige Kreislaufregeneration des Ätz
mittels erzielen, sondern auch eine außerordentlich gute
Stromausbeute in der Größenordnung von etwa 3 bis 3,5 kW-
Stunden/kg Kupfer erzielen, da die Wärmeverluste ver
gleichsweise gering sind. Gegenüber bekannten Verfahren,
bei denen einerseits das Kupfer als Kupfermohr bzw. Kupfer
pulver anfällt, welches wegen der anhaftenden Verunreini
gung nur unwirtschaftlich weiterzuverarbeiten ist, und dem
vergleichsweise etwa doppelt so hohem Stromverbrauch,
erweist sich das erfindungsgemäße Verfahren als außeror
dentlich wirtschaftlich. Darüber hinaus ist es wegen der
getrennten Führung des Chloridoxidationsprozesses und des
Sauerstoffprozesses zusammen mit einer genauen Einstellung
der Kupferkonzentration im Kathodenraum außerordentlich
flexibel und auf die verschiedenen Konzentrationen, die
beim Ätzprozeß anfallen, genau anpaßbar. Da eine Zuführung
von Chemikalien nicht notwendig ist und mechanisch bewegte
Teile nicht notwendig werden, ist die Anlage auch störunan
fällig.
Die Fig. 1 zeigt schematisiert eine Vorrichtung zur erfin
dungsgemäßen kontinuierlichen elektrolytischen Regeneration
von Ätzlösungen.
Im einzelnen besteht die Vorrichtung aus einem in zwei Zel
len unterteilten Elektrolysegefäß, d. h. mit der Zelle für
die Chlorentwicklung G1 und der Zelle für die
Sauerstoffentwicklung G2. In G1 sind zwei Graphitanoden 1
und dazwischen eine Katolytzelle 2 dargestellt, welche von
einem Keramikdiaphragma 7 begrenzt ist und in die die
Kupferkathode 5 eingehängt ist. In dem Gefäß G2 sind zwei
Sauerstoffzellen 3, bestehend aus einer äußeren
kationenselektiven Membran 9 und einer Tantal- oder
Titananode 8 angebracht. Der Innenraum ist mit wäßriger
Schwefelsäure gefüllt. Der in der gasdichten Sauerstoff
zelle entwickelte Sauerstoff, welcher Anteile von Chlor
enthält, wird über ein Diaphragmenrohr 10 durch die Analyt
lösung hindurchgeperlt und dabei das enthaltene Chlor
absorbiert. Die am Boden des Diaphragmas 7 eingeführte
Katolytlösung läuft am oberen Ende über und wird durch den
Überlauf der Zelle wieder in den Kreislauf zurückgeführt.
Weiterhin sind in der Zeichnung dargestellt die Zuführungs
leitungen für die Ätzlösung 11, die Ableitung der regene
rierten Ätzlösung 12 und eine Umwälzleitung für die
Katolytflüssigkeit 13. Anolyt und Katolyt werden jeweils am
Boden der Elektrolysegefäße zugeführt und an der Oberseite
abgezogen, da dies eine optimale Elektrolyse ermöglicht. Um
abgeschiedenes Kupfer im Katolytkreislauf zu ersetzen, wird
über die Cu-Zuführung 15 Ätzlösung eingespeist und entspre
chend über die Katolytableitung 14 an Kupfer verarmte
Lösung in den Anolyten zurückgeführt.
Bezugszeichenliste
G1 Cl₂-Gefäß
G2 O₂-Gefäß
1 Graphitplatten
2 Katolytzelle, Cl₂-Modul
3 Sauerstoffzelle
4 Katolytzelle O₂-Modul
5 Cu-Kathode
6 äußerer Katolytraum
7 Keramikdiaphragmen
8 Sauerstoffanode
9 kationselektive Membran
10 Diaphragmenrohr
11 Ätzlösungszuleitung
12 Ätzlösungsableitung
13 Katolytumwälzung
14 Katolytableitung
15 Cu-Zuführung
G2 O₂-Gefäß
1 Graphitplatten
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8 Sauerstoffanode
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10 Diaphragmenrohr
11 Ätzlösungszuleitung
12 Ätzlösungsableitung
13 Katolytumwälzung
14 Katolytableitung
15 Cu-Zuführung
Claims (11)
1. Verfahren zum elektrolytischen Regenerieren von sauren
Kupferätzlösungen, welche FeCl3 oder CuCl2 als Oxida
tionsmittel enthalten, durch kathodische Abscheidung
von Kupfer und anodische Oxidation der verbrauchten
Ätzlösung, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektrolyse
in zwei getrennten Zellen durchgeführt wird, wobei in
der einen aus der Ätzlösung anodisch Chlor gebildet
und zur Oxidation des verbrauchten Ätzmittels dient
und in der anderen die Anode sich in einer wäßrigen
Schwefelsäure befindet, welche durch eine kationen
selektive Membran von der Ätzlösung getrennt ist, wo
durch anodisch gasförmiger Sauerstoff abgeschieden
wird, und Einstellen des Verhältnisses zwischen
Chloroxidation und Sauerstoffoxidation unter Umkehrung
der beim Ätzen eingetretenen Veränderungen.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Stromdichte auf 0,01 bis 0,1 A/cm2 eingestellt
wird, die Kathode aus Kupferblech besteht und das Kup
fer als Schicht abgeschieden wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeich
net, daß die Chloranode aus Graphit, Blei oder mit
Edelmetallen beschichtete Metalle und die Sauerstoff
anode aus mit Edelmetallen oder Tantaloxid beschich
tete Metalle bestehen.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß das Verfahren durch die
Redoxpotentiale im Kathoden- und Anodenraum sowie die
Dichte der Lösungen gesteuert wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß die Katolytflüssigkeit laufend um
gepumpt und von unten nach oben laminar an den Katho
den mit einer Geschwindigkeit von 0,5 bis 5 cm/s
vorbeibewegt wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß mit dem Sauerstoff gebildetes
Chlorgas durch Zuleiten des Gasgemisches durch die
Ätzlösung absorbiert und zur Regenerierung genutzt
wird.
7. Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeich
net, daß die Lösung Polyglykol in einer Menge von
0,05-5 g/l enthält.
8. Vorrichtung zur kontinuierlichen Regeneration von sau
ren Kupferätzlösungen, welche FeCl3 oder CuCl2 als
Oxidationsmittel enthalten, bestehend aus einer
Elektrolysezelle mit durch Diaphragmen (7) getrennten
Kathoden- und Anodenräumen, Zu- (11) und Abführungs
leitungen (12) der Ätzlösung zu dem Anodenraum und dem
Kathodenraum, wobei aus der Ätzlösung metallisches
Kupfer an der Kathode (5) abgeschieden und an der
Anode (1) Chlor gebildet wird, welches die Ätzlösung
rückoxidiert, dadurch gekennzeichnet, daß eine weitere
Anode (8) vorhanden ist, welche in eine wäßrige
Schwefelsäure eintaucht und von der Ätzlösung durch
eine kationenselektive Membran (9) getrennt ist, wobei
separate Regelorgane für die Elektrolyse an den beiden
Anoden vorhanden sind und weitere Regelorgane für den
Zu- und Ablauf der Ätzlösung in die Kathoden- und
Anodenräume vorhanden sind.
9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet,
daß die Regelorgane für die Elektrolyse über die
Redoxpotentiale im Kathoden- und Anodenraum sowie die
Dichte steuerbar sind.
10. Vorrichtung nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekenn
zeichnet, daß eine Vorrichtung zum Umpumpen der Katho
denflüssigkeit vorhanden ist.
11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 8 bis 10 dadurch
gekennzeichnet, daß der Anodenraum der Anode (8) mit
einem Diaphragma (10) verbunden ist, durch welches
anodisch gebildetes Gas durch die Anolytlösung gelei
tet wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19914118725 DE4118725A1 (de) | 1991-06-07 | 1991-06-07 | Verfahren und vorrichtung zur vollstaendigen regeneration von aetzloesungen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19914118725 DE4118725A1 (de) | 1991-06-07 | 1991-06-07 | Verfahren und vorrichtung zur vollstaendigen regeneration von aetzloesungen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4118725A1 true DE4118725A1 (de) | 1992-12-10 |
Family
ID=6433402
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19914118725 Withdrawn DE4118725A1 (de) | 1991-06-07 | 1991-06-07 | Verfahren und vorrichtung zur vollstaendigen regeneration von aetzloesungen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4118725A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995024518A1 (de) * | 1994-03-07 | 1995-09-14 | Mib Metallurgie Und Oberflächentechnik Und Innovation In Berlin Gmbh & Co. | Elektrolyseverfahren zum regenerieren einer eisen-iii-chlorid oder eisen-iii-sulfatlösung, insbesondere zum sprühätzen von stahl |
DE102006012296A1 (de) * | 2006-03-15 | 2007-09-20 | Eilenburger Elektrolyse- Und Umwelttechnik Gmbh | Recycling-Ätzverfahren für die Feinstleiterplattentechnik |
-
1991
- 1991-06-07 DE DE19914118725 patent/DE4118725A1/de not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995024518A1 (de) * | 1994-03-07 | 1995-09-14 | Mib Metallurgie Und Oberflächentechnik Und Innovation In Berlin Gmbh & Co. | Elektrolyseverfahren zum regenerieren einer eisen-iii-chlorid oder eisen-iii-sulfatlösung, insbesondere zum sprühätzen von stahl |
DE102006012296A1 (de) * | 2006-03-15 | 2007-09-20 | Eilenburger Elektrolyse- Und Umwelttechnik Gmbh | Recycling-Ätzverfahren für die Feinstleiterplattentechnik |
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8127 | New person/name/address of the applicant |
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