DE3128645C2 - Verfahren zur Herstellung eines R'↓3↓SiNH-enthaltenden Silazanpolymeren und dessen Verwendung zur Herstellung von keramischem Siliciumcarbid - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines R'↓3↓SiNH-enthaltenden Silazanpolymeren und dessen Verwendung zur Herstellung von keramischem SiliciumcarbidInfo
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- DE3128645C2 DE3128645C2 DE3128645A DE3128645A DE3128645C2 DE 3128645 C2 DE3128645 C2 DE 3128645C2 DE 3128645 A DE3128645 A DE 3128645A DE 3128645 A DE3128645 A DE 3128645A DE 3128645 C2 DE3128645 C2 DE 3128645C2
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- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 39
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 13
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 9
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 6
- 101100311330 Schizosaccharomyces pombe (strain 972 / ATCC 24843) uap56 gene Proteins 0.000 claims description 50
- 101150018444 sub2 gene Proteins 0.000 claims description 50
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 18
- 150000001367 organochlorosilanes Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 claims description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 abstract description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 31
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 14
- -1 ammonium halide Chemical class 0.000 description 13
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 12
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical class [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 9
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 7
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 6
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N [C]1=CC=CC=C1 Chemical compound [C]1=CC=CC=C1 CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001212 derivatisation Methods 0.000 description 4
- BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N dichlorosilicon Chemical compound Cl[Si]Cl BUMGIEFFCMBQDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ORGHESHFQPYLAO-UHFFFAOYSA-N vinyl radical Chemical group C=[CH] ORGHESHFQPYLAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 3
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 3
- PFUVRDFDKPNGAV-UHFFFAOYSA-N sodium peroxide Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][O-] PFUVRDFDKPNGAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910008072 Si-N-Si Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 239000002775 capsule Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N trichlorosilicon Chemical compound Cl[Si](Cl)Cl PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 2
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007991 Si-N Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006294 Si—N Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000001479 atomic absorption spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- JZALIDSFNICAQX-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-trimethylsilylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(Cl)Cl JZALIDSFNICAQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N dimethylsilane Chemical compound C[SiH2]C UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 238000003918 potentiometric titration Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000012262 resinous product Substances 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 230000007928 solubilization Effects 0.000 description 1
- 238000005063 solubilization Methods 0.000 description 1
- 239000002195 soluble material Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000004227 thermal cracking Methods 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/56—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on carbides or oxycarbides
- C04B35/565—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on carbides or oxycarbides based on silicon carbide
- C04B35/571—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on carbides or oxycarbides based on silicon carbide obtained from Si-containing polymer precursors or organosilicon monomers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/90—Carbides
- C01B32/914—Carbides of single elements
- C01B32/956—Silicon carbide
- C01B32/963—Preparation from compounds containing silicon
- C01B32/977—Preparation from organic compounds containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/60—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
- C08G77/62—Nitrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/80—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70
- C01P2002/88—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70 by thermal analysis data, e.g. TGA, DTA, DSC
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Polymers & Plastics (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Silazanpolymeren und ihre Weiterverarbeitung zu keramischem Siliciumcarbid. Man erhält die Silazanpolymeren durch Umsetzung eines Organodisilans mit einem Disilazan in einer inerten Atmosphäre bei einer Temperatur von 25 bis 300 ° C.
Description
- Diese Erfindung betrifft die Herstellung von Silazanpolymeren und deren Verwendung zur Herstellung von keramischem Siliciumcarbid.
- Die DE-OS 27 08 635 bezieht sich auf Organosiliciumverbindungen mit hohem Molekulargewicht, die Silicium und Kohlenstoff als Hauptgerüstkomponenten enthalten und zur Weiterverarbeitung zu Siliciumcarbid-Formkörpern geeignet sind. Diese Organosiliciumverbindungen können als "Fremdelemente" auch Si-N-Bindungen enthalten. Dabei handelt es sich um Silylamine.
- Wie in der Technik gut bekannt ist, reagieren monomere Halogensilane mit Ammoniak und den meisten organischen Verbindungen, die eine primäre oder sekundäre Aminogruppe enthalten, unter Bildung einer Vielzahl von Silazanen.
- So entsteht beispielsweise bei der Umsetzung von Trimethylchlorsilan und Ammoniak das monomere Silazan Hexamethyldisilazan, wogegen Dimethyldichlorsilan und Ammoniak cyclische Dimethylsilazane ergeben. Diese beiden Umsetzungen stellen wahrscheinlich den größten Teil der kommerziellen Verwendung von Silazanen dar.
- Silazane sind im allgemeinen für viele Jahre nur akademische Kuriositäten gewesen, doch sind eine Vielzahl von Silazanen, wie Monomere, Oligomere, cyclische Silazane und auch niedrigmolekulare Harze und lineare Polymere dieser Art durch eine Vielzahl von Arbeitsweisen hergestellt worden. So berichten zum Beispiel L. W. Breed et al in der Zeitschrift "Journal of Organic Chemistry", Bd. 27, S. 1114 (1962) über die Bildung von Silazanen durch die Polymerisation von sterisch behinderten Silazanoligomeren, wogegen in der Zeitschrift "Journal of Polymer Science", A, Bd. 2, S. 45 (1964) die thermische Krackung von cyclischen trimeren und tetrameren Silazanen beschrieben ist, wobei Katalysatoren verwendet werden und lineare Polymere entstehen.
- Kruger et al haben in dem "Journal of Polymer Science", A, Bd. 2, S. 3179 (1964) und Redl in "Silazane Polymer", ARPA-19, Advanced Research Projects Agency (Oktober 1965), über flüssige, kautschukartige und harzartige Produkte berichtet, die aus CH&sub3;SiCl&sub3;,(CH&sub3;)&sub2;SiCl&sub2; und überschüssigem Ammoniak hergestellt wurden.
- Auch in der Patentliteratur sind Angaben über die Herstellung von Silazanen enthalten. In der US-PS 25 64 674 ist die Herstellung von niedermolekularen linearen Silazanpolymeren durch Umsetzung von Halogensilanen mit überschüssigem Ammoniak in einem Lösungsmittel beschrieben.
- Die US-PS 38 09 713 zeigt ein ähnliches Reaktionsschema mit der Modifikation, daß das mitentstandene feste Ammoniumhalogenid unter Verwendung von Äthylendiamin entfernt wird.
- In jüngerer Zeit ist in den US-PS 38 53 567 und 38 92 583 offenbart, daß Mischungen von CH&sub3;SiCl&sub3; und (CH&sub3;)&sub2;SiCl&sub2; mit Ammoniak oder organischen Aminen behandelt werden können, wobei Materialien entstehen, die unter Bildung von keramischem SiC/Si&sub3;N&sub4; pyrolysiert werden können.
- Bei anderen bekannten Arbeitsweisen ist die Verwendung von Disilanen für die Herstellung von Silazanpolymeren auf die Bildung von solchen mit relativ niedrigem Molekulargewicht beschränkt worden. Ein Beispiel dafür haben Wannagat et al, "Angew. Chem.", Bd. 75, (7), S. 345 (1963) beschrieben, wobei Tetramethyldichlordisilan mit gasförmigem Ammoniak umgesetzt wird, um ein lineares Silazanpolymeres zu geben. Hengge et al, "Monatsh. Chem.", Bd. 101 I (2), S. 325 (1970) haben mit Dimethylaminogruppen substituierte Mischungen von Disilanen aus Dimethylsilan und chlorhaltigen Disilanmischungen aus der direkten Herstellung von Chlorsilanen erhalten.
- Aufgabe der Erfindung ist es, durch Umsetzung von chlorhaltigen Monosilanen und Disilazanen hochmolekulare Silazanpolymere zur Verfügung zu stellen.
- Beansprucht ist ein Verfahren zur Herstellung eines R&min;&sub3;SiNH enthaltenden Silazanpolymeren, das dadurch gekennzeichnet ist, daß man in einer inerten Atmosphäre ein Organochlorsilan oder eine Mischung von Organochlorsilanen der allgemeinen Formel
- R n SiCl4-n
- (R&min;&sub3;Si)&sub2;NH
- R ein Venylrest, ein Alkylrest mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen oder ein Phenylrest ist,
R&min; ein Vinylrest, Wasserstoff, ein Alkylrest mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen oder ein Phenylrest ist und
n einen Wert von 1 oder 2 hat. - Durch das Verfahren gemäß der Erfindung wird eine neue Klasse Silazanpolymeren, die aus chlorhaltigen Monosilanen und Disilazanen hergestellt werden, zur Verfügung gestellt. Im wesentlichen wird bei der Erfindung ein einzelnes chlorhaltiges Monosilan oder eine Mischung von chlorhaltigen Monosilanen mit einem Disilazan als Stickstoffquelle in einer solchen Menge behandelt, daß das gesamte Chlor des chlorhaltigen Monosilans verbraucht wird. In der Regel werden eine äquimolare Menge an Disilazan, bezogen auf den Chlorgehalt des Monosilans oder der Mischung von Monosilanen, verwendet.
- Ohne an eine Theorie gebunden zu sein, wird angenommen, daß bei der Erwärmung der Mischung, die in der Regel in Abwesenheit eines Lösungsmittels und im wesentlichen in einer wasserfreien Atmosphäre erfolgt, die Umsetzung
- ≡SiCl+R&min;&sub3;SiNHSiR&min;&sub3; → ≡SiNHSiR&min;&sub3;+R&min;&sub3;SiCl
- Diese Umsetzung ist begleitet von der Bildung von R&min;&sub3;SiCl, das durch Destillation mit dem Fortschreiten der Reaktion entfernt wird. Mit der Erhöhung der Temperatur der Reaktionsmischung beginnen Kondensationsreaktionen einzutreten, wodurch es zur Bildung von höhermolekularen Silazanen und von [R&min;&sub3;Si]&sub2;NH kommt. Die Verbindung [R&min;&sub3;Si]&sub2;NH wird ebenfalls bei ihrer Bildung aus der Reaktionsmischung abdestilliert. Es wird angenommen, daß sich diese Verbindung wie folgt bildet:
- 2 ≡ Si-NHSiR&min;&sub3; → ≡ SiNHSi ≡+[R&min;&sub3;Si]&sub2;NH.
- Sobald höhere Temperaturen erreicht werden, tritt eine stärkere Vernetzung ein und jedes etwa in dem Polymeren noch verbliebene R&min;&sub3;SiNH wirkt als Endblockierer.
- Dieses Verfahren ermöglicht die Unterbrechung der Umsetzung zu jedem Zeitpunkt, so daß nahezu jede gewünschte Viskosität eingestellt werden kann.
- Die Silazanpolymeren schwanken in ihren physikalischen Eigenschaften von beweglichen Flüssigkeiten über Flüssigkeiten mit hoher Viskosität bis zu harten glasartigen Materialien. Diese Materialien lassen sich infolgedessen sehr leicht handhaben. Sie sind im wesentlichen auch hydrolytisch beständig.
- Bei den bei der Erfindung als Ausgangsstoff verwendeten Organochlorsilanen übersteigt die Anzahl der durch Diorganoreste substituierten Siliciumatome die Anzahl der monoorgano-substituierten Siliciumatome nicht.
- Wenn Mischungen von Organochlorsilanen verwendet werden, ist es am vorteilhaftesten, die Silane vor dem Berühren und dem Umsetzen mit den Disilazanen zu mischen.
- Die bei der Erfindung verwendeten Organochlormonosilane entsprechen der Formel
- R n SiCl4-n ,
- Beispiele für geeignete Alkylreste sind der Methyl-, Äthyl- und Propylrest. Bei der Erfindung kann der Rest R gleich oder verschieden sein. Die in Betracht kommenden Organochlormonosilane sind im Handel erhältlich. Später werden die Phenyl-, Methyl-, Äthyl- und Vinylreste durch die Symbole ∅, Me, Ät und Vi abgekürzt.
- In der vorstehenden Formel kann n 1 oder 2 sein. Spezifische Beispiele von geeigneten Organochlormonosilanen sind:
- CH&sub3;SiCl&sub3;,C&sub6;H&sub5;SiCl&sub3;, CH&sub2;=CHSiCl&sub3;, CH&sub3;CH&sub2;SiCl&sub3; oder CH&sub3;(CH&sub2;)&sub2;SiCl&sub3; und doppelt organisch substituierte Silane, wie (CH&sub3;)SiCl&sub2;, (C&sub2;H&sub5;)&sub2;SiCl&sub2; und (CH&sub2;=CH)(CH&sub3;)SiCl&sub2; oder Mischungen von solchen Silanen, wie zum Beispiel von CH&sub3;SiCl&sub3; und (CH&sub3;)&sub2;SiCl&sub2;.
- Wenn bei der Erfindung Mischungen von Organochlorsilanen verwendet werden, übersteigt die Anzahl der Einheiten von diorganosubstituierten Siliciumatomen die Anzahl der monoorganosubstiuierten Siliciumatome nicht.
- Obwohl Silazanpolymere auch aus Ausgangsstoffen hergestellt werden können, bei denen die Anzahl der diorganosubstituierten Einheiten die Anzahl der monoorganosubstituierten Einheiten übertrifft, wurde gefunden, daß diese Polymeren wegen ihrer niedrigen Viskositäten weniger erwünschte Eigenschaften haben. Auch bei der Weiterverarbeitung zu keramischen Materialien ergeben sich weniger befriedigende physikalische Eigenschaften.
- Der zweite Ausgangsstoff bei der Erfindung ist ein Disilazan der allgemeinen Formel (R&min;&sub3;Si)&sub2;NH.
- R&min; ist in dieser Formel ein Vinylrest, Wasserstoff, ein Alkylrest mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen oder ein Phenylrest. Als Alkylreste kommen zum Beispiel Methyl-, Äthyl- oder Propylreste in Betracht. Falls mehrere R&min;- Reste vorhanden sind, können diese gleich oder verschieden sein. Beispiele von geeigneten Disilazanen sind:
- [(CH&sub3;)&sub3;Si]&sub2;NH, [C&sub6;H&sub5;(CH&sub3;)&sub2;Si]&sub2;NH, [(C&sub6;H&sub5;)&sub2;CH&sub3;Si]&sub2;NH,
[CH&sub2;=CH(CH&sub3;)&sub2;Si]&sub2;NH, [CH&sub2;=CH(CH&sub3;)C&sub6;H&sub5;Si]&sub2;NH,
[CH&sub2;=CH(C&sub6;H&sub5;)&sub2;Si]&sub2;NH, [CH&sub2;=CH(C&sub2;H&sub5;)&sub2;Si]&sub2;NH,
[H(CH&sub3;)&sub2;Si]&sub2;NH und [CH&sub2;=CH(C&sub6;H&sub5;)C&sub2;H&sub5;Si]&sub2;NH. - Diese Ausgangsstoffe werden in einer inerten, im wesentlichen wasserfreien Atmosphäre zusammengebracht. Für die Zwecke der Erfindung wird unter "inert" verstanden, daß die Umsetzung in der Atmosphäre eines inerten Gases, wie Argon, Stickstoff oder Helium, durchgeführt wird. Unter "im wesentlichen wasserfrei" wird verstanden, daß die Umsetzung in einer weitgehend absolut wasserfreien Atmosphäre durchgeführt wird, daß aber Spuren von Feuchtigkeit geduldet werden können.
- Wenn die Ausgangsstoffe miteinander in Berührung gebracht werden, beginnt die Umsetzung mit der Bildung einer Aminoverbindung als Zwischenprodukt. Beim Erwärmen wird weitere Aminoverbindung gebildet und beim weiteren Erwärmen wird R&min;&sub3;SiCl aus der Reaktionsmischung abdestilliert und ein Silylsilazanpolymeres gebildet. Die Reihenfolge der Zugabe der Ausgangsstoffe ist nicht kritisch. Beim Erhöhen der Temperatur tritt eine weitere Kondensation mit restlichem R&min;&sub3;Si- ein, das aus der Mischung nicht abdestilliert wird und als Kettenabbrecher wirkt. Durch diese Kontrolle kann die Reaktion zu einem beliebigen Zeitpunkt unterbrochen werden und nahezu jede gewünschte Viskosität eingestellt werden.
- Der gewünschte Temperaturbereich liegt bei der Umsetzung bei 25 bis 300°C. Am meisten bevorzugt ist der Bereich von 125 bis 300°C. Die Dauer der Umsetzung hängt von der Temperatur und der gewünschten Viskosität ab.
- Unter "flüchtigen Produkten" werden destillierbare Nebenprodukte verstanden, die bei dem Verfahren nach der Erfindung entstehen. Solche Produkte entsprechen insbesondere den Formeln
- (CH&sub3;)&sub3;SiCl, (CH&sub2;=CH)(C&sub6;H&sub5;)&sub2;SiCl, CH&sub3;(C&sub6;H&sub5;)&sub2;SiCl,
(CH&sub3;)&sub2;C&sub6;H&sub5;SiCl und (CH&sub2;=CH)(CH&sub3;)&sub2;SiCl. - Manchmal erfordern diese Produkte die gemeinsame Anwendung von Vakuum und Wärme, um sie aus der Reaktionsmischung zu entfernen.
- Die gemäß der Erfindung hergestellten Silazanpolymeren zeichnen sich dadurch aus, daß sie im wesentlichen hydrolytisch beständig sind und sich leicht handhaben lassen. Ein besonderer Vorzug dieser Silazanpolymeren besteht darin, daß sie sich in Siliciumcarbid und in Siliciumcarbid enthaltende keramische Materialien in einfacher Weise umwandeln lassen. Die Silazanpolymeren lassen sich auch als Binder in keramischen Materialien verwenden.
- Die Erfindung richtet sich deshalb auch auf die Verwendung der erfindungsgemäß hergestellten Silazanpolymeren zur Herstellung von keramischem Siliciumcarbid.
- Zur näheren Charakterisierung dieser Verwendung ist folgendes auszuführen:
- Die Polymeren können in füllstoffhaltigem oder ungefülltem Zustand verwendet werden. Der aus den Silazanpolymeren oder aus einem Gemisch der Silazanpolymeren mit mindestens einem üblichen keramischen Füller hergestellte Gegenstand wird im Vakuum oder in inerter Atmosphäre auf eine Temperatur von mindestens 750°C erwärmt. Dabei wird das Silazanpolymere in ein keramisches Material, das Siliciumcarbid enthält, umgewandelt.
- Auch zum Überziehen von Substraten können füllstoffhaltige oder ungefüllte Silazanpolymere verwendet werden. Die überzogenen Substrate werden in inerter Atmosphäre oder im Vakuum auf eine Temperatur von mindestens 750°C erwärmt, bis der Überzug in ein Siliciumcarbid enthaltendes keramisches Material umgewandelt worden ist.
- Die Erfindung wird in den Beispielen noch näher erläutert. Es werden dabei folgende analytische Methoden verwendet:
- Die thermogravimetrischen Analysen (TGA) wurden auf einem handelsüblichen Instrument durchgeführt. Das mittlere Gewicht der Proben betrug 11 mg, die Programmeinstellung lag bei 10°C/min, die Gasgeschwindigkeit lag bei 200 ccm/min. Einstellung des Anzeigegerätes: 50°C/2,54 cm ±0,5°C/2,54 cm.
- Die Differenzial-thermischen Analysen (DTA) wurden auf dem genannten Instrument unter Verwendung von Proben im Mittel von 13,5 mg, einer Gasgeschwindigkeit von 200 ccm/ min, einer Programmeinstellung von 10°C/min und einer Einstellung des Anzeigegerätes auf 50°C/2,54 cm ± 0,5°C/ 2,54 cm durchgeführt.
- Der Prozentgehalt an Silicium wurde durch die sogenannte Fusionsmethode bestimmt, bei der das Silikonmaterial in lösliche Formen des Siliciums umgewandelt wurde und das lösliche Material quantitativ als Gesamtsilicium durch atomare Absorptionsspektrometrie bestimmt wurde. Die Solubilisierung erfolgte, indem die Probe in einen Fusionsbecher vom Parr-Typ (etwa 0,3 g) gegeben wurde, 15,0 g Natriumperoxid hinzugegeben wurden, die Mischung etwa 90 Sekunden erwärmt wurde und mit kaltem Wasser abgeschreckt wurde. Das Material wurde in einen Nickelbecher gegeben, der 150 bis 200 ml destilliertes Wasser enthielt. Es wurden dann 55 ml Essigsäure (analysenrein) hinzugegeben und zur Verdünnung 500 ml Wasser.
- Der Prozentgehalt an restlichem Chlor wurde durch Zersetzung mit Natriumperoxid und Titration mit Silbernitrat bestimmt. An das Schmelzen der Halogenide mit Natriumperoxid schließt sich eine potentiometrische Titration mit Standard-Silbernitrat an, indem eine Probe in eine Gelkapsel eingewogen wird, etwa 1,5 g Na&sub2;O&sub2;, etwa 0,7 g KNO&sub3; und etwa 0,15 g Zucker in einen kleinen, trockenen Reaktionsbecher gegeben werden und die Kapsel in diese Mischung eingebettet wird. Der Becher wird dann mit Na&sub2;O&sub2; gefüllt und in ein Reaktionsgefäß gegeben. Dort wird er 1 bis 1,5 min erwärmt und mit kaltem Wasser abgeschreckt. Der Becher und das Gefäß werden gewaschen und das Waschwasser wird gesammelt. Das Waschwasser wird dann erwärmt, um die Feststoffe aufzulösen. Es werden dann 15 ml kalte 50%ige wäßrige Schwefelsäure zugegeben und man läßt die Mischung 15 bis 20 Sekunden stehen. Diese Lösung wird mit weiterer Schwefelsäure neutralisiert und titriert.
- Kohlenstoff und Wasserstoff werden durch Mikroverbrennung bestimmt. Dazu werden 10 bis 20 mg Proben in ein Mikroschiffchen aus Platin gegeben und in einem handelsüblichen Verbrennungsapparat behandelt.
- Bei diesen Beispielen wurden die Silazanpolymeren unter Argon in einem wassergekühlten Graphitofen pyrolysiert.
- Die Derivatisierungs-Gaschromatographie ist eine Analyse, bei der das Polymere mit Tetraäthoxysilan (EOS) und KOH behandelt wird, um Organoäthoxysilanderivate der einzelnen polymeren Einheiten zu ergeben. Die Gaschromatographie wird dann verwendet, um den Gehalt und die relativen Verhältnisse der verschiedenen Einheiten der Mischung festzustellen. Diese Bestimmung wird durchgeführt, indem etwa 0,3 g der Probe des Polymeren in einen 50 ml Rundkolben eingewogen werden. In diesen Kolben werden dann außerdem 8,0 ml Si(OC&sub2;H&sub5;)&sub4; gegeben.
- Dann wird eine Schuppe KOH hinzugefügt und der Kolben erwärmt, um die Reaktion einzuleiten. Dann wird die Reaktionsmischung 45 Minuten unter Rückflußkühlung gehalten. Es werden zusätzlich 2,0 ml Si(OC&sub2;H&sub5;)&sub4; zugegeben und dann etwa ein halber Teelöffel pulverförmiges CO&sub2; zur Neutralisation der KOH. Die Probe wird zentrifugiert, um die Phasen voneinander zu trennen. Die Silanschicht wird dann durch standardisierte Gaschromatographie analysiert.
- Bei den nachfolgend geschilderten Umsetzungen wurde im wesentlichen das gleiche Reaktionsgefäß verwendet. Es war ein 500 ml Rundkolben aus Glas mit einem mechanischen Rührer, Gaseinleitungsrohr, Destillationsapparat und einem Thermoelement zur Temperaturkontrolle. Der Destillationsapparat war für die Anwendung von Vakuum eingerichtet.
- 37,7 g (0,25 Mol) Methyltrichlorsilan, 97,0 g (0,75 Mol) Dimethyldichlorsilan und 364,4 g (2,3 Mol) [(CH&sub3;)&sub3;Si]&sub2;NH wurden in dem Reaktionskolben gemischt.
- Diese Mischung wurde in einer Argonatmosphäre auf 300°C erwärmt. Die Destillation begann, sobald der Kolben eine Temperatur von 93°C erreicht hatte. Bei 200°C hatte der Kolbeninhalt eine klare orange Farbe angenommen. Der Kolben wurde 10 Minuten bei 300°C gehalten. Das Material wurde in eine Glasflasche überführt und beim Abkühlen auf Raumtemperatur unter einer Argondecke gehalten.
- Das Reaktionsprodukt war ein braunes, klebriges Material, das beim Abkühlen auf Raumtemperatur gummiartig wurde. Das Polymere wurde in einer Ausbeute von 27,9% der Theorie erhalten.
- Die TGA bei 1000°C in Argon ergab eine Ausbeute von 36% an keramischen Materialien. Die DTA bei 500°C in Argon zeigte keine Veränderungen. Die DTA bei 500°C in Luft zeigte eine exotherme Reaktion bei 245°C. Der Siliciumgehalt lag bei 42,8% und die Infrarotanalyse zeigte das Vorhandensein von -NH-, NH&sub4;Cl, SiMe und SiNSi.
- Die Erwärmung in dem Graphitofen von Raumtemperatur auf 1200°C ergab ein keramisches Material in einer Ausbeute von 33,5%. Bei Erwärmung auf 1200 bis 1600°C erhielt man 82,5%.
- Die EOS-Derivatisierung ergab 4% Me&sub3;Si, 21% Me&sub2;Si und 39% MeSi. Aus diesem Material konnten Fasern hergestellt werden.
- 30,8 g (0,21 Mol) Methyltrichlorsilan, 106,2 g (0,82 Mol) (CH&sub3;)&sub2;SiCl&sub2; und 355,5 g (2,2 Mol) [(CH&sub3;)&sub3;Si]&sub2;NH wurden gemischt und in einem Reaktionskolben unter einem Argonstrom erwärmt. Die Destillation begann bei 95°C. Die Farbe des Kolbeninhalts änderte sich allmählich von klar zu gelb bis braun. Der Kolben wurde auf 300°C erwärmt und 15 Minuten bei dieser Temperatur gehalten. Dann ließ man den Kolben im Verlauf von 16 Stunden unter einer Argondecke abkühlen.
- Das Reaktionsprodukt war eine dunkelbraune Flüssigkeit. Die TGA bei 1000°C in Argon ergab 10% eines keramischen Materials.
- Es wurden folgende Ausgangsstoffe in einem Reaktionskolben gemischt:
- CH&sub3;SiCl&sub3; 75,6 g (0,51 Mol)
(CH&sub3;)&sub2;SiCl&sub2; 65,7 g (0,51 Mol)
[(CH&sub3;)&sub3;Si]&sub2;NH 409,6 g (2,5 Mol) - Diese Materialien wurden auf 300°C in einer Argonatmosphäre erwärmt und 15 Minuten bei dieser Temperatur gehalten. Das Material wurde dann unter Argon abgekühlt und es wurden 39,2 g eines sehr harten, gelben Materials erhalten.
- Die Ausbeute an Polymerem betrug 56,5%. Bei der TGA bei 1000°C in Argon wurde ein keramisches Material in einer Ausbeute von 41% erhalten. Die DTA bei 500°C in Argon zeigte keine Veränderungen an. Die DTA in Luft bei 500°C zeigte eine exotherme Reaktion bei 220°C an. Der Siliciumgehalt lag bei 42,4%. Durch Infrarotanalyse wurde die Gegenwart von -NH-, SiCH&sub3; und Si-N-Si festgestellt.
- Bei der Pyrolyse in einem Graphitofen bei 1200°C wurde Siliciumcarbid in einer Ausbeute von 37,3% erhalten. Durch Erwärmen auf 1200 bis 1600°C erhielt man das Siliciumcarbid in einer Ausbeute von 84,9%.
- Die EOS-Derivatisierung des Polymeren ergab 0,12% (CH&sub3;)&sub3;Si-, 10,5% (CH&sub3;)&sub2;Si= und 53% CH&sub3;Si ≡.
- Es wurden folgende Ausgangsstoffe in einem Reaktionskolben gegeben:
- CH&sub3;SiCl&sub3; 117,9 g (0,79 Mol)
(CH&sub3;)&sub2;SiCl&sub2; 63,9 g (0,49 Mol)
[(CH&sub3;)&sub3;Si]&sub2;NH 536,8 g (3,3 Mol) - Diese Materialien wurden unter einer Argonatmosphäre auf 275°C erwärmt und 1 Stunde bei dieser Temperatur gehalten. Dann wurde das Reaktionsprodukt unter Argon auf Raumtemperatur abgekühlt, wobei 54,6 g eines harten, spröden und gelben Polymeren erhalten wurden.
- Die Ausbeute des Polymeren betrug 63,6%. Die TGA bei 1000°C in Argon ergab eine Ausbeute von 51% keramischem Material. Die DTA bei 500°C in Argon zeigte keine Veränderungen an. Bei der DTA bei 500°C in Luft wurde eine exotherme Reaktion bei 200°C beobachtet. Der Siliciumgehalt lag bei 42,0%. Durch Infrarotanalyse wurde die Gegenwart von -NH-, NH&sub4;Cl, SiCH&sub3; und Si-N-Si festgestellt.
- Bei der Pyrolyse bei 1200°C wurden 44,9% keramisches Material erhalten. Durch Erwärmen auf 1200 bis 1600°C wurde das keramische Material in einer Ausbeute von 75,8% erhalten.
- Die EOS- Derivatisierung ergab 7,2% (CH&sub3;)&sub3;Si-, 7,3% (CH)&sub2;Si und 61% CH&sub3;Si ≡.
- Es wurden weitere Reaktionen durchgeführt, um zu erläutern, daß verschiedene Chlorsilane als Ausgangsstoffe verwendet werden können. Die Umsetzungen wurden in dem gleichen Reaktionsgefäß, wie in den vorstehenden Beispielen, durchgeführt. Die Reaktionszeiten und die Reaktionstemperaturen sind in der folgenden Tabelle I angegeben. Diese Tabelle zeigt auch die Ergebnisse der Reaktion und einige Eigenschaften der pyrolysierten Produkte.
Tabelle I
mit einem Disilazan der allgemeinen Formel
bei einer Temperatur im Bereich von 25 bis 300°C umsetzt und die flüchtigen Nebenprodukte abdestilliert, wobei
eintritt.
in der R ein Vinylrest oder ein Alkylrest mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen oder ein Phenylrest ist.
Claims (2)
1. Verfahren zur Herstellung eines R&min;&sub3;SiNH-enthaltenden Silazanpolymeren, dadurch gekennzeichnet, daß man in einer inerten Atmosphäre ein Organochlorsilan oder eine Mischung von Organochlorsilanen der allgemeinen Formel
R n SiCl4-n
mit einem Disilazan der allgemeinen Formel
(R&min;&sub3;Si)&sub2;NH
bei 25 bis 300°C umsetzt und die flüchtigen Nebenprodukte abdestilliert
R n SiCl4-n
mit einem Disilazan der allgemeinen Formel
(R&min;&sub3;Si)&sub2;NH
bei 25 bis 300°C umsetzt und die flüchtigen Nebenprodukte abdestilliert
(R = Vinyl, Alkyl mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen oder Phenyl;
R&min; = Vinyl, Wasserstoff, ein Alkyl mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen oder Phenyl;
n = 1 oder 2).
R&min; = Vinyl, Wasserstoff, ein Alkyl mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen oder Phenyl;
n = 1 oder 2).
2. Verwendung der Silazanpolymeren nach Anspruch 1 zur Herstellung von keramischem Siliciumcarbid.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/236,366 US4312970A (en) | 1981-02-20 | 1981-02-20 | Silazane polymers from {R'3 Si}2 NH and organochlorosilanes |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3128645A1 DE3128645A1 (de) | 1982-09-16 |
DE3128645C2 true DE3128645C2 (de) | 1987-03-05 |
Family
ID=22889189
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3128645A Expired DE3128645C2 (de) | 1981-02-20 | 1981-07-20 | Verfahren zur Herstellung eines R'↓3↓SiNH-enthaltenden Silazanpolymeren und dessen Verwendung zur Herstellung von keramischem Siliciumcarbid |
Country Status (15)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4312970A (de) |
JP (1) | JPS57139124A (de) |
KR (1) | KR840001711B1 (de) |
AU (1) | AU538466B2 (de) |
BE (1) | BE888787A (de) |
CA (1) | CA1168419A (de) |
DE (1) | DE3128645C2 (de) |
DK (1) | DK286881A (de) |
FI (1) | FI68257C (de) |
FR (1) | FR2500460A1 (de) |
GB (1) | GB2093470B (de) |
IT (1) | IT1136595B (de) |
NL (1) | NL8101940A (de) |
NO (1) | NO158139C (de) |
SE (1) | SE446452B (de) |
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- 1981-02-20 US US06/236,366 patent/US4312970A/en not_active Expired - Fee Related
- 1981-04-07 GB GB8110908A patent/GB2093470B/en not_active Expired
- 1981-04-07 CA CA000374869A patent/CA1168419A/en not_active Expired
- 1981-04-10 AU AU69401/81A patent/AU538466B2/en not_active Ceased
- 1981-04-21 KR KR1019810001356A patent/KR840001711B1/ko active
- 1981-04-21 NL NL8101940A patent/NL8101940A/nl not_active Application Discontinuation
- 1981-05-04 IT IT21495/81A patent/IT1136595B/it active
- 1981-05-07 JP JP56068859A patent/JPS57139124A/ja active Granted
- 1981-05-13 BE BE0/204772A patent/BE888787A/fr not_active IP Right Cessation
- 1981-05-15 FR FR8109792A patent/FR2500460A1/fr active Granted
- 1981-06-24 SE SE8103955A patent/SE446452B/sv not_active IP Right Cessation
- 1981-06-29 DK DK286881A patent/DK286881A/da not_active Application Discontinuation
- 1981-06-30 FI FI812045A patent/FI68257C/fi not_active IP Right Cessation
- 1981-07-20 DE DE3128645A patent/DE3128645C2/de not_active Expired
-
1982
- 1982-02-19 NO NO820517A patent/NO158139C/no unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU538466B2 (en) | 1984-08-16 |
AU6940181A (en) | 1982-08-26 |
BE888787A (fr) | 1981-11-13 |
SE446452B (sv) | 1986-09-15 |
GB2093470B (en) | 1984-11-14 |
JPS57139124A (en) | 1982-08-27 |
FI68257B (fi) | 1985-04-30 |
IT1136595B (it) | 1986-09-03 |
JPS6133857B2 (de) | 1986-08-05 |
FR2500460B1 (de) | 1984-02-17 |
FI68257C (fi) | 1985-08-12 |
US4312970A (en) | 1982-01-26 |
DE3128645A1 (de) | 1982-09-16 |
NO158139B (no) | 1988-04-11 |
KR840001711B1 (ko) | 1984-10-16 |
NL8101940A (nl) | 1982-09-16 |
SE8103955L (sv) | 1982-08-21 |
NO158139C (no) | 1988-07-20 |
FI812045L (fi) | 1982-08-21 |
CA1168419A (en) | 1984-06-05 |
DK286881A (da) | 1982-08-21 |
NO820517L (no) | 1982-08-23 |
IT8121495A0 (it) | 1981-05-04 |
KR830005286A (ko) | 1983-08-13 |
GB2093470A (en) | 1982-09-02 |
FR2500460A1 (fr) | 1982-08-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |