DE3627585C3 - Verfahren zum Herstellen einer Flachdruckplatte - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte durch Auftragen eines negativ arbeitenden lichtempfindlichen Gemisches mit Hilfe eines speziellen Lösungsmittels.

Es sind bereits zahlreiche Verfahren zur Herstellung von vorsensibilisierten Flachdruckplatten durch Be­ schichten einer Aluminiumplatte mit einem lichtempfindlichen Gemisch bekannt, das ein lichtempfindliches Diazoharz und eine hochmolekulare Verbindung enthält; siehe z. B. JP-B-1 167/72 und JP-A-9 804/73, 24 404/72, 38 302/72, 30 604/75, 118 802/75 und 1 20 903/78 sowie DE-OS 27 29 173 und EP 1 30 488 A2.

Herkömmliche vorsensibilisierte Flachdruckplatten, die durch Auftragen einer Lösung eines lichtempfindli­ chen Gemisches auf einen Träger mit hydrophiler Oberfläche, insbesondere eine Aluminiumplatte mit hydrophi­ lisierter Oberfläche, hergestellt worden sind, haben den Nachteil, daß ihre Entwickelbarkeit mit der Zeit abnimmt und die Formen während des Druckens in den Nicht-Bildbereichen verschmutzt werden.

Es sind bereits Versuche unternommen worden, diesen Mangel zu beheben, indem man der lichtempfindlichen Schicht verschiedene Stabilisatoren zusetzte. Für diesen Zweck vorgeschlagene Stabilisatoren sind z. B. phosphorige Säure (JP-A-1 51 023/79), Oxalsäure (JP-A-3 216/78), halogenhaltige organische Phosphatester (JP-A-36 207/75), heterocyclische Diazoniumsalze (JP-A-1 43 405/76) sowie Phosphorsäure, Schwefelsäure, or­ ganische Sulfonsäuren, Polyacrylsäure, Polyvinylphosphonsäure und Polyvinylsulfonsäure (US-A-36 79 419). Diese Verbindungen verbessern zwar die zeitabhängige Entwickelbarkeit der vorsensibilisierten Flachdruck­ platten, jedoch sind die Ergebnisse nicht voll zufriedenstellend.

Aufgabe der Erfindung ist es daher, ein Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte bereitzustellen, die während des Druckens keine Verschmutzung der Nicht-Bildbereiche aufgrund abnehmender Entwickelbarkeit zeigt.

Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zum Herstellen einer Flachdruckplatte, bei dem eine oberfläch­ lich aufgerauhte Aluminiumplatte mit einer Lösung beschichtet wird, die in einem Lösungsmittel ein negativ arbeitendes lichtemp­ findliches Gemisch mit einem Diazoharz und einer hochmolekularen Verbindung, das mit einer wäßrigen alkalischen Lösung entwickelbar ist, gelöst enthält, und die aufgetragene Lösung trocknet, das dadurch gekenn­ zeichnet ist, daß das Lösungsmittel mindestens 10 Gewichtsprozent 1-Methoxy-2-propanol enthält.

