DE3303572C2

DE3303572C2 -

Info

Publication number: DE3303572C2
Application number: DE19833303572
Authority: DE
Inventors: Rolf Ing.(Grad) 5000 Koeln De Schirk; Klaus 5170 Juelich De Vallentin
Original assignee: Reaktorwartungsdienst und Apparatebau 5170 Juelich De GmbH
Current assignee: Reaktorwartungsdienst und Apparatebau 5170 Juelich De GmbH
Priority date: 1983-02-03
Filing date: 1983-02-03
Publication date: 1988-12-01
Also published as: DE3303572A1; EP0115579A3; EP0115579A2

Description

Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zum Ausblenden oder Stoppen eines Teilchenstrahls mit mindestens zwei einander gegenüberliegenden Blendenflächen zum mindestens teilweisen Abschirmen des Teilchen strahls, wobei jede Blendenfläche aus einer Fläche gebildet wird, die zur Strahlachse im spitzen Winkel angeordnet ist.The invention relates to a device for fading out or stopping a particle beam with at least two opposing ones Aperture surfaces for at least partially shielding the particle beam, each aperture surface being formed from a surface which is used for Beam axis is arranged at an acute angle.

Einrichtungen der obengenannten Art sind in der Beschleunigertechnik bei Beschleunigeranlagen bekannt. In solchen Anlagen sind hinsichtlich des Teilchenstrahls zwei unterschiedliche Funktionen von solchen Einrichtungen zu erfüllen, die daher im Stand der Technik auch unterschiedlich gebaut sind. Nach der ersten Funktion muß eine Einrichtung vorhanden sein, die in der Lage ist, den Teilchenstrahl teilweise auszublenden. Dies bedeutet, daß bestimmte Bereiche des Teilchenstrahls durchgelassen werden sollen, während andere Bereiche des Teilchenstrahls gestoppt werden sollen. Hierbei ist es möglich, den Teilchenstrahl nicht nur symmetrisch zu seiner eigenen Mitte auszublen den, sondern es ist vielmehr möglich, beliebige Bereiche abzuschirmen bzw. durchzulassen.Devices of the above type are in accelerator technology known in accelerator systems. In such plants are regarding of the particle beam have two different functions from those To meet facilities, therefore, in the prior art too are built differently. After the first function, a Facility to be present that is capable of the particle beam partially hide. This means that certain areas of the Particle beam to be transmitted while other areas of the particle beam are to be stopped. It is possible to Particle beam not only to fill symmetrically to its own center it is rather possible to shield any area or let it through.

Die zweite Funktion ist in dem vollständigen und möglichst schnellen Stoppen des gesamten Teilchenstrahls zu sehen. Hierzu sind veränder bare Blenden nicht vorgesehen, sondern vielmehr sogen. "Faradaytassen". Es sind dies aus geeignetem Werkstoff geformte Hohlkörper mit etwa parabelförmigem Querschnitt, die radial in den Teilchenstrahl geschoben werden und diesen komplett aufnehmen und damit stoppen. The second function is in the complete and as fast as possible Stop seeing the entire particle beam. There are changes to this bare screens not provided, but rather so-called. "Faraday cups". These are hollow bodies formed from a suitable material with approximately parabolic cross section that is pushed radially into the particle beam and record it completely and stop it.

Sowohl Blende als auch Faradaytasse des Standes der Technik haben den Nachteil, daß sie mindestens Flächenbereiche aufweisen, die etwa senkrecht zur Strahlrichtung des Teilchenstrahls verlaufen. Bei den Blenden des Standes der Technik werden z. B. Blenden platten senkrecht zur Strahlrichtung angeordnet und auch in dieser Richtung zur Abschirmung des Strahles in den Teilchenstrahl hinein verschoben. In den Auftreffbereichen des Teilchenstrahls wird die Blendenplatte thermisch hoch belastet und dort der Werkstoff der Blendenplatte relativ schnell zerstört.Both aperture and Faraday cup of the state of the Technology have the disadvantage that they are at least Have surface areas that are approximately perpendicular to Beam direction of the particle beam. Both Apertures of the prior art z. B. Apertures plates arranged perpendicular to the beam direction and also in this direction to shield the beam shifted into the particle beam. In the Impact areas of the particle beam is the Aperture plate subjected to high thermal loads and there the Material of the aperture plate destroyed relatively quickly.

