DE4008383A1 - Achromat fuer ultraviolettstrahlen - Google Patents
Achromat fuer ultraviolettstrahlenInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische achromatische
Linse bzw. Linsensystem auch Achromat genannt. Die Erfindung
betrifft insbesondere eine optische achromatische
Linse, die verwendbar ist für Verkleinerungsprojektions-Ausrichteinrichtungen
(Aligner, Stepper) bei der Ultraviolett-Lithographie
usw. z. B. bei Verkleinerungsprojektions-Ausrichteinrichtungen
(Aligner, Stepper), die Excimerlaser auf
der Basis von XeCl, KrFy und ähnlichem einsetzen.
Bisher wurden Ausrichteinrichtungen mit Ultrahochspannungs-Quecksilberlampen
als Lichtquellen für die Photolithographie
bei der Herstellung von Halbleitern eingesetzt. Seit jedoch
Halbleiterbausteine (LSI) einen sehr hohen Integrationsgrad
erreicht haben, sind die g-Linie (436 nm) und i-Linie
(365 nm) der Ultrahochspannungs-Quecksilberlampe, die in
herkömmlichen Ausrichteinrichtungen verwendet werden, für
die Auflösung nicht mehr ausreichend.
Zum Erhöhen der Auflösung wurden Entwicklungen gemacht, bei
denen für Ausrichteinrichtungen Excimerlaser mit kürzeren
Wellenlängen wie denen der XeCl, KrF und ähnlichem als
Lichtquellen verwendet werden. Jedoch muß zur Erzielung der
gewünschten Auflösung in diesen Ausrichteinrichtungen die
chromatische Aberration beseitigt werden. Derzeit werden zum
Beseitigen der chromatischen Aberration in Excimerlasern
zwei Verfahren eingesetzt.
Ein Verfahren besteht darin, die Halbwertbreite von
Laserstrahlen zu verringern, so daß die chromatische Aberration
in den erlaubten Bereich eingeschränkt wird und ein anderes
Verfahren besteht darin, eine achromatische Linse oder
Achromat in einem optischen System zu verwenden zum Korrigieren
der chromatischen Aberration.
Bei dem ersten Verfahren, bei dem die chromatische Aberration
unterdrückt wird auf einen erlaubten Bereich durch Verringern
der Halbwertsbreite von Laserstrahlen, werden Elemente
wie Etalons und Prismen und Verfahren wie Injektionssynchronisation
(injection locking) und ähnliches eingesetzt
zum Reduzieren der Halbwertsbreite von Laserstrahlen auf
0,003 bis 0,005 nm. Jedoch birgt die Verringerung der Halbwertsbreite
von Laserstrahlen verschiedene Probleme. Zum
Beispiel muß zum Kompensieren der Verringerung der Laserausgabeleistung
infolge der Elementenverluste die Leistung des
Lasers erhöht werden. Und zu diesem Zweck muß die Vorrichtung
zum Erzeugen des Laserstrahls vergrößert werden. Außerdem
treten leichter Sprenkelmuster auf und es ist schwierig,
eine große Projektionsfläche bereitzustellen.
Andererseits sind bei dem zweiten Verfahren, bei dem achromatische
Linsen in einem optischen System zum Korrigieren
der chromatischen Aberration verwendet werden, die für die
wirksame Durchlässigkeit von Excimerlaserstrahlen geeigneten
Materialien nur begrenzt. Die achromatische Linse besteht
aus zwei Arten von optischen Materialien mit verschiedenen
Dispersionen. Es ist eine Kombination aus einem hochreinen
Quarzglas (Silicaglas) und einem Calciumfluorid-Einkristall
(Fluorite) vorgeschlagen worden. Es ist auch vorgeschlagen
worden eine achromatische Linse bestehend aus einer Kombination
einer Linse, die aus synthetischem Quarzglas (Silicaglas)
besteht, das Oxide von Übergangselementen, wie Titan,
Eisen und ähnlichem und Oxide von Seltenerdelementen wie
Lanthan, Cerium, Europium und ähnlichem enthält, und einer
Linse, die aus synthetischem Quarzglas hergestellt ist, das
keine Zusätze enthält, wodurch der Unterschied in der Dispersionsleistung
zwischen beiden bereitgestellt wird zum Beseitigen
der chromatischen Aberration (japanische Patentoffenlegungsschrift
Nr. 63-6 512).
Jedoch ist die Verwendung von Fluorit anstelle von Glas als
optisches Material für Linsen mit verschiedenen Problemen
verbunden. Erstens hat das Fluorit eine geringe Härte und
ist damit anfällig für Kratzer. Außerdem handelt es sich um
Einkristall, der eine Spaltbarkeit hat, wodurch es schwierig
ist, eine glatte Linsenoberfläche zu erhalten. So ist es
nicht einfach, optisches Läppen auf dem Fluorit vorzunehmen.