Als Beschichtungshilfen beim Auftragen des negativ arbeitenden lichtempfindlichen. Gemisches, das ein lichtempfindliches Diazoharz und eine hochmolekulare Verbindung enthält und mit einem wäßrigen alkalischen Entwickler entwickelbar ist, auf eine Aluminiumplatte, eignen sich die verschiedensten Lösungsmittel. Spezielle Beispiele sind Wasser, Methanol, Ethanol, Propanol, Butanol, Amylalkohol, Pentanol, Fuselöl, Hexanol, Hepta­ nol, Octanol, Cyclohexanol, Benzylalkohol, Furfurylalkohol, Tetrahydrofurfurylalkohol, Hexan, Heptan, Octan, Decan, Petrolether, Petroleumbenzin, Ligroin, Gasolin, Kerosin, Cyclohexan, Benzol, Toluol, Xylol, Tetralin, Decalin, Terpentinöl, Chloroform, Kohlenstofftetrachlorid, Ethylenchlorid, Ethylidenchlorid, Trichlorethan, Te­ trachlorethan, Trichlorethylen, Tetrachlorethylen, Trichlorpropan, Isopropylchlorid, Dichlorpropan, Butylchlo­ rid, Amylchlorid, Hexylchlorid, Ethylenbromid, Tetrabromethan, Chlorbenzol, Dichlorbenzol, Trichlorbenzol, Brombenzol, Chlortoluol, Isopropylether, Dibutylether, Diisoamylether, Hexylether, Methylphenylether, Ethylphenylether, Butylphenylether, Ethylbenzylether, Dioxan, 2-Methylfuran, Tetrahydrofuran, Tetrahydropyran, Ci­ neol, Aceton, Methylethylketon, Methylpropylketon, Methylbutylketon, Methylamylketon, Methylhexylketon, Diethylketon, Ethylbutylketon, Dipropylketon, Diisobutylketon, Diacetonalkohol, Phoron, Isophoron, Cyclohex­ anon, Methylcyclohexanon, Acetophenon, Ethylformiat, Propylformiat, Butylformiat, Amylformiat Methylace­ tat, Ethylacetat, Propylacetat, Butylacetat, Amylacetat, Methylisoamylacetat, Methoxybutylacetat, Hexylacetat, Cyclohexylacetat, Benzylacetat, Methylpropionat, Ethylpropionat, Butylpropionat, Amylpropionat, Methylbuty­ rat, Ethylbutyrat, Butylbutyrat, Amylbutyrat, Methylacetoacetat, Ethylacetoacetat, Isoamylisovalerat, Methyl­ lactat, Ethyllactat, Butyllactat, Amyllactat, Methylbenzoat, Diethyloxalat, Ethylenglykol, Ethylenglykolmonome­ thylether, Ethylenglykolmonomethyletheracetat, Ethylenglykolmonoethylether, Ethylenglykoldiethylether, Et­ hylenglykolmonoethyletheracetat, Ethylenglykolisopropylether, Ethylenglykolmonobutylether, Ethylenglykol­ dibutylether Ethylenglykolmonobutyletheracetat Ethylenglykolmonophenylether, Methoxymethoxyethanol, Ethylenglykolmonoacetat, Ethylenglykoldiacetat, Diethylenglykol, Diethylenglykolmonomethylether, Diethy­ lenglykolmonoethylether, Diethylenglykolmonoethyletheracetat, Diethylenglykolmonobutylether, Diethylen­ glykolmonobutyletheracetat, Diethylenglykoldimethylether, Diethylenglykoldiethylether, Diethylenglykolace­ tat, Propylenglykol, Propylenglykolmonoethylether, Propylenglykolpropylether, Propylenglykolmonobutylet­ her, Dipropylenglykol, Dipropylenglykolmonomethylether, Dipropylenglykolmonoethylether, Trimethylengly­ kol, Butandiol, Hexylenglykol, Ameisensäure, Essigsäure, Acetanhydrid, Propionsäure, Propionsäureanhydrid, Buttersäure, Valeriansäure, Milchsäure, Pyridin, Picolin, Chinolin, Isochinolin, Dimethylsulfoxid, Triethylphos­ phat, Dimethylformamid, γ-Butyrolacton, γ-Valerolacton, 6-Hexanolacton, Methylsalicylat, Ethylsalicylat, Butyl­ salicylat, Diethyladipat, Ethylcarbonat, Butylsulfid und Diacetonalkohol.

