DE3687782T2

DE3687782T2 - Anordung zum erzeugen abgerundeter werkstueckoberflaechen durch photoablation.

Info

Publication number: DE3687782T2
Application number: DE8686308227T
Authority: DE
Inventors: Kenneth K York
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1985-10-22
Filing date: 1986-10-22
Publication date: 1993-07-08
Anticipated expiration: 2006-10-23
Also published as: US5141506A; CA1284823C; EP0222537B1; DE3687782D1; EP0222537A3; JPS62117556A; EP0222537A2

Description

Die Erfindung betrifft Anordnungen zur Fotoablation fotoablatierbaren Materials zum Erzeugen glatter, abgerundeter Werkstückoberflächen und insbesondere zur Fotoablation solchen fotoablatierbaren Materials wie der Hornhaut eines menschlichen Auges.
Die EP-A-0030210 offenbart ein System zur Fotoablation von Material von einem Substrat wie einem Auge zum Erzeugen abgerundeter Werkstückoberflächen, aufweisend eine Einrichtung zum Erzeugen von Licht, das zur Fotoablation dieses Materials imstande ist, eine Einrichtung zum Reflektieren des Fotoablationslichts zur Fotoablation von Material vom Substrat, eine Einrichtung zur Einstellung des Einfallswinkels des Fotoablationslichts auf die reflektierende Einrichtung und dann wieder auf das Substrat. Zu einem jeden Zeitpunkt wird das Fotoablationslicht nur auf einen Bereich der Bearbeitungsfläche gerichtet, so daß es erforderlich ist, das Einfallslicht relativ zum Substrat zu bewegen, um die gewünschte Oberfläche zu erzeugen. Darüberhinaus streift das Einfallslicht das Substrat unter einem spitzen Winkel und infolgedessen hängt die entfernte Materialmenge von der Expositionsdauer und der Energie des einfallenden Lichts ab.
Erfindungsgemäß wird eine Anordnung zur Fotoablation von Material von einem Substrat zum Erzeugen abgerundeter Werkstückoberflächen vorgesehen, aufweisend eine Einrichtung zum Erzeugen von Licht, das zur Fotoablation dieses Material imstande ist, eine Einrichtung zum Reflektieren des Fotoablationslichts zur Fotoablation von Material vom Substrat; eine Einrichtung zur Einstellung des Einfallswinkels des Fotoablationslichts auf die reflektierende Einrichtung und dann wieder auf das Substrat, dadurch gekennzeichnet, daß die reflektierende Einrichtung eine ausreichende Form uns Ausdehnung aufweist, um das Substrat reflektierten tangentialen Fotoablationslichtstrahlen zum Erzeugen einer Oberfläche vorbestimmter, gewünschter Form auszusetzen, und daß die reflektierende Einrichtung Licht in Form einer Hohlkuppel der gewünschten Form derart auf das Substrat reflektiert, daß ein reflektierter Lichtstrahl tangential zu im wesentlichen jedem Punkt auf der Oberfläche der vorgeschlagenen bzw. beabsichtigten, gewünschten Form vorliegt, und derart, daß innerhalb des Bereichs der Hohlkuppel im wesentlichen keine Lichtstrahlen vorliegen, die das Substrat unterhalb der Oberfläche der vorgeschlagenen, gewünschten Form streifen.
Bei Verwendung der erfindungsgemäßen Anordnung wird durch die Fotoablationslichtkuppel gestreiftes Substrat entfernt, wobei das verbleibende Substrat mit einer neuen Oberfläche zurückbleibt, die konform zur Innenfläche der Kuppel ist. Die Substratoberfläche kann präzise und exakt durch die Form der reflektierenden Einrichtung vorgegeben werden. Im wesentlichen das gesamte das Substrat innerhalb des Bereichs der Kuppel streifende Fotoablationslicht ist tangential zur neuen Substratoberfläche, so daß die entfernte Materialmenge nicht von der Expositionsdauer oder der Energie des Fotoablationslichts abhängen wird.
Vorzugsweise ist die reflektierende Einrichtung mit einer Einrichtung zum Einstellen ihrer Höhe und Neigung bezüglich des fotoablatierbaren Substrats und einer weiteren Einrichtung zum bedarfsweisen Fixieren und Einstellen des Einfallswinkels des Fotoablationslichts auf die Oberfläche der reflektierenden Einrichtung vorgesehen. Eine derartige Einstelleinrichtung bestimmt wiederum den Winkel, unter dem das Fotoablationslicht reflektiert wird und das Substrat zum Erzeugen der geforderten abgerundeten Werkstückoberfläche bearbeitet. Die Einstelleinrichtung steuert auch die Menge und den Ort des fotoablatierten Substrats. Vorzugsweise umfassen diese Anordnungen auch eine Einrichtung zum Bestimmen, Einstellen und Fixieren des Fotoablationslichtweges von seiner Quelle zur Oberfläche der reflektierenden Einrichtung. Hieraus resultierend wird das Fotoablationslicht im wesentlichen koaxial zur Rotationsachse der reflektierenden Einrichtung gehalten.