Zusätzlich ist der Fluorit in Wasser etwas löslich, so daß
seine Haltbarkeit gering ist. Darüber hinaus ist seine mechanische
Festigkeit unzureichend. Wegen dieser Probleme
kann Fluorit nicht in große Linsen mit einem Durchmesser von
100 mm oder mehr geformt werden.
Aus diesen Gründen sind Excimerlaser-Ausrichteinrichtungen
mit optischen Systemen, die durch achromatische Linsen gebildet
werden, nicht zum praktischen Einsatz gekommen.
Andererseits führen die Zusätze, die in Linsen, die aus
Quarzglas mit Oxiden von Übergangselementen und Seltenerdelementen
hergestellt sind, zur Ultraviolett-Absorption, was
zu einer Verringerung der Durchlässigkeit und zur Erzeugung
von Fluorescenz führt. Folglich sind diese Zusätze nicht geeignet
für achromatische Linsen für Ultraviolettstrahlen und
sollten stattdessen entfernt werden.
Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde,
eine verbesserte achromatische Linse für Ultraviolettstrahlen
bereitzustellen, bei der die obengenannten Probleme
nicht auftreten.
Diese Aufgabe wird gelöst mit den Merkmalen der Patentansprüche.
Die vorliegende Erfindung ist das Ergebnis intensiver Forschung,
und geht von dem Grundgedanken aus, die Mengen an
Germaniumdioxid und/oder Boroxid, die dem Quarzglas zugesetzt
werden, genau einzustellen. Dies hat insbesondere den
Vorteil, daß der Brechungsindex und die Dispersion von
Quarzglas beliebig veränderbar ist. Insbesondere treten bei
der erfindungsgemäßen achromatischen Linse nicht die Probleme
auf, wie sie von Fluoriten und Quarzglas mit Oxiden
von Übergangselementen usw. bekannt sind. Mit Hilfe der vorliegenden
Erfindung sind große sehr präzise achromatische
Linsen herstellbar durch Kombinieren des Quarzglases, das
entweder Germanium oder Germanium und Bor enthält, mit hochreinem
Quarzglas.
Gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfindung wird die
achromatische Linse gebildet aus (A) hochreinem Quarzglas
mit einer Reinheit von 99,9% oder mehr, oder Fluor enthaltendes,
hochreines Quarzglas mit einer Reinheit von 99,9%
oder mehr, und (B) Quarzglas, das Germaniumdioxid enthält.
Gemäß einer zweiten Ausführungsform der Erfindung ist die
achromatische Linse für Ultraviolettstrahlen zusammengesetzt
aus (A) hochreinem Quarzglas mit einer Reinheit von 99,9%
oder mehr oder Fluor enthaltendes, hochreines Quarzglas mit
einer Reinheit von 99,9% oder mehr, und (B) Quarzglas, das
Germaniumdioxid und Boroxid enthält.
Die zuvor genannten achromatischen Linsen für Ultraviolettstrahlen
können Ultraviolettstrahlen mit einer Wellenlänge
von 300 nm oder weniger durchlassen, so daß sie in optischen
Systemen von Excimerlaser-Verkleinerungsprojektions-Ausrichteinrichtungen
(aligner, stepper) eingesetzt werden können.
Bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung ergeben sich aus
den Unteransprüchen.
Die Erfindung wird nachstehend anhand eines Beispiels und
der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine Querschnittsansicht eines Beispiels für den
Aufbau der erfindungsgemäßen achromatischen Linse.
Im allgemeinen werden zum Aufbau einer achromatischen Linse,
Linsen, die aus zwei Arten von optischen Materialien mit
verschiedenen Dispersionen hergestellt sind, zusammengesetzt.
Erfindungsgemäß wird hochreines Quarzglas oder Fluor enthaltendes
hochreines Quarzglas mit Quarzglas, das entweder Germaniumdioxid
allein oder Germaniumdioxid mit Boroxid enthält,
kombiniert.
Gemäß der ersten Ausführungsform der Erfindung setzt sich
die achromatische Linse für Ultraviolettstrahlen zusammen
aus einer Linse, die aus Germanium enthaltendem Quarzglas
hergestellt ist, und einer Linse, die aus hochreinem Quarzglas
oder Fluor enthaltendes, hochreines Quarzglas hergestellt
ist.
Gemäß der zweiten Ausführungsform der Erfindung setzt sich
die achromatische Linse für Ultraviolettstrahlen zusammen
aus einer Linse, die aus Quarzglas, das Germaniumdioxid und
Boroxid enthält, hergestellt ist, und einer Linse, die aus
hochreinem Quarzglas oder Fluor enthaltendem, hochreinen
Quarzglas hergestellt ist.
Zuerst wird das hochreine Quarzglas oder Fluor enthaltende,
hochreine Quarzglas, das in der ersten und zweiten Ausführungsform
der Erfindung verwendet wird, nachstehend beschrieben.