Diese Lösungen können entweder allein oder als Mischungen verwendet werden. Beim Auftragen des licht­ empfindlichen Gemisches auf eine Aluminiumplatte mit Hilfe eines oder mehrerer dieser Lösungsmittel wird die erhaltene vorsensibilisierte Flachdruckplatte normalerweise während des Druckens in den Nicht-Bildbereichen verschmutzt, vermutlich weil die Entwickelbarkeit mit der Zeit abnimmt. Keine derartigen Probleme treten jedoch beim Drucken mit einer vorsensibilisierten Flachdruckplatte auf, die durch erfindungsgemäßes Auftra­ gen der lichtempfindlichen Gemisches mit Hilfe von 1-Methoxy-2-propanol hergestellt und längere Zeit gelagert wurde. Es ist völlig überraschend, daß dieses Ergebnis durch geeignete Auswahl von Beschichtungslösungsmit­ teln erzielt werden kann.

Erfindungsgemäß ist 1-Methoxy-2-propanol in dem Beschichtungslösungsmittel in einem Gewichtsanteil von 10 bis 100%, vorzugsweise 20 bis 100% und insbesondere 25 bis 80% enthalten. Beliebige Lösungsmittel aus der oben genannten Liste herkömmlicher Lösungsmittel können mit dem 1-Methoxy-2-propanol vermischt werden; bevorzugte Beispiele sind Methanol, Butanol, Ethylenchlorid, Chlorbenzol, Tetrahydrofuran, Aceton, Methylet­ hylketon, Cyclohexanon, Ethylacetat, Butylacetat, Ethyllactat, Ethylenglykolmonomethylether (Methylcellosol­ ve), Ethylenglykolmonoethylether (Ethylcellosolve), Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid, γ-Butyrolacton, Was­ ser und Diacetonalkohol.

Die als Schichtträger verwendete, oberflächlich aufgerauhte Aluminiumplatte kann nach verschiedenen Me­ thoden hergestellt werden. Die Oberfläche der Aluminiumplatte kann z. B. gekörnt werden mit einer Drahtbür­ ste, einer Nylonbürste unter gleichzeitigem Aufgießen einer Aufschlämmung von Schleifmaterial, Kugelkörnen, chemisches Körnen, elektrisches Körnen oder eine kombinierte Körnung aus zwei oder mehr dieser Körnver­ fahren. Anschließend wird die gekörnte Aluminiumoberfläche vorzugsweise mit einem stark passivierten Film versehen, z. B. durch Gleichstrom- oder Wechselstrom-Anodisierung unter Verwendung eines Elektrolyten, wie Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Borsäure, Chromsäure, Sulfaminsäure oder deren Mischungen. Als hydrophile Oberfläche der Aluminiumplatte eignet sich der passivierte Film allein, jedoch wird er vorzugsweise einer der folgenden Nachbehandlungen zur Verbesserung der Hydrophilität unterzogen: Silikatbehandlung, z. B. mit Natrium- oder Kaliumsilikat (US-A-27 14 066 und 38 18 461); Behandlung mit Kaliumfluorozirkonat (US-A-29 46 638); Behandlung mit Phosphomolybdat (US-A-32 01 247); Behandlung mit Polyacrylsäure (DE-C-10 91 433); Behandlung mit Polyvinylphosphonsäure (DE-C-11 34 093 und GB-A-12 30 447); Behandlung mit Phosphonsäure (JP-B-6 409/69); Behandlung mit Phytinsäure (US-A-33 07 951); kombinierte Behandlung mit einer hydrophilen organischen hochmolekularen Verbindung und einem zweiwertigen Metall (JP-A-16 893/83 und 18 291/83) oder Grundieren mit einem wasserlöslichen Polymer mit einer Sulfonsäuregruppe. Eine weitere Methode zur Hydrophilisierung der Oberfläche ist die in der US-A-36 58 662 beschriebene galvanische Silikat­ abscheidung.

