DE3134477C2 - Absorbierender Entspiegelungsbelag für eine metallische Schicht - Google Patents
Absorbierender Entspiegelungsbelag für eine metallische SchichtInfo
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Abstract
Es wird ein metallischer Antireflexfilm beschrieben, der aus einer relativ dicken, d.h. lichtundurchlässigen Metallschicht besteht, auf dem sich mindestens eine dünne zweite metallische Schicht befindet. Die zweite metallische Schicht auf einer oder auch auf beiden Seiten der dicken Metallschicht besteht zweckmäßig aus Chromoxid. Der beschriebene Antireflexfilm erleichtert die Herstellung insbesondere bei seiner Verwendung für Streulichtblenden oder Ringspalte in optischen Instrumenten wie Endoskopen oder Mikroskopen.
Description
30
Die Erfindung bezieht sich auf .pinen absorbierenden
Entspiegelungsbelag gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Insbesondere handelt es sich hierbei um einen Belag auf der Oberfläche von optischen Bauelementen wie
Blenden oder Ringspaltelementen, wie sie für Endoskope oder Mikroskope oder ähnliche optische Instrumente
verwendet werden. Er soll verhindern, daß Licht im sichtbaren Bereich von der Oberfläche reflektiert wird.
Gewöhnlich wird zur Herstellung einer Blende oder eines Ringspalts, wie sie für ein Endoskop oder Mikroskop
benötigt werden, eine Linsenfläche oder eine ebene Glasfläche mit schwarzer Farbe bestrichen und
ein Öffnungsteil, durch den Licht hindurchtreten soll, zum Abziehen der Farbe ausgeschnitten. Man kann
aber zur Herstellung der Blende oder des Ringspalts auch auf die Linsenfläche bzw. auf die ebene Glasfläche
einen Metallfilm aufdampfen, in welchem Fall auf die Oberfläche des Metallfilms ein dielektrischer
Antireflexbelag aufgebracht und dann eine öffnung durch Fotoätzen gebildet wurde. Bei dieser Fotoätzmethode
zur Bildung der Öffnung mußten der dielektrische Film und der Metallfilm jeweils gesondert unter
Verwendung unterschiedlicher Ätzlösungen für den dielektrischen Film bzw. für das Metall geätzt werden.
Aus dem Buch »Dünne Schichten Tür die Optik« von Dr. H. Anders, 1965, Seite 67 ist bekannt, daß man nicht
nur durch Verwendung homogener absorbierender Schichten, sondern auch durch Aufbringen einer dünnen
Metallschicht auf eine absorptionsfreie Schicht den störend hohen Reflexionsgrad von als Skalen. Masken und
Blenden dienenden Metallschichten herabsetzen kann. Weil hierbei nur für eine bestimmte Wellenlänge eine
Nullstelle der Reflexion erreichbar ist. während für weißes Licht eine große Reflexion übrigbleibt, soll zunächst
auf eine Glasfläche eine inhomogene absorbierende Schicht mit einer vom Glas aus kontinuierlich ansteigenden
Brechzahl und hierauf die Metallschicht aufgebracht werden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen absorbierenden Antireflexbelag zur Entspiegelung einer
metallischen Schicht zu schaffen.
Diese Aufgabe wird durch den im Anspruch 1 gekennzeichneten Entspiegelungsbelag gelöst.
Der hier beschriebene Entspiegelungsbelag hat den Vorteil, daß der Reflexionsfaktor im Bereich des sichtbaren
Lichtes etwa von 400 bis 700 mn je nach Wellenlänge und der Parametern ri und A- zwischen nahezu
null und weniger als 10% gehalten werden kann, und ..war ohne die Notwendigkeit, spezielle Bedingungen
hinsichtlich der lichtundurchlässigen metallischen Schicht, insbesondere deren Brechungsindex einzuhalten.
Der Entspiegelungsbelag kann insbesondere für eine Streulichtblende oder für einen Ringspalt verwendet
werden, deren Herstellung dadurch vereinfacht wird, daß der Entspiegelungsbelag mit demselben Ätzmittel
behandelt werden kann wie die dicke metallische Schicht.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden im folgenden anhand der Zeichnung erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 bis 3 Schnittansichten von drei verschiedenen Ausführungsbeispielen der Erfindung;
Fig. 4 bis 6 die Kurven des spektralen Reflexionsfaktors, die sich bei den genannten drei Ausführungsbeispielen
ergeben; und
Fig. 7 den Verlauf des spektralen Reflexionsfaktors bei einer Anordnung ohne Entspiegelungsmaßnahmen.