Mit der DE-AS 12 69 740 ist ein ortsfester Neutronen kollimator für Atomkernreaktoren sowie eine Einrichtung gemäß dem Oberbegriff des Patenanspruchs 1 bekanntgeworden, der ebenfalls Blendenplatten von in der Regel geneigter Anordnung für die Beeinflussung eines Strahles auf weist. Diese Blendenplatten sind auch gemeinsam beweglich. Es handelt sich jedoch um Metallplatten, die in bekannter Weise den Teilchenstrahl ver unreinigen. Darüber hinaus weisen diese Platten Versetzungen auf, wodurch etwa senkrecht zum Teilchen strahl stehende Plattenbereiche entstehen. In diesen Bereichen wird die Einrichtung vom Teilchenstrahl thermisch überlastet. Darüber hinaus erfolgt die Ausblendbewegung der Platten etwa kreisförmig um einen auf dem Zentrum des Teilchenstrahls liegenden Mittel punkt. Hierdurch ist es unmöglich dem Teilchenstrahl immer eine genügend große Blendenfläche ent gegenzustellen. Vielmehr wird kurz vor dem voll ständigen Stoppen des Teilchenstrahls zunächst die innere Stufe thermisch überlastet und nach voll ständiger Zusammenlegung der Blendenplatten deren Stirnseite thermisch überlastet. Die genannte innere Stufe und die Stirnseite dieser Einrichtung stellen also bei einer Blendenveränderung die kritischen Bereiche der Einrichtung dar.With DE-AS 12 69 740 is a stationary neutron Collimator for nuclear reactors and a device according to the preamble of claim 1 became known also diaphragm plates of generally inclined Arrangement for influencing a beam points. These aperture plates are also common movable. However, they are metal plates, which ver the particle beam in a known manner unclean. In addition, these plates point Dislocations, which is approximately perpendicular to the particle beam-standing plate areas arise. In these Areas are set up by the particle beam thermally overloaded. In addition, the Hiding movement of the plates approximately circularly around one means lying on the center of the particle beam Point. This makes it impossible for the particle beam always a sufficiently large aperture area to oppose. Rather, just before the full constantly stopping the particle beam first inner stage thermally overloaded and after full constant merging of the aperture plates End face thermally overloaded. The said inner Set the step and the front of this device the critical ones when changing the aperture Areas of the facility.

Bei der Faradaytasse wird dieser kritische Bereich von dem kugelähnlich geformten inneren Ende der Tasse gebildet. Dieses innere Ende der Tasse weist wegen seiner Gestalt zwangsläufig Zonen auf, die angenähert oder auch exakt senkrecht zur Strahlrichtung verlaufen. In diesem Bereich wird die bekannte Faradaytasse vom auftreffenden Teilchenstrahl thermisch überlastet und ebenfalls relativ rasch zerstört.In the Faraday cup, this critical area becomes similar to the sphere shaped inner end of the cup. That inner end of the cup because of its shape necessarily has zones that approximate or also run exactly perpendicular to the beam direction. In this area becomes the well-known Faraday cup from the incident particle beam thermally overloaded and also destroyed relatively quickly.

Um eine allzu kurzfristige Zerstörung solcher Einrichtungen zu verhindern, mußten die Beschleunigeranlagen mit entsprechend geringe rer Energie des Teilchenstrahls betrieben werden.In order to destroy such facilities too quickly prevent, the accelerator systems had to be correspondingly low rer energy of the particle beam are operated.

