DE3937493C2 - Quergeströmter Gasentladungslaser mit Mikrowellenanregung - Google Patents
Quergeströmter Gasentladungslaser mit MikrowellenanregungInfo
- Publication number
- DE3937493C2 DE3937493C2 DE19893937493 DE3937493A DE3937493C2 DE 3937493 C2 DE3937493 C2 DE 3937493C2 DE 19893937493 DE19893937493 DE 19893937493 DE 3937493 A DE3937493 A DE 3937493A DE 3937493 C2 DE3937493 C2 DE 3937493C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- gas discharge
- laser according
- discharge laser
- coupling
- conductive plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0975—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/07—Construction or shape of active medium consisting of a plurality of parts, e.g. segments
- H01S3/073—Gas lasers comprising separate discharge sections in one cavity, e.g. hybrid lasers
- H01S3/076—Folded-path lasers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft einen quergeströmten Gasentladungs
laser für hohe Leistungen, mit einem in Richtung einer
Resonatorlängsachse einander gegenüberliegend im Abstand
angeordnete Spiegelsätze aufweisenden Resonator, welcher
einen sich sowohl in Richtung der Resonatorlängsachse als
auch in einer zu dieser senkrechten Querrichtung aus
dehnenden Strahlenverlauf aufweist und welcher von einem
Lasergas in der Querrichtung durchströmt ist, und mit
einer zweidimensionalen, seitlich offenen Entladungs
struktur, umfassend sich in einer Ebene parallel zur Rich
tung der Resonatorachse und zur Querrichtung erstreckende,
einander gegenüberliegende und den Strahlenverlauf zwischen
sich einschließende Begrenzungsflächen für einen Gasent
ladungsraum.
Ein derartiger quergeströmter Gasentladungslaser für hohe
Leistungen ist beispielsweise aus der DE 37 32 172 A1
bekannt.
Bei einem derartigen Gasentladungslaser erfolgt die An
regung des Lasergases durch eine Hochfrequenzentladung,
wobei die beiden Begrenzungsflächen des Gasentladungsraums
jeweils selbst als plattenförmige Elektroden dienen, denen
die Hochfrequenz zugeführt wird und über welche die Hoch
frequenzanregung des Lasergases im Gasentladungsraum er
folgt.
Eine derartige Anregung der Gasentladung mit Hochfrequenz
bringt jedoch die üblichen, hochfrequenztechnischen Prob
leme hinsichtlich der Abstrahlung und der Abschirmung mit
sich und ist insbesondere dann, wenn hohe Hochfrequenz
leistungen benötigt werden, sehr kostenintensiv und auf
wendig.
Aus der DE 37 08 314 A1 ist im Zusammenhang mit einem
Excimerlaser und im Zusammenhang mit der Unterdrückung des
Wandkollapses bei einem Excimerlaser eine TEM-Wellenleiterstruktur
zur Erreichung einer konstanten Feldstärke
offenbart, bei welcher Einkoppelleiter in Längsrichtung
der optischen Achse schräg zu dieser verlaufen.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, einen
quergeströmten Gasentladungslaser der gattungsgemäßen Art
mit einer möglichst effektiven Mikrowellenanregung
für das Lasergas zu versehen.
Diese Aufgabe wird bei einem Gasentladungslaser der ein
gangs beschriebenen Art erfindungsgemäß dadurch gelöst,
daß eine Mikrowellenquelle vorgesehen ist, daß von der
Mikrowellenquelle Mikrowellen in einen zur Entladungs
struktur führenden, zwei einander gegenüberliegende Band
leiter aufweisenden TEM-Wellenleiter einspeisbar sind, daß
jeweils auf einer dem Gasentladungsraum gegenüberliegenden
Seite einer jeden der Begrenzungsflächen eine vom Lasergas
im Gasentladungsraum getrennte Einkopplungsstruktur ange
ordnet ist, welche jeweils mit einem der Bandleiter ver
bunden ist, daß sich beide Einkopplungsstrukturen gemein
sam in einer Richtung erstrecken, die in einer zur Begrenzungsfläche (32, 34)
parallelen Ebene liegt und gemeinsam in einem Streifen
bereich in dem Gasentladungsraum längs der Richtung der Einkopplung
eine im wesentlichen konstante Mikrowellenein
kopplung bewirken.
Mit einer derartigen erfindungsgemäßen Anordnung wird es
mit einfachen Mitteln erreicht, daß auch in einem Gasent
ladungslaser eine Mikrowellenanregung möglich ist, wobei
insbesondere die erfindungsgemäßen Einkopplungsstrukturen
im Anschluß an den TEM-Wellenleiter für eine gleichmäßige
Verteilung der Mikrowellen über den gesamten Gasent
ladungsraum sorgen.
Besonders vorteilhaft im Rahmen der erfindungsgemäßen
Lösung ist es, wenn sich die Einkopplungsstrukturen über
ein Mehrfaches einer halben Wellenlänge der Mikrowellen in der
Richtung der Einkopplung erstrecken und somit die Möglichkeit
bieten, über möglichst langgestreckte Bereiche eine
konstante Mikrowellenleistungseinkopplung zu erzielen.
Bezüglich der Ausbildung der Einkopplungsstrukturen
wurden bislang keine näheren Angaben gemacht. Es hat sich
als besonders vorteilhaft erwiesen, wenn jede
Einkopplungsstruktur eine mit dem jeweiligen Bandleiter ver
bundene und sich in der Richtung der Einkopplung erstreckende
elektrisch leitende Platte aufweist.
Vorzugsweise ist die leitende Platte dabei so angeordnet,
daß sie mit ihrer Längserstreckung in der Richtung der Einkopplung
verläuft.
Besonders einfach läßt sich eine sukzessive und konstante
Mikrowellenleistungseinkopplung in den Streifenbereich des
Gasentladungsraums dadurch erreichen, daß die leitende
Platte einer Einkopplungsstruktur in Richtung ihrer
Längserstreckung einen spitzen Winkel mit der jeweiligen
Begrenzungsfläche einschließen. In dem Bereich der leiten
den Platte, welche einen großen Abstand von der Begren
zungsfläche aufweist, wird nur ein geringer Teil der zur
Verfügung stehenden Mikrowellenleistung eingekoppelt,
während in dem Bereich, der einen geringen Abstand von der
Begrenzungsfläche aufweist, ein größerer Teil der Mikro
wellenleistung in den Streifenbereich eingekoppelt wird.