Vorzugsweise umfaßt das Fotoablationslicht intensives kohärentes, ultrakurz gepulstes parallel gerichtetes ultraviolettes Licht (UV) (derartiges Licht wird von einem Excimerlaser mit einer Wellenlänge im Bereich von etwa 150 bis etwa 250 Nanometer erzeugt). Ultrakurze Pulse längerer Wellenlängen können ähnliche Effekte haben. Vorzugsweise liegt die Fluenz (d. h. die Leistungsdichte) des Fotoablationslichts im Bereich von etwa 20 bis 1000 Mill&ijlig;oule pro Quadratzentimeter pro Puls für eine Wellenlänge von 193 nm.
Bevorzugte Ausführungsbeispiele dieser Systeme können auch eine Abdeckeinrichtung für die reflektierende Einrichtung umfassen, um Fotoablationslicht nur auf die Oberfläche der reflektierenden Einrichtung zu lassen und nicht reflektiertes Fotoablationslicht vom direkten Kontakt mit dem ganzen oder einem des Teil des Substrats auszuschließen. Ist die Fotoablationslichtquelle ein Excimerlaser oder eine andere hochintensive UV-Lichtquelle, ist diese Abdeckeinrichtung vorzugsweise eine Abschirmung, die Bereiche, die im wesentlichen durchlässig für die Fotoablationslichtwellenlänge sind, und Bereiche aufweist, die im wesentlichen undurchlässig hierfür sind.
Diese Anordnungen können auch in bevorzugten Ausführungsbeispielen ein Blendensystem, vorzugsweise ein Ultrahochgeschwindigkeitsblendensystem, für die Fotoablationslichtquelle umfassen. Vorzugsweise weist ein solches Blendensystem eine Geschwindigkeit in der Größenordnung von Nanosekunden auf. Das Blendensystem unterliegt vorzugsweise der Steuerung einer Einrichtung zum öffnen und Schließen der Blende in Abhängigkeit eines Signals, das anzeigt, daß die reflektierende Einrichtung mit der Fotoablationslichtquelle richtig ausgerichtet ist.
Diese Anordnungen können auch eine Einrichtung zur Anvisierung und Ausrichtung der Fotoablationslichtquelle mit der reflektierenden Einrichtung aufweisen. In bevorzugten Ausführungsbeispielen können ein weitere Lichtquelle koaxial zur Fotoablationslichtquelle und eine Einrichtung zur Detektion deren Reflexion dazu verwendet werden, den Einfallswinkel dieses Lichts auf die reflektierende Einrichtung zu detektieren und hierdurch das Licht von der Fotoablationslichtquelle mit der reflektierenden Einrichtung auszurichten. In bevorzugten Ausführungsbeispielen ist diese Einrichtung zum Anvisieren und Ausrichten der Fotoablationslichtquelle ein koaxialer Anvisier- oder Ziellaser wie eine Helium-Neonlaser oder ein anderer Laser, der imstande ist, nicht fotoablatierendes Licht koaxial zum Licht der Fotoablationslichtquelle zu emittieren. Ein Fotodetektor oder eine andere Einrichtung zur Detektion der richtigen Ausrichtung des Lichts von der Zieleinrichtung kann dazu verwendet werden, zu detektieren, ob das Licht von der Fotoablationslichtquelle auf die reflektierende Einrichtung zielgerecht gerichtet und fokussiert ist. Das Signal von der Einrichtung zur Detektion der richtigen Ausrichtung des Lichts von der Zieleinrichtung bezüglich der reflektierenden Einrichtung kann wiederum dazu verwendet werden, die Einrichtung zum öffnen und Schließen der Blende im Blendensystem zu steuern, um Fotoablationslicht richtiger Intensität, zum richtigen Zeitpunkt und über eine richtige Dauer auf die reflektierende Einrichtung zu liefern und von dort auf das Substrat.
Die reflektierende Einrichtung selbst ist gekrümmt, vorzugsweise asphärisch, und kann eine glatte, gekrümmte Oberfläche oder eine Fresneloberfläche aufweisen.
Ist das Substrat, auf das die Anordnung angewandt wird, eine Hornhaut, können die vorbestimmte Menge, Muster und Form des entfernten Materials Brechungsfehler wie Kurzsichtigkeit, Weitsichtigkeit und Astigmatismus korrigieren, wobei die Notwendigkeit für Brillen und Kontaktlinsen vermieden wird. Dieses Hornhautformungsverfahren wird manchmal als Fotokeratomisie bezeichnet.
Die Erfindung kann besser unter Bezug auf die beiliegenden Zeichnungen verstanden werden, in denen:
Fig. 1 eine schematische Darstellung eines bevorzugten Ausführungsbeispiels der neuen Fotoablationsanordnung, hier zur Fotoablation von Gewebe von der Hornhaut eines menschlichen Auges, ist;
Fig. 2 eine fragmentarische Explosionsansicht eines Teils der in Fig. 1 gezeigten Anordnung ist;
Fig. 3 eine Explosionsansicht der in Fig. 1 gezeigten Anordnung, hier zur ex-situ-Formung von Hornhautgewebe zu einem Linsenkörper durch Fotoablation, ist; und
Fig. 4 eine schematische Darstellung ist, die verdeutlicht, wie die Einstellung der Höhe der reflektierenden Einrichtung die Hornhautgewebemenge beeinflußt, die fotoablatiert wird, und somit die Ausdehnung der durch das in Fig. 1 dargestellte Ausführungsbeispiel erzeugten optischen Zone.
Die Fig. 5A, 5B und 5C zeigen die Auswirkungen des Einschließens planarer Abschnitte in der reflektierenden Einrichtung des in Fig. 1 dargestellten Ausführungsbeispiels. Das reflektierende Licht von diesen unter 45º gewinkelten Planspiegeln kann dazu verwendet werden, die Höhe der reflektierenden Einrichtung relativ zum Apex zu bestimmen.
Die Fig. 6 ist eine Explosionsansicht des bevorzugten Ausführungsbeispiels der Maske zum Einsatz in dem in Fig. 1 dargestellten Ausführungsbeispiel. Diese Figur zeigt das transparente ringförmige UV-durchlässige Fenster, das den Dimensionen der reflektierenden Einrichtung, gesehen entlang der Rotationsachse der reflektierenden Einrichtung, entspricht. Dies Figur zeigt auch die sich von der Maske erstreckenden Spiegel. Die Spiegel können zur Ausrichtung des Lasers und der reflektierenden Einrichtung verwendet werden.
Die Fig. 7 und 8 sind zusätzliche Darstellungen, die die Wirkungen von Planbereichen an der oberen Seite und der unteren Seite der reflektierenden Einrichtung in den neuen Fotoablationsanordnungen und insbesondere im in Fig. 1 gezeigten, bevorzugten Ausführungsbeispiel zeigen.
Die Fig. 9 zeigt den von der Maske des bevorzugten Ausführungsbeispiels der neuen in den Fig. 1 bis 3 gezeigten Anordnung erzeugten Fotoablationslicht-Hohlzylinder.
Die Fig. 1 und 2 zeigen ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel einer Anordnung zur Fotoablation von Gewebe der Hornhaut (Kornea) 1 eines menschlichen Auges 2. Die reflektierende Einrichtung, hier ein gekrümmter ringförmiger Spiegel 5, reflektiert kohärentes, parallel gerichtetes intensives UV-Licht von einem Excimerlaser 8 über die Hornhautoberfläche 1. Der Spiegel 5 weist eine fernes UV reflektierende Beschichtung wie eine verstärkte Aluminium- oder mehrlagige dielektrische Beschichtung auf. Die gekrümmte Form des Spiegels 5 verursacht, daß ein Hohlzylinder aus UV-Licht über die Hornhautoberfläche 1 in der Form einer hohlen Lichtkuppel reflektiert wird. Diese Kuppel kann jedweden gewünschten Krümmungsradius aufweisen und kann eine sphärische oder asphärische Form aufweisen.
Jeder von der gekrümmten Spiegeloberfläche 5 reflektierte UV-Lichtstrahl ist tangential zu einem gewissen Punkt auf der Oberfläche der Kuppel. Von der Kuppel des reflektierten UV-Lichts gestreiftes Hornhautgewebe wird verdampft, wobei die verbleibende Hornhaut mit einer neuen Krümmung entsprechend der Innenfläche der Kuppel zurückbleibt. Die erzielte Hornhautoberflächenkrümmung kann präzise und exakt durch Modifizieren der Form und Krümmung des Spiegels 5 vorbestimmt werden, der die Form und den Radius der Krümmung der UV-Lichtkuppel bestimmt. Da im wesentlichen sämtliches UV-Licht, das die Hornhaut berührt, reflektiert wird und tangential zur neuen Hornhautoberfläche ist und da fernes UV-Licht bei 193 nm in den ersten wenigen Mikrometern des Hornhautgewebes absorbiert wird, ist die die Linse und Netzhaut des Auges 2 erreichende Menge an fernem UV-Licht minimal.
Ein Halter 15 positioniert den Spiegel 5 auf dem Auge 2 und sieht eine Einrichtung zur Einstellung der Höhe des Spiegels 5 relativ zum Apex der Hornhautoberfläche 1 vor. Die Höhe des Spiegels 5 relativ zum Hornhautapex bestimmt die Menge an Hornhautgewebe, die fotoablatiert wird, und folglich die Ausdehnung der erzeugten optischen Zone, d. h. der zentralen für die Abbildung benutzten Hornhaut. Eine optische Zone, die zu klein ist, ruft Blendlicht und Verzerrung hervor. Die Ausdehnung der optischen Zone kann durch Verringern der Höhe des Spiegels relativ zum Hornhautapex vergrößert werden, jedoch nur auf Kosten einer weiteren Verdünnung der Hornhaut, wie Fig. 4 zeigt. Ein Schraubmechanismus oder eine Translationseinrichtung mit piezoelektrischem Kristall kann eine Einrichtung zur Höheneinstellung vorsehen. Die Ausdehnung der optischen Zone und die maximal mögliche Änderung der Brechungsleistung der Hornhaut durch diese Anordnung sind invers proportional. Die Neigung wird durch Nachstellung des Halters 15 und Spiegels 5 auf dem Auge gesteuert. Der Ausrichtungslaser 7 bestätigt die richtige Neigungseinstellung.
Licht vom Ziellaser 7, das koaxial zum Licht vom Excimerlaser 8 ist, streift drei kleine Planspiegel 26 auf der Maske 10 oder den um 45º gewinkelten Bereich 19 des in den Figuren 1, 5A, 5B, 5C und 7 gezeigten Spiegels 5 und wird über eine Strahlzerlegungseinrichtung 11 nur dann auf den Fotodetektor 4 reflektiert, wenn der Spiegel 5 exakt und präzise ausgerichtet ist. Beispielsweise wird der Lichtstrahl 9 vom Koaxiallaser 7 in Fig. 1 auf diese Weise als Lichtstrahl 3 zum Fotodetektor 4 reflektiert.
Wie die Fig. 5A, 5B und 5C zeigen, wird, wenn Planbereiche 19 des Spiegels auf dem unteren Teil liegen und unter 45º Winkeln zur Laserquelle orientiert sind, Laserlicht zurück zu einem Fotodetektor am Laser reflektiert. Die Position der reflektierenden Einrichtung relativ zu einem Substrat in ihrer Apertur bestimmt, ob das Laserlicht reflektiert oder blockiert wird. Dieses Phänomen kann dazu benutzt werden, die Position des Spiegels relativ zum Substrat zu bestimmen und hierdurch die zu fotoablatierende Substratmenge zu bestimmen.
Wie aus Fig. 6 ersichtlich ist, ermöglicht die Maske 10, vorzugsweise aus einer Kombination eines UV-durchlässigen Materials wie Quarz oder Quarzglas und einem UV-opaken (jedoch für sichtbares Licht transparentem) Glas wie einem UV-Filter hergestellt, nur einem UV-Lichthohlzylinder 23 zur Erreichung des Spiegels 5 durch die UV-durchlässige Zone 20 hindurchzutreten (vgl. Fig. 9). Der Innen- und Außendurchmesser dieses UV-Lichthohlzylinders 23 vom Excimerlaser entspricht, von oben gesehen, den Dimensionen des asphärischen Spiegels 5. Wenn die Achsen vom Spiegel 5 und des UV-Lichtzylinders vom Excimerlaser 8 richtig ausgerichtet sind, ist die Spiegeloberfläche 5 vollständig und gleichmäßig beleuchtet. Zonen 21 und 22 der Maske 10 verhindern, daß UV-Licht direkt die Hornhaut, Linse, Netzhaut und andere Okularstrukturen im menschlichen Auge streift, und sehen ein Target zum darauf Fokussieren zum Zwecke der Ausrichtung der Achsen des Auges 2, Spiegels 5 und Lichts vom Laser 8 vor.
Falls der Fotodetektor 4 im Betrieb einen reflektierten Lichtstrahl 3 vom Ziellaser 7 erfaßt, dann wird das Licht vom Excimerlaser 8 präzise und exakt auf den Spiegel 5 fallen. Wenn der Fotodetektor 4 ein Signal gemäß dieser Wirkung empfängt, öffnet die ultraschnelle Blende 6, die eine elektrooptische Blende sein kann, wobei Lichtstrahlen 13 und 14 vom Excimerlaser 8 auf den gekrümmten Spiegel 5 gelassen werden. Von dort tritt das Excimerlaserlicht als reflektiertes kuppelförmiges fotoablatierendes UV-Licht auf die Hornhautoberfläche 1. Ein Mikroprozessor kann dazu verwendet werden, die Blende 6 präzise und exakt zu steuern. Ein UV-Planspiegel 29 ermöglicht die Projektion eines horizontalen Laserstrahls auf das Auge eines Patienten in Rückenlage.
Wie die Fig. 7 und 8 zeigen, kann die reflektierende Einrichtung 5 Planbereiche an der oberen 27 und unteren Seite 19 aufweisen. Die Planspiegel an der oberen Seite reflektieren Parallelstrahlen auf das Substrat und können dazu verwendet werden, Substrat in einer speziellen Weise zu entfernen (d. h. einen glatten Übergangsbereich außerhalb der optischen Zone zu schaffen). Diese Wirkung ist, anders als die Erzeugung gekrümmter Oberflächen, die ihre Form bei Überbehandlung nicht ändern, energieabhängig.
Die Fig. 3 zeigt die Anwendung der in den Fig. 1 und 2 dargestellten Anordnung auf die Fotoablation einer Hornhautpastille 16 zum Erzeugen eines Linsenkörpers 24. Hier tritt der Hohlzylinder aus Excimerlaserlicht 23 durch die Maske 10 und wird von einem ringförmigen asphärischen Spiegel 5 über die Hornhautpastille 16 reflektiert. Wiederum ist das reflektierte UV-Licht eine Hohlkuppel 18 jedweden gewünschten Krümmungsradius und kann sphärisch oder asphärisch sein. Die Hornhautpastille 16 wird fest auf der konvex geformten Oberfläche 25 eines zylindrischen Linsenhalters 12 mittels Vakuum oder anderer Mittel gehalten. Eine mit Gewinde versehene Justiereinrichtung 17 gestattet die Einstellung der Höhe des Spiegels 5, und dies steuert die zu fotoablatierende Hornhautgewebemenge beim Formen des Hornhautlinsenkörpers 24, wodurch die Linsendicke und die Ausdehnung der optischen Zone bestimmt werden. Die Unterseite der Maske 10 (Fig. 1 bis 3) weist eine UV-Absorbtions/Antireflexionsbeschichtung 28 zur Verhinderung unerwünschter Lichtstreuung auf.

Claims

1. Anordnung zur Fotoablation von Material von einem Substrat (1) zum erzeugen abgerundeter Werkstückoberflächen aufweisend eine Einrichtung (8) zum Erzeugen von Licht, das zur Fotoablation dieses Materials imstande ist, eine Einrichtung (5) zum Reflektieren des Fotoablationslichts zur Fotoablation von Material vom Substrat; eine Einrichtung (15) zur Einstellung des Einfallswinkels des Fotoablationslichts auf die reflektierende Einrichtung und dann wieder auf das Substrat, dadurch gekennzeichnet, daß die reflektierende Einrichtung (5) eine ausreichende Form und Ausdehnung aufweist, um das Substrat (1) reflektierten tangentialen Fotoablationslichtstrahlen zum Erzeugen einer Oberfläche (18) vorbestimmter gewünschter Form auszusetzen, und daß die reflektierende Einrichtung Licht in Form einer Hohlkuppel der gewünschten Form derart auf das Substrat reflektiert, daß ein reflektierter Lichtstrahl tangential zu im wesentlichen jedem Punkt auf der Oberfläche der vorgeschlagenen, gewünschten Form vorliegt, und derart, daß innerhalb des Bereichs der Hohlkuppel im wesentlichen keine Lichtstrahlen vorliegen, die das Substrat unterhalb der Oberfläche der vorgeschlagenen, gewünschten Form streifen.

2. Anordnung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine Einrichtung (15), die zum Halten einer Hornhaut eines menschlichen Auges als das Substrat ausgelegt ist.

3. Anordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die reflektierende Einrichtung ein ringförmiger gekrümmter Spiegel (5) mit einer mittigen Apertur ist.

4. Anordnung nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung zum Erzeugen von zur Fotoablation des Substrats fähigen Lichts einen Excimerlaser (8) aufweist.

5. Anordnung nach Anspruch 1, 2, 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung um Erzeugen von zur Fotoablation des Substrats fähigen Lichts eine Quelle kohärenten, intensiven, parallel gerichteten Lichts ist, das eine Wellenlänge im Bereich von 150 bis 250 Nanometern und eine Leistungsdichte im Bereich von 20 bis 1000 Mill&ijlig;oule pro Quadratzentimeter pro Puls aufweist.

6. Anordnung nach Anspruch 1, 2, 3, 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß die reflektierende Einrichtung (5) in der Höhe relativ zum Substrat eingestellt werden kann, und daß sie ferner eine Einrichtung zum Steuern der vom Substrat zu fotoablatierenden Materialmenge aufweist, die eine Einrichtung (15) zum Einstellen der Höhe der reflektierenden Einrichtung relativ zum fotoablatierbaren Material umfaßt.

7. Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die reflektierende Einrichtung relativ zum Substrat, relativ zum Fotoablationslicht oder beidem geneigt werden kann, und ferner aufweisend eine Einrichtung zum Einstellen des Einfallswinkels des Fotoablationslichts auf die reflektierende Einrichtung und Einstellen des Bestrahlungsmuster vom Substrat, einschließend eine Einrichtung zum Einstellen der Neigung.

8. Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch eine Einrichtung, die einen Teil des Fotoablationslichts vom direkten Streifen des Substrats ausschließt und die das Fotoablationslicht für einen Einfall auf die reflektierende Einrichtung begrenzt.

9. Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch eine Einrichtung (7) zur Anvisierung und Ausrichtung der Einrichtung zum Erzeugen von Fotoablationslicht mit der reflektierenden Einrichtung.

10. Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch eine Einrichtung (7), die ermittelt, ob die reflektierende Einrichtung mit dem Einfallswinkel des Lichts von der Einrichtung zum Erzeugen des Fotoablationslichts korrekt ausgerichtet ist, und eine Blendeneinrichtung (6) die abhängig von einer korrekten Ausrichtung den Durchtritt von Licht von der Einrichtung (8) zum Erzeugen des Fotoablationslichts auf die reflektierende Einrichtung (5) zuläßt oder verhindert.

11. Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die reflektierende Einrichtung (5) eine Öffnung umfaßt, und ferner aufweisend eine Einrichtung zum Halten des Substrats (1) nahe der Öffnung in der reflektierenden Einrichtung, damit das reflektierte Fotoablationslicht die gewünschte abgerundete Werkstückoberfläche erzeugen kann.

12. Anordnung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Halteeinrichtung (15) eine Einrichtung (12) aufweist, die dazu ausgelegt ist, eine Pastille (16) aus Hornhautgewebe nahe der Öffnung so zu halten, daß reflektiertes Fotoablationslicht eine Hornhautlinse gewünschter Krümmung und Abmessungen erzeugt.

13. Anordnung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat eine Spenderhornhautpastille ist, die eine konvexe vordere und eine konkave hintere Oberfläche aufweist, und daß die Halteeinrichtung (12) ein konvexes, zur Konkavität der hinteren Spenderoberfläche ein Komplement bildendes Ende oder ein zur konvexen Vorderseite einer Hornhaut des vorgeschlagenen Empfängers ein Komplement bildendes Ende aufweist.

14. Anordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, in welcher die reflektierende Einrichtung Licht in der Form eines hohlen kuppelförmigen Musters jedweder gewünschten Form auf das Substrat reflektiert.

15. Anordnung nach Anspruch 14, in welcher die vom Substrat entfernte Materialmenge teilweise eine Funktion der Höhe der reflektierenden Einrichtung relativ uni Substrat ist, dadurch gekennzeichnet, daß sie eine Einrichtung zum Einstellen dieser Höhe aufweist.

16. Anordnung nach Anspruch 14 oder 15, in welcher der gewünschte Einfallswinkel teilweise eine Funktion der Neigung der reflektierenden Einrichtung relativ zum Substrat ist, gekennzeichnet durch eine Einrichtung zur Einstellung der Neigung.