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DE3750408T2 - Atomarer Kräftesensor zur Messung der Eigenschaften eines Datenträgers. - Google Patents

Atomarer Kräftesensor zur Messung der Eigenschaften eines Datenträgers.

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DE3750408T2
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Gerd Karl Prof. Dr. W-8084 Inning Binnig
Urs Theodor Dr. Ch-8803 Rueschlikon Duerig
Heinrich Dr. Ch-8805 Richterswil Rohrer
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International Business Machines Corp
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Description

  • Diese Erfindung bezieht sich allgemein auf atomare Kräftemikroskope (AKM) und im einzelnen auf Mittel zum Messen der Eigenschaften eines Datenträgers mit Hilfe eines atomaren Kräftesensorkopfes.
  • Bei dem von G. Binnig in EP-A-0 223 918 vorgeschlagenen atomaren Kräftemikroskop, das von G. Binnig, C.F. Quate und Ch. Gerber in Phys. Rev. Letters, Band 56, Nr. 9, März 1986, auf den Seiten 930-933 beschrieben wurde, wird eine sehr feine, an einen federähnlichen Freiträger angebrachte Spitze verwendet, um das Profil einer zu untersuchenden Oberfläche abzutasten. Bei den hierbei verwendeten Abständen treten zwischen den Atomen am Scheitelpunkt der Spitze und den Atomen auf der Oberfläche sehr kleine Kräfte auf, was zu einem sehr geringen Ausschlag des Freiträgers führt. In dem Vorschlag von Binnig wird dieser Ausschlag mit Hilfe eines Tunnelmikroskops gemessen, das heißt, eine elektrisch leitfähige Tunnelspitze wird in Tunnelabstand an der Rückseite des Freiträgers plaziert, und die Veränderungen des Tunnelstroms dienen zur Bestimmung des Ausschlags. Da die Eigenschaften des Freiträgers bekannt sind, können die zwischen der AKM-Spitze und der zu prüfenden Oberfläche auftretenden Kräfte bestimmt werden.
  • Die zwischen einer sehr feinen Spitze und einer Oberfläche auftretenden Kräfte werden üblicherweise als van-der-Waal'sche Kräfte, kovalente Kräfte, Ionenkräfte oder Kernabstoßungs-Interaktionskräfte beschrieben. Die bei der Methode mit atomarem Abstand zwischen einzelnen Atomen auftretenden Energien, respektive am Scheitelpunkt der Spitze und auf einer Oberfläche, bewegen sich im Bereich von E&sub0; = 0,01 . . . 10eV = 10²² . . . 10¹&sup8; Joule. Die entsprechenden Abstände liegen im Sub-Nanometerbereich, und zwar bei x&sub0; = 10 . . . 1000 pm = 0,01 . . . 1 nm. Die betreffenden Kräfte (das heißt, die ersten Ableitungen der Potentialfunktion) liegen daher im Bereich von Ko = 10 pN . . . 10 nN. Die daraus resultierenden atomaren "Federkonstanten", das heißt, die zweiten Ableitungen der Potentialfunktion, liegen im Bereich von C&sub0; = 100 . . . 0,01 N/m. Diese Daten lassen sich aus Oberflächenuntersuchungen und aus vielen anderen Quellen, wie zum Beispiel den Werten elastischer Konstanten, ableiten.
  • Über Experimente mit den van-der-Waal'schen Kräften wird in "Measurements of Attractive Forces Between Flat Plates", von M.J. Sparnaay, Physica XXIV (1958), Seiten 751-764, berichtet. Fig. 2 dieser Quellenangabe zeigt einen Aufbau mit einem Freiträger, der an einem Ende befestigt ist und der auf halber Länge eine Platte eines aus zwei Parallelplatten bestehenden Plattenpaares trägt. Die andere Platte des Plattenpaares ist unabhängig vom Freiträger angebracht. Das Gewicht des Trägers wird von einer Feder ausgeglichen und die Auslenkung des Trägers bei Interaktion des Plattenpaares wird bestimmt von der Veränderung eines Kondensators, dessen eine Platte an dem Freiträger angebracht ist, während die andere Platte fest ist.
  • Es ist eine der Aufgaben der vorliegenden Erfindung, mehrere Ausführungsbeispiele von Datenträgern zu beschreiben, bei denen eine atomare Kräftemeßvorrichtung verwendet wird, bei der nicht die Tunneltechnik, sondern andere Techniken verwendet werden, während der Freiträger als Kraft-/Auslenkungsumsetzer dient. Die Vorrichtungen gemäß der Erfindung können als atomare Kräftemikroskope verwendet werden, sie können jedoch auch einem breiteren Anwendungsbereich zugeführt werden.