Ein weiterer Nachteil besonders der Faradaytasse ist deren komplizierte Herstellung.Another disadvantage, particularly of the Faraday cup, is its complicated Manufacturing.

Der Erfindung liegt damit die Aufgabe zugrunde, Einrichtungen der im Oberbegriff des Patentanspruchs 1 beschriebenen Art vorzuschlagen, die eine bessere Verteilung der durch den Teilchenstrahl erzeugten thermischen Belastung ermög lichen und die Verunreinigung des Teilchenstrahls minimieren.The invention is therefore based on the object in the preamble of claim 1 to propose a better distribution the thermal load generated by the particle beam and minimize the contamination of the particle beam.

Erfindungsgemäß ist diese Aufgabe dadurch gelöst, daß die Blenden flächen von Graphitplatten oder überwiegend Graphit enthaltenden Platten gebildet werden, die ihrerseits je mit einer Trägerplatte verbunden sind, wobei jede Blendenfläche radial zum Teilchenstrahl be weglich ist und die Blendenflächen einen unveränderlichen Winkel zur Strahlachse einnehmen.According to the invention, this object is achieved in that the panels surfaces of graphite plates or predominantly containing graphite Plates are formed, each with a support plate are connected, each aperture surface being radial to the particle beam is movable and the aperture surfaces at an invariable angle to Take the beam axis.

Eine Fläche ist einfach herstellbar. Eine Anordnung dieser Fläche im spitzen Winkel zur Strahlrichtung sorgt dafür, daß die Energie eines auftreffenden Strahles auf einer größeren Fläche verteilt wird, so daß die thermische Belastung des entsprechenden Bereiches entsprechend geringer ist. Dabei kann die Fläche auch so ausgebildet sein, daß der Winkel zur Strahlmitte spitzer ist als außen. Auf jeden Fall aber ist der jeweils vorhandene Winkel konstant, wodurch die Beanspruchung anderer Teile der Einrichtung als der hierfür gedachten Blendenflächen verhindert wird. Der Werkstoff der die Blendenflächen bildenden Platten sorgt außerdem dafür, daß eine Verunreinigung des Teilchenstrahls minimiert wird. Die radiale Beweglichkeit jeder Blendenfläche erlaubt eine mindestens partielle Ausblendung des Teilchenstrahls in einem gewünschten Querschnittsbe reich des Teilchenstrahls.A surface is easy to manufacture. A This surface is arranged at an acute angle to the beam direction for the energy of an incident beam on a larger one Area is distributed so that the thermal load of the corresponding Area is correspondingly smaller. The surface can also do so be designed so that the angle to the center of the beam is more acute than outside. In any case, however, the existing angle is constant, which means that the use of other parts of the facility than that imaginary aperture surfaces is prevented. The material of the Panels forming aperture surfaces also ensure that a Contamination of the particle beam is minimized. The radial The mobility of each aperture surface allows an at least partial Suppression of the particle beam in a desired cross-sectional area range of the particle beam.

Nicht nur die günstige Anordnung der Blendenflächen sondern auch die die Blendenflächen bildenden Platten und deren Werkstoff erlauben eine Steigerung der thermischen Belastung gegenüber den herkömmlichen, im Stand der Technik eingesetzten Werkstoffen, und es haben diese Platten den nicht unbeachtlichen Vorteil, daß sie vom Teilchenstrahl nicht aktiviert werden können, also keine Strahlung abgeben, die Meßergeb nisse verfälschen könnten. Natürlich können die Trägerplatten für die Graphitplatten ihrerseits ebenfalls Graphitplatten sein. Es sind als Trägerplatten jedoch auch andere Materialien möglich.Not only the favorable arrangement of the panel surfaces but also the the panels forming the panel surfaces and their material allow one Increase in thermal stress compared to conventional, in State of the art materials used, and it has these panels the not inconsiderable advantage that they are not from the particle beam can be activated, i.e. do not emit any radiation, the measurement results could falsify nisse. Of course, the carrier plates for the Graphite plates can also be graphite plates. There are as Carrier plates, however, other materials are also possible.