Beispiele für erfindungsgemäß verwendbare lichtempfindliche Diazoharze sind in den US-A-38 67 147 und 26 32 703 beschrieben. Besonders geeignete Diazoharze sind die Kondensationsprodukte von aromatischen Diazoniumsalzen und Verbindungen wie z. B. aktiven carbonylhaltigen Verbindungen, z. B. Formaldehyd. Be­ sonders bevorzugte Diazoharze sind Hexafluorophosphate, Tetrafluoroborate und Tetrafluorophosphate von Kondensationsprodukten aus p-Diazodiphenylamin und Formaldehyd oder Acetaldehyd. Andere bevorzugte Beispiele sind in der US-A-33 00 309 beschrieben. Diese umfassen Sulfonate, z. B. p-Toluolsulfonate und 2-Me­ thoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonate, Phosphinate, z. B. Benzolphosphinate, hydroxylhaltige Salze, z. B. 2,4-Dihydroxybenzophenonsalze, und organische Carboxylate von Kondensationsprodukten aus p-Diazodiphe­ nylamin und Formaldehyd.

In der JP-A-27 141/83 ist ein weiteres geeignetes Diazoharz beschrieben, das dadurch hergestellt wird, daß man zunächst 3-Methoxy-4-diazodiphenylamin mit 4,4'-Bismethoxymethyldiphenylether kondensiert und das erhaltene Kondensat dann in ein Mesitylensulfonatsalz überführt.

Die erfindungsgemäß verwendete hochmolekulare Verbindung kann unter organischen hochmolekularen Verbindungen ausgewählt werden, die in dem wäßrigen alkalischen Entwickler gelöst oder gequollen werden und beim Belichten in Gegenwart des lichtempfindlichen Diazoharzes härten. Besonders vorteilhafte organische hochmolekulare Verbindungen sind z. B. Copolymere von Acrylsäure, Methacrylsäure, Crotonsäure oder Mal­ einsäure als essentieller Komponente, z. B. Copolymere von 2-Hydroxyethylacrylat oder 2-Hydroxyethylmetha­ crylat, Acrylnitril oder Methacrylnitril, Acrylsaure oder Methacrylsäure und gegebenenfalls anderen copolyme­ risierbaren Monomeren (JP-A-1 18 802/75; US-A-41 23 276); Copolymere von Acrylsäure oder Methacrylsäure, die eine Hydroxyl gruppe aufweisen und mit einer Gruppe verestert sind, welche einen Dicarbonsäureesterrest enthält, Acrylsäure oder Methacrylsäure und gegebenenfalls anderen copolymerisierbaren Monomeren (JP- A-1 20 903/78); Copolymere eines Monomers mit einer endstandigen aromatischen Hydroxylgruppe (z. B. N-(Hydroxyphenyl)-methacrylamid, Acrylsäure oder Methacrylsäure und gegebenenfalls anderen copolymeri­ sierbaren Monomeren (JP-A-98 614/79) und Copolymere von Alkylacrylat, Acrylnitril oder Methacrylnitril und einer ungesättigten Carbonsaure (JP-A-4 144/81). Saure Polyvinylalkoholderivate und saure Cellulosederivate sind ebenfalls verwendbar, wie auch die in der GB-A-13 70 316 beschriebenen hochmolekularen Verbindungen, welche die alkalilösliche Form eines Polyvinylacetals darstellen.

Das Mengenverhältnis von Diazoharz und hochmolekularer Verbindung in der lichtempfindlichen Zusam­ mensetzung wird so gewählt, daß das Diazoharz in einer Menge von 3 bis 40 Gewichtsprozent und die hochmolekulare Verbindung in einer Menge von 97 bis 60 Gewichtsprozent, bezogen auf das Gesamtgewicht beider Komponenten, vorhanden ist. Durch Verringerung des Gehalts an Diazoharz wird eine höhere Empfind­ lichkeit erzielt. Beträgt jedoch der Gehalt an Diazoharz weniger als 3 Gewichtsprozent, so härtet die hochmole­ kulare Verbindung beim Belichten nicht vollständig und der gehärtete Film wird durch die Entwicklerlösung gequollen, so daß er seine strukturelle Integrität verliert. Verwendet man andererseits mehr als 40 Gewichtspro­ zent Diazoharz, nimmt die Empfindlichkeit der Zusammensetzung zu stark ab. Vorzugsweise werden daher das Diazoharz und die hochmolekulare Verbindung in der lichtempfindlichen Zusammensetzung in Mengen ver­ wendet, daß der Anteil an Diazoharz 5 bis 20 Gewichtsprozent und der Anteil an hochmolekularer Verbindung 95 bis 80 Gewichtsprozent, bezogen das Gesamtgewicht beider Komponenten, betragt. Bezogen auf die lichtempfindliche Zusammensetzung, auf liegt das Gesamtgewicht an Diazoharz und hochmolekularer Verbindung im Bereich von 70 bis 100 Gewichtsprozent.