  • Die vorliegende Erfindung ist demnach bestrebt, einen atomaren Kräftesensorkopf zur Messung der Eigenschaften eines Datenspeichermediums zu offenbaren, der mindestens einen an einem Ende befestigten Freiträger aufweist, und der ein Interaktionselement trägt, das zu dem genannten festen Ende einen bestimmten Abstand aufweist, und das mit der Oberfläche des genannten zu untersuchenden Speichermediums in Wechselwirkung tritt, und Mittel zum Erfassen der Auslenkung des genannten Freiträgers, wenn das genannte Interaktionselement mit der Oberfläche des genannten Speichermediums in Wechselwirkung tritt. Die genannten Erfassungsmittel sind so gestaltet, daß sie die genannte Auslenkung von der Ausgangsposition des genannten Freiträgers in eine Veränderung eines elektrischen Werts umwandeln, der kein Tunnelstrom ist, und zwar ausgehend von einem Ausgangspegel dieses Werts. Dieser atomare Kräftesensorkopf ist dadurch gekennzeichnet, daß das genannte Erfassungsmittel als Kondensator mit einem Kondensator-Plattenpaar ausgeführt ist, wobei eine Platte einen integrierten Teil des genannten Freiträgers bildet, während die zweite Platte gegenüber der ersten Platte fest montiert ist, daß beide Platten des genannten Kondensators an eine herkömmliche Kapazitätsmeßausrüstung angeschlossen sind, und daß das Ausgangssignal der genannten Kapazitätsmeßausrüstung, das eine Veränderung der Kapazität des genannten Kondensators, ausgehend von einem Ausgangskapazitätswert darstellt, über eine Rückkoppelungs-Steuerschaltung zu einem z-Antrieb gesendet wird, der so angeordnet ist, daß er den z-Abstand des genannten Interaktionselements zur Oberfläche des Speichermediums anpaßt.
  • Einzelheiten verschiedener Ausführungsbeispiele der Erfindung sollen im folgenden anhand von Beispielen und unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen beschrieben werden; es zeigt:
  • Fig. 1 ein schematisches Diagramm eines atomaren Kräftemikroskops, in dem ein Kondensator als Auslenkungsdetektor verwendet wird;
  • Fig. 2 ein mikromechanisches Ausführungsbeispiel des kapazitiven Kräftesensorkopfes;
  • Fig. 3 eine Erweiterung des Ausführungsbeispiels der Fig. 2, in dem ein piezoelektrischer Wandler verwendet wird;
  • Fig. 4 eine andere Erweiterung des Ausführungsbeispiels der Fig. 2 mit einem Material mit hoher dielektrischer Konstante;
  • Fig. 5 einen kapazitiven Sensorkopf in einem Datenspeicher;
  • Fig. 6 ein anderes Ausführungsbeispiel eines kapazitiven Sensorkopfes in einem Datenspeicher;
  • Fig. 7 ein drittes Ausführungsbeispiel eines kapazitiven Sensorkopfes in einer Datenspeicheranwendung;
  • Fig. 8 eine schematische Erläuterung der Maßnahmen zum Weichmachen der Oberfläche in Verbindung mit dem Sensorkopf der Fig. 6.
  • In Fig. 1 ist ein atomares Kräftemikroskop 1 mit einer sehr feinen Spitze 2 dargestellt, die zum Beispiel aus einem Diamanten bestehen kann, und die an einem Freiträger 3 befestigt ist, der auf einer Grundplatte 4 aufliegt. Wird die zu untersuchende Probe 5 in die Nähe der Spitze 2 gebracht, bewirken die zwischen den dichtesten Atomen an der Spitze 2 und an der Probe 5 auftretenden Kräfte eine Auslenkung des Freiträgers 3. Unter der Annahme, daß die genannten Kräfte einander abstoßende Kräfte sind, was normalerweise der Fall ist, wird der Freiträger 3 in Fig. 1 nach rechts ausgelenkt. Die Größe der Auslenkung liegt bei etwa 10&supmin;¹¹ m.
  • An seiner Oberseite, wo die Auslenkung am größten ist, bildet der Freiträger 3 eine Platte eines Kondensators 6. Zu diesem Zweck kann der Freiträger 3 entweder aus einem elektrisch leitenden Material gefertigt sein, oder an seinem oberen Ende eine leitfähige Beschichtung aufweisen. Die zweite Platte 8 des Kondensators 6 ist in einem sehr geringen Abstand gegenüber der Beschichtung 7/dem Freiträger 3 angeordnet. In Fig. 1 ist der Freiträger 3 an Erde angeschlossen und die Kondensatorplatte 8 ist an eine herkömmliche Kapazitätsmeßvorrichtung 9 angeschlossen, die zum Beispiel eine AC-Wheatstone-Brücke sein kann.
  • Im Ruhezustand ist die Kapazitätsmeßvorrichtung 9 so justiert, daß ihr Ausgang Null ist. Wenn der Freiträger 3 unter dem Einfluß einer auf seine Spitze 2 ausgeübten Kraft ausgelenkt wird, verändert sich die Kapazität und das Kapazitätsmeter 9 erzeugt ein Ausgangssignal. Dieses Ausgangssignal wird von einer Rückkoppelungsschaltung 10 zur Erzeugung eines Steuersignals auf Leitung 11 verwendet, welches an den z-Teil eines xyz-Antriebs 12 gesendet wird. Dieser z-Teil ist verantwortlich für die Steuerung des Abstands zwischen der Oberfläche der Probe 5 und dem Scheitelpunkt der Spitze 2. (Die x- und y-Teile des xyz-Antriebs 12 steuern die Matrix-Abtastung der Spitze 2 über der Oberfläche der Probe 5 unter Führung einer xy-Steuereinheit 13).
  • Kapazitätsmeter nach dem heutigen Stand der Technik können Kapazitätsveränderungen einer Größenordnung von ΔC = 10&supmin;¹&sup8; F (Attofarad) unter Anwendung der zum Beispiel von J.R. Matey und J. Blanc, in J. Appl. Phys., 57, Seite 1437 (1985) beschriebenen Techniken messen. Diese Empfindlichkeit kann zur Messung von Veränderungen des Abstands oder der dielektrischen Konstante entsprechend der Parallelplattenkondensator- Formel C = εA/d verwendet werden, wobei ε die dielektrische Konstante, A die Plattenfläche und d der Plattenabstand ist. Bei einer Plattenfläche von 100 · 100 Mikrometer und einem Plattenabstand von 1 Mikrometer ergibt sich in Luft eine Kapazität von etwa 2·10&supmin;¹³ F. Die oben genannte Empfindlichkeit setzt somit in eine erfaßbare Mindestspaltbreitenveränderung von Δd = (d/C) · ΔC = 10&supmin;¹¹ m um.
