DE2900669C3 - Device for the spatial superposition of radiation fields of different wavelengths - Google Patents
Device for the spatial superposition of radiation fields of different wavelengthsInfo
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Description
Die Erfindung betriff; eine Vorrichtung entsprechend dem Oberbegriff der Ansprüche 1 und 2.The invention concerns; a device according to the preamble of claims 1 and 2.
Zur Erzielung einer Besetzungsinversion in einem bestimmten Laserübergang kann es erforderlich sein, das obere Laserniveau dadurch zu pu.npen, daß es mittels eines intensiven Strahlungsfeldes mit einem stark besetzten Energieniveau gekoppelt wird (optisches Pumpen). Liegt dieses stark besetzte Energieniveau oberhalb des oberen Laserniveaus und ist der Strahlungsübergang zwischen beiden Niveaus erlaubt, so muß die Pumpstrahlung nicht von außerhalb des Mediums zugeführt werden, vielmehr ist es möglich, zwischen diesem Energieniveau und dem oberen Laserniveau durch Anordnung eines geeigneten optischen Resonators einen zweiten Laserübergang zu bewirken, durch den ein für den Pumpprozeß des interessierenden Laserniveaus ausreichend hohes Strahlungsfeld entsteht.To achieve a population inversion in a particular laser transition it may be necessary to to pu.npen the upper laser level by means of an intense radiation field with a strongly occupied energy level is coupled (optical pumping). This heavily occupied energy level lies above the upper laser level and the radiation transition between the two levels is allowed, so the pump radiation does not have to be supplied from outside the medium, rather it is possible between this energy level and the upper laser level by arranging a suitable optical Resonator to cause a second laser transition, through which a for the pumping process of the A sufficiently high radiation field is created for the laser level of interest.
Ein solches Verfahren ist beispielsweise in Appl. Phys. Lett. 31, 1977, Seite 730-752 für ein N2:CO2:He-Lasersystem vorgeschlagen worden. Bei dieser bekannten Vorrichtung wurde mittels eines rotierenden oder feststehenden total-reflektierenden Spiegels und eines Spiegels, der zur Strahlungsauskopplung mit einem Loch versehen ist, ein starkes Strahlungsfeld im Wellenlängenbereich von 9,4 bzw. 10,6 μιτι durch entsprechende Vibrationsübergänge des CCh-Moleküls erzeugt. Gleichzeitig diente derselbe Resonator der Erzeugung von Laserstrahlung mit Wellenlängen von 14 bzw. 16 μιτι. Ein starkes Strahlungsfeld im 10,6-μπι-Lascrübergang bewirkt optisches Pumpen des (100O)- Vibrationsnivcaus mit resultierendem Laserübergang nach (011O) bei 14 μηι. Wird der 10,6^un-Laserübergang z. B. durch einen selektiven Absorber im Resonator unterdrückt, so bewirkt der nunmehr schwingende 9,44im-Übergang das Pumpen des (02°0)-Vibrationsnivcaus mit resultierendem Laserübergang ebenfalls nach (011O) bei 16 μηι. Im kontinuierlichen Betrieb wird dabei zusätzlich das untere Vibrationsniveau (011O) durch Beifügung von geringen Mengen Wasserstoff entvölkert. Such a method is for example in Appl. Phys. Lett. 31, 1977, pages 730-752 for an N 2 : CO 2 : He laser system. In this known device, a strong radiation field in the wavelength range of 9.4 and 10.6 μιτι was generated by corresponding vibration transitions of the CCh molecule by means of a rotating or stationary totally reflecting mirror and a mirror which is provided with a hole for coupling out radiation . At the same time, the same resonator was used to generate laser radiation with wavelengths of 14 and 16 μm. A strong radiation field in the 10.6 μm laser transition causes optical pumping of the (10 0 O) vibration level with the resulting laser transition according to (01 1 O) at 14 μm. If the 10.6 ^ un laser transition z. B. suppressed by a selective absorber in the resonator, the now oscillating 9.44im transition causes the pumping of the (02 ° 0) -Vibrationsnivcaus with the resulting laser transition also according to (01 1 O) at 16 μm. In continuous operation, the lower vibration level (01 1 O) is also depopulated by adding small amounts of hydrogen.
Bei der bekannten Vorrichtung werden Metallspiegel zur Reflexion der im Resonator entstehenden Strahlung verwendet. Zwar ist die Auskopplung der Strahlung durch ein Loch in dem Spiegel in relativ einfacher Weise durchführbar, jedoch weist diese Anordnung einige schwerwiegende Nachteile auf. Die Auskopplung der Strahlung durch ein Loch ist für die Qualität des Laserstrahls ungünstig. Durch die Verwendung von Metallspiegeln besitzt der Resonator für die Strahlung beider Wellenlängen annähernd dieselbe Güte, es ist daher nicht möglich, ihn für den jeweiligen ÜbergangIn the known device, metal mirrors are used to reflect the radiation generated in the resonator used. It is true that coupling out the radiation through a hole in the mirror is relatively simple feasible, however, this arrangement has some serious disadvantages. The decoupling of the Radiation through a hole is unfavorable for the quality of the laser beam. By the use of Metal mirrors, the resonator has approximately the same quality for the radiation of both wavelengths, it is therefore not possible to use it for each transition
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unabhängig vom anderen zu optimieren.to optimize independently of the other.
Neben der erwünschten Laserstrahlung wird auch die Strahlung des Pumpüberganges ausgesandt. Diese kann unter Urnständen die Anwendung der erwünschten Laserstrahlung störend beeinflussen. Es kann daher erforderlich werden, die störende Strahlung außerhalb des Laserresonators von der erwünschten Strahlung abzutrennen und zu absorbieren. Bei hohen Strahlungsleistungen können die hierzu notwendigen Vorrichtungen recht aufwendig sein.In addition to the desired laser radiation, the radiation from the pump junction is also emitted. This can may interfere with the application of the desired laser radiation. It can therefore are required, the interfering radiation outside the laser resonator from the desired radiation separate and absorb. In the case of high radiation outputs, the devices required for this can be used be quite expensive.
Eine Wellenlängenselektion, d. h. eine Feinabstimmung innerhalb der Laserübergänge ist nicht möglich, da die Ausbildung eines Laserspiegels als Reflexionsgitter nicht die voneinander unabhängige Abstimmung in beiden Übergängen erlaubt. Bei Abstimmung des einen Überganges wäre die Auskopplung des anderen Überganges nicht kontrollierbar.A wavelength selection, i. H. fine tuning within the laser transitions is not possible, because the design of a laser mirror as a reflection grating does not allow the independent coordination in both transitions allowed. If one transition were coordinated, the other would be decoupled Transition not controllable.
Schließlich ist das bekannte Verfahren in .Spektralbereichen, in denen das metallische Reflexionsvermögen nicht ausreicht, unbrauchbar, also beispielsweise im Ultraviolettbereich und im Vakuumultraviolettbereich.Finally, the known method is in .spectral ranges, in which the metallic reflectivity is insufficient, useless, for example in Ultraviolet range and in the vacuum ultraviolet range.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung der eingangs beschriebenen Art derart weiterzubilden, daß die Laserbedingungen für beide Strahlungen unabhängig voneinander optimierbar sind.The invention is based on the object of providing a device of the type described at the outset in this way to further develop that the laser conditions for both radiations can be optimized independently of one another.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die im kennzeichnenden Teil des Anspruchs I oder des Anspruchs 2 aufgeführten Merkmale gelöst.This object is achieved according to the invention by the in the characterizing part of claim I or the Claim 2 listed features solved.
Die Reflexionsanordnung kann dabei verschieden aufgebaut sein.The reflection arrangement can be constructed in different ways.
Bei einem ersten bevorzugten Ausführungsbeispiel gemäß Patentanspruch 1 weist die Reflexionsanordnung ein einziges Spiegelelement mit einer dielektrischen Beschichtung auf der dem aktiven Medium zugewandten Seite und einer weiteren dielektrischen Beschichtung auf der dieser gegenüberliegenden Seite auf.In a first preferred embodiment according to claim 1, the reflection arrangement a single mirror element with a dielectric coating on the one facing the active medium Side and a further dielectric coating on the opposite side of this.
Vorteilhaft ist auch eine zweite Anordnung gemäß Patentanspruch 2, bei welcher die Reflexionsanordnung zwei getrennte Spiegelelemente umfaßt, die jeweils an ihrer dem aktiven Medium zugewandten Seite eine dielektrische Beschichtung tragen.A second arrangement is also advantageous according to claim 2, in which the reflection arrangement comprises two separate mirror elements, each on its side facing the active medium one wear dielectric coating.
In beiden Fällen ist jede der beiden Beschichtungen für eine der beiden Strahlungen weitgehend durchlässig und für die andere so stark reflektierend, daß sich zusammen mit der Reflexion der anderen Beschichtung für diese Strahlung die optimale Reflexion ergibt.In both cases, each of the two coatings is largely transparent to one of the two radiations and for the other so highly reflective that it coincides with the reflection of the other coating gives the optimal reflection for this radiation.
Vorzugsweise tragen die Spiegel auf der vom aktiven Medium abgewandten Seite eine Antireflexionsschicht für die Strahlung, die von der Beschichtung des jeweiligen Spiegels durchgelassen wird. Dies stellt eine an sich bekannte Maßnahme dar (DE-OS 25 22 338).The mirrors preferably have an anti-reflection layer on the side facing away from the active medium for the radiation that is allowed through by the coating of the respective mirror. This represents a a known measure (DE-OS 25 22 338).
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen sind in den Unteransprüchen beschrieben.Further advantageous refinements are described in the subclaims.
Bei f'nem Laserresonator dieser Art ist es wesentlich, daß sich die Strahlungsfelder unterschiedlicher Wellen- 5^ länge möglichst im gesamten Volumen des aktiven Mediums gleichmäßig überdecken, da auf diese Weise die maximale Wechselwiikung der Moleküle des aktiven Mediums sowohl mit der Pumpstrahlung als auch mit der erwünschten Laserstrahlung erreicht wird.With a laser resonator of this type it is essential that the radiation fields of different waves- 5 ^ cover the length evenly in the entire volume of the active medium, since this way the maximum interaction of the molecules of the active medium with both the pump radiation and the is also achieved with the desired laser radiation.
Die sich im Resonator ausbildende Modenstruktur, also die Verteilung der Strahlung im Resonatorvolumen, ist bei gegebener Resonatorgcometrie eine Funktion der Wellenlänge. Reflektiert man also Strahlungen verschiedener Wellenlänge in herkömmlicher Weise an einer einzigen Spiegelfläche, so müssen sich im Resonator zwei unterschiedliche Modenstrukturen entwickeln, die sich jedoch dann nur teilweise überlappen und keinen optimalen Betrieb erlauben. So läßt sich beispielsweise errechnen, daß im TEMoo-Mode die Überlappung von Strahlungsfeldern mit Wellenlängen von 10,6 μιτ\ bzw. 14 μπι nur etwa 75% beträgt, d. h. fast 25% des möglichen Laserstrahlungsquerschnitts wird unzureichend optisch gepumpt und der Wirkungsgrad einer solchen Anordnung ist also deutlich herabgesetzt.The mode structure that forms in the resonator, i.e. the distribution of the radiation in the resonator volume, is a function of the wavelength for a given resonator gcometry. So if you reflect radiation different wavelengths in a conventional manner on a single mirror surface, so must be im Resonator develop two different mode structures, which however then only partially overlap and do not allow optimal operation. For example, it can be calculated that in TEMoo mode the overlap of radiation fields with wavelengths of 10.6 μιτ \ or 14 μπι is only about 75%, d. H. almost 25% of the possible laser radiation cross-section is insufficiently optically pumped and the efficiency such an arrangement is significantly reduced.
Verwendet man jedoch gemäß der Lehre der Ansprüche 1 oder 2 zwei getrennte Spiegelflächen auf der Vorder- und Rückseite eines Spiegelelementes bzw. auf der Vorderseite von zwei getrennten Spiegelelementen, so lassen sich die Krümmungsradien derart wählen, daß trotz verschiedener Wellenlänge die Modenstrukturen beider Strahlungen gleich werden, daß man also eine praktisch vollständige Überlappung der beiden Strahlungsfelder erreicht.If, however, according to the teaching of claims 1 or 2, two separate mirror surfaces are used the front and back of a mirror element or on the front of two separate mirror elements, the radii of curvature can be selected in such a way that, despite different wavelengths, the Mode structures of both radiations become the same, so that there is a practically complete overlap of the two radiation fields.
Mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung wird es also möglich, die Strahlungsübergänge getrennt zu optimieren. Man kann damit beispielsweise in einem der Laserübergänge ein möglichst hohes Strahlungsfeld erzeugen, und init diesem den anderen Laserübergang optisch pumpen. Ohne diese Optimierungsmöglichkeit ginge der Anteil, welcher vom Pumpstrahlungsfeld aus der Resonatoranordnung ausgekoppelt wird, bei dem Pumpprozeß verloren. Dieser Verlust würde sich in einer geringeren Ausgangsleistung im gewünschten Laserübergang niederschlagen.With the device according to the invention it is thus possible to optimize the radiation transitions separately. You can use it to achieve the highest possible radiation field in one of the laser junctions, for example generate, and with this pump the other laser transition optically. Without this optimization option the portion which is coupled out of the resonator arrangement by the pump radiation field would go to the Pumping process lost. This loss would result in a lower output power in the desired Knock down laser transition.
Mit diesem Verfahren ist es beispielsweise möglich, bei der Verwendung des oben beschriebenen Lasersystems Laserübergänge bei einer Wellenlänge von 16 μπι zu erzeugen, die für die Trennung der Uranisotope 235U und 238U von großer Bedeutung sind, wenn diese Isotope in Form der Verbindung UF6 vorliegen (Laserfocus, Vol. 14,1978, Nr. 4, S. 36).With this method it is possible, for example, when using the laser system described above to generate laser transitions at a wavelength of 16 μm, which are of great importance for the separation of the uranium isotopes 235 U and 238 U when these isotopes are in the form of the compound UF 6 are available (Laserfocus, Vol. 14.1978, No. 4, p. 36).
Um den Laser genau auf einen geeigneten Rotations-Vibrationsübergang des UFb-Moleküls im 16-μηι-Bereich abzustimmen, damit die isotopenselektive Anregung mit genügend hoher Effizienz erfolgt, ist es günstig, z. B. mit Hilfe eines Beugungsgitters im Resonator die optimal geeignete Laserlinie bevorzugt anschwingen zu lassen.Around the laser exactly on a suitable rotation-vibration transition of the UFb molecule in the 16 μm range it is to be coordinated so that the isotope-selective excitation takes place with sufficiently high efficiency cheap, e.g. B. with the help of a diffraction grating in the resonator, the optimally suitable laser line is preferred to swing.
Darüber hinaus kann es von Vorteil sein, einen entsprechenden Übergang in einer der Sequenzbanden (Rev. Sei. Instr. Vol. 48, 1977, Nr. 8, S. 1031 - 1033 unter Zuhilfenahme des dort beschriebenen Verfahrens anzuwenden. Die Vibrations-Rotations-Linien sind bei den Sequenzbanden geringfügig gegenüber jenen der Grundbande verschoben, so daß eine bessere Koinzidenz mit dem der UF6-Übergänge möglich erscheint.In addition, it can be advantageous to use a corresponding transition in one of the sequence bands (Rev. Sci. Instr. Vol. 48, 1977, No. 8, pp. 1031-1033 with the aid of the method described there. Lines are slightly shifted in the sequence bands compared to those of the base band, so that a better coincidence with that of the UF 6 transitions appears possible.
Die nachfolgende Beschreibung bevorzugter Ausführungsbeispiele der Erfindung dient im Zusammenhang mit der Zeichnung der näheren Erläuterung. Es zeigtThe following description of preferred exemplary embodiments of the invention serves in conjunction with the drawing for a more detailed explanation. It shows
Fig. 1 eine schematische Seitenansicht eines ersten bevorzugten Ausführungsbeispiels einer Laseranordnung undFig. 1 is a schematic side view of a first preferred embodiment of a laser arrangement and
Fig.2 eine Ansicht ähnlich Fig. 1 einer weiteren bevorzugten Ausführungsform einer Laseranordnung.2 shows a view similar to FIG. 1 of a further preferred embodiment of a laser arrangement.
Die in Fig. I dargestellte Vorrichtung besteht aus einem total·reflektierenden Spiegel 1 und einem Spiegelelement 2, zwischen denen sich ein laseraktives Medium 3 befindet, das beispielsweise CO2-GaS sein kann. Das Spiegelelement 2 besteht aus einem Substrat 4. v> jlches vorzugsweise aus CdTe besteht, das sowohl auf seiner Vorderseite als auch auf seiner Rückseite je eine dielektrische Beschichtung 6 bzw. 7 trägt. Die Reflexionseigenschaften dieser Beschichtungen sind derart gewählt, daß jede Beschichtung für eine derThe device shown in FIG. I consists of a totally reflecting mirror 1 and a mirror element 2, between which there is a laser-active medium 3, which can be, for example, CO 2 gas. The mirror element 2 consists of a substrate 4, preferably made of CdTe, which has a dielectric coating 6 and 7 on its front side as well as on its rear side. The reflective properties of these coatings are chosen so that each coating for one of the
beiden Strahlungen durchlässig ist, während sie für die andere Strahlung die für den Laserbetrieb optimalen Reflexionseigenschaften aufweist. Wenn die Besehichttingen für eine der beiden Strahlungen nicht vollständig durchlässig sind, dann isl es vorteilhaft, wenn die andere Schicht diese nur teilweise durchgelasscnc Strahlung nur so stark reflektiert, daß die Reflexion an beiden Beschichtungen zusammengenommen die für den Laserbetrieb optimale Reflexion ergibt. Damit bei diesem Ausführungsbeispiel die Resonatorachsen annähernd übereinstimmen, d. h. damit der Resonator justierbar wird, müssen die Vorder- und die Rückfläche des teilweise durchlässigen Spiegelelements 2 sehr genau parallel liegen.both radiations is permeable, while the other radiation is the optimal one for laser operation Has reflective properties. When the Besehichttingen are not completely transparent to one of the two radiations, then it is advantageous if the other Layer reflects this only partially transmitted radiation only so strongly that the reflection from both Coatings taken together give the optimal reflection for laser operation. So with In this embodiment, the resonator axes approximately coincide, d. H. thus the resonator becomes adjustable, the front and back surfaces of the partially transmissive mirror element 2 must be very lie exactly parallel.
Der Pumpübergang für den H-jim-Laserübergang lieg; bei !0.6 μνη und jener für der, !fc-^irn-Laserübergang bei 9.4 μηι. Durch entsprechende Optimierung der jeweiligen Rcflexionseigcnschaften der dielektrischen Beschichtung lassen sich die Wellenlänge der Pumpstrahlung und damit auch die Wellenlänge der gewünschten Laserstrahlung auswählen. Im übrigen ist zur Selektion einer der beiden Pumpsirahlungen zusätzlich möglich, die jeweils andere Pumpstrahlung im Resonator durch Einbringen eines geeigneten Absorbers zu absorbieren.The pumping junction for the H-jim laser junction is lying; at! 0.6 μνη and that for the,! fc- ^ irn laser transition at 9.4 μηι. By correspondingly optimizing the respective reflection properties of the dielectric coating, the wavelength of the pump radiation and thus also the wavelength of the desired laser radiation can be selected. In addition, in order to select one of the two pump radiation, it is also possible to absorb the other pump radiation in the resonator by introducing a suitable absorber.
Die Beschichtungen selbst können gegebenenfalls aus mehreren dielektrischen Schichten aufgebaut sein, das Substrat kann entweder ganz oder teilweise, auch in geeignet gestalteten geometrischen Mustern, mit der dielektrischen Beschichtung bedeckt sein.The coatings themselves can optionally be built up from several dielectric layers The substrate can either be wholly or partially, also in suitably designed geometric patterns, with the dielectric coating be covered.
Eine weitere in I-i g. 2 dargestellte Ausführungsform umfaßt neben dem total-reflektierenden Spiegel 1 ein erstes Spiegelelement 12 sowie ein davon getrenntes zweites Spiegclelcmen! !6. die beide aus einem Substrat 14 bzw. 18 bestehen, das auf seiner dem total-reflektierenden Spiegel 1 zugewandten Seite eine dielektrische Beschichtung 13 bzw. 17 und auf seiner gegenüberliegenden Seite eitu· Antireflexionsschicht 15 bzw. 59 trägt. Das aktive Medium 3 ist zwischen dem total-reflektierenden Spiegel 1 und dem ersten Spiegelelement 12 angeordnet.Another in I-i g. 2 illustrated embodiment includes besides the total reflecting mirror 1 a first mirror element 12 and a second mirror element separated therefrom! ! 6. both from one substrate 14 or 18 exist, which on its side facing the totally reflective mirror 1 has a dielectric Coating 13 or 17 and on its opposite side eitu · antireflection layer 15 or 59 carries. The active medium 3 is between the totally reflective Mirror 1 and the first mirror element 12 are arranged.
Bei einer ersten Ausführungsfurm ist die Beschichtung 13 für eine der beiden Strahlungen vollkommen durchlässig, während sie für die andere Strahlung eine optimale Reflexion aufweist. Demgegenüber zeigt die dielektrische Beschichtung 17 für die von der Schicht 13 durchgelassene Strahlung optimale Reflexion.In a first embodiment, the coating is 13 completely transparent to one of the two radiations, while one for the other radiation has optimal reflection. In contrast, the dielectric coating 17 shows for that of the layer 13 transmitted radiation optimal reflection.
Bei einem abgewandelten Ausführungsbeispiel, bei dem die Beschichtungen 13 und 17 nicht für eine der Strahlungen vollkommen durchlässig sind, können die Rcflexionseigcnschaften der Schichten so aufeinander abgestimmt werden, daß sich durch die Reflexion einer Strahlung an den Schichten 13 und 17 insgesamt die optimale Reflexion ergibt.In a modified embodiment, at the coatings 13 and 17 are not completely transparent to one of the radiations, the Reflection properties of the layers are coordinated with one another in such a way that a Radiation at the layers 13 and 17 overall results in the optimal reflection.
Die Antireflexionsschichten 15 und 19 auf der Rückseite der Spicgelelemcntc 12 und 16 dienen der Vermeidung von Reflexionsvcilusten. Dabei läßt dieThe anti-reflective layers 15 and 19 on the The rear side of the mirror elements 12 and 16 are used to avoid reflections. The
κι Antireflexionsschicht 15 die von der dielektrischen Beschichtung 13 durchgchisscnc Strahlung im wesentlichen reflexionsfrci aus dom Spicgelclement 12 austreten, die Antireflexionsschicht 19 die von der dielektrischen Beschichtung 17 durchgelassene Strahlung.κι anti-reflective layer 15 from the dielectric Coating 13 is essentially through chisscnc radiation reflexionsfrci emerge from dom Spicgelclement 12, the anti-reflective layer 19 the radiation transmitted by the dielectric coating 17.
Von besonderer Bedeutung sind die Antireflexionsschichlcn, wenn die Fläche auf der Rückseite des .Spiegelclements, auf die sie aufgebracht sind, um einen kleinen Keilwinkel gegen die Fläche auf der Vorderseite des Spiegelelements geneigt isl. was bei Laserspiegeln üblicherweise der [-"all ist. Ohne die Antireflexionsschicht tritt infolge des Keilwinkcls ein Slreuvcrlust auf, welcher nur durch eine erhebliche Verringerung des Keilwinkcls beseitigt weiden könnte.Of particular importance are the anti-reflective layers, when the surface on the back of the .Spiegelclement to which they are applied to a small wedge angle against the surface on the front side of the mirror element isl. what about laser mirrors usually the [- "is all. Without the anti-reflective coating, a loss of sliver occurs due to the wedge angle, which could only be eliminated by a considerable reduction in the wedge angle.
Daneben ist zu berücksichtigen, daß entweder alle drei Laserspiegel mit einer Justiervorrichtung ausgestattet sein müssen, oder aber, wenn der Spiegel 12 in einer vorjustierten Einrichtung untergebracht ist. nur die Spiegel 1 und 16 justierbar zu sein brauchen.In addition, it must be taken into account that either all three laser mirrors are equipped with an adjustment device must be, or if the mirror 12 is housed in a pre-adjusted device. only mirrors 1 and 16 need to be adjustable.
Die in den Fig. 1 und 2 dargestellte AnordnungThe arrangement shown in Figs
3d erlaubt darüber hinaus je nach den Eigenschaften des laseraktiven Mediums die Wahl, ob die Pumpstrahlung von den Beschichtungen 6 bzw. 13 und die erwünschte Laserstrahlung von den Beschichtungen 7 bzw. 15 reflektiert werden oder ob die Reflexion umgekehrt erfolgt. So wird man z. B. bei hoher Strahlungsintensität im Pumpübergang und ausreichender Verstärkung im gewünschten Laserübergang die zuerst beschriebene Anordnung wählen. Dadurch wird erreicht, daß nur die dielektrischen Beschichtungen 6 bzw. 13 mit der hohen Strahlungsleistung beaufschlagt werden, nicht jedoch jene, welche für den anderen Übergang optimiert sind.3d also allows, depending on the properties of the laser-active medium the choice of whether the pump radiation from the coatings 6 or 13 and the desired Laser radiation from the coatings 7 or 15 are reflected or whether the reflection is the other way around he follows. So you will z. B. at high radiation intensity in the pump junction and sufficient gain in the select the arrangement described first for the desired laser transition. This ensures that only the dielectric coatings 6 and 13 are acted upon with the high radiation power, but not those that are optimized for the other transition.
Bei geringer Verstärkung im gewünschten Lascrübcrgang jedoch wird man umgekehrt verfahren, d. h. die dielektrischen Beschichtungen 6 bzw. 13 werden für diesen Übergang optimiert. Dann ist dieser Übergang im Resonator frei von weiteren, verlustbehafteten optischen Elementen.In the case of a low gain in the desired laser transition, however, the procedure is reversed, i. H. the dielectric coatings 6 and 13 are optimized for this transition. Then there is this transition in the resonator free of further lossy optical elements.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US3970960A (en) * | 1974-01-31 | 1976-07-20 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Broadly tunable continuous-wave laser using color centers |
| DE2522338C3 (en) * | 1974-05-20 | 1979-11-29 | Hitachi, Ltd., Tokio | Device for generating coherent light |
-
1979
- 1979-01-10 DE DE19792900669 patent/DE2900669C3/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2900669A1 (en) | 1980-07-24 |
| DE2900669B2 (en) | 1981-04-30 |
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