Zur Erreichung des Ziels der vorliegenden Erfindung muß das
hochreine Quarzglas eine Reinheit von 99,9% oder mehr haben
und das Fluor enthaltende, hochreine Quarzglas sollte eine
Reinheit von 99,9% oder mehr für SiO₂ + F aufweisen. Zur
Vermeidung insbesondere von Ultraviolettabsorption werden
erfindungsgemäß Verunreinigungen wie Übergangselemente und
Seltenerdelemente auf einige 100 ppm oder weniger reduziert,
vorzugsweise einige 10 ppm oder weniger und besonders bevorzugt
einige ppm oder weniger reduziert. Zum Beispiel sollte
bei einer Verunreinigung durch Titan seine Konzentration 1 ppm
oder weniger betragen.
Wenn das Fluor enthaltende, hochreine Quarzglas eingesetzt
wird, sollte der Fluoranteil in Bezug auf den Brechungsindex
möglichst hoch sein aber nur bis zu einer Höhe, die nicht
die Durchlässigkeit von Quarzglas negativ beeinflußt. Der
Fluoranteil beträgt daheer vorzugsweise 2 bis 4 Mol-%.
Quarzpulver oder Silikatpulver, das als Rohmaterial für
hochreines Quarzglas und Fluor enthaltendes hochreines
Quarzglas verwendbar ist, ist nicht auf ein bestimmtes begrenzt.
Es kann jedes beliebige Quarzpulver verwendet werden,
z. B. Quarzpulver, das hergestellt wird aus Silikatgel,
das durch ein Naßverfahren erhalten wird, Silikatpulver, das
durch ein Dampfphasenverfahren hergestellt wird und ähnliches.
Das Quarzpulver oder Silikatpulver kann amorph oder
kristallin sein. Seine durchschnittliche Teilchengröße ist
nicht auf einen bestimmten Bereich begrenzt, aber im Hinblick
auf die Reaktionsfähigkeit und die einfache Handhabung,
beträgt sie vorzugsweise 0,01 bis 500 µm und besonders
bevorzugt 0,5 bis 250 µm und insbesondere bevorzugt 1 bis 50 µm.
Wenn letztlich wasserfreies Quarzglas, das 1 ppm oder
weniger OH-Gruppen enthält, hergestellt werden soll, wird
besonders bevorzugt sehr feines Quarzpulver verwendet mit
einer Teilchengröße von 1 bis 10 µm. Die Reinheit des Rohmaterialpulvers
ist vorzugsweise größer als 99,9% und besonders
bevorzugt größer als 99,95%.
Ein hochreiner Quarzglasblock ist herstellbar nach dem
Dampfphasen-Bernoulli-Verfahren, bei dem SiCl₄ mit Hilfe
einer Sauerstoff-Wasserstofflamme flammenhydrolysiert wird
und verdichtet wird mit einem Heißpreßverfahren, einem isostatischen
Heißpreßverfahren oder ähnlichem.
Die Bedingungen für das Heißpressen (HP) sind z. B. folgende:
Ein Quarzglaspulvergießling wird eingebettet in Füllpulver
wie kristallinem Quarzpulver und bei einer Temperatur von
1100°C, vorzugsweise 1200-1650°C und bei einem Druck von
5 MPa, vorzugsweise 10-100 MPa, gepreßt. Schließlich kann
als Atmosphäre beim Heißpressen ein Vakuum von weniger 1 Pa
oder ein Inertgas wie Argon, Helium oder ähnlichem vorhanden
sein.
Die Bedingungen für das isostatische Heißpressen (HIP) sind
z. B. folgende: Quarzpulver oder Silikatpulver wird in einer
Quarzglaskapsel abgedichtet und die Kapsel wird in Füllpulver,
das mit der Kapsel nicht reagiert, wie Graphitpulver,
Bornitridpulver oder ähnliches eingebettet und dann in einer
HIP-Vorrichtung eingebracht. Die HIP-Temperatur ist 1100°C,
vorzugsweise 1200-2000°C und der Druck ist 5 MPa, vorzugsweise
10-200 MPa. Das Druckmediumgas ist ein Inertgas wie
Argon.
Anstatt das Heißpressen (HP) und isostatische Heißpressen
(HIP) alleine einzusetzen, können beide in Kombination eingesetzt
werden. Im Fall einer Kombinationsbehandlung (HP/HIP),
wird das Heißpressen bei 1100°C, vorzugsweise 1200-2000°C
und 5 MPa, vorzugsweise 10-100 MPa, durchgeführtr und dann
der sich ergebende Quarzglasblock in eine HIP-Vorrichtung
eingebracht und einer HIP-Behandlung bei 1200°C, vorzugsweise
1400-2000°C und 1 MPa, vorzugsweise 10-200 MPa unterzogen.
Das Fluor enthaltende, hochreine Quarzglas kann z. B. mit
folgendem Verfahren hergestellt werden: Zuerst wird Siliciumalkoxide
oder SiCl₄ hydrolysiert zum Herstellen eines
hochreinen Quarzglaspulvers, das dann aufgeschmolzen wird.