  • Fig. 2 zeigt ein Ausführungsbeispiel eines Kräftesensorkopfes, in welchem der die Spitze tragende Freiträger 30 gegenüber einem starren Körper 31 angeordnet ist, der als eine feste Basis dient. Vorzugsweise sind der Freiträger 30 und der Körper 31 aus einem Stück Si/SiO&sub2; unter Anwendung bekannter mikromechanischer Techniken gefertigt. Die sich gegenüberliegenden Oberflächen des Freiträgers 30 und des Körpers 31 sind jeweils mit einer dünnen Goldbeschichtung 32 und 33 überzogen, und bilden so einen Kondensator 29, an den eine Spannungsquelle 34 angeschlossen wird. Die Goldbeschichtung 32 des Freiträgers 30 ist außerdem an einen Verstärker 35 angeschlossen. Der Ausgangsanschluß des letzteren ist an einen Diskriminator 36 angeschlossen.
  • Bringt man die Spitze 37 in die Nähe der Oberfläche der Probe 38, treten die dichtesten Atome an der Spitze und an der Oberfläche in Wechselwirkung, wodurch zwischen ihnen eine Kraft entwickelt wird, die von ihrem Interaktionspotential Uint, ihrem Absand r und der Federkonstanten C des Freiträgers 30 bestimmt wird. Im Gleichgewichtszustand, das heißt, wenn die atomare Kraft dUint/dr die Federkraft C x ausgleicht, wird die Auslenkung des Freiträgers 30 durch die folgende Gleichung wiedergegeben
  • Uint + 1/2 C x&sub2; = Min.
  • Das Ausführungsbeispiel von Fig. 2 kann so justiert werden, daß sich eine statische Auslenkung x 10 . . . 100 pm ergibt, die mit statischen Mitteln erfaßt werden kann. Der Freiträger 30 ist außerdem ein harmonischer Oszillator mit einer Eigenfrequenz ω&sub0;. Findet die genannte atomare Interaktion statt, verschiebt sich die Resonanzfrequenz des Freiträgers 30 entsprechend der folgenden Gleichung:
  • ω² = ω²&sub0;(1 + 1/C d²Uint/dr²).
  • Bei diesem Term wird angenommen, daß Terme höherer Ordnung des Interaktionspotentials keinen Beitrag zur Bewegungsgleichung leisten. Die Messung der Frequenzverschiebung hat den großen Vorteil, daß die Längenmessung entfallen kann, was zu einer einfacheren Kalibrierung des Sensorkopfes führt.
  • Die Konstruktion dieses Sensorkopfes muß unter Berücksichtigung von einander entgegenstehenden Forderungen optimiert werden: Für eine hohe Sensibilität ist eine schwache Federkonstante C wünschenswert. Die maximal tolerable Amplitude der thermischen Schwingungen der Anordnung erfordert jedoch eine niedrigere Grenze. Weiter sollte C größer als das Maximum von d²Uint/dr² sein, damit keine metastabilen Gleichgewichtspositionen existieren, die einen zuverlässigen Betrieb des Sensorkopfes unmöglich machen. Dies kann bei der kurzreichweitigen kovalenten Bindungs-Interaktion, bei der zweite Ableitungen des Potentials der Größenordnung 10 . . . 100 N/m zu erwarten sind, zu einem schwerwiegenden Problem werden. Daher ist ein eher starrer Freiträger anzustreben.
  • Der mikromechanische Freiträger 30 gemäß der vorliegenden Erfindung erzielt eine optimale Leistung. Seine Resonanzfrequenz wird durch Messen des kapazitiven Stroms überwacht, der durch thermische Schwingungen am Träger entsteht. In einer Rückkoppelungsschleife kann die natürliche Schwingungsamplitude des Trägers erhöht werden, um dadurch die Empfindlichkeit des Sensorkopfes zu verbessern. Hiermit hat man eine gute Möglichkeit, die Eigenschaften des Sensorkopfes an die jeweilige Form des Interaktionspotentials anzupassen. Bei einem großen Abstand zwischen Spitze und Probe, das heißt, wenn die Interaktion nur schwach ist, wird zum Beispiel die erforderliche hohe Empfindlichkeit durch Erhöhen der Schwingungsamplitude auf etwa ein Nanometer erreicht. Wird bei Annähern der Spitze an die Oberfläche die Interaktion stärker, kann die Schwingung des Trägers verringert werden, um ein Berühren der Oberfläche zu verhindern.
  • Wenden wir uns erneut der Fig. 2 zu; Schwingungen des Freiträgers 30 bewirken Kapazitätsschwankungen, die einen entsprechenden Wechselstrom entstehen lassen. Dieser Strom wird von einem Verstärker 35 verstärkt und die Frequenz der Schwingungen wird mit Hilfe von Standardtechniken gemessen. Der Körper 31 kann auf einem herkömmlichen xyz-Antrieb (nicht dargestellt) montiert werden, der die Spitze 37 an die Oberfläche der Probe 38 heranführt und die Abtastbewegung der Spitze über diese Oberfläche ausführt.