Somit besteht die Möglichkeit, von der ankommenden Mikro
wellenleistung zunächst einen kleinen Teil auszukoppeln
und in den Streifenbereich einzukoppeln und sukzessive
einen größeren Teil auszukoppeln, so lange, bis letztlich
die gesamte vorhandene Mikrowellenleistung in den
Streifenbereich eingekoppelt wird, so daß insgesamt, über
die Länge des Streifenbereichs in Richtung der Einkopplung
gesehen, eine konstante Mikrowellenleistung in diesen ein
gekoppelt wird.
Hierzu ist es günstig, wenn die leitende Platte mit einem
einen maximalen Abstand von der Begrenzungsfläche auf
weisenden Endbereich mit dem jeweiligen Bandleiter ver
bunden ist, so daß in diesem Bereich die größte Mikro
wellenleistung zugeführt und dann sukzessive im Verlauf
der Längserstreckung der leitenden Platte in den Streifen
bereich eingekoppelt wird.
Bislang wurde lediglich darauf Bezug genommen, wie die
leitende Platte mit ihrer Längserstreckung relativ zum
Wellenleiter angeordnet ist. Um auch in Querrichtung eine
gleichmäßige Mikrowellenleistungseinkopplung in den
Streifenbereich zu erhalten, ist vorgesehen, daß die
leitende
Platte mit ihrer zur Längserstreckung im rechten Winkel
verlaufenden Quererstreckung parallel zur Begrenzungs
fläche verläuft, so daß in jeder Querrichtung stets eine
konstante Mikrowelleneinkopplung erfolgt.
Die bislang beschriebenen Ausführungsbeispiele der er
findungsgemäßen Lösung funktionieren grundsätzlich mit
lediglich einer leitenden Platte bei jeder Einkopplungsstruktur.
Besonders vorteilhaft läßt sich die Einkopplung
in den Streifenbereich jedoch dann anpassen, wenn eine der
Einkopplungsstrukturen zwischen der leitenden Platte und
der Wellenleiterfläche ein sich in der Richtung der Einkopplung
erstreckendes und in Mikrowellenausbreitungsrichtung
stetig seine Dicke verringerndes dielektrisches Keil
element aufweist.
Dieses Keilelement soll lediglich stetig seine Dicke redu
zieren, in welcher Form dies erfolgt, kann von den jewei
ligen geometrischen Verhältnissen und der jeweils in den
Streifenbereich einzukoppelnden Leistung abhängig gemacht
werden. Im einfachsten Fall ist vorgesehen, daß die Dicke
des Keilelements in Mikrowellenausbreitungsrichtung linear
abnimmt.
Hinsichtlich der Ausbildung des Keilelements ist es
besonders vorteilhaft, wenn das Keilelement eine im
wesentlichen der gesamten Längserstreckung der leitenden
Platte entsprechende Länge aufweist.
Darüber hinaus ist es in Ergänzung dazu vorteilhaft, wenn
das Keilelement eine der Quererstreckung der leitenden
Platte der jeweiligen Einkopplungsstruktur entsprechende
Breite quer zur Richtung der Einkopplung aufweist.
Im einfachsten Fall ist das Keilelement so angeordnet, daß
die jeweilige leitende Platte auf dem Keilelement auf
liegt. Andererseits ist es zweckmäßig, wenn das Keil
element auf einer die Begrenzungsfläche tragenden Wellen
leiterwand aufliegt.
Hinsichtlich der Art des Abschlusses der Einkopplungsstrukturen
an ihrem, einer Verbindung mit dem Bandleiter
gegenüberliegenden Ende wurden bislang keine Ausführungen
gemacht. So ist es beispielsweise denkbar, Einkopplungsstrukturen
mit einem Kurzschluß abzuschließen.
Wenn jedoch Reflexionen der Mikrowellen vermieden werden
sollen, ist es vorteilhaft, die Einkopplungsstrukturen
mit einem Mikrowellensumpf abzuschließen.
Im konstruktiv einfachsten Fall umfaßt der Mikrowellen
sumpf dabei ein Keilstück aus einem verlustbehafteten
Dielektrikum.
Bei den bislang beschriebenen Ausführungsbeispielen wurde
lediglich davon ausgegangen, daß eine der Einkopplungsstrukturen
so ausgebildet ist, daß deren leitende Platte
in einem spitzen Winkel zur jeweiligen Begrenzungsfläche
verläuft, während die andere Einkopplungsstruktur so aus
gebildet sein kann, daß deren leitende Platte parallel zur
jeweiligen Begrenzungsfläche verläuft.
Bei einem verbesserten Ausführungsbeispiel, bei welchem
eine optimierte gleichmäßige Einkopplung der Mikrowellen
leistung in den Streifenbereich erfolgt, ist vorgesehen,
daß die beiden einander gegenüberliegenden Einkopplungs
strukturen jeweils eine mit ihrer Längsrichtung in einem
spitzen Winkel zur Begrenzungsfläche verlaufende leitende
Platte aufweisen.
Ergänzend oder alternativ dazu ist aber auch denkbar, daß
zur Erreichung des gleichen Zwecks die beiden einander
gegenüberliegenden Einkopplungsstrukturen Keilelemente
aufweisen.
Eine weitere Alternative, welche insbesondere für groß
flächige geometrische Anordnungen geeignet ist, sieht vor,
daß eine Einkopplungsstruktur zwei entgegengesetzt zu
einander verlaufende Mikrowellenausbreitungsrichtungen
aufweist, so daß somit eine Aufteilung der ankommenden
Mikrowellenleistung in die beiden Richtungen erfolgt.
Vorzugsweise ist dabei vorgesehen, daß die leitende Platte
der Einkopplungsstruktur in einem mittleren Bereich mit
dem entsprechenden Bandleiter verbunden ist.
Zweckmäßigerweise erfolgt die Ausbildung der leitenden
Platte so, daß diese ausgehend von dem mittleren Bereich
mit zwei jeweils in einem spitzen Winkel zur Begrenzungs
fläche verlaufenden Abschnitten auf diese zu geneigt ist.
Zusätzlich oder alternativ dazu kann vorgesehen sein, daß
die Einkopplungsstruktur zwei sich in entgegengesetzte
Richtungen erstreckende Keilelemente aufweist.
Insbesondere für große Ausdehnungen von Begrenzungsflächen
und einer großen Ausdehnung des entsprechenden Resonators
ist es günstig, wenn mehrere Sätze einander gegenüber
liegender Einkopplungsstrukturen vorgesehen sind.
Vorzugsweise sind die Einkopplungsstrukturen dabei so
angeordnet, daß die Richtungen der Einkopplung derselben
parallel zueinander verlaufen.
Um eine möglichst gleichmäßige Anregung im Gasentladungs
raum zu erreichen, ist vorgesehen, daß die den Einkopplungsstrukturen
zugeordneten Streifenbereiche im wesent
lichen aneinander anschließen und somit keine toten Be
reiche von nicht angeregtem Lasergas im Gasentladungsraum
entstehen.