Der sich ergebende Quarzglasgießling wird z. B. in einem
Quarzglasflansch eingesetzt und in einer Sauerstoffatmosphäre
auf 800°C erhitzt, zum Ausbrennen von organischen Materialien.
Anschließend wird eine Behandlung zum Entfernen
der OH-Gruppen durchgeführt in einer Gasmischung, die Helium
und 5 bis 30% Cl₂ enthält. Es wird dann bei 1500°C unter
SiF₄-Gas oder in einer Gasmischung aus SiF₄ und Helium gesintert,
so daß Fluor in das Quarzglas eintritt. Die Fluorkonzentration
in dem Quarzglas kann eingestellt werden durch
Steuern des Teildrucks von SiF₄.
Als nächstes wird das in der ersten Ausführungsform der Erfindung
verwendete Quarzglas, das Germaniumdioxid enthält,
beschrieben.
Im allgemeinen wird durch Hinzufügen von Germaniumdioxid zu
Quarzglas der Brechungsindex oder die Dispersion erhöht.
Wenn z. B. 13,5 Mol-% Germaniumdioxid dem Quarzglas zugesetzt
wird, beträgt der Brechungsindex von Quarzglas für einen
Lichtstrahl (Wellenlänge 248 nm) 1,5406, 2,1% größer als
der ohne Germaniumdioxid.
Hierbei ist ein wichtiger Parameter für eine achromatische
Linse für Ultraviolettstrahlen die sogenannte "Abbe-Zahl".
Die Abbe-Zahl wird im allgemeinen definiert als
(nd-1)/(nF-nC), wobei nd ein Brechungsindex für die d-Linie
(587,6 nm) von Helium und nF und nC jeweils die Brechungsindizes
für die F-Linie (486,1 nm) und C-Linie (656,3 nm) von
Wasserstoff sind. Jedoch ist sie in der vorliegenden Anmeldung
als Zahl definiert, die erhalten wird durch Dividieren
von (Brechungsindex bei 248,2 nm - 1) durch Dispersion bei
248,2 nm.
Wenn das Quarzglas 13,5 Mol-% Germaniumdioxid enthält, beträgt
das Abbe-Zahlenverhältnis von Quarzglas ohne Zusätze
zu Germaniumdioxid enthaltendes Quarzglas [v(SiO₂)/v(Ge-SiO₂)]
1,12 und für 3,9 Mol-% Fluor enthaltendes, hochreines
Quarzglas im Verhältnis zu Germaniumdioxid enthaltendem
Quarzglas [v(F-SiO₂)/v(Ge-SiO₂)] beträgt das Abbe-Zahlenverhältnis
1,13.
Die achromatische Linse wird gebildet durch Kombination
einer konvexen Linse, die aus einem Glas mit einer großen
Abbe-Zahl hergestellt ist, und einer konkaven Linse, die aus
einem Glas mit einer kleinen Abbe-Zahl hergestellt ist. Infolgedessen
wird die achromatische Linse gebildet aus einer
konvexen Linse, die hergestellt ist aus einem hochreinen
Quarzglas, das keine Additive enthält, oder einem Fluor enthaltendem,
hochreinem Quarzglas und einer konkaven Linse,
die aus einem Germanium enthaltendem Quarzglas hergestellt
ist.
Allgemein gilt, je größer das Abbe-Zahlenverhältnis ist,
umso besser kann die chromatische Abberration in einem großen
Wellenlängenbereich entfernt werden. Folglich ist bevorzugt,
daß soviel wie möglich Germaniumdioxid enthalten ist. Jedoch
wird, wenn eine zu große Menge an Germaniumdioxid zugesetzt
wird, das Problem auftreten, daß das Quarzglas undurchlässig
wird und die Durchlässigkeit für ultraviolette Strahlen geringer
wird. Der Anteil an Germaniumdioxid ist daher vorzugsweise
50 Mol-%. Besonders bevorzugt ist ein Anteil an
Germaniumdioxid zwischen 5 bis 14 Mol-%. Innerhalb dieses
Bereiches führt das Germaniumdioxid nicht zu einer Ultraviolettabsorption,
so daß die Durchlässigkeit für Ultraviolettstrahlen
nicht wesentlich verringert wird.
Als nächstes wird das Quarzglas gemäß der zweiten Ausführungsform
beschrieben, das Germaniumdioxid und Boroxid enthält.