Nach einer Ausgestaltung der Erfindung ist vorgeschlagen, daß zwei Blendenflächen in sich gegenüberliegender Anordnung ein Blenden flächenpaar bilden, deren Blendenflächen in Strahlrichtung gegeneinan der versetzt angeordnet sind, so daß die hintere Begrenzungslinie einer Blendenfläche als Körperkante gegen die andere Fläche anlegbar oder angelegt ist. Diese relative Anordnung der Blendenflächen zueinander ermöglicht ein vollständiges Stoppen des Teilchenstrahls und dies, obgleich zur Beeinflussung des Teilchenstrahls nur ebene Flächen verwendet werden. Damit wird es auch möglich, mit den ebenen Flächen zum Ausblenden des Teilchenstrahls den Teilchenstrahl gleichzeitig vollständig zu stoppen und damit wie eine bekannte Faradaytasse zu wirken. Es tritt jedoch an keiner Stelle die bei der Faradaytasse befürchtete thermische Überlagerung auf, weil im gesamten Abschirmbe reich Flächen, die senkrecht oder angenähert senkrecht zum Teilchen strahl verlaufen, nicht vorhanden sind.According to one embodiment of the invention it is proposed that two Aperture surfaces in an opposing arrangement Form a pair of surfaces whose diaphragm surfaces face each other in the direction of the beam which are staggered so that the rear boundary line one Faceplate can be placed as the body edge against the other surface or is created. This relative arrangement of the diaphragm surfaces to each other allows the particle beam to stop completely, although only flat surfaces to influence the particle beam be used. This also makes it possible with the flat surfaces to hide the particle beam simultaneously the particle beam stop completely and thus like a well-known Faraday cup too Act. However, the Faraday cup does not occur anywhere feared thermal overlap because of the entire shielding rich areas that are perpendicular or approximately perpendicular to the particle beam run, are not present.

Nach einer anderen Ausgestaltung der Erfindung ist noch vorgesehen, daß jede Blendenfläche unabhängig von jeder anderen oder alternativ hierzu zusätzlich gemeinsam mit jeder anderen Blendenfläche radial zum Teilchenstrahl beweglich ist. Hierdurch gelingt es, Anordnungen zu schaffen, die es ermöglichen, den Teilchenstrahl an beliebiger Stelle seines Querschnitts in beliebiger Größenordnung auszublenden oder vollständig zu stoppen. Werden alle Bewegungsmöglichkeiten gleichzeitig an einer Einrichtung realisiert, so können die bisher üblichen unterschiedlichen Einrichtungen einerseits für eine partielle Ausblendung und andererseits für eine voll ständiges Stoppen des Teilchenstrahls vermieden werden. Es gelingt vielmehr sowohl die partielle Ausblendung in beliebigen Querschnittsbereichen als auch das vollständige Stoppen des Teilchenstrahls mit der gleichen Einrichtung zu bewirken, ohne daß dabei Verunreinigungen des Teilchenstrahls oder thermische Überlastungen der Blendeneinrichtung befürchtet werden müßten.According to another embodiment of the invention is still provided that each aperture area is independent of each other or alternatively, together with everyone else Aperture surface is movable radially to the particle beam. Hereby succeeds in creating arrangements that allow the Particle beam at any point in its cross section in any Hide order of magnitude or stop completely. Will all movement options at the same time at one facility realized, so the previously usual different facilities on the one hand for a partial blanking and on the other hand for a full constant stopping of the particle beam avoided will. Rather, it succeeds in both the partial Hiding in any cross-sectional areas as also completely stopping the particle beam with to effect the same device without doing so Particle beam contamination or thermal Overloads of the aperture device are feared ought to.