Eine optimale Anregung des erfindungsgemäßen Gasent
ladungslasers ist dann erreicht, wenn der Streifenbereich
oder die Streifenbereiche sich in Querrichtung im wesent
lichen über dem vom Resonatorstrahlengang durchsetzten
Teilbereich des Gasentladungsraums erstrecken, so daß, was
insbesondere bei einem sich mit großer Dimension in Quer
richtung erstreckenden Resonator von Bedeutung ist, über
die gesamte Querrichtung angeregtes Lasergas zur Verfügung
steht. Eine optimale Ausnützung des Resonators ist dann
gegeben, wenn sich der oder die Streifenbereiche im
wesentlichen in Richtung der Resonatorlängsachse über den
vom Resonatorstrahlengang durchsetzten Teilbereich des
Gasentladungsraums erstrecken.
Die Richtungen der Einkopplung der jeweils einander zugeord
neten Einkopplungsstrukturen können relativ zur Ent
ladungsstruktur prinzipiell beliebig liegen. Besonders
vorteilhaft ist es jedoch, wenn die Richtungen der
Einkopplung parallel zur Resonatorlängsachse oder senkrecht
zur Resonatorlängsachse verlaufen.
Bei den bislang beschriebenen Ausführungsbeispielen wurden
hinsichtlich des Materials, aus welchem die die Begren
zungsfläche tragende Wand hergestellt ist, keine näheren
Angaben gemacht. Es hat sich als besonders vorteilhaft
erwiesen, wenn die die Begrenzungsfläche tragende Wand aus
Metall ist.
Alternativ dazu ist es aber auch bei bestimmten Ausfüh
rungen von Gasentladungslasern möglich, wenn die die
Begrenzungsfläche tragende Wand aus dielektrischem
Material ist.
Eine besonders einfache und optimierte Anregung des Laser
gases im Gasentladungsraum läßt sich dann erreichen, wenn
bei Verwendung mehrerer Sätze von Einkopplungsstrukturen
jeder Satz einer Einkopplungsstruktur mit einer eigenen
Mikrowellenquelle verbunden ist, da sich in diesem Fall in
einfacher Weise mehrere Mikrowellenquellen kleiner
Leistung, also beispielsweise mehrere kommerziell erhält
liche Magnetrons, zur Anregung des Lasergases zusammen
verwenden lassen und dabei die Probleme, die üblicherweise
beim Zusammenschalten mehrerer Magnetrons auf einen
TEM-Wellenleiter auftreten, vermieden werden, da jedes
Magnetron über einen separaten TEM-Wellenleiter die Mikro
wellen dem Gasentladungsraum zuführt und somit auch eine
Wechselwirkung, die häufig zu Störungen und Leistungs
minderungen der Magnetrons führt, nicht auftreten kann, da
Kopplungseffekte zwischen den einzelnen Einkopplungsstrukturen
gar nicht oder nur in geringem Maße auftreten.
Hinsichtlich des Resonators selbst wurden im Rahmen der
erfindungsgemäßen Lösung keine genauen Angaben gemacht.
Besonders vorteilhaft ist es, wenn der Resonator so ausge
bildet ist, daß er durch mehrfache Reflexionen an den
Spiegeln mit einer Komponente in Richtung der Resonator
achse und in der Querrichtung den sich sowohl in Richtung
der Resonatorachse als auch in der Querrichtung ausdehnen
den Strahlenverlauf erzeugt.
Besonders vorteilhaft ist es dabei, wenn es sich bei dem
Resonator um einen instabilen Resonator handelt.
Zu einem besonders bevorzugten Ausführungsbeispiel ist
vorgesehen, daß der Resonator einen als Lasertätigkeits
raum bezeichneten Volumenbereich des Gasentladungsraums
durchsetzt, welcher stromabwärts der Lasergasströmung
eines Anregungsraums angeordnet ist, wobei der Anregungs
raum durch mindestens einen der Streifenbereiche gebildet
ist. Dies hat den großen Vorteil, daß vor einem Eintritt
des Lasergases in den Lasertätigkeitsraum eine voll
ständige Anregung desselben erfolgen kann, so daß ein
vollständig angeregtes Lasergas in den Lasertätigkeitsraum
gelangt und somit eine optimale Laseraktivität erreichbar
ist.
Prinzipiell wäre es denkbar, daß der Anregungsraum und der
Lasertätigkeitsraum sich überlappen, wobei die vorstehend
genannten Vorteile dann in Erscheinung treten, wenn in
einem quergeströmten Laser das Lasergas rechtzeitig vor
Eintritt in den Lasertätigkeitsraum vollständig angeregt
ist. Besonders vorteilhaft ist es jedoch, wenn zwischen
dem Anregungsraum und dem Lasertätigkeitsraum ein mikro
wellenanregungsfreier Zwischenraum vorgesehen ist, da
dieser dem angeregten Lasergas die Möglichkeit gibt, sich
vollständig zu durchmischen und zu homogenisieren, so daß
ein homogen angeregtes Lasergas in den Lasertätigkeitsraum
eintritt und somit eine optimale Lasertätigkeit in dem von
dem Resonator durchsetzten Lasertätigkeitsraum erfolgt.
Besonders vorteilhaft ist es dabei, wenn in dem Laser
tätigkeitsraum selbst keine Mikrowellenanregung mehr
erfolgt.
Einige Ausführungsbeispiele der Erfindung sind Gegen
stand der nachfolgenden Beschreibung sowie der zeichne
rischen Darstellung.
In der Zeichnung zeigt
Fig. 1 ein erstes Ausführungsbeispiel eines er
findungsgemäßen Gasentladungslasers mit
einer Einkopplungsstruktur;
Fig. 2 eine Variante des ersten Ausführungsbei
spiels allerdings ohne Resonatorspiegel;
Fig. 3 eine Darstellung ähnlich Fig. 2 eines
zweiten Ausführungsbeispiels;
Fig. 4 eine Darstellung ähnlich Fig. 2 eines
dritten Ausführungsbeispiels und
Fig. 5 eine Darstellung ähnlich Fig. 2 eines
vierten Ausführungsbeispiels;
Fig. 6 eine schematische Darstellung ähnlich Fig. 1
eines fünften Ausführungsbeispiels.
