DE3209725A1 - Vorrichtung zur verhinderung des verwerfens lithographischer druckplatten - Google Patents

Description

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Vorrichtung zur Verhinderung des Verwerfens lithographischer Druckplatten

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf

lithographische Druckplatten. Insbesondere betrifft sie eine verbesserte Vorrichtung zur Verhinderung des Verwerfens solcher Platten bei deren Nachhärtung unter dem kur2zeitigen Einfluss energiereicher Strahlung.

Druckplatten zeichnen sich

dadurch aus, dass sie druckfähige Flächen d.h. Bildflächen, und nichtdruckende Flächen, d.h. bildfreie Flächen in der gleichen Ebene aufweisen, wobei die Bildflächen oleophil und hydrophob und die bildfreien Flächen hydrophil und oleophob sind. Beim Drucken mit solchen lithographischen Platten haftet eine ölige Drucktinte an den öildfiäehen, jedooh nieht an den bildfreien Flächen an. Die Drucktinte kann nun grundsätzlich von der Druckplatte unmittelbar auf eine Aufnahmefläche übertragen werden, beispielsweise in einer Druckpresse für Direktdruck; üblicherweise

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wird nun die Drucktinte zunächst auf einen Uebertragungszylinder überführt, mit dem dann die Aufnahmefläche bedruckt wird, und das Ganze nennt man, wie bekannt, Offsetdruck.

Lithographische Druckplatten sind seit vielen Jahren bekannt und in Gebrauch; die sogenannte Photolithographie ist in letzter Zeit eine weitverbreitete Arbeitsweise geworden, welche für viele Druckvorgänge den bekannten Hochdruck ersetzt, bei welchem man eine Druckplatte herstellen muss, in der die druckfähigen Typflächan sich über die Fläche der Platte erheben. Die Möglichkeit, eine lithographische Platte photographisch herstellen zu können, ohne dass es erforderlich ist, auf mühselige Weise durch Zusammenstellung von Lettern oder mittels eines heiklen Präzisionsverfahrens erhabene, dauerhafte, wohldefinierte Zeichen in einer relativ dicken Plattenbeschichtung herzustellen, hat zur beträchtlichen Ausdehnung des Druckereigewerbes geführt, welches auf Lithographie und insbesondere auf Offset beruht, einschliessliche der Schaffung vieler Arbeitsplätze. Mit dem Aufkommen von Textverarbeitungsgeräten mit Randausgleich, von Hochgeschwindigkeits-Photographie und verbesserten lithographischen Platten hat sich der Offsetdruck auch in der Herstellung von Zeitungen, Büchern usw. durchgesetzt, bei denen grosse Auflagen hergestellt werden.

Bei der Photolithographie wird eine Platte, die im allgemeinen aus Metall besteht, v.'obei aber auch Kunststoffplatten oder Spezialpapier in begrenzten Sonderfällen verwendet werden können, mit einem dünnen, haftenden Ueberzug aus einem lichtempfindlichen Material versehen. Die Metallplatte besteht normalerweise aus

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Aluminium oder Zink oder einer Kombination von Metallschichten wie elektrolytisch abgeschiedenem Chrom auf Kupfer, wobei noch Verstärkungen mit anderen Metallen wie Stahl oder Zink vorgesehen werden können, um Festigkeit und Dimensionsstabilitat zu verbessern. Die Ueberzüge dieser Platten sind lichtempfindlich in dem Sinne, dass unter dem Einfluss einer Strahlung, beispielsweise. Licht, durch die transparenten Flächenteile eines photographischen Negativs der Ueberzug unlöslich wird und es möglich ist, die nicht bestrahlten Flächenteile mit einem geeigneten Lösungsmittel zu entfernen, wobei die freie Plattenoberfläche zutage tritt; Die so unlöslich gemachten Flächenteile werden zu den Bildflächen, während die freigelegten Flächenbereiche die bildfreien Flächen darstellen.

Die so erzeugten Platten besitzen im allgemeinen noch einen Restanteil an Strahlungsempfindlichkeit wegen der angewendeten relativ niedrigen Strahlungsdosen bei der bildweisen Belichtung. Die dadurch auftretenden Nachteile von Platten, die nach dieser Arbeitsweise erhalten werden, sind eine niedrige Lebensdauer beim Drucken und eine unzureichende Dauerhaftigkeit des Bildes.

Man hat bereits versucht, die genannten Schwierigkeiten dadurch zu beseitigen, dass man die bildweise belichteten und entwickelten Platten in die Vorrichtung zwecks zusätzlicher Belichtung während längerer Zeiten zurückführt. Dieses Verfahren hat unter anderem den Nachteil, dass das teure, spezielle Bildherstellungsgerät unnötigerweise durch eine andere Arbeit blockiert wird.