  • Um eine genaue Untersuchung der schwachen Anziehungskräfte zwischen zwei Atomen, das heißt, der zweiten Ableitung des Interaktionspotentials Cint = d²Uint/dr², zu ermöglichen, sollte das gezeigte Ausführungsbeispiel unter Berücksichtigung der folgenden Überlegungen dimensioniert werden:
  • Die zweite Ableitung Cint des Interaktionspotentials Uint und die gemessene Frequenzverschiebung Δω haben zueinander die folgende Beziehung:
  • Cint = 2 Ceff Δω/ω&sub0;,
  • hierbei entspricht Ceff ungefähr der statischen Federkonstanten des Freiträgers 2. Die Nachweisschwelle Cmin kann als Eigenfrequenz ω&sub0;, als der Q-Faktor des Resonators, und als die Integrationszeit τ der Frequenzmessung ausgedrückt werden:
  • Cmin = 2 Ceff/ Qω&sub0;τ.
  • Für Cmin wird 0,01 N/m eingesetzt; vor kurzem wurde für einen mikromechanischen Freiträger ein Q-Faktor von 1000 festgelegt; die Integrationszeit τ darf 10 ms nicht überschreiten, um eine Rastermikroskopie mit konstanter Kraft zusätzlich zu der Messung des Interaktionspotentials Uint zu ermöglichen; und die Eigenfrequenz ω&sub0; sollte etwa 2π · 10 kHz betragen, um eine adäquate Isolierung gegenüber Umgebungsschwingungen zu ermöglichen. Mit diesen Parametern erhält man für Ceff = 4 N/m und eine Detektor-Empfindlichkeit von 1,25 kHz/(N/m). Mit anderen Worten, bei einem Cmin von,01 N/m erhält man eine Frequenzverschiebung von 12,5 Hz. Die effektive Amplitude der thermischen Schwingungen beträgt 0,016 nm bei Flüssigstickstofftemperatur und 0,03 nm bei Raumtemperatur.
  • Terme des Interaktionspotentials Uint in einer Größenordnung von über 3 lassen eine zusätzliche Frequenzverschiebung proportional zum Quadrat der Schwingungsamplitude entstehen. Diese Frequenzverschiebung verursacht eine Mehrdeutigkeit Cah des gemessenen Werts für Cint in der Größenordnung von
  • Cah < 1/8 d&sup4;Uint/dr&sup4; x²th.
  • Unter Berücksichtigung der Tatsache, daß Ceff = K · fR, wobei K eine Konstante nahe Eins ist, können die Maße für den Freiträger 2 für die Kraftkonstante fR und für die Resonanzfrequenz &omega;&sub0; aus den folgenden Gleichungen berechnet werden:
  • fR = 1/4 E wt³/I³
  • &omega;&sub0; = 1,02 (E/&rho;)1/2 t/I²,
  • hierbei ist E = 7,2 x 1010 N/m² das Elastizitätsmodul nach Young für SiO&sub2;, w, t und l stehen für Breite, Dicke beziehungsweise Länge des Freiträgers 2, und &rho; = 2,2 · 10³ kg/mm ist die spezifische Dichte des Freiträgermaterials. Aus den oben genannten Parametern und unter Zugrundelegung der realistischen Annahme, daß w = 8t, ergeben sich für die Abmessungen des Freiträgers für w = 115 um, für t = 14 um und für l = 1150 um.
  • Bei Verwendung eines Abstands d von 10 um zwischen den Goldschichten 32 und 33 erhalten wir für die Kapazität Cb = 0,12 pf. Der induzierte Wechselstrom I ist wie folgt:
  • I = V dCb/dt = 0,392 Cb &omega;&sub0; xth V/d.
  • Bei einem Potential V = 50 V erhält man einen Effektivstrom von 0,25 pA. Ströme dieser Größenordnung können mit herkömmlichen FET-Verstärkern erfaßt werden.
  • Das zwischen den Goldelektroden 32 und 33 existierende elektrische Feld übt eine zusätzliche Kraft auf den Freiträger aus und erhöht seinen Wert für Ceff um einen Faktor k.
  • hierbei ist m die Masse des Freiträgers 30. In diesem besonderen Beispiel entspricht der Faktor k 1,1.
  • Eine wichtige Erweiterung des Ausführungsbeispiels der Fig. 2 ist die Hinzunahme einer Rückkoppelung zur Erhöhung der natürlichen Schwingungsamplitude des Freiträgers. Hierdurch wird die Empfindlichkeit des Sensorkopfes verbessert und es werden weitere Anwendungsbereiche erschlossen.
  • Fig. 3 zeigt eine Möglichkeit zur Implementierung einer Rückkoppelungsschleife in einem mikromechanischen Sensorkopf. Genauso wie bei dem Ausführungsbeispiel von Fig. 2 trägt der Freiträger 30 eine Elektrode 32 und ist gegenüber dem Körper 31 angeordnet, der seine Elektrode 33 trägt. Der Freiträger 30 ist oben auf einem piezoelektrischen Wandler 40 montiert, der auf einem Körper 31 aufliegt. Der Wandler 40 kann von dem Ausgangssignal einer Erregungseinheit 41 erregt werden. Eine Spannungsquelle 42 ist zwischen der Elektrode 33 und Erde angeschlossen und eine Elektrode 32 ist an den Eingangsanschluß eines I/V-Wandlers 43 angeschlossen. Das Ausgangssignal des letzteren steuert einen schnell steuerbaren Verstärker 44 und, über den Gleichrichter 45 und bei Hinzunahme eines Schwankungsamplituden-Bezugssignals, einen langsam steuerbaren Rückkoppelungsverstärker 46, der ein Verstärkungs-Steuersignal an den Verstärker 44 sendet.