Ein erstes, als Ganzes mit 10 bezeichnetes Ausführungsbei
spiel eines erfindungsgemäßen quergeströmten Gasent
ladungslasers umfaßt einen als Ganzes mit 12 bezeichneten
Resonator, welcher zwei einander gegenüberliegende
Spiegelsätze 14 und 16 aufweist. Der Resonator 12 ist
dabei als gefalteter Resonator ausgebildet, so daß eine
Resonatorachse 18 desselben beispielsweise von einem
ersten Spiegel 13 des ersten Spiegelsatzes 14 mit einem
Ast 18a zu einem ersten Spiegel 15 des zweiten Spiegel
satzes 16, von diesem zu einem zweiten Spiegel 17 des
zweiten Spiegelsatzes 16 mit einem Ast 18b verläuft, von
diesem Spiegel 17 mit einem Ast 18c zu einem zweiten
Spiegel 19 des ersten Spiegelsatzes 14, welcher als teil
durchlässiger Spiegel ausgebildet ist und einen sich
weiter in Richtung des Astes 18c ausbreitenden Laserstrahl
20 durchläßt, so daß dieser dann den ausgekoppelten Laser
strahl darstellt, andererseits aber auch in einem Ast 18d
der Resonatorachse den Laserstrahl wieder zu dem ersten
Spiegel 13 des ersten Spiegelsatzes 14 reflektiert.
Somit ist also die Resonatorachse insgesamt in vier Äste
18a bis d unterteilt, wobei die Äste 18a und 18c die
Resonatorlängsachsen darstellen, während die Äste 18b und
d, die in einer zur Resonatorlängsachse 18a und c sich
senkrecht erstreckenden Querrichtung 24 verlaufen, die
Resonatorquerachsen bilden.
Der Resonator 12 hat somit einen sowohl in Richtung der
Resonatorlängsachsen 18a und c sowie sich in einer zu
Resonatorquerachsen parallelen Querrichtung 24 ausdehnen
den Strahlenverlauf.
Dieser Resonator 12 ist von einer Lasergasströmung 26
durchsetzt, welche in der Querrichtung 24 durch den
Resonator 12 hindurchtritt.
Beispielsweise handelt es sich bei dem erfindungsgemäßen
quergeströmten Hochleistungslaser um einen CO2-Laser, bei
welchem das Lasergas in bekannter Weise den Resonator 12
in der Querrichtung 24 durchsetzt.
Die Lasergasströmung 26 ist von einem den sich zwischen
den Spiegelsätzen 14 und 16 erstreckenden Teil des Resona
tors 12 zwischen sich einschließenden, als Ganzes mit 30
bezeichneten Gasentladungskanal geführt, welcher zwei
parallel zueinander ausgerichtete Begrenzungsflächen 32
und 34 umfaßt, die sich jeweils in Ebenen parallel zur
Querrichtung 24 und zur Resonatorlängsachse 18a, c er
strecken und den Strahlenverlauf des Resonators 12
zwischen sich einschließen.
In diesem Gasentladungskanal 30 findet eine Anregung des
in der Lasergasströmung 26 herangeführten Lasergases
statt, welches dann im Resonator 12 zur Ausbildung der
Laserstrahlung führt.
Die Begrenzungsflächen 32 und 34 sind jeweils durch eine
Wand 36 und 38 getragen. Im vorliegenden Fall sind es die
Wand 38 und die Wand 36.
Zwischen den Wänden 36 und 38 wird ein Gasentladungsraum
40 gebildet, welcher von dem jeweiligen Lasergas, bei
spielsweise CO2, durchströmt ist.
Die Anregung des Lasergases im Gasentladungsraum 40 er
folgt im dargestellten Ausführungsbeispiel über Mikro
wellen, welche von einem als Mikrowellenquelle dienenden
Magnetron 42 erzeugt und in einen TEM-Wellenleiter 44 ein
gespeist werden, welcher einen ersten Bandleiter 46 und
einen zweiten Bandleiter 48 umfaßt.
Der erste Bandleiter 46 ist mit einer ersten Einkopplungsstruktur
50 verbunden, während der zweite Bandleiter
mit einer zweiten Einkopplungsstruktur 52 verbunden ist.
Beim ersten Ausführungsbeispiel wird die erste
Einkopplungsstruktur 50 durch eine sich an ein Endstück 54 des
ersten Bandleiters 46 in dessen Ebene anschließende elek
trisch leitende Platte 56 gebildet. Das Endstück 54 ist
dabei im Abstand über der Wand 38 und parallel zu dieser
angeordnet und die leitende Platte 56 erstreckt sich von
dem Endstück mit einer Längserstreckung 58 auf die Wand 38
zu, so daß die Längserstreckung 58 mit der Wand 38 einen
spitzen Winkel α einschließt. Außerdem verläuft die
leitende Platte 56 mit ihrer senkrecht auf der Längser
streckung stehenden Quererstreckung 60 parallel zur Wand
38.
Vorzugsweise erfolgt der Anschluß der leitenden Platte 56
an den ersten Bandleiter 46 so, daß die Längserstreckung
58 der leitenden Platte 56 im rechten Winkel zu einer
Längsrichtung 62 des Endstücks angeordnet ist.
Zweckmäßigerweise endet beim in Fig. 1 dargestellten Aus
führungsbeispiel die leitende Platte 56 mit ihrem dem End
stück 54 abgewandten Ende 64 in geringem Abstand über
einer sich in der Querrichtung 24 erstreckenden und dem
ersten Spiegelsatz 14 zugewandten Breitseitenkante 66 der
Wand 38.
Die zweite Einkopplungsstruktur 52 umfaßt die als metal
lische Platte ausgeführte Wand 36, an deren sich die in der
Querrichtung 24 erstreckende und dem zweiten Spiegelsatz
16 zugewandte Breitseitenkante 68 sich der zweite Band
leiter 48 in Fortsetzung anschließt.
Die beiden einander gegenüberliegenden Einkopplungsstrukturen
50 und 52 führen nun zu einer sukzessiven Ein
kopplung von längs des TEM-Wellenleiters 44 zugeführten
Mikrowellen in einer Richtung der Einkopplung 70, welche
parallel zu den Wellenleiterflächen 32 und 34 in Richtung
der Längserstreckung 58 verläuft. Gleichzeitig fällt mit
der Richtung der Einkopplung 70 die Mikrowellenausbreitungs
richtung 72 zusammen, da die an dem TEM-Wellenleiter 44 in
dessen Längsrichtung 62 ankommenden Mikrowellen sich im
rechten Winkel nun in Richtung der Längserstreckung 58 mit
ihrer Mikrowellenausbreitungsrichtung 72 fortsetzen. Durch
die in dem Winkel α auf die Wand 38 zu laufende leitende
Platte 56 wird eine sukzessive Einkopplung der Mikrowellen
in den Gasentladungsraum 40 erreicht und somit in einem
zwischen den beiden Einkopplungsstrukturen 50 und 52
liegenden Streifenbereich 74 eine im wesentlichen in der Richtung
der Einkopplung gleichförmige Mikrowellenanregung des
Lasergases erzielt, wobei sich dieser Streifenbereich 74
in der Querrichtung 24 mindestens über die Ausdehnung des
Resonators in der Querrichtung 24 erstreckt.