In der unveröffentlichten US-Patentanmeldung

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Nr. 178 657 vom 15.8.1980 ist ein Verfahren zur Ueberwindung der genannten Nachteile beschrieben, bei dem man die entwickelte Platte kurzzeitig einer energiereichen Strahlung aussetzt. Während einer solchen Bestrahlung steigt jedoch die Temperatur der Platte stark an, und es tritt ein Verziehen bzw. Verwerfen ein, wodurch die Platte sich in der-Vorrichtung verklemmen kann, ihre Bewegung unter der Strahlungsquelle nicht mehr fortsetzt und gegebenenfalls die Strahlungsanordnung berühren kann, wodurch letztere oder die Platte beschädigt werden können.

In der US-PS 3 930 318 ist eine UV-Nachhärtungsmaschine beschrieben, bei der die durch Strahlungshitze erzeugte Verwerfung der Platte dadurch in Grenzen gghälfegfl wiFi, 䧧§ §ir§ kmähl ¥βη §FSfct§n wi^mhm ist, die in der Maschine ausgespannt sind und unter Spannung stehen. Die Drähte befinden sich im Raum zwischen der UV-Quelle und dar Platte, und Bereiche der präsensibilisierten Platten unmittelbar unter den Drähten werden der Strahlung nicht ausgesetzt und demgemäss auch nicht nachgehärtet, wobei Fehlstellen in den Platten entstehen, die die obengenannten Nachteile aufweisen.

Die Erfindung hat sich demgemäss zum Ziel gesetzt, das. Nachhärten von lithographischen Platten durch Bestrahlung zu ermöglichen, ohne dass sich die Platte bei ihrer Erwärmung verwirft.

Ein weiteres Ziel der Erfindung ist es,

eine solche härtende Nachbehandlung ohne Blockierung der Strahlung auf wesentlichen Bereichen der Platte zu ermöglichen ,insbesondere wenn man die Strahlung über den

Vorschubweg der Platte durch das Gehäuse der Vorrichtung misst.

Ausserdem soll die zu schaffende Vorrichtung so beschaffen sein, dass keine Strahlung aus dem Gehäuse austreten kann.

Die vorliegende Erfindung löst nun die vorstehend geschilderten Aufgaben mit Mitteln, die in den Patentansprüchen definiert sind. Die Vorrichtung ermöglicht es, übermässiges, unerwünschtes Verwerfen zu vermeiden, ohne dass beliebige Bereiche der Platte gegen die Strahlung vollständig abgeschirmt werden.

Die erfindungsgemässe Vorrichtung besitzt ein äusseres Gehäuse mit einer Zutrittsöffnung an einer Seite und einer Austrittsöffnung an der anderen Seite, damit die lithographische Platte durch das Gehäuse wandern kann. Das Gehäuse ist auf übliche Weise geschlossen, um den Austritt von UV-Strahlung zu verhindern. Das äussere Gehäuse ist mit einer Bestrahlungsanordnung versehen, und diese weist ein zweites Gehäuse, eine längliche UV-Strahlungsquelle oberhalb einer Oberfläche der Platte auf, welche durch das Gehäuse wandert, und erstreckt sich in Querrichtung, d.h. senkrecht zur Bewegungsrichtung der Platte durch das Gehäuse. Hinter der UV-Strahlungsquelle ist ein Strahlungsreflektor derart angeordnet, dass Strahlung, die von der Platte reflektiert wird, wieder auf die Platte gerichtet wird. Andere Bauteile im äusseren Gehäuse sind geeignete Mittel zur Bewegung der lithographischen Platte durch das Gehäuse vom Eingang zum Ausgang. Die Strahlungsquelle wird durch an sich bekannte Kühlmittel gekühlt. Schliesslich sind erfindungsgemäss obere verwerfungs-

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verhindernde Mittel oberhalb der oberen Fläche der Platte und im Räume zwischen der Platte und der UV-Strahlungsquelle zur Verhinderung der Verwerfung der Platte im Verlaufe ihrer Bestrahlung angebracht, und untere verwerfungsverhindernde Mittel sind unterhalb der unteren Seite der Platte vorhanden, die ebenfalls zur Verhinderung des Verwerfens der Platte dienen.