Durch die Erfindung soll die Reflexion von Licht auf einer Metalloberfläche mit einem metallischen oder
aus Chromoxid bestehenden Belag verhindert werden. Gemäß Fig. 1 wird der Belag I auf eine metallische
Unterlage in Form einer dicken, für Licht im wesentlichen undurchlässigen Schicht II aufgebracht. Der
komplexe Brechungsindex des Belages I ist h2 = n2 — /A2.
die Belagdicke beträgt </,, der komplexe Index der
dicken metallischen Schicht II ist A1 = H3-Jk3 und der
Index des Mediums (Luft oder eine Glasplatte) über der Oberfläche A des Belages I ist /i,. Der auf die Gesamtstärke
bezogene Reflexionsfaktor R entspricht dann bei senkrecht auf die Oberfläche A auffallendem Licht
der folgenden Beziehung (1). wobei pl2 und p23 die
Absolutwerte des komplexen Verhältnisses der Amplituden der reflektierten und auftreffenden Wellen an den
Oberflächen des Belages I bzw. der Schicht II und φ12
bzw. φ2ί die zugehörigen Phasen bedeuten:
+k\
12p23cos(<i)12 + ^23-2;;2i/)
(1)
n\ + k\— n\
2
=
(n3-n2)2+(k3-k2)2
2π
Damit Reflexion verhindert werden kann, können daher die Faktoren n2, A2 und (I1 so gewählt werden,
daß sie die Amplitudenbeziehung und die Phasenbeziehung gemäß den beiden folgenden Formel» (2) bzw.
(3) erfüllen:
3 4
p\-,elky + p\ e~2t2n —Ip1-Jp23 = O (2) Kurve α tatsächlich gemessene Werte and die Kurve b
φ~ _φ _->
_ +π (3) berechnete Werte. Die Darstellung zeigt, daß die tat-
2 sächlich gemessenen Werte nicht wesentlich von den
errechneten Werten abweichen.
Selbst wenn die obige Formel (2) nicht streng erfüllt 5 Die gemäß dem zweiten Ausfuhrungsbeispiel gebildete
sein sollte, ist bei Erfüllung der Formel (3) eine weit- Anordnung ist in Fig. 2 dargestellt. Hier sollen beide
gehende Reflexionsverhinderung möglich, wenn für Oberflächen der dicken metallischen Schicht Reflexion
1 ^n1 ^ 2 die Faktoren n2, A-,, «j und λ-j in den folgenden verhindern, weshalb auch auf die zum Belag I entge-
Grenzen gehalten werden: gengesetzte Seite der Schicht II ein Entspiegelungsbelag
<-,<?„<-* n^i- <m 10 III aufsebracht ist. Die Indices und Dicken der betref-
'-~ "~ _," ,. fenden Filme nahen folgende Werte:
O.o ^ n3 ^ 4. 2^Ar3SlO
ß . . " l "1I94-04.- d _47 ->
„„ *£gj gA J^OjJ £ "l
In der Praxis kann es sogar genügen, wenn die Formel
ß I94-04 d _47 >
„
(3) ebenfalls nicht streng, sondern nur im wesentlichen *£gj „ gA J^_OjJ £ "genüeel dkk
oder ungefähr erfüllt ist. 15 Belae In Cr o · _->4 /%Ί
Zur Verhinderte von Reflexion auf beiden Ober- JA", C 2°3 "4I,';
flächen kann gemäß Fig. 2 die metallische Schicht II
als Basis verwendet und auf jede ihrer Oberflächen je Die Charakteristiken des spektralen Reflexionsfaktors
ein Entspiegelungsbelag I bzw. III aufgebracht werden. (berechnete Werte) des zweiten Ausführungsbeispieis
Mit G ist in Fig. 2 eine Glasplatte bezeichnet. 20 sind in Fig. 5 dargestellt. Dort repräsentiert die Kurve
Die obigen Erläuterungen bezogen sich auf einschich- ax die allgemeinen Reflexionsfaktoren „uf der in Betige
Beläge. Der Belag I kann aber auch mehrere Schichten rührung mit Luft stehendenden Seite und die Kurve a2
einschließlich einer dielektrischen Schicht enthalten. diejenigen auf der Glasseite.
Wenn im Falle eines Mehrschicht-Belages der sich dann Ergänzend und zum Vergleich zeigt Fig. 7 die Refle-
aus der entsprechenden Kombination ergebende äquiva- 25 xionsfai-i'.orkurven von nicht gegen Reflexion geschützten
lente komplexe Index in den oben angegebenen Grenzen Proben. Auch hier repräsentiert die Kurve α, die Fak-
für /j, und k2 gehalten wird, ergibt sich derselbe Refle- toren auf der Luftseite und die Kurve a2 diejenigen
xionsverhinderungseffekt wie bei einer einzigen Schicht. auf der Glasseite. Der erfindungsgemäß erreichte be-
Bei einem solchen Mehrschicht-Belag kann im übrigen merkenswerte Antireflexeffekt geht aus einem Vergleich
besonders zweckmäßig für die erste Schicht ein Metall 30 der Fig. 7 und 5 deutlich hervor.
verwendet werden, bei dem die obigen Grenzen für das Das dritte Ausfuhrungsbeispiel eines erfindungsgemäß
Metall eingehalten werden. gebildeten Filmes ist in Fig. 3 dargestellt. Hier besteht
Im folgenden werden Einzelheiten der beschriebenen Hp-- Entspiegelungsbelag I aus zwei Schichten. Die Indices
Ausfuhrungsbeispiele erläutert. Bei dem ersten Ausfüh- und Filmdicken haben bei diesem Ausführungsbeispiel
rungsbeispiel gemäß Fig. 1 hat der Belag I einen komple- 35 folgende Werte:
xen Index von 2.4 bis 0.41, eine Dicke von 44.7 ηιμ und
besteht aus Cr2O3. Die Schicht II ist so dick, daß im
wesentlichen kein Licht durchdrineen kann, hat einen
komplexen Index von 1.97 bis 3.31 und besteht aus
xen Index von 2.4 bis 0.41, eine Dicke von 44.7 ηιμ und
besteht aus Cr2O3. Die Schicht II ist so dick, daß im
wesentlichen kein Licht durchdrineen kann, hat einen
komplexen Index von 1.97 bis 3.31 und besteht aus
einer Legierung (Inconel) aus 75.3% Ni. 15.6% Cr. 40
7.7% Fe und 1,4% anderen Elementen. Eine Glas- Die spektralen Reflexionsfaktorkurven (berechnete
platte mit dem Index n, = 1.52 befindet sich auf der Werte) des dritten Ausführungsbeispiels sind in Fig. 6
Auffallseite des Belages I. Die Kurve des spektralen dargestellt. Erfindungsgemäß kann auch in diesem Fall
Reflexionsfaktors eines derart gebildeten Entspiege- Reflexion verhindert werden, obwohl ein metallhaltiger
lungsbelages ist in Fig. 4 dargeste'lt. Dort zeigt die 45 Belag aus zwei oder mehr Schichten verwendet wird.
Luft | "l | = 1 | el·-, | = 45 ΐτμ | dick |
Belag I | '': | = 2.4-0,4/. | d'i | = 5,1 mμ | |
«'■>' | = 1,97-3,3/, | dy | :genügend | ||
Schicht | II «j | = 0.82-5.99/. | |||
Hierzu 5 Blatt Zeichnungen
Claims (3)
1. Absorbierender Entspiegelungsbelag für eine dicke metallische Schicht (II), die für Licht im wesentlichen
undurchlässig ist, dadurch gekennzeichnet, daß der komplexe Brechungsindex (,n'—ik) des
Entspiegelungsbelags (I) der folgenden Beziehung genügt:
10
0 <A" ^0,7.
2. Entspiegelungsbelag nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß seine Dicke dx so gewählt ist,
daß im wesentlichen die Phasenbeziehung
2π
mit η = -
erfüllt ist vobei φα und ^12 die Phase des komplexen
Verhältnisses der Amplituden der reflektierten und auftreffenden Wellen an der Oberfläche
der dicken Schicht (II) bzw. des Entspiegelungsbelages (I) und A0 eine gegebene Wellenlänge bedeuten.
3. Entspiegelungsbelag nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß sie aus Chromoxid
besteht.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP55120644A JPS5745501A (en) | 1980-09-02 | 1980-09-02 | Reflection preventing film of metal |
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DE3134477C2 true DE3134477C2 (de) | 1983-12-22 |
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ID=14791319
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DE (1) | DE3134477C2 (de) |
Cited By (2)
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JPS5991757A (ja) * | 1982-11-18 | 1984-05-26 | Toshiba Corp | ル−プ伝送装置 |
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DE102007052524B4 (de) | 2007-11-01 | 2012-05-31 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Transportmittel und Vakuumbeschichtungsanlage für Substrate unterschiedlicher Größe |
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1980
- 1980-09-02 JP JP55120644A patent/JPS5745501A/ja active Pending
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1981
- 1981-09-01 DE DE19813134477 patent/DE3134477C2/de not_active Expired
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JPS5745501A (en) | 1982-03-15 |
DE3134477A1 (de) | 1982-04-01 |
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