Nach einer anderen Ausgestaltung ist vorgesehen, daß Blendenflächen eine Oberflächenprofilierung aufweisen. Durch eine solche Oberflächenprofilierung der mit dem Teilchenstrahl in Berührung kommenden Blendenflächen wird die Oberfläche dieser Blendenflächen vergrößert, wodurch eine weitere Verbesserung der Energiever teilung auf der Blendenfläche erreicht wird.According to another embodiment, it is provided that Aperture surfaces have a surface profile. Through such a surface profile with the Particle beam coming into contact with aperture surfaces the surface of these aperture areas is enlarged, thereby further improving energy consumption division is achieved on the aperture surface.

Eine ergänzende Ausgestaltung sieht vor, daß als Oberflächenprofilierung mindestens eine Folge von parallelen, in Richtung des Strahlverlaufs ausge richteten Vertiefungen vorgesehen ist. Diese etwa wellenförmige Oberfläche, deren Wellentäler und Wellenkämme in Richtung des Teilchenstrahls verlaufen, stellen eine besonders günstige Oberflächenprofilie rung dar, weil sich so die gesamte zur Verfügung stehende Oberfläche dem Teilchenstrahl anbietet und nirgendwo Strahlschatten auftritt.A supplementary embodiment provides that as Surface profiling at least one sequence of parallel, out in the direction of the beam path directed wells is provided. This about undulating surface, its troughs and Wave crests run in the direction of the particle beam, represent a particularly favorable surface profile because the whole is available offers standing surface to the particle beam and nowhere beam shadow occurs.

Eine weitere Ausgestaltung sieht vor, daß mindestens zwei Blendenflächen in starrer Anordnung zueinander vorgesehen sind, die, auf einem gemeinsamen Träger angeordnet, mit diesem radial zum Teilchenstrahl beweglich sind. Dies ist eine besonders einfache Bauform als Ersatz für die bisher bekannte Faraday tasse, mit der es ebenfalls gelingt, die Nachteile der Faradaytasse hinsichtlich der thermischen Belastbarkeit zu beseitigen.A further embodiment provides that at least two screen surfaces in a rigid arrangement to each other are provided, on a common support arranged with this radial to the particle beam are mobile. This is a particularly simple one Design as a replacement for the previously known Faraday cup, which also succeeds, the disadvantages of the Faraday cup in terms of thermal resilience.

Schließlich ist nach einer Ausgestaltung noch vorgesehen, daß mindestens zwei Blendenflächen vorgesehen sind, die miteinander einen spitzen Winkel einschließen. Diese Anordnung ist wegen ihrer flachen Neigung zum Teilchenstrahl besonders gut geeignet, die thermische Energie des Teilchenstrahls zu verteilen.Finally, according to one embodiment, it is provided that at least Two diaphragm surfaces are provided, which point to one another Include angles. This arrangement is because of its flat slope particularly well suited to the particle beam, the thermal energy of the To distribute the particle beam.

Die Erfindung soll nun anhand der Zeichnungen, die Aus führungsbeispiele zeigen, näher erläutert werden. Es zeigtThe invention is now based on the drawings show examples of management, are explained in more detail. It shows

Fig. 1 Einrichtung mit einzelbeweglichen Flächen im Schnitt, Fig. 1 device with single movable surfaces in section,

Fig. 2 Strahlstopper im Teilschnitt in Rückzugsstellung. Fig. 2 beam stop in partial section in the retracted position.

Fig. 1 zeigt im Schnitt Blendenflächen 3 und 4, die bei spielsweise rechteckige oder quadratische Form haben können. Im Ausführungsbeispiel werden diese Blendenflächen 3 und 4 gebildet von einer Seite von Graphitplatten 13 und 14, die ihrerseits auf Trägerplatten 17 und 18 angeordnet sind. Die Trägerplatten 17 und 18 können ebenfalls aus Graphit sein. Sie können jedoch auch aus metallischen Werkstoffen hergestellt werden. Mindestens die Trägerplatten 17 und 18 sind mit einem inneren Kühlsystem versehen, wobei Kühl mittel durch die entsprechenden Anschlußleitungen 28 und 29 zu- und abgeführt wird. Fig. 1 shows in section aperture surfaces 3 and 4 , which may have a rectangular or square shape for example. In the exemplary embodiment, these diaphragm surfaces 3 and 4 are formed by one side of graphite plates 13 and 14 , which in turn are arranged on carrier plates 17 and 18 . The carrier plates 17 and 18 can also be made of graphite. However, they can also be made from metallic materials. At least the carrier plates 17 and 18 are provided with an internal cooling system, cooling medium being supplied and discharged through the corresponding connecting lines 28 and 29 .