  • Fig. 4 zeigt eine Modifizierung der in Verbindung mit den Figuren 2 und 3 beschriebenen Ausführungsbeispiele. Eine Isolierschicht 56 mit hoher dielektrischer Konstante füllt einen Teil des Abstands zwischen den Elektroden 51 und 52 aus. Dies hat drei Vorzüge:
  • - Die Elektroden können einander nicht berühren und somit keinen Kurzschluß verursachen.
  • - Die Auslenkung des Freiträgers ist innerhalb des verbleibenden freien Spalts 54 zwischen den Elektroden stabil.
  • - Die Empfindlichkeit wird verbessert, wenn die Abmessungen entsprechend ausgewählt werden.
  • Die Anordnung der Fig. 4 ist im wesentlichen dieselbe wie die bereits beschriebene, mit der Ausnahme, daß der Abstand zwischen der Elektrode 51, die von dem Freiträger 50 getragen wird, und der Gegenelektrode 52, die auf dem Körper 53 aufliegt, mit zwei (oder mehr) dielektrischen Materialien angefüllt ist, die unterschiedliche dielektrische Konstanten &epsi;r aufweisen. Vorzugsweise soll das an dem Freiträger 50 angeordnete dielektrische Material 54 außerordentlich flexibel sein, so daß die Bewegungen des Freiträgers 50, die dadurch verursacht werden, daß die Spitze 55 sehr nahe an die zu untersuchende Oberfläche herangeführt wird, nicht behindert werden. Das Material der Wahl ist hier Luft mit einer dielektrischen Konstanten von &epsi;&sub1; = 1.
  • Das andere dielektrische Material 56, welches vom Freiträger 50 entfernt angeordnet ist, sollte über eine dielektrische Konstante &epsi;&sub2; verfügen, die viel höher als die des dielektrischen Materials 54 ist, zum Beispiel um einen Faktor 10.
  • Die Anordnung der Fig. 4 bildet in Wirklichkeit eine Reihenschaltung von zwei Kondensatoren mit einer Gesamtkapazität C von:
  • wobei A die Kondensatorfläche ist und B die Wechselbeziehung zwischen den relativen Dicken und den dielektrischen Konstanten der dielektrischen Materialien 54 und 56 angibt:
  • Um die Verbesserung der Empfindlichkeit zu bestimmen, wird der vorangehende Term für C differenziert:
  • Mit einer Beziehung S&sub1;/S = 0,05 und einem Verhältnis von 1 : 10 wird die Empfindlichkeit durch Auffüllen eines Teils des Spalts s wie folgt verbessert:
  • Eine Anwendungsmöglichkeit für die Erfindung in einer magnetischen Speichereinheit ist schematisch in Fig. 5 dargestellt. Die Stelle der Probe 5 aus Fig. 1 nimmt hier das magnetische Speichermedium 80 ein, von dem angenommen wird, daß es mit einer hohen Geschwindigkeit an einer Spitze 81 vorbeiläuft, die an einem Freiträger 82 angebracht ist. Der letztere ist an einem Rahmenelement 83 montiert, welches starr in der Speichereinheit gelagert ist. Eine Kondensatorplatte 85 stützt sich auf einen Arm 84 des Rahmenelements 83 ab und bildet zusammen mit dem rückwärtigen Teil des Freiträgers 82 einen Kondensator 87.
  • Eine Veränderung der auf die Spitze 81 ausgeübten Kraft, verursacht entweder durch eine Veränderung des Abstands zwischen der Spitze 81 und der Oberfläche des Speichermediums 80, oder durch eine Veränderung einer Oberflächeneigenschaft des Speichermediums 80, auf die die Spitze 81 empfindlich reagiert (wie zum Beispiel die Magnetfeldeigenschaften), bewirkt eine Auslenkung des Freiträgers 82 aus seiner ursprünglichen Position. Die Kapazität des Kondensators 87 verändert sich folglich und es wird daher ein Korrektursignal von einer Entfernungssteuereinheit 88 entwickelt, zur Steuerung eines Hebebocks 89, der den Plattenantrieb 90 entsprechend der Kraftveränderung anhebt oder absenkt.
  • Ein anderes Ausführungsbeispiel eines kapazitiven Kräftesensors in Verbindung mit einem magnetischen Datenträger zeigt die Fig. 6. Ein Freiträger 92 trägt ein kleines Eindomänen- Magnetpartikel 93 auf seiner dem Speichermedium 95 gegenüberliegenden Seite 94. Das Speichermedium hat eine Vielzahl von Spuren, entlang derer magnetische Domänen 96 mit ein oder zwei Richtungen angeordnet sind. Eine Veränderung der Orientierung zwischen zwei benachbarten Domänen entlang einer Spur kann einer gespeicherten "1" zugeordnet werden, während keine Veränderung zwischen benachbarten Domänen einer gespeicherten "0" zugeordnet werden kann. Diese Veränderungen der Domänenorientierung können von einem am Freiträger angebrachten magnetischen Eindomänen-Partikel erfaßt werden, vorausgesetzt, die Flughöhe wird auf etwa 100 Nanometer justiert.
  • Jede der genannten Spuren magnetischer Domänen ist Ende an Ende gestapelt, ein Partikelchen breit und ein Partikelchen dick. Ein angenommener Abstand von fünf Domänen Durchmessern zwischen benachbarten Spuren würde einer Aufzeichnungsdichte von etwa 6·10¹¹ Bit/cm² entsprechen. Das Frequenzverhalten und somit die Datenrate, wird von dem mechanischen Verhalten des Freiträgers 92 begrenzt, und kann bei einem relativ kleinen Freiträger mehrere MHz betragen.