Vorzugsweise liegt die Einkopplungsrichtung 70 parallel
zur Resonatorlängsachse 18a, c.
Bei dem in Fig. 1 dargestellten Ausführungsbeispiel ist in
einem zwischen der leitenden Platte 56 und der Wand 38
liegenden Zwischenraum 76 lediglich Luft vorhanden, welche
als Dielektrikum wirkt, so daß die metallische Wand 38 wie
über einen Kondensator an die leitende Platte 56 ange
koppelt ist.
Bei einer Variante des ersten Ausführungsbeispiels, darge
stellt in Fig. 2, ist in dem Zwischenraum 76 ein keil
förmiges Dielektrikum 78 eingesetzt, welches einerseits
auf der Wand 38 aufliegt und andererseits die leitende
Platte 56 trägt.
Auch mit diesem gegenständlichen Dielektrikum, anstelle
von Luft als Dielektrikum in dem Zwischenraum 76, ist eine
Ankopplung der metallischen Wand 38 wie über einen Konden
sator an die leitende Platte 56 und somit an den ersten
Bandleiter 46 gegeben.
Zusätzlich ist, wie in Fig. 2 vorgesehen, auch im Bereich
des Endes 64 der leitenden Platte 56 ein über die gesamte
Quererstreckung 60 derselben ausdehnendes Keilstück 80 aus
einem verlustbehafteten Dielektrikum vorgesehen, welches
in der Mikrowellenausbreitungsrichtung 72 eine zunehmende
Dicke aufweist und den Abstand zwischen der Wand 38 und
dem Ende 64 der leitenden Platte 56 vollständig ausfüllt.
Dieses Keilstück 80 dient damit als Mikrowellensumpf,
welcher Mikrowellenreflexionen an dem Ende 64 der leiten
den Platte 56 und der Breitseitenkante 66 der Wand 38 ver
hindert.
Vorzugsweise erstreckt sich das Keilstück lediglich über
eine geringe Distanz entgegengesetzt zur Mikrowellenaus
breitungsrichtung 72 und nimmt im Verlauf dieser Er
streckung in seiner Dicke auf Null ab.
Alternativ zum Vorsehen eines Mikrowellensumpfes ist es
auch denkbar, das Ende 64 der leitenden Platte 56 und der
Breitseitenkante 66 der Wand 38 elektrisch leitend mit
einander zu verbinden und somit einen Kurzschluß vorzu
sehen, mit welchem die erste Einkopplungsstruktur 50
abgeschlossen ist.
Bei einem zweiten Ausführungsbeispiel, dargestellt in Fig.
3, sind dieselben Teile, insoweit als sie mit denen des
ersten Ausführungsbeispiels identisch sind, mit denselben
Bezugszeichen versehen, so daß bezüglich deren Beschrei
bung auf die Ausführungen zum ersten Ausführungsbeispiel
verwiesen werden kann.
Im Gegensatz zum ersten Ausführungsbeispiel sind die mit
einem ersten TEM-Wellenleiter 44a verbundenen
Einkopplungsstrukturen 50a und 52a jeweils mit einem dielek
trischen Keilelement 78a versehen, so daß beiderseits des
zwischen diesen liegenden Streifenbereichs 74a eine in der
Mikrowellenausbreitungsrichtung 72a zunehmende Einkopplung
in diesen Streifenbereich 74a erfolgt und somit insgesamt
in dem Streifenbereich 74a in der Richtung der Einkopplung
70a eine gleichmäßige Mikrowelleneinkopplung erfolgt.
Zusätzlich zu dem ersten Satz von Einkopplungsstrukturen
50a und 52a ist ein zweiter Satz von Einkopplungsstrukturen
50b und 52b vorgesehen, welche mit einem
zweiten TEM-Wellenleiter 74b verbunden sind und auch diese
beiden Einkopplungsstrukturen 50b und 52b sind jeweils
mit einem Keilelement 78b versehen. Allerdings erstreckt
sich die Mikrowellenausbreitungsrichtung 72b dieses
zweiten Satzes von Einkopplungsstrukturen 50b und 52b
entgegengesetzt zur Mikrowellenausbreitungsrichtung 72a,
jedoch parallel zu diesen. Dadurch erfolgt ebenfalls eine
gleichmäßige Anregung des Lasergases in einem Streifen
bereich 74b des Gasentladungsraums 40. Vorzugsweise ist
die Erstreckung der beiden Überkopplungsstrukturen in
ihren Querrichtungen 60a und 60b so gewählt, daß beide
Sätze von Einkopplungsstrukturen 50a, 52a und 50b, 52b
zugeordnete Streifenbereiche 74a und 74b aufweisen, die
aneinander anschließen und damit im wesentlichen den
gesamten, vom Resonator 12 durchsetzten Bereich des Gas
entladungsraums 40 ausfüllen.
Bei einem dritten Ausführungsbeispiel, dargestellt in Fig.
4, ist die erste Einkopplungsstruktur 50′ so ausgebildet,
daß sie zwei Abschnitte 56v, 56h einer elektrisch leiten
den Platte umfaßt, die sich ausgehend von einem im wesent
lichen mittig zur Einkopplungsstruktur 50′ geführten End
stück 54 des TEM-Wellenleiters 44, welches im Abstand zur
Wellenleiterfläche 34 angeordnet ist, mit ihrer Längser
streckung 58v und 58h in der Richtung der Einkopplung 70
erstrecken und dabei in Richtung auf die Wand 38 zu ver
laufen, so daß sie mit ihren jeweiligen Enden 64v und 64h
in geringem Abstand von der Wand 38 stehen.
Damit ist auch ausgehend von dem Endstück 54 jedem Ab
schnitt 56v, h eine eigene Mikrowellenausbreitungsrichtung
72v und 72h zuzuordnen, welche ausgehend von dem Endstück
54 entgegengesetzt zueinander gerichtet sind, jedoch
parallel zur Einkopplungsrichtung 70 verlaufen.
Zwischen den Abschnitten 56v, h und dem Endstück 54 ist
ein dielektrischer Doppelkeil 82 vorgesehen, welcher zwei
Keilelemente 78v und 78h umfaßt, die zwischen den jewei
ligen Abschnitten 56v, h und der Wand 38 liegen.