Das äussere Gehäuse kann auf an sich bekannte Weise ausgestattet sein und ist gegen UV-Strahlung undurchlässig. Beispiele solcher Gehäuse sind in der US-PS 3 829 982, 3 930 318 und 4 220 865 beschrieben. Das Gehäuse weist an sich bekannte Eintritts- und Austrittsöffnungen für die Platte auf. Beispiele an sich bekannter Oeffnungen sind die trichterartigen Oeffnungen gemäss US-PS 3 930 318, die hülsenartigen Oeffnungen gemäss US-PS 4. 220 865, einfache seitliche Längsschlitze in der Gehäusewandung usw. Da aus dem Gehäuse austretende UV-Strahlung in der Nähe befindliche Personen verletzen kann, sollte ein solcher Strahlungsaustritt verhindert werden, beispielsweise durch Schürzen, welche die Durchtrittsöffnungen der Platte bedecken, etwa gemäss US-PS 4 220 865, durch Schikanen oder, wie unten näher beschrieben wird, durch die Antriebsmittel selbst, die die lithographische Platte einziehen und durch das Gehäuse fördern. Diese Mittel können auf an sich bekannte Weise ausgeführt sein und können Transportbänder sein, beispielsweise mit Mitnehmern versehene Ketten, siehe US-PS 3 930 318, oder Walzenpaare im Gehäuse, welche die Platte im Walzenspalt erfassen und sie weiterbefördern.

Schikanen und Schürzen, welche zur Verhinderung des Austritts von Strahlung aus dem Gehäuse

verwendet werden können, haben jedoch den Nachteil, dass sie in Berührung mit der lithographischen Platte bei ihrer Bewegung durch das Gehäuse treten und die Beschichtungen zerkratzen oder anderweitig beschädigen können. Dadurch wird die Platte natürlich unbrauchbar. Die vorliegende Erfindung betrifft demgemäss weiterhin das Merkmal, dass die Antriebsmittel mit Organen zur Verhinderung von Strahlenaustritt versehen sind.

Obgleich sich die lithographische Platte

durch die Vorrichtung mit Hilfe an sich bekannter Mittel und eventuell sogar von Hand fördern lässt, ist es erwünscht, sie auf eine solche Weise zu bewegen, dass einerseits die Bestrahlungsdauer und die damit verbundene Wärmeentwicklung vermindert wird und gleichzeitig der Transport der Platte gleichmässig erfolgt. Daher ist es bevorzugt,die lithographische Platte mechanisch zu bewegen, beispielsweise durch ein motorbetriebenes Transportband. Nach einer bevorgHgfeen AögfShFBPpfon« te s?rf4-ntog fe§§t§h§n üiß Transportmittel aus mindestens einem und vorzugsweise zwei Paaren zusammenwirkender, vertikal übereinanderstehende , im wesentlichen horizontal gerichteter Walzen, und jedes Walzenpaar definiert einen entsprechenden horizontalen Walzenspalt. Die Walzenpaare arbeiten zur Bewegung der Platte durch das Gehäuse zusammen. Mindestens eine der Walzen, vorzugsweise die obere Walze, jedes Paares ist vertikal beweglich, um den Durchgang der Platte durch die beiden Walzen zu ermö0Hchf?n« Die Walzen iedes Paares sind gegeneinander vorgespannt und üben daher auf die Platte, die sich zwischen ihnen bewegt, einen Druck aus. Ein Walzenpaar befindet sich nahe der Eingangsöffnung der Platte in das

Gehäuse, und das andere Walzenpaar ist in der Nähe der Austrittsöffnung angeordnet. Mindestens eine Walze und vorzugsweise mindestens eine Walze jedes Walzenpaares ist motorisch angetrieben und dreht sich vorzugsweise mit konstanter Geschwindigkeit, so dass sich die Platte auch mit konstanter Geschwindigkeit durch das Gehäuse bewegt. Die damit zusammenwirkenden nicht angetriebenen Walzen jedes Walzenpaares werden durch die Bewegung der Platte in Drehung versetzt. Die Walzen, die mit der anderen Walze oder mit der durch den Walzenspalt laufenden Platte zusammenwirken, schirmen die UV-Strahlung gegen den Raum hinter den Walzen ab, so dass die Strahlung nicht durch die Eintrittsöffnung oder die Austrittsöffnung austreten kann. Die Walzen können eine an sich bekannte Ausführung haben und bestehen vorzugsweise aus Gummi oder Metall. Insbesondere ist vorgesehen, dass grössere Walzen, d.h. solche mit einer axialen Länge von mehr als etwa 80 cm,aus Metall sind.

Die Bestrahlungsvorrichtung kann einschliesslich der UV-Strahlungsquelle auf an sich bekannte Weise ausgeführt sein, und sie kann insbesondere eine rohrförmige UV-Strahlungsquelle besitzen, die sich in Querrichtung des Gehäuses und damit quer über den Vorschubweg der Platte erstreckt, so dass die gesamte Breite der Platte bestrahlt wird. Hinter der UV-Quelle befindet sich eine konkav gewölbte reflektierende Fläche, welche nicht auf die Platte gerichtete Strahlung dorthin richtet. Die Mittel zum Kühlen der Strahlungsquelle und anderer Vorrichtungsteile sind beispielsweise Anordnungen zur Erzeugung eines Luftstromes rund um die Strahlungsquelle und durch die Vorrichtung auf an sich bekannte Weise, wie in den obigen Patentschriften bereits angedeutet ist, oder es können Kühlleitungen mit Kühlflüssigkeit vor-

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gesehen sein.