Die Trägerplatten 17 und 18 sind über Anschlußteile 31 und 30 mittels der Schrauben 34 und 35 an Trägern 32 und 33 befestigt. Mittels der Träger 32 und 33 sind die Träger platten 17 und 18 und damit die Blendenflächen 3 und 4 unabhängig voneinander radial zum Teilchenstrahl 1 verfahr bar, so daß beispielsweise die Trägerplatte 18 auch die Position 36 einnehmen kann.The support plates 17 and 18 are attached to supports 32 and 33 by means of screws 34 and 35 via connection parts 31 and 30 . By means of the carrier 32 and 33 , the carrier plates 17 and 18 and thus the diaphragm surfaces 3 and 4 independently of one another radially to the particle beam 1 movable bar, so that for example the carrier plate 18 can also take the position 36 .

Die Trägerplatte 17 und damit die Blendenfläche 4 ist bei Bedarf gleichsinnig oder entgegengesetzt zur Trägerplatte 18 verfahrbar, also unabhängig von dieser beweglich. Es ist jedoch auch möglich beide Trägerplatten 17 und 18 in einer bestimmten vorgegebenen Position zueinander gemeinsam und synchron zu bewegen.The support plate 17 and thus the diaphragm surface 4 can, if necessary, be moved in the same direction or opposite to the support plate 18 , that is to say independently of the latter. However, it is also possible to move both carrier plates 17 and 18 together and synchronously in a certain predetermined position.

In der beschriebenen Anordnung bilden die Blendenflächen 3 bzw. 4 mit der Strahlrichtung 7 jeweils einen spitzen Winkel 10 bzw. 9. Hierbei ist im Ausführungsbeispiel die Anordnung so, daß auch beide Blendenflächen 3 und 4 zusammen einen spitzen Winkel 26 einschließen.In the arrangement described, the diaphragm surfaces 3 and 4 each form an acute angle 10 and 9 with the beam direction 7 . Here, in the exemplary embodiment, the arrangement is such that both aperture surfaces 3 and 4 together form an acute angle 26 .

Die Blendenfläche 3 ist im Ausführungsbeispiel gegenüber der Blendenfläche 4 in Strahlrichtung 7 versetzt, so daß die hintere Begrenzungslinie 21 der im Ausführungsbeispiel rechteckigen Blendenfläche 3 bei radial zur Strahlmitte zusammengefahrenen Blendenflächen 3 und 4 die Winkelhal bierende 23 zwischen den beiden Blendenflächen 3 und 4 überschreitet. Hierdurch ist es möglich, den Teilchenstrahl 1 komplett zu stoppen, ohne daß an irgend einer Stelle Blendenflächen vorhanden wären, die angenähert oder exakt senkrecht zum Teilchenstrahl 1 stünden. Es wird also im gesamten Bereich eine günstige Verteilung der Energie des Teilchenstrahls erreicht.The diaphragm surface 3 is offset in the exemplary embodiment in relation to the diaphragm surface 4 in the beam direction 7 , so that the rear boundary line 21 of the rectangular diaphragm surface 3 in the exemplary embodiment when the diaphragm surfaces 3 and 4 are moved radially to the center of the beam exceeds the angle halves 23 between the two diaphragm surfaces 3 and 4 . This makes it possible to completely stop the particle beam 1 without there being any aperture surfaces at any point which are approximately or exactly perpendicular to the particle beam 1 . A favorable distribution of the energy of the particle beam is thus achieved in the entire area.