Das erfindungsgemäß verwendete lichtempfindliche Gemisch kann gegebenenfalls verschiedene Additive enthalten, z. B. Beschichtungshilfen, wie Alkylether (z. B. Ethylcellulose und Methylcellulose) sowie fluorhaltige Tenside; Weichmacher, die dem Überzug Flexibilität oder Abriebbeständigkeit verleihen (z. B. Tricresylphos­ phat, Dimethylphthalat, Dibutylphthalat, Trioctylphosphat, Tributylphosphat, Tributylcitrat, Polyethylenglykol und Polypropylenglykol); Färbemittel, welche die entwickelten Bildbereiche sichtbar machen, z. B. Farbstoffe (wie Acridin-, Cyanin-, Styryl und Triphenylmethan-Farbstoffe) oder Pigmente (wie Phthalocyanin), und übliche Stabilisatoren für Diazoharze (z. B. Phosphorsäure, phosphorige Säure, Pyrophosphorsäure, Oxalsäure, Borsäu­ re, Toluolsulfonsäure, Polyacrylsäure und Copolymere davon; Polyvinylphosphonsäure und Copolymere davon; Polyvinylsulfonsäure und Copolymere davon; 5-Nitronaphthalin-1-phosphonsäure, 4-Chlorphenoxymethylphos­ phonsäure, Natriumphenylmethylpyrazolonsulfonat, 2-Phosphonobutantricarbonsäure-1,2,4,1-Phosphonoeth­ antricarbonsäure-1,2,2 und 1-Hydroxyethan-1,1-disulfonsäure). Die Menge dieser Additive variiert je nach dem speziellen Verwendungszweck, beträgt jedoch gewöhnlich 0,5 bis 30 Gewichtsprozent des Gesamt-Feststoffge­ halts der lichtempfindlichen Schicht.

Das lichtempfindliche Gemisch wird gewöhnlich auf die oberflächlich aufgerauhte Aluminiumplatte in einer Menge von 0,3 bis 5, vorzugsweise 0,5 bis 3,5 g/m² auf Feststoffbasis aufgetragen. Der Feststoffgehalt einer Lösung des lichtempfindlichen Gemisches, das ein Überzugsgewicht innerhalb dieser Bereiche ergibt, beträgt gewöhnlich 1 bis 50, vorzugsweise 2 bis 20 Gewichtsprozent, bezogen auf das Gewicht der Lösung des lichtemp­ findlichen Gemisches. Die Lösung des lichtempfindlichen Gemisches kann auf die Aluminiumplatte nach beliebi­ gen bekannten Methoden aufgetragen werden, z. B. durch Walzen-, Stab-, Sprüh-, Vorhang- und Schleuderbe­ schichtung. Die aufgetragene Lösung des lichtempfindlichen Gemisches wird vorzugsweise bei einer Tempera­ tur von 50 bis 120°C getrocknet. Die Trocknung kann in zwei Stufen (d. h. Vortrocknen bei niederen Temperatu­ ren und Trocknen bei erhöhten Temperaturen) oder in einer Stufe durch direktes Trocknen bei erhöhter Temperatur erfolgen.

Die Flachdruckplatte, die eine trockene Schicht des lichtempfindlichen Gemisches auf der oberflächlich aufgerauhten Aluminiumplatte aufweist, wird bildmäßig belichtet und mit einem wäßrigen alkalischen Entwick­ ler entwickelt, wobei ein in Bezug auf das Original negatives Reliefbild entsteht. Geeignete Belichtungsquellen sind z. B. Kohlebogenlampen, Quecksilberlampen, Xenonlampen, Metallhalogenidlampen, Elektronenröhren und UV-Laser.