  • Unter der Annahme, daß der Freiträger 92 eine Eigenfrequenz von mehreren MHz aufweist, gilt: f/m = &omega;² = 10¹&sup4; s&supmin;². Die Frequenz wird durch thermische Schwankungen begrenzt. Bei einem Spalt 87 mit einer Breite xc 0,5 nm und unter der Bedingung, daß
  • fx²C > kT, und kT 2,5 · 10&supmin;²¹ J bei 300 K, f > 10&supmin;² N/m.
  • Die kleinste Kraft, die mit einer Eigenfrequenz von mehreren MHZ bei einem Freiträger der Masse m = f/&omega;² = 10&supmin;¹&sup6; kg und bei Vorhandensein thermischer Schwankungen, unter der Annahme eines Qualitätsfaktors des Kräftesensors Q = 100, in einer Zeit 2 &pi;/&omega; meßbar ist, beträgt
  • k f xc/Q 5·10&supmin;¹&sup4; N.
  • Vorausgesetzt, das zwischen dem Partikelchen 93 und den Domänen 96 auf dem magnetischen Medium 95 vorhandene Magnetfeld ist ausreichend stark, um eine Kraft von mindestens 10&supmin;¹&sup4; N verfügbar zu machen, die eine Auslenkung des Freiträgers 92 bewirkt, kann die Anordnung der Fig. 6 auch zur Abbildung der Magnetfelder einer unter dem Freiträger 92 durchlaufenden Struktur mit hoher räumlicher Auflösung verwendet werden.
  • Die Größen der magnetischen Kräfte, die für die Messung zur Verfügung stehen, werden wie folgt geschätzt: magnetische Eindomänen-Partikel aus Gamma-Eisenoxyd haben ein Volumen V von etwa 10&supmin;²¹ m³ und eine Magnetisierung von etwa 400 G (= 0,4 T). Ihr magnetisches Moment beträgt M = 4·10&supmin;¹&sup9; G m³. Die magnetische Kraft ist durch die folgende Gleichung gegeben:
  • F = MV&part;H/&part;r
  • Bei einem Feldgradienten &delta;H/&delta;r = 10¹¹ A/m², beträgt die Kraft F = 0,4·10&supmin;¹&sup0; N. Dieser Wert liegt gut innerhalb der Empfindlichkeit der Anordnung.
  • Die in den Fig. 5 und 6 gezeigte Anordnung kann an eine Speichereinheit mit beweglicher Oberfläche angepaßt werden, indem man die Spitze 81 (oder das magnetische Partikel 93) gegen eine Kondensatorplatte 100 austauscht, wie in Fig. 7 gezeigt, und diese an einem Element 101 anbringt, das seinerseits am Freiträger 102 befestigt ist. (Man beachte, daß die Anordnung der Fig. 7, bezogen auf die Fig. 5 und 6, umgekehrt dargestellt ist). Wird die Information eines Informationsmusters 103 auf einem Aufzeichnungsträger 99 unter der Kondensatorplatte 100 durchgeführt, verändert sich die Kapazität Cs mit jeder Veränderung des Abstands xs zwischen der Kondensatorplatte 100 und der Struktur 103. Angesichts der über dem Abstand xs zwischen der Platte 100 und dem Informationsmuster 103 vorhandenen kapazitiven Kräfte, wird der Freiträger 102 ausgelenkt und die Kapazität Cc des Kondensators, die von den leitfähigen Schichten der sich gegenüberliegenden Flächen des Freiträgers 102 und dem Körper 106 gebildet wird, wird aufgrund der Veränderung des Abstands xc variieren. Die Gütezahl M ist der durch Messen der Position des Freiträgers 102 erhaltene Hebelarm:
  • Bei einem weichen Freiträger hat der Haupthebelarm das folgende Kapazitätsverhältnis:
  • hierbei sind &epsi;s und &epsi;c die dielektrischen Konstanten der Medien der Kapazitäten Cs beziehungsweise Cc und Bs und Bc sind konstante Werte nahe Eins, charakteristisch für die Kapazitäten, deren Indices sie tragen.
  • Bei einem starren Freiträger ist der Hebelarm die Dämpfung 1/&alpha; der effektiven Federkonstanten feff und des Spannungsverhältnisses:
  • Bei einem einfachen Beispiel mit den folgenden Parametern:
  • Cs/Cc = Verhältnis der Flächen = 10² um²/10&sup5; um²; xs = 0,1 um; xc = 1 um; &epsi;s = 1; &epsi;c = 10; Vs = 5 V; Vc = 1 V; Bs 1; Bc 1; &alpha; = 1/5, erhalten wir:
  • Mweich 10³
  • Mstarr 125.
  • Ein allgemeines Problem bei Speichereinheiten mit beweglicher Oberfläche ist das Auftreten unerwünschter Rillen auf der Oberfläche, die einen unerwünschten Effekt auf das Schreiben oder Lesen von Informationen haben können. Das kapazitive Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung bietet für dieses Problem eine einfache Lösung. Fig. 8 zeigt das Prinzip. Die Oberflächenrillen 107 auf dem Speichermedium 108 sind mit einem dielektrischen Medium 109 mit einer dielektrischen Konstante &epsi;&sub1; beschichtet. Das dielektrische Medium 109 kann zum Beispiel eine Flüssigkeit sein. Vom Speichermedium 108 durch einen Luftspalt 110 (&epsi;&sub2; = 1) getrennt ist eine Kondensatorplatte 111, die an einem Freiträger 112 angebracht ist. Die Kondensatorplatte 111 trägt ein dielektrisches Element 113 mit einer dielektrischen Konstante &epsi;&sub3; zum Schutz der Kondensatorplatte 111. Die Anordnung der Fig. 8 dient zur "Reduzierung" der Oberflächenrauhigkeit des Speichermediums 108. Zur Regelung der konstanten Kapazität haben wir
  • ds&sub1; = - &epsi;&sub1;/&epsi;&sub2; ds&sub2;,
  • das heißt, die Kondensatorplatte 111 folgt der Kontur des Speichermediums 108 mit einer Dämpfung von &epsi;&sub1;/&epsi;&sub2;.