Soll der Teilchenstrahl 1 in einer oder mehreren anderen Ebenen ausgeblendet oder gestoppt werden, so kann mindestens eine weitere Anordnung der beschriebenen Art beispielsweise um 90° zur beschriebenen Anordnung verdreht, in der Be schleunigeranlage vorgesehen sein. Dies wird angedeutet durch eine um 90° versetzt angeordnete und nur schematisch wiedergegebene Blende 37.If the particle beam 1 is to be hidden or stopped in one or more other planes, then at least one further arrangement of the type described, for example rotated by 90 ° to the arrangement described, can be provided in the accelerator system. This is indicated by an aperture 37 , which is offset by 90 ° and is only shown schematically.

Einrichtungen zum Verfahren der Blendenflächen sind im Stand der Technik bekannt und sind daher nicht näher be schrieben.Devices for moving the aperture surfaces are in State of the art and are therefore not be wrote.

Fig. 2 zeigt eine Einrichtung, bei der die Blendenflächen 5 und 6 in einem gemeinsamen Träger 25 starr zueinander angeordnet sind, wobei jede der Blendenflächen 5 und 6 zur Winkelhalbierenden 24 einen spitzen Winkel bildet, wobei ebenfalls der Winkel den die Blendenflächen 5 und 6 gemeinsam einschließen, ein spitzer Winkel 27 ist. Der spitze Winkel 27 bzw. die einzelnen spitzen Winkel 11 und 12 jeder Blendenfläche 5 und 6 mit der Winkelhalbierenden 24 ist zur Strahlrichtung 8 des Teilchenstrahles 2 hin offen. Fig. 2 shows a device in which the diaphragm surfaces 5 and 6 are arranged rigidly to one another in a common support 25 , each of the diaphragm surfaces 5 and 6 forming an acute angle to the bisector 24 , the angle also common to the diaphragm surfaces 5 and 6 include, an acute angle is 27 . The acute angle 27 or the individual acute angles 11 and 12 of each aperture surface 5 and 6 with the bisector 24 is open to the beam direction 8 of the particle beam 2 .

Auch hier werden vorteilhafterweise die Blendenflächen 5 und 6 von den entsprechenden Oberflächen von Graphit platten 15 bzw. 16 gebildet, die ihrerseits auf einer Trä gerplatte 20 bzw. 19 angeordnet sind. Die mit dem gemein samen Träger 25 fest verbundenen Trägerplatten 19 und 20 weisen ein inneres Kühlsystem zur Kühlung der Graphitplat ten 15 bzw. 16 auf, welches über die Anschlußleitungen 38 und 39 mit geeignetem Kühlmittel versorgt wird.Again, the diaphragm surfaces 5 and 6 are advantageously formed from the corresponding surfaces of graphite plates 15 and 16 , which in turn are arranged on a carrier plate 20 and 19 , respectively. The fixed to the common carrier 25 carrier plates 19 and 20 have an internal cooling system for cooling the Graphitplat th 15 and 16 , which is supplied via the connecting lines 38 and 39 with a suitable coolant.