Wenn Germaniumdioxid dem Quarzglas zugesetzt wird, erhöht
sich der Brechungsindex und die Dispersion und wenn Boroxid
dem Quarzglas zugesetzt wird, verringert sich der Brechungsindex,
während die Dispersion erhöht wird. Wenn z. B. 5 Mol-%
Germaniumoxid und 10 Mol-% Boroxid Quarzglas zugesetzt wird,
steigt sein Brechungsindex für Licht mit einer Wellenlänge
von 248 nm um 0,4% verglichen mit dem ohne Zusätzen, und
das Dispersionsverhältnis des Quarzglases mit Germaniumdioxid
und Boroxid verglichen zu dem Quarzglas ohne Zusätze
(Δ Ge-B-SiO₂/Δ SiO₂) ist 1,12. Das Abbe-Zahlenverhältnis
[v(SiO₂)/v(Ge-B-SiO₂)] ist 1,11. Infolgedessen kann eine
achromatische Linse gebildet werden mit Hilfe einer konvexen
Linse, die aus Quarzglas ohne Zusätze oder Fluor enthaltendes
hochreines Quarzglas hergestellt ist und einer konkaven
Linse, die aus Quarzglas, das Germaniumdioxid und Boroxid
enthält, hergestellt ist.
Wie zuvor beschrieben, wird mit immer größeren absoluten
Werten für das Abbe-Zahlenverhältnis die chromatische Aberration
umso wirksamer entfernt. Folglich ist der Anteil von
Germaniumdioxid so groß wie möglich zu wählen. Jedoch ist es
bei dem Zusatz einer zu großen Menge von Germaniumdioxid
schwierig, eine ausreichende Durchlässigkeit für Excimerlaserstrahlen
in einem entfernten Ultraviolett-Wellenlängenbereich
zu erzielen. Der Anteil an Germaniumdioxid beträgt daher
vorzugsweise 1 bis 30 Mol-% und besonders bevorzugt 10
bis 15 Mol-%. Der Zusatz einer geeigneten Menge an Boroxid
zusammen mit Germaniumdioxid ergibt ein gleichmäßigeres
Quarzglas: Der Zusatz von Boroxid verringert nicht die
Durchlässigkeit in einem entfernt ultravioletten Bereich.
Der Anteil von Boroxid beträgt vorzugsweise 5 bis 30 Mol-%
und besonders bevorzugt 7 bis 14 Mol-%.
Als nächstes wird das Verfahren zum Herstellen von Quarzglas,
das Germaniumdioxid allein oder zusammen mit Boroxid
enthält, beschrieben.
Als Ausgangsmaterialien werden Alkoxide von Silicium und
Germanium, wie Siliciumtetraethoxide, Germaniumtetraethoxide
und ähnliches verwendet. Die Ausgangsmaterialien werden zum
Bereitstellen von Quarzglaspulver, das Germanium enthält,
hydrolysiert. Das Pulver wird in einer Gesenkpresse oder
einer isostatischen Kaltpresse gepreßt und dann gesintert,
so daß das Quarzglaspulver vollständig oder teilweise in
Glasform übergeht. Zum Erzeugen von Quarzglas, das geeignet
ist wirksam Ultraviolettstrahlen mit einer Wellenlänge von
300 nm durchzulassen, muß die Sinteratmosphäre eine Oxidationsatmosphäre
sein und vorzugsweise besteht die Atmosphäre
aus Helium und Sauerstoff in einem Verhältnis von 1 : 1. Das
gesinterte Quarzglas wird dann in einer Sauerstoffatmosphäre
einem isostatischen Heißpressen unterworfen, so daß Quarzglas
frei von Einschlüssen bereitgestellt wird. Die Sintertemperatur
beträgt vorzugsweise 1200 bis 1400°C und die Temperatur
und der Druck für die Hochtemperatur- und
Hochdruckbehandlung sind vorzugsweise 1300°C und 50 MPa. Mit
diesen Verfahren ist ein großer Glasblock erhältlich, der
keine Fäden oder Streifen und Spannungen aufweist, die für
optisches Glas sehr schlecht wären. Zusätzlich hat das so
erhaltene Quarzglas eine hervorragende optische Gleichmäßigkeit.
Quarzglas, das Germaniumdioxid und Boroxid enthält, kann mit
dem folgenden Verfahren hergestellt werden:
Als Ausgangsmaterialien werden Alkoxide von Silicium und Bor wie zuvor beschrieben oder Chloride, wie Siliciumtetrachlorid, Bortrichlorid, Germaniumchlorid und ähnliches verwendet. Diese Ausgangsmaterialien werden zum Bereitstellen von Quarzglaspulver, das Germaniumdioxid und Boroxid enthält, hydrolysiert. Dieses Pulver wird in einer Gesenkpresse, isostatischen Kaltpresse, oder ähnlichem gepreßt und anschließend gesintert in einer Atmosphäre aus Helium oder einem gemischten Gas aus Helium und Sauerstoff, wobei das Quarzglaspulver vollständig oder teilweise verglast. Das sich ergebende Glas wird dann heiß gepreßt oder isostatisch heiß gepreßt. Die Sintertemperatur beträgt vorzugsweise 1200 bis 1700°C und die Temperatur und der Druck für die Hochtemperatur- und Hochdruckbehandlung sind 1300°C und 10 MPa beim Heißpressen und 1300°C und 50 MPa beim isostatischen Heißpressen. Mit diesem Verfahren ist ebenfalls ein großer Glasblock herstellbar, der keine Streifen oder Bänder und Spannungen aufweist. Außerdem hat das so erhaltene Quarzglas eine hervorragende optische Gleichmäßigkeit.