Ähnlich wie beim zweiten Ausführungsbeispiel ist die
Einkopplungsstruktur 52′ vereinfacht ausgebildet, d. h. sie
umfaßt die leitende Wand 36 als elektrisch leitende
Platte, an welche mittig der zweite Bandleiter 48 herange
führt und leitend mit dieser verbunden ist.
Über den TEM-Wellenleiter 44 herangeführte Mikrowellen
leistung wird ausgehend von dem Endstück 54 in die beiden
Mikrowellenausbreitungsrichtungen 72v und 72h jeweils zur
Hälfte aufgeteilt und während ihres Verlaufes in den
Mikrowellenausbreitungsrichtungen 72v, h sukzessive in den
Streifenbereich 74′ des Gasentladungsraums eingekoppelt,
so daß im wesentlichen über den gesamten von der Resona
torlängsrichtung 18a, c durchsetzten Teilbereich des Gas
entladungsraums 40 eine im wesentlichen gleichmäßige An
regung des Lasergases in diesem Streifenbereich 74′
erfolgt.
Bei einem vierten Ausführungsbeispiel, dargestellt in Fig.
5, sind zwei Sätze gleichartiger Mikrowelleneinkopplungs
strukturen 50a′, 52a′ und 50b′ und 52b′ vorgesehen, die
jeweils einander gegenüberliegen. Die Einkopplungsstrukturen
50a′ und 50b′ sind im wesentlichen identisch
wie die Einkopplungsstruktur 50′ des dritten Ausführungs
beispiels ausgeführt, so daß bezüglich deren Beschreibung
und Funktion auf die Ausführungen zum dritten Ausführungs
beispiel verwiesen werden kann.
Im Gegensatz dazu sind auch die Einkopplungsstrukturen
52a′ und 52b′ spiegelsymmetrisch bezüglich des Gasent
ladungsraums 40 ausgeführt, d. h. sie sind ebenfalls mit
Doppelkeilen 82a und 82b versehen, so daß über beide
einander gegenüberliegende Doppelkeile 82a oder 82b des
jeweiligen Satzes von Einkopplungsstrukturen 50a′, 52a′
oder 50b′, 52b′ eine im wesentlichen konstante Einkopplung
in die diesen Sätzen von Einkopplungsstrukturen jeweils
zugeordneten Streifenbereiche 74a′ und 74b′ erfolgt, die
ebenfalls über die Wellenleiterlängsrichtung im wesent
lichen konstant ist.
Zu jedem Satz von Einkopplungsstrukturen 50a′, 52a′ und
50b′, 52b′ ist jeweils ein TEM-Wellenleiter 44a und 44b
geführt, welcher jeweils mit einem diesem zugeordneten
Magnetron 42a, b in Verbindung steht, so daß jeder Satz
von Einkopplungsstrukturen 50a′, 52a′ oder 50b′, 52b′ mit
einem eigenen Magnetron 42a oder 42b versorgt wird.
Vorzugsweise sind die beiden Streifenbereiche 74a′ und
74b′ so gewählt, daß sie im wesentlichen den gesamten, vom
Resonator 12 durchsetzten Teilbereich des Gasentladungs
raums, insbesondere in der Querrichtung 24 erfassen.
Bei einem fünften Ausführungsbeispiel, dargestellt in Fig.
6, sind, insoweit als dieselben Teile wie bei den bis
herigen Ausführungsbeispielen vorhanden sind, dieselben
Bezugszeichen verwendet, so daß bezüglich dieser Teile auf
die Ausführungen zum ersten Ausführungsbeispiel Bezug
genommen werden kann.
Im Gegensatz zum ersten Ausführungsbeispiel erstrecken
sich die Wände 36 und 38 mit den Begrenzungsflächen 32 und
34 in der Querrichtung 24, und zwar stromabwärts der Laser
gasströmung 26 über den ersten Bandleiter 46 hinaus, so
daß lediglich in einem Teil des von den Wänden 36 und 38
eingeschlossenen Gasentladungsraums 40′ eine Mikrowellen
anregung des Lasergases stattfindet. Dieser Teil des Gas
entladungsraums 40′ ist als Anregungsraum 100 bezeichnet
und umfaßt den mikrowellenangeregten Streifenbereich 74.
Ein Laserresonator, als Ganzes mit 12′ bezeichnet, ist nun
so angeordnet, daß die einander gegenüberliegenden
Spiegelsätze 14′ und 16′ zu einem Strahlenverlauf 18′
zwischen diesen führen, welcher einen Lasertätigkeitsraum
102 des Gasentladungsraums 40′ durchsetzt. Dieser Laser
tätigkeitsraum 102 liegt in Richtung der Lasergasströmung
26 stromabwärts des Anregungsraums 100 und ist vorzugs
weise, wie in Fig. 6 dargestellt, durch einen Zwischenraum
104 zwischen dem Anregungsraum und dem Lasertätigkeitsraum
102 getrennt, in welchem eine intensive Durchmischung des
im Anregungsraum 100 angeregten Lasergases stattfinden
kann. Bei diesem Ausführungsbeispiel erfolgt keine Mikro
wellenanregung im Zwischenraum 104 und im Lasertätigkeits
raum 102.
Die Spiegelsätze 14′ und 16′ brauchen nicht notwendiger
weise planparallele Oberflächen, wie im gezeichneten Aus
führungsbeispiel dargestellt, zu haben, es können sämtliche
Arten von Spiegelsätzen für stabile und instabile Resona
toren Verwendung finden. Wichtig ist allein, daß der
Spiegelsatz jeweils so ausgebildet ist, daß der Strahlen
verlauf des dadurch gebildeten Resonators 12′ lediglich
den vom Anregungsraum 100 getrennten und außerhalb des
Anregungsraums 100 liegenden Lasertätigkeitsraum 102
durchsetzt.
Vorzugsweise liegen dabei der Anregungsraum 100 und der
Lasertätigkeitsraum 102 parallel zueinander und von
einander getrennt durch einen eine konstante Breite in
Querrichtung 24 aufweisenden Zwischenraum 104.