Der zum Entwickeln der erfindungsgemäßen Flachdruckform verwendete wäßrige alkalische Entwickler enthält ein alkalisches Mittel, z. B. Triethanolamin oder Monoethanolamin, hat einen pH von 8 bis 13 und enthält mindestens 75 Gewichtsprozent Wasser. Gegebenenfalls kann der wäßrige alkalische Entwickler eine geringe Menge eines organischen Lösungsmittels, eines Tensids, eines Schmierverhinderungsmittels oder eines Wasser-Weichmachers enthalten. Beispiele für wäßrige alkalische Entwickler sind die in den JP-A-77 401/76, 80 228/76, 44 202/78 (entsprechend US-A-41 86 006) und 52 054/80 beschriebenen schwach alkalischen wäßrigen Lösun­ gen, die aus einem organischen Lösungsmittel mit einer Wasserlöslichkeit von nicht mehr als 10% bei Raumtem­ peratur (z. B. Benzylalkohol oder Ethylenglykolmonophenylether), einem alkalischen Mittel (z. B. Triethanol­ amin oder Monoethanolamin), einem anionischen Tensid (z. B. einem aromatischen Sulfonat, Dialkylsulfosucci­ nat, Alkylnaphthalinsulfonat,

oder einem verzweigten Alkylsultatester) und Wasser sowie gegebenenfalls einen Verschmierungsverhinde­ rungsmittel (z. B. Natriumsulfit oder einem Natriumsalz von Sulfopyrazolon) oder Wasser-Weichmacher (z. B. Tetranatriumethylendiamintetraacetat oder N CH₂COONa)₂) bestehen.

Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten vorsensibilisierten Flachdruckformen sind hin­ sichtlich der Verschmutzungsbeständigkeit in den Nicht-Bildbereichen während des Druckens wesentlich ver­ bessert. Dies ist vermutlich darauf zurückzuführen, daß sich ihre Entwickelbarkeit im Laufe der Zeit nicht verschlechtert.

Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung. Alle Prozente beziehen sich auf das Gewicht, sofern nichts anderes angegeben ist.

Herstellungsbeispiel 1

100 g 1-Methoxy-2-propanol werden unter Stickstoff auf 100°C erhitzt, worauf man innerhalb von 2 Stunden eine Mischung aus 23 g 2-Hydroxyethylmethacrylat, 27,5 g Acrylnitril, 43 g Benzylmethacrylat, 6,5 g Methacryl­ säure und 0,4 Benzoylperoxid zutropft. 15 Minuten nach beendeter Zugabe versetzt man die Mischung mit 100 g 1-Methoxy-2-propanol und 0,1 g Benzoylperoxid und setzt 4 Stunden um. Nach beendeter Umsetzung verdünnt man das Gemisch mit Methanol und gießt in Wasser, wobei ein Copolymer Niederschlag entsteht, der im Vakuum bei 70°C getrocknet wird. Das getrocknete 2-Hydroxyethylmethacrylat-Copolymer hat eine Säurezahl von 40.

Herstellungsbeispiel 2

Nach dem Verfahren von Herstellungsbeispiel 1 wird ein Copolymer von 2-Hydroxyethylmethacrylat/Acryl­ nitril/Ethylmethacrylat/Methacrylsäure (Monomerbeschickung = 50/20/25/5%) mit einer Säurezahl von 31 hergestellt.

Herstellungsbeispiel 3

Nach dem Verfahren von Herstellungsbeispiel 1 wird ein Copolymer von p-Hydroxyphenylmethacrylamid/Acryl­ nitril/Ethylacrylat/Methacrylsäure (Monomerbeschickung = 20/35/37/8%) mit einer Säurezahl von 51 hergestellt.