  • Die elektrostatische Anziehung durch die Aufladung der Oberfläche kann in derselben Weise wie die magnetischen Kräfte überwacht werden, wenn das Magnetpartikelchen durch eine leitende (ladbare) Spitze ersetzt wird. Eine Ladung von zum Beispiel 40 Elektronen erzeugt eine Kraft von etwa 1 nN bei einem Spalt von 30 nm zwischen Spitze und Probe. Bei Annahme einer typischen Oberflächenladungsdichte von 0,01 Cb/m², kann die Ladung 40 e in einem Bereich von 30·30 nm² angepaßt werden. Betrachtet man eine solche geladene Fläche als ein Speicherbit und fordert man einen Sicherheitsabstand von 70 nm in jeder Richtung, so erreicht man ein Speicherschema mit einer Dichte von 10¹&sup4; Bit/m², welches die heutige Technologie bei weitem überragt.

Claims (4)

1. Atomarer Kräftesensorkopf zum Messen der Eigenschaften eines Datenspeichermediums (5, 38, 80, 95, 99, 108), mindestens einen Freiträger (3, 30, 50, 70, 82, 92, 102, 112) umfassend, der an einem Ende befestigt ist und der in einem bestimmten Abstand von dem genannten festen Ende ein Interaktionselement (2, 37, 55, 81, 93, 101, 113) trägt, zur Interaktion mit der Oberfläche des genannten zu untersuchenden Speichermediums (5, 38, 80, 95, 99, 108), und Mittel (6, 29, 98) zum Erfassen der Auslenkung des genannten Freiträgers (3, 30, 50, 82, 92, 102, 112), wenn das genannte Interaktionselement (2, 37, 55, 81, 93, 101, 113) mit der genannten Oberfläche des Speichermediums (5, 38, 80, 95, 99, 108) in Wechselwirkung tritt, wobei die genannten Erfassungsmittel (6, 29, 98) so konstruiert sind, daß sie die Auslenkung des genannten Freiträgers (3, 30, 50, 82, 92, 102, 112) in eine Veränderung eines elektrischen Werts umwandeln, der kein Tunnelstrom ist, und zwar ausgehend von einem Ausgangswert desselben, dadurch gekennzeichnet, daß das genannte Erfassungsmittel als Kondensator (6, 29, 57, 87) ausgeführt ist, der ein Paar von Kondensatorblechen (7, 8; 32, 33; 51, 52; 82, 85; 92, 85; 104, 105; 108, 111) umfaßt, von denen eine erste (7, 32, 51, 82, 92, 105, 111) einen integrierten Teil des genannten Freiträgers (3, 30, 50, 82, 92, 102, 112) bildet, während die zweite Platte (8, 33, 52, 85, 104, 108) fest gegenüber der genannten ersten Platte (7, 32, 51, 82, 92, 105, 111) montiert ist, daß beide Platten des genannten Kondensators (6, 29, 57, 87) an herkömmliche Kapazitätsmeßausrüstungen angeschlossen sind, und daß das Ausgangssignal der genannten Kapazitätsmeßausrüstung, das eine Veränderung der Kapazität des genannten Kondensators (6, 29, 57, 87), ausgehend von einem Ausgangskapazitätswert, darstellt, über eine Rückkoppelungs-Steuerschaltung (10; 35, 36; 43-46; 88) an einen z-Antrieb (12, 39, 89) gesendet wird, der so angeordnet ist, daß er den z-Abstand des genannten Interaktionselements (2, 37, 55, 81, 93, 101, 113) zur Oberfläche des Speichermediums (5, 38, 80, 95, 99, 108) justiert.
2. Sensorkopf nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der genannte Freiträger (92) an einem starr gelagerten Rahmenelement (83) angebracht ist, dessen Arm (84) eine Kondensatorplatte (85) an seinem freien Ende und gegenüber der Rückseite des genannten Freiträgers (92) trägt, wobei die genannte Platte (85) und der genannte Freiträger (92) einen Kondensator (87) bilden, und daß der genannte Freiträger (92) ein Interaktionselement trägt, das als ein magnetisches Element (93) ausgeführt ist, angebaut an der Unterseite (94) des genannten Freiträgers (92) und, in einem vorbestimmten geringen Abstand (d) einem magnetischen Speichermedium (95) gegenüberliegend, welches mindestens eine Spur von magnetischen Domänen (96) trägt.
3. Sensorkopf nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das genannte Interaktionselement als dielektrisches Element (101, Fig. 8) ausgeführt ist, angebracht am freien Ende des genannten Freiträgers (102), daß das genannte dielektrische Element (101) eine Elektrode (100) trägt, die als erste Platte eines Kondensators (Cs) dient, dessen andere Platte von dem Informationsmuster (103) gebildet wird, welches von dem genannten Speichermedium (99) getragen wird, und welches im Betrieb unter dem genannten dielektrischen Element (101) hindurchläuft.