Da die Walzen, welche die Platte fördern, durch direkte Bestrahlung beschädigt werden könnten, und um eine weitere Sicherung gegen Austritt von Strahlung aus dem Gehäuse einzuführen, können Schikanen zwischen der Strahlungsquelle und mindestens einige der Walze vorgesehen sein, um diese gegen direkte Beeinflussung abzuschirmen.

Die oberen Mittel zur Verhinderung einer durch Hitze erzeugten Verwerfung der lithographischen Platte befinden sich zwischen der UV-Strahlungsquelle und der oberen Fläche der zu bestrahlenden Platte. Die oberen verwerfungsverhindernden Mittel sind mit Hilfe von Trägern befestigt. Ein Beispiel solcher Träger sind Paare von Stäben, die sich oberhalb der Platte quer durch das Gehäuse erstrecken, aber nicht im Strahlengang der UV-Strahlen in Richtung der Platte liegen. Einer dieser Stäbe befindet sich näher an der Eintrittsöffnung im Gehäuse, und der andere Stab ist näher an der Austrittsöffnung angeordnet. Die Stäbe sind normalerweise horizontal eingebaut und vorzugsweise senkrecht zur Bewegungsrichtung der Platte durch das Gehäuse angebracht. Es sind Mittel vorgesehen, mit denen sich die Tragstäbe vertikal einstellen lassen, um den Abstand zwischen der unteren Fläche der oberen verwerfungsverhindernden Mittel und der oberen Plattenfläche zu erhöhen oder vermindern.

Am Träger für die oberen verwerfungsverhindernden Mittel befindet sich eine Anzahl länglicher verwerf ungsverhindernde Mittel in Form von Stäben, die sich im wesentlichen in Bewegungsrichtung der Platte durch das

Gehäuse erstrecken und im Räume zwischen der UV-Quelle und der zu bestrahlenden Platte liegen» Bei der bevorzugten Ausführungsform sind diese verwerfungsverhindernden Mittel an den Tragstäben angebracht und erstrecken sich zwischen ihnen, und sie befinden sich vorzugsweise an der Unterseite dieser Stäbe, damit sie, wenn gewünscht, sehr nahe an die Oberfläche der Platte gebracht werden können. Die verwerfungsverhindernden Stäbe erstrecken sich nicht parallel zur Bewegungsrichtung der Platte durch das Gehäuse, d.h. sie schneiden

die Tragstäbe unter Winkeln mit der Bewegungsrichtung der Platte durch das Gehäuse. Die genauen Winkel, welche die verwerfungsverhindernden Stäbe mit der Bewegungsrichtung der Platte durch das Gehäuse bilden, sind nicht kritisch, ausser dass die Orientierung der Stäbe gegen Verwerfung so ist, dass sie schräg zum Transportweg der Platte liegen, damit diese Stäbe gegen Verwerfung die Bestrahlung längsgerichteter Linien und Flächenbereiche auf einer beliebigen Stelle quer über die Platte nicht abschirmen. Nach Massgabe des Vorschubs der Platte verschiebt sich der Flächenbereich, der durch die Stäbe gegen Verwerfung abgeschirmt wird, quer über die Platte, so dass die gesamte Oberfläche der Platte trotz Anwesenheit von Stäben im Strahlengang der UV-Strahlung bestrahlt wird. Vorzugsweise liegen die Stäbe gegen Verwerfung symmetrisch angeordnet über dem Transportweg der Platte durch das Gehäuse, so dass die Anordnung und Orientierung der Hälfte der Stäbe gegen Verwerfung auf einer Seite der Platte die gleiche ist wie die Anordnung und Orientierung der Stäbe auf der anderen Seite der Platte, bloss spiegelbildlich verkehrt. Schliesslich sind die äusseren Enden der Stäbe gegen Verwerfung nach oben abgebogen, damit sich die Enden dieser Stäbe nicht mit der Platte bei ihrem Vorschub verhaken können.