Als Ausgangsmaterialien werden Alkoxide von Silicium und Bor wie zuvor beschrieben oder Chloride, wie Siliciumtetrachlorid, Bortrichlorid, Germaniumchlorid und ähnliches verwendet. Diese Ausgangsmaterialien werden zum Bereitstellen von Quarzglaspulver, das Germaniumdioxid und Boroxid enthält, hydrolysiert. Dieses Pulver wird in einer Gesenkpresse, isostatischen Kaltpresse, oder ähnlichem gepreßt und anschließend gesintert in einer Atmosphäre aus Helium oder einem gemischten Gas aus Helium und Sauerstoff, wobei das Quarzglaspulver vollständig oder teilweise verglast. Das sich ergebende Glas wird dann heiß gepreßt oder isostatisch heiß gepreßt. Die Sintertemperatur beträgt vorzugsweise 1200 bis 1700°C und die Temperatur und der Druck für die Hochtemperatur- und Hochdruckbehandlung sind 1300°C und 10 MPa beim Heißpressen und 1300°C und 50 MPa beim isostatischen Heißpressen. Mit diesem Verfahren ist ebenfalls ein großer Glasblock herstellbar, der keine Streifen oder Bänder und Spannungen aufweist. Außerdem hat das so erhaltene Quarzglas eine hervorragende optische Gleichmäßigkeit.
Ein weiteres Merkmal der vorliegenden Erfindung ist die Verwendung
der achromatischen Linse für Ultraviolettstrahlen,
die Germanium enthaltendes Quarzglas oder Germanium und Bor
enthaltendes Quarzglas aufweist, in einem optischen System
für eine Verkleinerungsprojektionsausrichteinrichtung eines
Excimerlaser-Steppers. Zum Beispiel haben die von einem KrF
Excimerlaser erzeugten Laserstrahlen üblicherweise eine
Halbwertsbreite von 0,7 nm. Bei den zur Zeit erhältlichen
Ausrichtsystemen (stepper), bei denen die Verkleinerungsprojektion
durchgeführt wird, unter Verwendung einer optischen
Linse, die lediglich aus Quarzglas zusammengesetzt ist,
erreicht die Abweichung der Focuslänge (Brennweite) infolge
der chromatischen Aberration einige 10 µm, so daß keine
deutliche Abbildung bereitgestellt wird. Ein Weg, die
chromatische Aberration zu unterdrücken, wäre die Verringerung
der Halbwertsbreite des Laserstrahls, das führt
aber zu den oben erläuterten Problemen.
Diese Probleme werden weitestgehend durch Verwendung der erfindungsgemäßen
achromatischen Linse gelöst. Da die chromatische
Aberration durch eine optische Linse korrigierbar
ist, ist es nicht erforderlich, die Halbwertsbreite der Laserstrahlen
wesentlich zu verringern. Außerdem kann die aus
dem erfindungsgemäßen Quarzglas hergestellte optische Linse
wesentlich besser bearbeitet werden als das Fluorid. Da das
erfindungsgemäße Quarzglas insbesondere eine größere Härte
als Fluorid aufweist, ist es weniger anfällig für Kratzer
während des Schleifens und Läppens, so daß für das Schleifen
und Läppen der Quarzglaslinsen gewöhnliche Schleif- und
Läppabriebmittel für optische Linsen verwendet werden können.
Außerdem ist das Schleifen und Läppen der achromatischen
Linse gemäß der vorliegenden Erfindung mit sehr hoher
Abmessungsgenauigkeit möglich.
Fig. 1 zeigt ein Beispiel der achromatischen Linse, die aus
drei einfachen Linsen zusammengesetzt ist. Wie oben beschrieben,
werden Konvexlinsen 1, 3, die aus einem Glas mit
einer großen Abbe-Zahl hergestellt sind, und eine Konkavlinse
2, die aus einem Glas mit einer kleinen Abbe-Zahl hergestellt
ist, kombiniert. Folglich sind die Konvexlinsen 1, 3
aus hochreinem Quarzglas, das keine Zusätze enthält, oder
Fluor enthaltendem hochreinem Quarzglas hergestellt und die
Konkavlinse 2 ist aus einem Germanium enthaltendem Quarzglas
oder einem Germanium und Bor enthaltendem Quarzglas hergestellt.
Beide Linsentypen werden kombiniert zum Bilden der
achromatischen Linse. Hinsichtlich der Form, Kombination und
Anzahl jeder Linse besteht dabei keine Beschränkung.
Die vorliegende Erfindung wird nachstehend anhand von Beispielen
näher erläutert, die aber in keiner Weise den Erfindungsgedanken
beschränken.
Hochreines Quarzglas wird bereitgestellt durch Ausschneiden
eines geeigneten Abschnitts eines nach dem Bernoulli-Verfahren
hergestellten Barrens, und das Fluor enthaltende, hochreine
Quarzglas wird hergestellt durch Sintern von gegossenem
Quarzglaspulver in einer Atmosphäre eines Siliciumtetrafluoridgases
bei 1500°C.