4. Sensorkopf nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das genannte Interaktionselement als die erste Platte (111) eines Kondensators ausgeführt ist und an dein genannten Freiträger (112) an dessen freiem Ende angebracht ist, daß die genannte erste Kondensatorplatte (111) ein dielektrisches Element (113) trägt, mit einer ersten dielektrischen Konstante (&epsi;&sub3;), daß die genannte erste Kondensatorplatte (111) durch einen Luftspalt (110, &epsi;&sub2; = 1) von dem genannten Speichermedium (108) getrennt ist, wobei letzteres eine elektrisch leitfähige Oberfläche hat und die zweite Platte des genannten Kondensators bildet, und daß das genannte Speichermedium (108) mit einem weichen dielektrischen Medium (109, &epsi;&sub1;) beschichtet ist, welches mögliche Rillen (107) auf dem genannten Speichermedium (108) glättet.
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Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2656536B2 (ja) * 1988-04-13 1997-09-24 株式会社日立製作所 プローブおよびその製造方法
US5079958A (en) * 1989-03-17 1992-01-14 Olympus Optical Co., Ltd. Sensor having a cantilever
US5304924A (en) * 1989-03-29 1994-04-19 Canon Kabushiki Kaisha Edge detector
DE69002503T2 (de) * 1989-03-29 1994-03-03 Canon Kk Kantendetektor.
US5260824A (en) * 1989-04-24 1993-11-09 Olympus Optical Co., Ltd. Atomic force microscope
WO1991000592A2 (en) * 1989-06-23 1991-01-10 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Method and apparatus for storing digital information in the form of stored charges
DE3922589C2 (de) * 1989-07-10 1994-12-01 Forschungszentrum Juelich Gmbh Rasterkraftmikroskop
US5206702A (en) * 1989-10-09 1993-04-27 Olympus Optical Co., Ltd. Technique for canceling the effect of external vibration on an atomic force microscope
DE3942896A1 (de) * 1989-12-23 1991-06-27 Zeiss Carl Fa Interferometrischer sensor zur messung von abstandsaenderungen einer kleinen flaeche
JP3000491B2 (ja) * 1991-04-10 2000-01-17 キヤノン株式会社 カンチレバーユニット及びこれを用いた情報処理装置、原子間力顕微鏡、磁力顕微鏡
US5298975A (en) * 1991-09-27 1994-03-29 International Business Machines Corporation Combined scanning force microscope and optical metrology tool
WO1993011413A1 (en) * 1991-11-26 1993-06-10 The Australian National University Piezoelectric bimorph cantilevers for surface analysis instruments
US5280173A (en) * 1992-01-31 1994-01-18 Brown University Research Foundation Electric and electromagnetic field sensing system including an optical transducer
USRE36488E (en) * 1992-08-07 2000-01-11 Veeco Instruments Inc. Tapping atomic force microscope with phase or frequency detection
US5347854A (en) * 1992-09-22 1994-09-20 International Business Machines Corporation Two dimensional profiling with a contact force atomic force microscope
DE4310349C2 (de) * 1993-03-30 2000-11-16 Inst Mikrotechnik Mainz Gmbh Sensorkopf und Verfahren zu seiner Herstellung
US5537863A (en) * 1993-07-15 1996-07-23 Nikon Corporation Scanning probe microscope having a cantilever used therein
JP3523688B2 (ja) * 1994-07-06 2004-04-26 オリンパス株式会社 試料測定用プローブ装置
US5565987A (en) * 1995-03-23 1996-10-15 Anvik Corporation Fabry-Perot probe profilometer having feedback loop to maintain resonance
US6246652B1 (en) 1997-12-05 2001-06-12 Hitachi, Ltd. Device using sensor for small rotation angle
JP4362559B2 (ja) * 1999-03-04 2009-11-11 独立行政法人理化学研究所 電気容量式力測定装置
US6388452B1 (en) * 2000-04-20 2002-05-14 Hewlett-Packard Company Device for sensing media thickness using capacitance measurements
KR100542557B1 (ko) 2003-09-09 2006-01-11 삼성전자주식회사 박막 공진기와, 박막 공진기의 제조 방법 및 박막공진기를 구비하는 필터
US7230719B2 (en) 2003-12-02 2007-06-12 National University Of Singapore High sensitivity scanning probe system
JP5122775B2 (ja) * 2006-08-23 2013-01-16 株式会社ミツトヨ 測定装置
US9866066B2 (en) * 2010-11-24 2018-01-09 University Of Florida Research Foundation, Incorporated Wireless power transfer via electrodynamic coupling
CN105424300B (zh) * 2015-11-06 2018-07-06 扬州大学 一种隧穿纤毛装置
CN111473895B (zh) * 2020-03-16 2021-06-29 吉林大学 一种触觉传感器

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4481616A (en) * 1981-09-30 1984-11-06 Rca Corporation Scanning capacitance microscope
US4575822A (en) * 1983-02-15 1986-03-11 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Method and means for data storage using tunnel current data readout

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Publication number Publication date
DE3750408D1 (de) 1994-09-22
DE3750406T2 (de) 1995-03-30
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DE3750406D1 (de) 1994-09-22
EP0290648B1 (de) 1992-03-11
DE3777402D1 (de) 1992-04-16
EP0440268B1 (de) 1994-08-17
EP0440268A3 (en) 1992-01-02
CA1308574C (en) 1992-10-13
EP0442536A2 (de) 1991-08-21
JP2580244B2 (ja) 1997-02-12
EP0440268A2 (de) 1991-08-07
EP0442536A3 (en) 1992-01-02
JPS63309802A (ja) 1988-12-16
EP0290648A1 (de) 1988-11-17

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