Mindestens die Graphitplatten 15 und 16, im Ausführungs beispiel jedoch auch deren Trägerplatten 19 und 20 sind unterschiedlich lang, so daß das hintere Ende im Bereich der Spitze des Winkels 27 übereinanderlappt, so daß die hintere Begrenzungslinie 22 des Rechtecks der Blendenfläche 5 über die Winkelhalbierende 24 hinausragt. Auf diese Art und Weise wird ein sicheres Stoppen des Teilchenstrahls 2 gewährleistet ohne daß an irgend einer Stelle dem Teil chenstrahl 2 eine zu ihm senkrechte oder angenähert senk rechte Fläche geboten würde. Die Einrichtung nach Fig. 2 weist somit ebenfalls die Vorteile der bekannten Faraday tasse auf, vermeidet jedoch deren Nachteile. Damit der Teilchenstrahl 2 gestoppt werden kann, muß der gemeinsame Träger 25 mit den eben beschriebenen Einrichtungen um den Bereich 40 radial verfahren werden und kann dann in dieser neuen Position den Teilchenstrahl 2 komplett aufnehmen und damit stoppen. Bei einer solchen Anordnung ist der Seitenbereich nicht gefährdet, so daß hier einfache Abdeck platten 41 genügen.At least the graphite plates 15 and 16 , but in the embodiment, for example, their carrier plates 19 and 20 are of different lengths, so that the rear end overlaps in the area of the tip of the angle 27 , so that the rear boundary line 22 of the rectangle of the diaphragm surface 5 over the bisector 24 protrudes. In this way, a safe stopping of the particle beam 2 is ensured without the part beam 2 being offered a vertical or approximately perpendicular surface to it at any point. The apparatus of Fig. 2 thus also has the advantages of the known Faraday cup on, but avoids their disadvantages. So that the particle beam 2 can be stopped, the common carrier 25 with the devices just described must be moved radially around the region 40 and can then completely absorb the particle beam 2 in this new position and thus stop it. In such an arrangement, the side area is not endangered, so that simple cover plates 41 are sufficient.

Antrieb, übriger Aufbau und Einbaubereich einer Einrichtung nach Fig. 2 ist im übrigen so wie zu den im Einsatz be findlichen Faradaytassen bereits bekannt, so daß hier auf eine nähere Beschreibung verzichtet werden kann.Drive, other structure and installation area of a device according to FIG. 2 is otherwise known, as is the case with the Faraday cups that are in use, so that a detailed description can be dispensed with here.

Claims

1. Device for masking out or stopping a particle beam with at least two opposing diaphragm surfaces for at least partially shielding the particle beam, each diaphragm surface ( 3, 4; 5, 6 ) being formed from a surface which is pointed towards the beam axis ( 7, 8 ) Angle ( 9, 10, 11, 12 ) is arranged, characterized in that the diaphragm surfaces ( 3, 4; 5, 6 ) of graphite plates ( 13, 14, 15, 16 ) or predominantly graphite-containing plates, which in turn each are connected to a carrier plate ( 17, 18, 19, 20 ), each diaphragm surface ( 3, 4; 5, 6 ) being movable radially to the particle beam ( 1, 2 ), and the diaphragm surfaces ( 3, 4; 5, 6 ) take an invariable angle ( 9, 10, 11, 12 ) to the beam axis.

2. Device according to claim 1, characterized in that the two diaphragm surfaces ( 3, 4; 5, 6 ) form an opposing arrangement of a pair of diaphragm surfaces ( 3, 4; 5, 6 ), the diaphragm surfaces ( 3, 4; 5, 6 ) in the beam direction ( 7, 8 ) are arranged offset from each other, so that the rear boundary line ( 21 ) of an aperture surface ( 4 ) can be or is applied as a body edge against the other surface ( 3, 5 ).

3. Device according to one of claims 1 to 2, characterized in that each aperture surface ( 3, 4; 5, 6 ) independently of each other ( 3, 4 ) or alternatively in addition together with every other aperture surface ( 3, 4; 5, 6 ) is movable radially to the particle beam ( 1, 2 ).

4. Device according to one of claims 1 to 3, characterized in that screen surfaces ( 3, 4; 5, 6 ) have a surface profile.

5. Device according to claim 4, characterized in that as Surface profiling at least one sequence of parallel, in Indentations aligned in the direction of the beam path are provided is.

6. Device according to at least one of claims 1 to 5, characterized in that at least two diaphragm surfaces ( 5, 6 ) are provided in a rigid arrangement to each other, which are arranged on a common carrier ( 25 ), with this radially to the particle beam ( 2 ) movable are.

7. Device according to at least one of claims 1 to 6, characterized in that at least two diaphragm surfaces ( 5, 6; 3, 4 ) are provided which together form an acute angle ( 26; 27 ).