Germanium enthaltendes Quarzglas wird hergestellt unter Verwendung
von Alkoxiden von Silicium und Germanium, wie
Tetraethoxysilane bzw. Germaniumtetraethoxide, und die durch
Hydrolysieren der genannten Elemente erhaltene Pulvermischung
wird bei 1500°C in einer Heliumatmosphäre gesintert
und ferner bei 1000°C 24 Stunden lang geglüht.
Germanium und Bor enthaltendes Quarzglas wird hergestellt
unter Verwendung von Alkoxiden von Silicium, Germanium und
Bortetraethoxysilane, Germaniumtetraethoxide bzw. Trimethoxybor,
die durch Hydrolysieren der genannten Elemente erhaltene
Pulvermischung wird bei 1500°C in einer Heliumatmosphäre
gesintert und anschließend bei 1000°C 24 Stunden lang
geglüht. Folgende Glasblöcke werden mit den zuvor genannten
Verfahren erhalten:
Hochreines Quarzglas (Reinheit 99,9%),
Fluor enthaltendes hochreines Quarzglas (Fluoranteil 3,9 Mol-%)
Germanium enthaltendes Quarzglas (Germaniumdioxidanteil: 3,9 Mol-%, 4,1 Mol-%, 13,5 Mol-%),
Germanium und Bor enthaltendes Quarzglas (Germaniumdioxidanteil: 4,7 Mol-%, Boroxidanteil 9,7 Mol-%).
Fluor enthaltendes hochreines Quarzglas (Fluoranteil 3,9 Mol-%)
Germanium enthaltendes Quarzglas (Germaniumdioxidanteil: 3,9 Mol-%, 4,1 Mol-%, 13,5 Mol-%),
Germanium und Bor enthaltendes Quarzglas (Germaniumdioxidanteil: 4,7 Mol-%, Boroxidanteil 9,7 Mol-%).
Jeder der zuvor genannten Quarzglasblöcke hat einen Durchmesser
von 130 mm und eine Dicke von 30 mm.
Bei jedem der zuvor genannten Quarzglasblöcke wurde mit
Hilfe eines Laserinterferometers die optische Gleichmäßigkeit
gemessen. Weiterhin wurde ein Prisma aus jedem der
Quarzglasblöcke hergestellt zum Messen des Brechungsindexes
in einem Ultraviolettbereich mit Hilfe eines hochgenauen
Spektrophotometers. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
Die optische Gleichmäßigkeit Δ n ist kleiner als 3,0 × 10-6
in dem hochreinen Quarzglas, dem Fluor enthaltenden, hochreinen
Quarzglas, dem Germanium enthaltendem Quarzglas und
dem Germanium und Bor enthaltenden Quarzglas, d. h., sie haben
ausreichende optische Eigenschaften für optische Materialien
für optische Linsen. Außerdem zeigt sich, daß das
Germanium enthaltende Quarzglas mit steigendem Germaniumanteil
sowohl einen höheren Brechungsindex als eine größere
Dispersion aufweist.
Jede Konvexlinse 1, 3, die in Fig. 1 gezeigt ist, wird hergestellt
unter Verwendung von hochreinem Quarzglas (Reinheit
99,99%) und Fluor enthaltendem, hochreinem Quarzglas
(Fluoranteil 3,9 Mol-%), die in der gleichen Weise wie bei
den Vergleichsbeispielen 1 und 2 hergestellt werden. Eine
Konkavlinse 2 wird hergestellt sowohl unter Verwendung von
Germaniumdioxid enthaltendem Quarzglas (Germaniumdioxidanteil
4,1 Mol-%, 7,0 Mol-%, 13,5 Mol-%) als auch Germaniumdioxid
und Boroxid enthaltendem Quarzglas (Germaniumdioxidanteil
4,7 Mol-%, Boroxidanteil 9,7 Mol-%) in gleicher Weise
wie bei den Vergleichsbeispielen 3 bis 6. Als nächstes werden
die beiden Konvexlinsen 1, 3 und die Konkavlinse 2 miteinander
kombiniert und eine Dreifachlinse wie in Fig. 1 gezeigt,
aufgebaut. Jede Linse wird hergestellt durch Schleifen
in die gewünschte Abmessung und Größe unter Verwendung
eines Grobschleiftisches und Schleifsand und abschließendes
Läppen mit Ceriumoxid. Danach wird jede Linse zentriert zum
Bestimmen ihrer optischen Achse. Anschließend wird geprüft,
ob die Dimensionen jeder Linse innerhalb der Toleranzen liegen.
Die zuvor genannten Arbeitsschritte sind die gleichen wie
beim Produktionsablauf von gewöhnlichen Linsen, ohne daß
komplizierte Schritte wie beim Fluorid notwendig wären.
Außerdem hatten die so erhaltenen Linsen keine Kratzer, die
manchmal bei Fluoridlinsen auftreten.
Unter Verwendung der mit Hilfe der Konvexlinsen und der Konkavlinse
gebildeten achromatischen Linse werden Messungen
der chromatischen Aberration in Längsrichtung durchgeführt,
die sich einstellen, wenn KrF-Eximerlaserstrahlen mit verschiedenen
Halbwertsbreiten von einer Sammellinse gebündelt
werden. Die Ergebnisse sind in Tabelle II gezeigt. Tabelle II
zeigt außerdem als Vergleichsbeispiel die chromatische
Aberration einer monochromatischen Linse (Dreifachlinse) die
aus drei Linsen zusammengesetzt ist, die alle aus Quarzglas
ohne Zusätze hergestellt sind.
Wie aus Tabelle II ersichtlich, hat die achromatische Linse
unter Verwendung eines Germanium enthaltenden Quarzglas oder
Germanium und Bor enthaltendem Quarzglas eine kleinere chromatische
Aberration als die monochromatische Linse, d. h.,
daß die achromatische Linse gemäß der vorliegenden Erfindung
eine hervorragende Korrekturwirkung auf die chromatische
Aberration hat.
Wie aus der oben stehenden Beschreibung deutlich wird, hat
die erfindungsgemäße achromatische Linse für Ultraviolettstrahlen
eine hohe optische Gleichmäßigkeit, eine hervorragende
chromatische Aberration-Korrekturwirkung und eine hervorragende
Haltbarkeit. Außerdem verglichen mit Fluorit, ist
das Germanium enthaltende Quarzglas und das Germanium und
Bor enthaltende Quarzglas, das gemäß der vorliegenden Erfindung
verwendet wird, einfach herstellbar, insbesondere beim
hochgenauen Schlußbearbeiten und es können daraus große Linsen
hergestellt werden. Daher sind die erfindungsgemäßen
achromatischen Linsen für Ultraviolettstrahlen in einem weiten
Bereich von optischen Vorrichtungen, bei denen Ultraviolettstrahlen
eingesetzt werden, verwendbar z. B. bei optischen
Systemen von Excimerlaser-Ausrichteinrichtungen
(stepper).
Claims (8)
1. Achromatische Linse für Ultraviolettstrahlen mit:
- (A) hochreinem Quarzglas mit einer Reinheit von 99,9% oder Fluor enthaltendes hochreines Quarzglas mit einer Reinheit von 99,9%, und
- (B) Quarzglas mit Germaniumdioxid.
2. Achromatische Linse für Ultraviolettstrahlen nach Anspruch 1,
wobei das Quarzglas (B) 50 Mol-% Germaniumdioxid
enthält.
3. Achromatische Linse für Ultraviolettstrahlen nach Anspruch 1,
wobei das Quarzglas (B) 5 bis 40 Mol-% Germaniumdioxid
enthält.
4. Achromatische Linse für Ultraviolettstrahlen mit:
- (A) hochreinem Quarzglas mit einer Reinheit von 99,9% oder Fluor enthaltendes hochreines Quarzglas mit einer Reinheit 99,9% und
- (B) Quarzglas mit Germaniumdioxid und Boroxid.
5. Achromatische Linse für Ultraviolettstrahlen nach Anspruch 4,
wobei das Quarzglas (B) 1 bis 30 Mol-% Germaniumdioxid
und 5 bis 30 Mol-% Boroxid enthält.
6. Achromatische Linse für Ultraviolettstrahlen nach Anspruch 4,
wobei das Quarzglas (B) 10 bis 15 Mol-% Germaniumdioxid
und 7 bis 14 Mol-% Boroxid enthält.
7. Excimerlaser-Verkleinerungs-Projektions-Ausrichteinrichtung,
die ein optisches System aufweist mit einer achromatischen
Linse für Ultraviolettstrahlen, die eine hohe
Durchlässigkeit für Ultraviolettstrahlen mit einer Wellenlänge
von 300 nm aufweist, wobei die achromatische
Linse gebildet wird durch (A) hochreines Quarzglas mit
einer Reinheit von 99,9% oder Fluor enthaltendem hochreinen
Quarzglas mit einer Reinheit von 99,9% und (B)
Quarzglas, das Germaniumdioxid enthält.
8. Excimerlaser-Verkleinerungsprojektions-Ausrichteinrichtung,
die ein optisches System aufweist mit einer achromatischen
Linse für Ultraviolettstrahlen, die eine hohe
Durchlässigkeit für Ultraviolettstrahlen mit einer Wellenlänge
von 300 nm aufweist, wobei die achromatische
Linse gebildet wird aus (A) hochreinem Quarzglas mit
einer Reinheit von 99,9% oder Fluor enthaltendem hochreinem
Quarzglas mit einer Reinheit von 99,9% und (B)
Quarzglas mit Germaniumdioxid und Boroxid.
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8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: TAUCHNER, P., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT. HEUNEMANN, D |
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