Beispiel 1

Eine 0,24 mm dicke 2S-Aluminiumplatte wird durch 3minütiges Eintauchen in eine 10% wäßrige Lösung von tertiärem Natriumphosphat (80°C) entfettet. Die Oberfläche der Aluminiumplatte wird mit einer Bürste aufge­ rauht und mit einer 3% wäßrigen Lösung von Natriumaluminat bei 60°C entgratet. Hierauf anodisiert man die Aluminiumplatte 2 Minuten in 20% H₂SO₄ bei einer Stromdichte von 2A/dm² und behandelt die anodisierte Platte dann 1 Minute in einer 3% wäßrigen Lösung von Kaliumsilikat (70°C).

Der erhaltene Aluminiumträger wird mit einer Schleuderscheibe mit der folgenden Lösung eines lichtemp­ findlichen Gemisches (I) beschichtet und dann 2 Minuten bei 100°C getrocknet. Die Auftragmenge der Lösung beträgt 1,5 ± 0,1 g/m², bezogen auf trockene Feststoffe.

Copolymer aus Herstellungsbeispiel 1	5,0 g
Diazoharz (1)	0,5 g
Victoria-Reinblau BOH (C.I.42 595)	0,15 g
Natrium-t-butylnaphthalinsulfonat	0,15 g
Phosphorsäure	0,1 g
Wasser	5,0 g
Lösungsmittel (siehe Tabelle 1)	100,0 g

Das Diazoharz (1) wird folgendermaßen hergestellt:
p-Diazodiphenylamin wird mit Paraformaldehyd kondensiert; eine wäßrige NaPF₆-Lösung wird zu einer wäßri­ gen Lösung des Sulfats des Kondensationsprodukts gegeben; der entstehende Niederschlag wird abgetrennt und getrocknet. Das Diazoharz hat einen PF₆-Substitutionsgrad von 89 Molprozent.

Die erhaltene vorsensibilisierte Flachdruckplatte wird 5 Tage bei 45°C und einer relativen Feuchte von 75% stehengelassen. Hierauf belichtet man die Platte 1 Minute mit einer 2 kW-Metallhalogenidlampe in einem Abstand von 1 m von der Lichtquelle und führt dann eine Tauchentwicklung von 60 s bei 25°C mit einem flüssigen Entwickler durch, der aus 30 g Benzylalkohol, 10 g Triethanolamin, 10 g Natriumisopropylnaphthalin­ sulfonat, 2 g Natriumsulfit, 0,5 g Natriumnitrilotriacetat und 950 g Leitungswasser besteht. Die entwickelte Platte wird mit Wasser gewaschen und mit einem Schutzfilm aus Gummi arabicum beschichtet. Die erhaltene Form wird in eine Druckerpresse eingespannt und zum Flachdruck verwendet, um festzustellen, ob ein Teil der Nicht-Bildbereiche verschmutzt wird.

Dasselbe Experiment wird mit anderen in Tabelle 1 genannten Lösungsmitteln beim Aufbringen des lichtemp­ findlichen Gemisches wiederholt. Die Testergebnisse hinsichtlich der Verschmutzung der Nicht-Bildbereiche während des Flachdrucks sind ebenfalls in Tabelle 1 genannt. Hieraus ist ersichtlich, daß die erfindungsgemäß hergestellten Flachdruckformen eine bessere Verschmutzungsbeständigkeit in den Nicht-Bildbereichen wäh­ rend des Druckens aufweisen.

Verschmutzung der Nicht-Bildbereiche während des Druckens mit vorsensibilisierten Flachdruckformen, die 5 Tage bei 45°C und 75% rF gelagert wurden

Verschmutzung der Nicht-Bildbereiche während des Druckens mit vorsensibilisierten Flachdruckformen, die 5 Tage bei 45°C und 75% rF gelagert wurden

Beispiel 2

Ein gemäß Beispiel 1 oberflächenbehandelter Aluminiumträger wird mit der folgenden Lösung eines licht­ empfindlichen Gemisches (2) beschichtet und wie in Beispiel 1 getrocknet.

Lösung des lichtempfindlichen Gemisches (2):

Copolymer aus Herstellungsbeispiel 2	5,0 g
Diazoharz (2)	0,5 g
Victoria-Reinblau BOH (C.I.42 595)	0,15 g
Natrium-t-butylnaphthalinsulfonat	0,15 g
Phosphorige Säure	0,1 g
Lösungsmittel (siehe Tabelle 2)	100,0 g

Das Diazoharz (2) wurde hergestellt aus dem Kondensationsprodukt von p-Diazodiphenylamin und Parafor­ maldehyd sowie aus 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonsäure.

Die erhaltene vorsensibilisierte Flachdruckplatte wird 5 Tage bei 45°C und einer relativen Feuchte von 75% gelagert. Hierauf wird sie bildmäßig belichtet, entwickelt, mit Wasser gewaschen und mit einer Schutzschicht aus Gummi beschichtet. Beim Drucken wird untersucht, ob ein Teil der Nicht-Bildbereiche verschmutzt wird. Die Ergebnisse sind in Tabelle 2 genannt.

Verschmutzung der Nicht-Bildbereiche während des Druckens mit vorsensibilisierten Flachdruckformen nach 5tägiger Lagerung bei 45°C und 75 rF

Verschmutzung der Nicht-Bildbereiche während des Druckens mit vorsensibilisierten Flachdruckformen nach 5tägiger Lagerung bei 45°C und 75 rF

Beispiele 3-6

Vorsensibilisierte Flachdruckplatten werden gemäß Beispiel 1 hergestellt, nach 5tägiger Lagerung bei 45°C und 75% rF werden die Platten bildmäßig belichtet, entwickelt, mit Wasser gewaschen und mit einer Schutz­ schicht aus Gummi versehen. Beim Drucken wird untersucht, ob ein Teil der Nicht-Bildbereiche verschmutzt wird. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 genannt.

Verschmutzung der Nicht-Bildbereiche während des Druckens nach 5tägiger Lagerung der Platten bei 45°C und 75% rF

Verschmutzung der Nicht-Bildbereiche während des Druckens nach 5tägiger Lagerung der Platten bei 45°C und 75% rF

Die Ergebnisse der Tabellen 2 und 3 zeigen, daß die erfindungsgemäßen vorsensibilisierten Flachdruckformen hinsichtlich der Verschmutzung in den Nicht-Bildbereichen während des Druckens überlegen sind, unabhängig von der Art der verwendeten lichtempfindlichen Diazoharze und hochmolekularen Verbindungen.

Claims (5)

1. Verfahren zum Herstellen einer Flachdruckplatte, bei dem eine oberflächlich aufgerauhte Aluminium­ platte mit einer Lösung beschichtet wird, die in einem Lösungsmittel ein negativ arbeitendes lichtempfindliches Gemisch mit einem Diazoharz und einer hochmolekularen Verbindung, das mit einer wäßrigen alkalischen Lösung entwickelbar ist, gelöst enthält, und die aufgetragene Lösung trocknet, dadurch gekennzeichnet, daß das Lösungsmittel mindestens 10 Gewichtsprozent 1-Methoxy-2-propanol enthält.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Lösungsmittel 25 bis 80 Gewichtsprozent 1-Methoxy-2-propanol enthält.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die das lichtempfindliche Gemisch enthaltende Lösung so auf die Aluminiumplatte aufgetragen wird, daß ein Überzug mit 0,5 bis 3,5 g/m² Trockengewicht entsteht.

4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Feststoffgehalt der Lösung des lichtempfindlichen Gemisches 1 bis 50 Gewichtsprozent beträgt.

5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Diazoharz in einer Menge von 3 bis 40 Gewichtsprozent und die hochmolekulare Verbindung in einer Menge von 97 bis 60 Gewichts­ prozent, bezogen auf das Gesamtgewicht von Diazoharz und hochmolekularer Verbindung, vorliegen.