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Die unteren verwerfungsverhindernden Mittel unterhalb der Platte befinden sich normalerweise nicht zwischen einer UV-Strahlungsquelle und einer Oberfläche der lithographischen Platte. Die Betrachtungen bezüglich der Auslegung der oberen verwerfungsverhindernden Mittel brauchen daher bei der Auslegung der unteren verwerfungsverhindernden Mittel nicht berücksichtigt zu werden. Die letzteren können durch ein Förderband dargestellt werden, falls ein solches als Mittel zum Transport der lithographischen Platte verwendet wird, oder sie können Drähte sein, beispielsweise gemäss US-PS 3 930 318, die sich unterhalb des Transportweges der lithographischen Platte befinden, oder sie können durch eine Metallplatte gebildet werden, die sich unterhalb der lithographischen Platte befindet und durchgehend oder perforiert sein kann.

In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung sind die unteren verwerfungsverhindernden Mittel mit den oberen Mitteln identisch. Die unteren Stäbe gegen Verwerfung können in diesem Falle jedoch ohne weiteres parallel zur Bewegungsrichtung der Platte durch das Gehäuse liegen, was bei den oberen Stäben gegen Verwerfung nicht möglich ist. Die unteren verwerfungsverhindernden Mittel sind vorzugsweise vertikal verstellbar, damit man den Abstand zwischen diesen unteren verwerfungsverhindernden Mitteln und den unteren Seite der lithographische Platte einstellen kann.

Schliesslich sind auf übliche Weise Zufuhreinrichtungen, Leitungen oder Saugeinrichtungen für

festigungsmittel für den Motor, der die Transportmittel der Platte antreibt, und für die Unterbringung der ver-

schiedenen Kraftanschlüsse usw.

In der Praxis beträgt die Vorschubgeschwindigkeit der Platten durch das Gerät beispielsweise 0,61 bis 3,05 m/min, vorzugsweise etwa 1,2 m/min; die Strahlungsquelle befindet sich in einem Abstand von etwa 101,6 bis etwa 304,8 mm, vorzugsweise etwa 152,4 mm von der Platte, und die Intensität der Strahlungsquelle beträgt etwa 20 W/cm bis etwa 100 W/cm, vorzugsweise etwa 80 W/cm.

Eine bevorzugte Ausführungsform des Erfindungs gegenstandes ist in der beigelegten Zeichnung dargestellt, worin bedeuten:

Fig. 1 schematisch einen Querschnitt des rückwärtigen Bereiches eines erfindungsgemässen Nachhärtungsgerätes, wobei Gehäuse und Rahmen nicht dargestellt sind;

Fig. 2 einen Längsschnitt gemäss Linie II-II in Fig. 1,

Fig. 3 eine Ansicht in der Ebene gemäss Linie III-III in Fig. 2 und

Fig. 4 eine Trägerplatte für bestimmte Teile des Gerätes.

Die Zeichnung stellt ein Gerät zum Nachhärten einer lithographischen Platte 1 mittels UV dar. Die Vorrichtung ist von einem Gehäuse 2 umgeben, das für UV-Strahlung undurchlässig ist. Dieses Gehäuse besitzt eine Eingangsöffnung 6a für die lithographische

Platte 1 an einem Ende und eine Auslassöffnung 6b am gegenüberliegenden Ende. Die lithographische Platte wandert durch das Gehäuse zwischen den Oeffnungen 6a und 6b.

Das Gehäuse ist hohl und bildet eine Härtungskammer, worin die lithographische Platte 1 bestrahlt wird. Auf beiden Seiten des Transportweges der Platte durch das Gehäuse befinden sich parallel aufrechtstehende Trägerplatten 25, derart* dass die Transportwalzen 7, 8, T, 8¹, welche nachstehend beschrieben werden, zwischen den Platten 25 Platz finden und die lithographische Platte 1 zwischen den Platten 25 hindurchlaufen kann (Fig. 1).

An der Eingangsöffnung 6a des Gehäuses sind zwei parallele, horizontal orientierte Walzen 7,8 vertikal zueinander angeordnet? sie lassen zwischen sich einen horizontalen Walzenspalt frei. Die Walzen sind so angeordnet und orientiert, dass sie auf die Oeffnung 6a ausgerichtet sind, so dass eine Platte, die in diese Oeffnung eingesetzt wird, vom Walzenspalt der Walzen 7,8 erfasst werden kann. Die Walzen 7,8 werden von entsprechenden Achsen getragen, die drehbar in den Oeffnungen 28 (für die obere Walze 7) bzw. 27 (für die untere Walze 8) in der Platte 25 gelagert sind (Fig. 4). Die obere Walze ist vertikal verschiebbar unter dem Einfluss einer lithographischen Platte, die sich zwischen den Walzen und 8 bewegt. Die Oeffnung 28 für die Achse der Walze ist demgemäss ein vertikales Langloch, welches diese Vertikalbewegung gestattet. Es können nicht dargestellte Vorspannmittel vorgesehen sein, um auf die Walze 7 in Richtung der Walze 8 eine Kraft auszuüben. In der Nähe der Austrittsöffnung 6b aus dem Gehäuse 2 befindet sich

eine ähnliche Anordnung von oberen und unteren Walzen 7', 8', deren Achsen in den Oeffnungen 28' und 27' der Platten 25 gelagert sind und die sich auf gleiche Weise wie die Walzen 7 und 8 bewegen können.

Die Anordnung des Walzenpaares 7,8 in der Nähe der Eintrittsöffnung 6a und des Walzenpaares 7', 8' in der Nähe der Austrittsöffnung 6b dient gleichzeitig zur Abschirmung einer direkten UV-Strahlung

hinter die Walzenpaare und aus der Eintritts- bzw.

Austrittsöffnung des Gehäuses.

Nachdem die lithographische Platte durch die Eintrittsöffnung 6a gegangen ist und Von den Walzen 7

und 8 bewegt wird, gelangt sie dann in den Raum zwischen

9 den oberen verwerfungsverhindernden Mitteln 9, die

zwischen der UV-Strahlungsquelle und der Oberseite der Platte angeordnet sind, und den unteren verwerfungsverhindernden Mitteln 10,welche sich unterhalb der Unterseite der Platte befinden. Nach Passieren der Strahlungsquelle 14 wird die Platte dann durch die Walzen 7', 8' abgezogen und verlässt dann das Gehäuse durch die Austrittsöffnung 6b.

Die oberen verwerfungsverhindernden Mittel 9 bestehen aus einer Drahtkonstruktion aus ersten Traversen 11,11", die einander parallel sind und sich quer zum Transportweg der Platte durch das Gehäuse erstrecken und in den oberen Oeffnungen 29,29' der Trägerplatten 25 sitzen. Mehrere Stäbe gegen Verwerfung 13 sind an der Unterseite der Traversen 11 befestigt, und jeder Stab 13 erstreckt sich zwischen den Traversen 11 und 11', wobei die Stäbe 13 noch oberhalb der Oberseite der lithographischen Platte liegen. Die Stäbe

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13 gegen Verwerfung erstrecken sich in Längsrichtung über die Platte, sind jedoch schräg gestellt und bilden mit den Traversen 11 einen Winkel, der von 90° abweicht. Wie schon erklärt wurde, wird dadurch erreicht, dass über die Breite der Platte kein Punkt existiert, der bei seinem Durchgang unter der Strahlungsquelle in Längsrichtung eine verminderte Strahlungslänge oder überhaupt keine Strahlung erhält, weil die Stäbe 13 vorhanden sind, was der Fall wäre, wenn diese Stäbe parallel zur Bewegungsrichtung der Platte angeordnet wären. In Fig. 3 sind nur vier Stäbe 13 gegen Verwerfung gezeichnet. Die Anzahl der Stäbe kann jedoch je nach den speziellen Anfordernissen bezüglich Betrieb, Festigkeit und Gewicht gewählt werden. Fig. 3 zeigt die Orientierung der Stäbe 13 gegen Verwerfung, welche symmetrisch bezüglich der senkrechten Mittelebene des Gerätes in Längsrichtung ist, wobei die Stäbe 13 zueinander parallel sind. Die Stäbe 13 können jedoch beliebige Winkel mit den Traversen 11 bilden, ausser dass sie parallel zur Bewegungsrichtung der Platte sind, und alle Stäbe können zueinander parallel sein oder nicht, je nach den vorliegenden Anfordernissen des Gerätes und seines Betriebs.

Die unteren verwerfungsverhindernden Mittel können ein Spiegelbild der oberen Mittel sein. Da jedoch die lithographische Platte 1 von unten nicht bestrahlt wird, ist die Orientierung der Stäbe gegen Verwerfung der unteren verwerfungsverhindernden Mittel nicht kritisch, und diese Stäbe können sogar parallel zur Bewegungsrichtung der Platte liegen. Die Traversen der unteren verwerfungsverhindernden Mittel liegen in den unteren Bohrungen 30,30' der seitlichen Trägerplatten 25.

Wie aus Fig. 2 hervorgeht, bewegt sich die Platte zwischen den verwerfungsverhindernden Mittel 9 und 10 gleichzeitig auch unterhalb der Strahlungsquelle hindurch, welche oberhalb der oberen verwerfungsverhindernden Mittel 9 angeordnet ist. Diese Strahlungsquell 15 weist eine UV-Leuchtröhre 14 auf, die sich vollständig quer über die Platte erstreckt und im rechten.Winkel zur Bewegungsrichtung der Platte angeordnet ist, weiterhin ein Gehäuse 17, welches die Leuchtröhre hält, sowie einen konkav gekrümmten Reflektor 16, welcher ebenfalls im genannten Gehäuse hinter der Strahlungsquelle 14 angeordnet ist und die Strahlung, die auf ihn auftrifft, zur Platte 1 reflektiert. Die verwerfungsverhindernden Mittel 9 und 10 stellen sicher, dass bei der Bestrahlung der Platte 1 keine Verwerfung stattfindet.

Nach Bestrahlung gelangt die Platte 1 zwischen das Walzenpaar 7', 8' und verlässt das Gehäuse durch die Austrittsöffnung 6b.

Um die Walzen 7, 8, 7¹ und 8¹ vor Beschädigung und Aufheizung zu schützen, wodurch die Platte ebenfalls beschädigt werden könnte, sind die Abschirmungen 18 und 18' zwischen den genannten Walzen und der Strahlungsquelle 14 vorgesehen. Bei einer weiteren Ausführungsform sind zusätzliche Abschirmungen 19 angebracht, die sich vom Gehäuse 17 der Strahlungsquelle nach hinten gegen die innere Oberseite des äusseren Gehäuses 2 und der Platte gegenüber erstrecken und das Gehäuse gegen Beschädigung schützen sowie die Abgabe von Wärme an die Atmosphäre verhindern.

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Vorrichtungen Bestandteile auf, die nicht dargestellt sind, beispielsweise einen tragenden Rahmen für das Gehäuse 2, der auch eine Stromversorgung, Leitungen und Anschlüsse für Elektrizität, motorische Antriebsmittel für die Walzenpaare, Gebläse-und Saugeinrichtungen zur Umwälzung von Kühlluft und zur Abfuhr erwärmter Luft aufweisen kann. Die genannten Hilfseinrichtungen können ebensogut ausserhalb des Rahmens oder Gehäuses angebracht sein.

Es wurden bevorzugte Ausführungsformen des Erfindungsgegenstandes beschrieben, die nach Wissen des Fachmannes geändert und ergänzt werden können. Dadurch wird die Erfindung jedoch nicht eingeschränkt, wie sie durch die Ansprüche definiert ist.

Claims (18)

PATENTANSPRUCHE

1. - Vorrichtung zum Naehhärten von lithographischen Platten oder dergleichen durch härtende UV-Bestrahlung, gekennzeichnet durch

eine UV-Strahlungsquelle, Mittel zum Transport der lithographischen Platte oder dgl., deren mindestens eine Seite mit UV zu bestrahlen ist, entlang eines vorbestimmten Weges unterhalb der Strahlungsquelle, wobei eine der beiden Seiten der lithographischen Platte mit Abstand zur Strahlungsquelle unter dieser weiterbewegt wird,

Mittel gegen eine Verwerfung der Platte auf

SFüBä ¥ΘΗ s'fcEäfclüfig'iwiHiii äi§ äufsti äi§ auf äi§ FlattöR-oberflache auffallende Strahlung erzeugt wird, bestehend aus unteren verwerfungsverhindernden Mitteln, die im Abstand von der Unterseite der Platte angeordnet sind und mit dieser Unterseite zwecks Verhütung von Verwerfung in Berührung kommen können, sowie oberen verwerfungsverhindernden Mitteln zwischen der Strahlungsquelle und der oberen Plattenseite und im Abstand zu letzterer, wobei die letztgenannten Mittel im wesentlichen aus Trägerorganen und einer Anzahl von diesen Organen getragenen Stäben gegen Verwerfung bestehen tifid äie §tafc§ 2w"är iffi We§efltli6h§h ifli ief Tränspörtrichtung der Platte liegen, mit dieser Richtung jedoch einen Winkel bilden, derart, dass die Strahlung durch die Stäbe nicht abgeschirmt wird und die Platte erreichen kann, und wobei die Träger so geformt und angeordnet sind, dass sie die Platte nicht gegen die Strahlung der Strahlungsquelle abschirmen.

2. - Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Trägerorgane aus zwei langge-

streckten Elementen bestehen, die sich quer über die Platte erstrecken und quer zur Transportrichtung der Platte liegen, im Abstand voneinander in Transportrichtung der Platte und im Abstand von der oberen Plattenseite angeordnet sind und ausserhalb des Strahlenganges von der Strahlungsquelle zur Platte liegen, und dass die Stäbe gegen Verwerfung an den genannten Elementen befestigt sind.

3. - Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Strahlungsquelle eine längliche Form hat und sich quer zur Platte und quer zur Transportrichtung der Platte erstreckt.

4. - Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die langgestreckten Elemente parallel zur Strahlungsquelle liegen und die Stäbe gegen Verwerfung mit den Trageelementen einen Winkel bilden, der von 90° abweicht.

5. - Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass sieh die Trägerelemente senkrecht zur Transportrichtung der Platte erstrecken.

6. - Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die unteren verwerfungsverhindernden Mittel zweite Trägerorgane sowie eine zweite Anzahl zweiter Stäbe gegen Verwerfung aufweisen, die von den ^weiten Ti-äa«ir©£$sflen uehaittn weisen ufifl einen Absfeanö von derjenigen Seite der Platte aufweisen, die ihnen zugewandt ist.

7. - Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens einige der zweiten Stäbe

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gegen Verwerfung so angeordnet sind, dass sie sich in Transportrichtung der Platte erstrecken.

8. - Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass sie weiterhin ein gegen UV-Strahlung undurchlässiges Gehäuse aufweist, welches die Härtungskammer darstellt, dass die Strahlungsquelle und die Mittel gegen Verwerfung sich in dieser Kammer befinden, und dass die Transportmittel zum Transport der Platte durch die Härtungskammer eingerichtet sind.

9. - Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das Gehäuse eine Einlassöffnung und eine Auslassöffnung für die Platte aufweist, durch welche die Platte hindurchtritt, wenn sie von den Transportmitteln durch die Härtungskammer bewegt wird.

10. - Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Strahlungsquelle weiterhin mit einem Reflektor versehen ist, der oberhalb und hinter der Strahlungsquelle angeordnet ist, von der Oberseite der Platte her gesehen, und welcher dazu bestimmt ist, auf ihn auftreffende UV-Strahlung auf die Oberseite der Platte zurückzuwerfen.

11. - Vorrichtung nach Anspruch 10, weiterhin gekennzeichnet durch eine Abschrimung zwischen der Strahlungsquelle und denjenigen Bereichen des Gehäuses, die oberhalb der Oberseite der Platte liegen, welche sich gegenüber der Strahlungsquelle befindet.

12. - Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Transportmittel ein erstes Paar vertikal zueinander befindlicher, im wesentlichen hori-

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zonal liegender Walzen mit einem Walzenspalt aufweisen, durch welchen die Platte von den ersten Walzen bewegt wird.

13. - Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Transportvorrichtung weiterhin ein zweites Paar vertikal zueinander angeordneter, im wesentlichen horizontal liegender Walzen aufweist, welche ebenfalls einen Walzenspalt definieren, durch welchen sich die Platte bewegen kann, und dass die ersten und zweiten Walzenpaare im Abstand voneinander in Transportrichtung der Platte und an den gegenüberliegenden Enden des Flächenbereiches auf der Oberseite der Platte angeordnet sind, der von der Strahlung der Strahlungsquelle getroffen wird.

14. - Vorrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass das erste Walzenpaar sich in der Härtungskammer in der Nähe der Eintrittsöffnung und das zweite Walzenpaar sich in der Nähe der Austrittsöffnung befindet, dass sich die Walzen jedes Paares in leichter, jedoch nichtrutsehender Berührung miteinander und mit einer Platte befinden, wenn sich eine solche zwischen ihnen bewegt, und dass die ersten und zweiten Walzenpaare sich nahe genug an der Eintritts- bzw. Austrittsöffnung des Gehäuses befinden, um den Austritt von Strahlung durch die genannten Oeffnungen nach aussen zu verhindern.

15. - Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass jedes Walzenpaar aus einer oberen Walze oberhalb der Oberseite der Platte und einer unteren Walze an der anderen Seite der Platte besteht, und dass eine undurchlässige Strahlungsabschirmung

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zwischen der Strahlungsquelle und jeder oberen Walze

16. - Vorrichtung nach Anspruch 15, dadurch ■ gekennzeichnet, dass sich eine zweite undurchlässige Strahlungsabschirmung zwischen der Strahlungsquelle und jeder der unteren Walzen der Walzenpaare befindet.

17. - Vorrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass die Strahlungsquelle weiterhin mit einem Reflektor ausgestattet ist, der sich oberhalb der §träniufig§qüelle Ütfä nlntir Uli faififläfet, ¥oh der bestrahlten Plattenseite aus gesehen, welcher dazu bestimmt ist, auf ihn auffallende UV-Strahlung auf die Oberseite der Platte zu reflektieren, und das Abschirmungen zwischen der Strahlungsquelle und den Bereichen des Gehäuses oberhalb der bestrahlten Plattenseite vorgesehen sind.

18. - Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass jedes Walzenpaar aus einer oberen Walze oberhalb der bestrahlten Plattenseite mit einer unteren Walze an der anderen Plattenseite steht, und §§§§ §tF§iilHng§iinäHFeh}䧧igg ÄfesehiEmgen 2wi§eh§n der Strahlungsquelle und jeder unteren Walze der Walzenpaare vorgesehen sind.