Claims (32)
1. Quergeströmter Gasentladungslaser für hohe Leistungen
mit einem in Richtung einer Resonatorlängsachse ein
ander gegenüberliegend im Abstand angeordnete
Spiegelsätze aufweisenden Resonator, welcher einen
sich sowohl in Richtung der Resonatorlängsachse als
auch in einer zu dieser senkrechten Querrichtung aus
dehnenden Strahlenverlauf aufweist und welcher von
einem Lasergas in der Querrichtung durchströmt ist,
und mit einer zweidimensionalen, seitlich offenen
Entladungsstruktur, umfassend sich in einer Ebene
parallel zur Richtung der Resonatorlängsachse und zur
Querrichtung erstreckende, einander gegenüberliegende
und den Strahlenverlauf zwischen sich einschließende
Begrenzungsflächen für einen Gasentladungsraum,
dadurch gekennzeichnet, daß
eine Mikrowellenquelle (42) vorgesehen ist, daß von
der Mikrowellenquelle (42) Mikrowellen in einen zur
Entladungsstruktur (30) führenden, zwei einander
gegenüberliegende Bandleiter (46, 48) aufweisenden
TEM-Wellenleiter (44) einspeisbar sind, daß jeweils
auf einer dem Gasentladungsraum (40) gegenüberliegen
den Seite einer jeden der Begrenzungsflächen (32, 34)
eine vom Lasergas im Gasentladungsraum (40) getrennte
Einkopplungsstruktur (50, 52) angeordnet ist, welche
jeweils mit einem der Bandleiter (46, 48) verbunden
ist, daß sich beide Einkopplungsstrukturen (50, 52)
gemeinsam in einer Richtung (70) erstrecken, die in
einer zur Begrenzungsfläche (32, 34) parallelen Ebene
liegt und gemeinsam in einem Streifenbereich (74) in
dem Gasentladungsraum (40) längs der Richtung
(70) eine im wesentlichen konstante Mikrowellenein
kopplung bewirken.
2. Gasentladungslaser nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß sich die Einkopplungsstrukturen (50,
52) um ein Mehrfaches einer halben Wellenlänge der
Mikrowellen in der Richtung (70) erstrecken.
3. Gasentladungslaser nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß jede Einkopplungsstruktur (50,
52) eine mit dem jeweiligen Bandleiter (46, 48) ver
bundene und sich in der Richtung (70) erstreckende
elektrisch leitende Platte (56, 36) aufweist.
4. Gasentladungslaser nach Anspruch 3, dadurch gekenn
zeichnet, daß die leitende Platte (56, 36) einer
Einkopplungsstruktur (50, 52) mit ihrer Längserstreckung
(58) in der Richtung (70) verläuft.
5. Gasentladungslaser nach Anspruch 4, dadurch gekenn
zeichnet, daß die leitende Platte (56) einer Ein
kopplungsstruktur (50) in Richtung ihrer Längser
streckung (58) einen spitzen Winkel (α) mit der
jeweiligen Begrenzungsfläche (34) einschließt.
6. Gasentladungslaser nach Anspruch 5, dadurch gekenn
zeichnet, daß die leitende Platte (56) mit einem
einen maximalen Abstand von der Begrenzungsfläche
(34) aufweisenden Endbereich mit dem jeweiligen Band
leiter (46) verbunden ist.
7. Gasentladungslaser nach einem der Ansprüche 3 bis 6,
dadurch gekennzeichnet, daß die leitende Platte (56,
36) mit ihrer zur Längserstreckung (58) im rechten
Winkel verlaufenden Quererstreckung (60) parallel zur
Begrenzungsfläche (32, 34) verläuft.
8. Gasentladungslaser nach einem der voranstehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß eine der Ein
kopplungsstrukturen (50) zwischen der leitenden
Platte (56) und der Begrenzungsfläche (34) ein sich
in der Richtung (70) erstreckendes und in Mikrowellenausbreitungsrichtung
(72) stetig seine Dicke
verringerndes dielektrisches Keilelement (78)
aufweist.
9. Gasentladungslaser nach Anspruch 8, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Dicke des Keilelements (78) in
Mikrowellenausbreitungsrichtung (72) linear abnimmt.
10. Gasentladungslaser nach Anspruch 8 oder 9, dadurch
gekennzeichnet, daß das Keilelement (78) eine im
wesentlichen der gesamten Längserstreckung (58) der
leitenden Platte (56) der jeweiligen Einkopplungs
struktur (50) entsprechende Länge aufweist.
11. Gasentladungslaser nach einem der Ansprüche 8 bis 10,
dadurch gekennzeichnet, daß das Keilelement eine der
Quererstreckung (60) der leitenden Platte (56) der
jeweiligen Einkopplungsstruktur (50) entsprechende
Breite quer zu der Richtung (70) aufweist.
12. Gasentladungslaser nach einem der Ansprüche 8 bis 11,
dadurch gekennzeichnet, daß die jeweilige leitende
Platte (56) auf dem Keilelement (78) aufliegt.
13. Gasentladungslaser nach einem der Ansprüche 8 bis 12,
dadurch gekennzeichnet, daß das Keilelement (78) auf
einer die Begrenzungsfläche (34) tragenden Wellen
leiterwand (38) aufliegt.
14. Gasentladungslaser nach einem der voranstehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß eine der Ein
kopplungsstrukturen (50) mit einem Mikrowellensumpf
(80) abgeschlossen ist.
15. Gasentladungslaser nach Anspruch 14, dadurch gekenn
zeichnet, daß der Mikrowellensumpf ein Keilstück (80)
aus einem verlustbehafteten Dielektrikum umfaßt.
16. Gasentladungslaser nach einem der Ansprüche 3 bis 15,
dadurch gekennzeichnet, daß die beiden einander
gegenüberliegenden Einkopplungsstrukturen (50, 52)
jeweils eine mit ihrer Längserstreckung (58) einen
spitzen Winkel (α) zur Begrenzungsfläche (32, 34)
verlaufende leitende Platte (56) aufweist.
17. Gasentladungslaser nach einem der Ansprüche 8 bis 16,
dadurch gekennzeichnet, daß die einander gegenüber
liegenden Einkopplungsstrukturen (50, 52) Keil
elemente (78) aufweisen.
18. Gasentladungslaser nach einem der voranstehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß eine Einkopp
lungsstruktur (50′) zwei entgegengesetzt zueinander
verlaufende Mikrowellenausbreitungsrichtungen (72v,
h) aufweist.
19. Gasentladungslaser nach Anspruch 18, dadurch gekenn
zeichnet, daß die leitende Platte (56v, h) der Ein
kopplungsstruktur (50′) in einem mittleren Bereich
mit dem entsprechenden Bandleiter (46) verbunden ist.
20. Gasentladungslaser nach Anspruch 19, dadurch gekenn
zeichnet, daß die leitende Platte ausgehend von dem
mittleren Bereich mit zwei jeweils in einem spitzen
Winkel (α) zur Begrenzungsfläche (34) verlaufenden
Abschnitten (56v, h) auf diese zugeneigt ist.
21. Gasentladungslaser nach einem der Ansprüche 18 bis
20, dadurch gekennzeichnet, daß die Einkopplungs
struktur (50′) zwei sich in entgegengesetzte Rich
tungen erstreckende Keilelemente (78v, h) aufweist.
22. Gasentladungslaser nach einem der voranstehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Sätze
(50a, 52a; 50b, 52b; 50a′, 52a′; 50b′, 52b′) einander
gegenüberliegender Einkopplungsstrukturen vorgesehen
sind.
23. Gasentladungslaser nach Anspruch 22, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Richtungen (70) der Sätze von
Einkopplungsstrukturen (50a, 52a; 50b, 52b; 50a′,
52a′; 50b′, 52b′) parallel zueinander verlaufen.
24. Gasentladungslaser nach einem der Ansprüche 22 oder
23, dadurch gekennzeichnet, daß die den Einkopp
lungsstrukturen zugeordneten Streifenbereiche (74a,
74b; 74a′, 74b′) im wesentlichen aneinander an
schließen.
25. Gasentladungslaser nach einem der voranstehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß sich der oder
die Streifenbereiche (74, 74a, 74b, 74a′, 74b′) in
Querrichtung (24) im wesentlichen über den vom
Resonatorstrahlengang durchsetzten Teilbereich des
Gasentladungsraums (40) erstrecken.
26. Gasentladungslaser nach einem der voranstehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß sich der oder
die Streifenbereiche (74, 74a, 74b, 74a′, 74b′) im
wesentlichen in Richtung der Resonatorlängsachse über
den vom Resonatorstrahlengang durchsetzten Teil
bereich des Gasentladungsraums (40) erstrecken.
27. Gasentladungslaser nach einem der voranstehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Richtung
(70) parallel oder senkrecht zur Resonatorlängsachse
(18a, c) verläuft.
28. Gasentladungslaser nach einem der voranstehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die die
Begrenzungsfläche (32, 34) tragende Wand (36, 38) aus
Metall ist.
29. Gasentladungslaser nach einem der Ansprüche 1 bis 27,
dadurch gekennzeichnet, daß die die Begrenzungsfläche
(34) tragende Wand (38) aus dielektrischem Material
ist.
30. Gasentladungslaser nach einem der Ansprüche 22 bis
29, dadurch gekennzeichnet, daß jedem Satz (50a, 52a;
50b, 52b; 50′a, 52a′; 50b′, 52b′) von Einkopplungs
strukturen eine eigene Mikrowellenquelle (42) zuge
ordnet ist.
31. Gasentladungslaser nach einem der voranstehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Resonator
(12′) einen als Lasertätigkeitsraum (102) bezeichneten
Volumenbereich des Gasentladungsraums (40′) durch
setzt, welcher stromabwärts der Lasergasströmung (26)
eines Anregungsraums (100) angeordnet ist, wobei der
Anregungsraum (100) durch mindestens einen der
Streifenbereiche (74) gebildet ist.
32. Gasentladungslaser nach Anspruch 31, dadurch gekenn
zeichnet, daß zwischen dem Anregungsraum (100) und
dem Lasertätigkeitsraum (102) ein mikrowellenan
regungsfreier Zwischenraum (104) liegt.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19893937493 DE3937493C2 (de) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | Quergeströmter Gasentladungslaser mit Mikrowellenanregung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19893937493 DE3937493C2 (de) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | Quergeströmter Gasentladungslaser mit Mikrowellenanregung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3937493A1 DE3937493A1 (de) | 1991-05-16 |
DE3937493C2 true DE3937493C2 (de) | 1994-03-24 |
Family
ID=6393300
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19893937493 Expired - Fee Related DE3937493C2 (de) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | Quergeströmter Gasentladungslaser mit Mikrowellenanregung |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3937493C2 (de) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2917995C2 (de) * | 1979-05-04 | 1981-06-19 | Deutsche Forschungs- und Versuchsanstalt für Luft- und Raumfahrt e.V., 5300 Bonn | Verfahren zur Erzeugung eines laseraktiven Zustandes in einer Gasströmung |
US4513424A (en) * | 1982-09-21 | 1985-04-23 | Waynant Ronald W | Laser pumped by X-band microwaves |
US4631732A (en) * | 1984-04-25 | 1986-12-23 | Christensen Clad P | High frequency RF discharge laser |
DE3708314A1 (de) * | 1987-03-14 | 1988-09-22 | Deutsche Forsch Luft Raumfahrt | Mikrowellengepumpter hochdruckgasentladungslaser |
DE3732172A1 (de) * | 1987-09-24 | 1989-04-13 | Deutsche Forsch Luft Raumfahrt | Laser |
-
1989
- 1989-11-10 DE DE19893937493 patent/DE3937493C2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3937493A1 (de) | 1991-05-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3729053C2 (de) | ||
EP0306506B1 (de) | Mikrowellengepumpter hochdruckgasentladungslaser | |
DE1955888A1 (de) | Mikrowellenfenster | |
DE4026516C2 (de) | Hochfrequenzangeregter Hochleistungsgaslaser | |
DE3828952C2 (de) | ||
DE970616C (de) | Verzoegerungsleitung der Bauart mit ineinandergreifenden Stegen fuer Elektronenstrahlroehren | |
DE2134996B2 (de) | Wanderfeldverstaerkerroehre | |
DE3786664T2 (de) | Mikrowellenerreger für orthogonal polarisierte wellen. | |
DE3937491C2 (de) | Wellenleiterlaser mit Mikrowellenanregung | |
DE68918426T2 (de) | Doppelfrequenz strahlende Vorrichtung. | |
EP0355758A2 (de) | Wellenleiteranordnung | |
DE2526070C3 (de) | Mikrowellendichtungskonstruktion für einen Mikrowellenofen | |
DE3620555C2 (de) | ||
DE3937493C2 (de) | Quergeströmter Gasentladungslaser mit Mikrowellenanregung | |
DE2642448C3 (de) | Hochfrequenz-Wellentypwandler | |
DE3937492C2 (de) | ||
DE3937490A1 (de) | Mikrowellenangeregter hochleistungslaser | |
DE2410396C2 (de) | Oberwellenfilter für Mikrowellen | |
EP0496225A2 (de) | Längsgeströmter Gaslaser | |
DE2347209C2 (de) | Reflexionsarm bedampfte Verzögerungsleitung für Lauffeldröhren | |
EP0152570B1 (de) | Gaslaser insbesondere TE-Laser | |
DE1933950C3 (de) | Anordnung zur Erregung der Schwingung«!ornt H20 in einem rechteckigen Haupthohlleiter mittels Wellen der Schwingungsform H10, und Verwendung der Anordnung zum Aufbau einer Monopubquelle | |
DE3937489A1 (de) | Quergestroemter gasentladungslaser mit mikrowellenanregung | |
EP0594672B1 (de) | Gaslaser, insbesondere co2-laser | |
DE1297770B (de) | Verzoegerungsleitung vom Sprossentyp fuer Lauffeldroehren |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |