DE2845255A1 - METHOD OF POLARIZING THERMOPLASTIC RESIN FILMS - Google Patents
METHOD OF POLARIZING THERMOPLASTIC RESIN FILMSInfo
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KUREHA KAGAKU KOGYO KABUSHIKI KAISHA, No. 1-8, Horidomecho, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokio, JapanKUREHA KAGAKU KOGYO KABUSHIKI KAISHA, No. 1-8, Horidomecho, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo, Japan
Verfahren zum Polarisieren thermoplastischer HarzfilmeMethod of polarizing thermoplastic resin films
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Polarisieren eines thermoplastischen Harzfilms zwischen einem Paar Elektroden. Gegenstand der Erfindung ist also ein Verfahren zur Polarisation hochmolekularer Filme, in denen ein Polarisationsverlust unter durch hohe Spannung hervorgerufenen elektrischen Feldern verringert ist.The invention relates to a method of polarizing a thermoplastic resin film between a pair of electrodes. The invention therefore relates to a method for polarizing high molecular weight films in which there is a loss of polarization is reduced under high voltage electrical fields.
Bisher werden Elektrete, piezoelektrische und pyroelektrische Elemente entsprechend einem Verfahren hergestellt, bei dem der hochmolekulare Film zwischen zwei Elektrodenflächen gebracht und nach Anlegen einer Hochspannung an die Elektrodenflächen durch ein elektrisches Feld hoher Spannung polarisiert wird. In diesem Verfahren nimmt der Grad der Polari-So far, electrets, piezoelectric and pyroelectric elements are manufactured according to a method at which the high molecular film is placed between two electrode surfaces and after applying a high voltage to the electrode surfaces is polarized by a high voltage electric field. In this procedure, the degree of polar
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sation mit der elektrischen Feldstärke oder der Spannung zu. Die entstehenden Elektrete, piezoelektrischen Elemente oder pyroelektrischen Elemente zeigen hervorragendes Verhalten. Dementsprechend ist es wünschenswert, so hohe elektrische Felder an den Film anzulegen, wie es aufgrund der Durchschlagsfestigkeit des Films bei seiner Polarisationstemperatur möglich ist.sation with the electric field strength or the voltage. The resulting electrets, piezoelectric elements or pyroelectric elements show excellent behavior. Accordingly, it is desirable to be so high to apply electric fields to the film as it is due the dielectric strength of the film is possible at its polarization temperature.
Wenn ein hochmolekularer Film Verunreinigungen enthält oder Stellen besitzt, an denen er dünner ist, ist die Durchschlagsfestigkeit solch einer dünnen Stelle gering. In diesem Fall kann der Film lokal durch Anlegen der Hochspannung beschädigt werden, sogar wenn andere Bereiche des Films genügende Durchschlagsfestigkeit aufweisen. Als Folge davon werden die zwischen den Elektroden gespeicherten Ladungen durch diesen beschädigten Teil des Films zwischen den Elektroden entladen. Wenn die für die Polarisation notwendige Hochspannung durch diesen beschädigten Anteil einige Zeit entladen wird, wird eine große Wärmemenge frei, und als Ergebnis wird der Film in der Umgebung des beschädigten Bereichs schmelzen und die entsprechenden Bereiche der Elektroden werden beschädigt.If a high molecular film contains impurities or has places where it is thinner, dielectric strength is low such a thin spot. In this case, the film can be made locally by applying the high voltage even if other areas of the film have sufficient dielectric strength. As a consequence of this The charges stored between the electrodes are released through this damaged part of the film between the electrodes unload. If the high voltage necessary for polarization has been caused by this damaged part for some time is discharged, a large amount of heat is released, and as a result, the film becomes around the damaged area melt and damage the corresponding areas of the electrodes.
Es wird nun von dem Fall ausgegangen, daß dünne metallische Filmelektroden auf beide Oberflächen des zu polarisierenden Films durch Vakuumaufdampfen, Plattieren oder Andrücken aufgebracht werden und ein defekter Teil des zu polarisierenden Films örtlich durch die bei der Polarisation anzulegende Hochspannung weiter beschädigt wird. Zunächst werden die Elektroden durch diese derart beschädigte Stelle kurzgeschlossen. Als Folge davon fließen die Ladungen, die zwischen den Elektroden gespeichert wurden, und die Ladungen aus der Stromquelle durch den beschädigten Teil des Films. Das führt zu einer Wärmeentwicklung, die zum Schmelzen des Films und zur Bildung eines großen Lochs führt so-It is now assumed that thin metallic film electrodes on both surfaces of the polarized Film can be applied by vacuum evaporation, plating or pressing and a defective part of the to be polarized The film is further damaged locally by the high voltage to be applied during polarization. First will be the electrodes short-circuited through this damaged area. As a result, the charges flow were stored between the electrodes, and the charges from the power source passed through the damaged part of the Films. This creates heat that melts the film and creates a large hole.
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wie das Verdampfen der entsprechenden Teile der Elektroden bewirkt. Durch das Verdampfen des entsprechenden Teils der Elektroden wird der Kurzschluß beseitigt, d.h., die Elektroden sind selbstheilend, und dementsprechend kann die Polarisation weiterhin ausgeführt werden, nichtsdestoweniger kann der Teil des Films, der zerstört wurde oder den beschädigten Teilen der Elektroden entspricht, nicht mehr verwendet werden.like the evaporation of the corresponding parts of the electrodes causes. Evaporation of the appropriate part of the electrodes will remove the short circuit, i.e. the electrodes are self-healing, and accordingly the polarization can still be carried out, none the less the part of the film that has been destroyed or corresponds to the damaged parts of the electrodes can no longer be used will.
Der Erfindung liegt demgemäß die Aufgabe zugrunde, ein Polarisationsverfahren für hochmolekulare Filme zu schaffen, bei dem das Ausmaß an Beschädigungen, hervorgerufen durch Entladungen während der Polarisation, verringert ist.The invention is accordingly based on the object of creating a polarization method for high molecular weight films, in which the extent of damage caused by discharges during polarization is reduced.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß Beschädigungen der auf der Filmoberfläche aufgebrachten Elektroden vermieden werden. Außerdem sollen hochmolekulare Filme ökonomischer als bisher möglich zu polarisieren sein, bei gleichzeitiger Erhöhung der Ausbeute beim Herstellen von Filmen mit minimalen Oberflächenveränderungen aufgrund von Entladungen.According to the invention this object is achieved in that damage of the electrodes applied to the film surface can be avoided. In addition, high molecular weight Films can be polarized more economically than previously possible, while at the same time increasing the production yield of films with minimal surface changes due to discharges.
Sogar wenn der Film Bereiche niedriger Durchschlagsfestigkeit aufweist, wird der Schaden durch das Anlegen der Hochspannung auf das Auftreten eines "pin hole" beschränkt, wobei aber keine Beschädigung des Films oder der Elektroden resultieren kann.Even if the film has areas of low dielectric strength, the damage will be caused by the application of the high voltage limited to the occurrence of a pin hole, but no damage to the film or electrodes can result.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Polarisierung hochmolekularer Filme wird eine Schicht von dielektrischem oder halbleitendem Material, dessen elektrische Leitfähigkeit größer als die des zu polarisierenden Films ist, zwischen mindestens eine der beiden Elektroden un,d den zu polarisierenden Film gelegt.In the method according to the invention for polarizing high molecular weight Films are a layer of dielectric or semiconducting material whose electrical conductivity is greater than that of the film to be polarized, between at least one of the two electrodes un, d the one to be polarized Film laid.
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Erfindungsgemäß ist während der Polarisation des hochmolekularen Films mindestens eine Oberfläche des Films in Kontakt mit einer Schicht eines Dielektrikums oder eines Halbleiters, die sich zwischen einer der beiden Elektroden und dem zu polarisierenden Film befindet, und die Differenz zwischen dem Potential dieser Kontaktoberfläche und dem Potential der anderen Elektrode wird an den zu polarisierenden Film angelegt. Da die elektrische Kapazität der Schicht des dielektrischen oder halbleitenden Materials sehr klein ist und auch die elektrische Leitfähigkeit niedrig ist, ist, selbst wenn der zu polarisierende Film eine Fehlstelle mit niedrigem elektrischem Widerstand aufweist, der durch den defekten Teil fließende Strom sehr klein. Zusätzlich soll darauf hingewiesen werden, daß sogar dann, wenn sich ein pin hole gebildet hat, dieses sich nicht signifikant vergrößert und die Elektrode, die auf der entgegengesetzten Oberfläche des Feldes aufliegt, daher nicht beschädigt wird.According to the invention, at least one surface of the film is in contact during the polarization of the high molecular weight film with a layer of dielectric or semiconductor that extends between one of the two electrodes and the film to be polarized, and the difference between the potential of this contact surface and the The potential of the other electrode is applied to the film to be polarized. Since the electrical capacity of the Layer of dielectric or semiconducting material is very small and also the electrical conductivity is low is, even if the film to be polarized has a defect with low electrical resistance, the current flowing through the defective part is very small. In addition, it should be pointed out that even then if a pin hole has formed, it does not enlarge significantly, and the electrode on the opposite one Surface of the field rests, therefore is not damaged.
Zusammenfassend handelt es sich bei der Erfindung um ein Verfahren zur Polarisation von thermoplastischen Harzfilmen zwischen einem Paar von Elektroden, bei dem eine Schicht eines Dielektrikums oder eines Halbleiters mit einer höheren elektrischen Leitfähigkeit als die des thermoplastischen zu polarisierenden Harzfilms zwischen mindestens eine der beiden Elektroden und den thermoplastischen Harzfilm gelegt wird.In summary, the invention is a method for polarizing thermoplastic resin films between a pair of electrodes in which a layer of dielectric or semiconductor with a higher electrical conductivity than that of the thermoplastic resin film to be polarized between at least one of the two electrodes and the thermoplastic resin film is laid.
Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus den Ansprüchen und aus der nachfolgenden Beschreibung, in der Ausführungsbeispiele im einzelnen erläutert werden. Dabei zeigt:Further features and advantages of the invention emerge from the claims and from the following description in of the exemplary embodiments are explained in detail. It shows:
Fig. 1 eine schematische Seitenansicht, die das erfindungsgemäße Polarisationsverfahren darstellt. Fig. 1 is a schematic side view illustrating the polarization method of the present invention.
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Wie in Figur 1 dargestellt, soll ein Film 1, der zum Beispiel aus Polyvinylidenfluorid hergestellt sein kann, polarisiert werden. Eine Filmelektrode 2 wird durch Aufbringen von Gold, Silber, Aluminium, Nickel oder Zinn auf eine Oberfläche des Films 1 entsprechend der zu diesem Zweck passenden Methode wie Vakuumaufdampfen, Plattieren oder Aufdrücken, gebildet. Ein Film 3 wird aus einem Material mit höherer elektrischer Leitfähigkeit als Film hergestellt, wie Polyvinylidenfluorid, dem ein geringer Anteil einer ionischen Komponente zugemischt wurde. Film wird auf der der Elektrode 2 entgegengesetzten Oberfläche des Films 1 aufgebracht. (Zur besseren Vorstellung: Film 3 wird von Film 1 in Fig. 1 getrennt, nichtsdestoweniger ist praktisch der erstere in engem Kontakt mit dem letzteren.) Ähnlich wie in dem Fall der Filmelektrode 2, wird eine Elektrode 2' auf der äußeren Oberfläche des Films 2 gebildet.As shown in Figure 1, a film 1, the Example made of polyvinylidene fluoride can be polarized. A film electrode 2 is formed by applying of gold, silver, aluminum, nickel or tin on a surface of the film 1 corresponding to that of this Purpose suitable method such as vacuum evaporation, plating or pressing on, formed. A film 3 is made of a material having higher electrical conductivity than a film manufactured, such as polyvinylidene fluoride, which is a minor Part of an ionic component was added. Film becomes on the surface opposite to the electrode 2 of the film 1 applied. (To give you a better idea: Film 3 is separated from Film 1 in Figure 1, none the less is practically the former in close contact with the latter.) Similar to the case of the film electrode 2, becomes an electrode 2 'is formed on the outer surface of the film 2.
Wenn eine Polarisation durch Anlegen einer Spannung V zwischen den Elektroden 2 und 2' bewirkt wird, können die elektrischen Felder E. und E„, die an den Filmen 1 und 3 anliegen, durch folgende Gleichungen ausgedrückt werden:If a polarization is caused by applying a voltage V between the electrodes 2 and 2 ', the electrical Fields E. and E ", which are attached to films 1 and 3, can be expressed by the following equations:
E1 - i-r62 . > νE 1 - ir 62 . > ν
1 O1d2 + O2d1 1 O1d2 + O2d1
E2 = {~Z< ~< ) V E 2 = { ~ Z < ~ < ) V
z Oid2 +Ö2d1 z Oid2 + Ö2d1
01 und (32 sind die elektrischen Leitfähigkeiten der Filme 1 und 3f und d1 und d2 sind die Dicken der Filme 1 und 3.01 and (32 are the electrical conductivities of films 1 and 3, f and d1 and d2 are the thicknesses of films 1 and 3.
Wenn CJ1 kleiner als (f2 ist, dann ist E1 größer als E , d.h., daß das elektrische Feld, das zur Polarisation von Film 1 angelegt wird, größer ist als das elektrische Feld, das an den Film 3 angelegt wird. Wenn die Filme so gewählt werden, daß Cf2 größer als σΊ ist, kann E1 genügend klein gemachtIf CJ1 is less than (f2 , then E 1 is greater than E, that is, the electric field applied to polarize film 1 is greater than the electric field applied to film 3. If the films be chosen so that Cf 2 is greater than σΊ, E 1 can be made sufficiently small
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BOEHMERT & BOEHMERTBOEHMERT & BOEHMERT
werden, sogar wenn E„ zunimmt. Daher wird kein Spannungsdurchschlag des Films 3 eintreten.become even if E "increases. Therefore, there will be no voltage breakdown of film 3 occur.
Wenn Film 1 eine lokale Defektstelle besitzt, in der die Durchschlagsspannung niedriger als die der umgebenden Filmfläche ist, ist die elektrische Leitfähigkeit der Defektstelle größer als die des restlichen Films. Hierdurch wird das Fließen eines großen Stroms ermöglicht, und der Durchschlag an dieser Stelle wird verstärkt werden. Da jedoch der Film 3 aus einem dielektrischen oder isolierenden Material hergestellt wird und die elektrische Leitfähigkeit sehr klein verglichen mit der der Metallelektrode ist, ist der Strom, der durch Film 3 auf die Oberfläche des Films 3 gebracht wird, klein genug, um das Durchschlagen in diesem Bereich zu verhindern. Sogar wenn ein Durchschlag hervorgerufen wird, ist die Strommenge, die durch Film 3 fließt, klein verglichen mit der, wo er sich in direktem Kontakt mit der Elektrode befindet, und das Energieniveau ist niedrig. Daher wird das Harz um die Stellen, die dem Spannungsdurchschlag ausgesetzt sind, nie schmelzen. Es werden nie größere Defektstellen als "pin holes" entstehen, die Elektroden werden nie verdampfen. Dementsprechend ist es nicht wünschenswert, daß der Wert οΊ sehr groß ist. Die obere Grenze des Wertes Cf 2 soll ungefähr 10 GIcm) sein, die relativ nahe der elektrischen Leitfähigkeit eines Dielektrikums in Halbleitern ist. Es ist besser, ein Dielektrikum zu benutzen, dessen elektrische Leitfähigkeit niedriger als 10 dflcm) ist. Die untere Grenze der elektrischen Leitfähigkeit 02 ist höher als die elektrische Leitfähigkeit CΊ. Entsprechend den lokalen Schwankungen der elektrischen Leitfähigkeit des Films ist es empfehlenswert, daß die untere Grenze der elektrischen Leitfähigkeit Cf2 mehr als 1,5, besser noch dreimal größer als die elektrische Leitfähigkeit Cf1 ist.If film 1 has a local defect in which the breakdown voltage is lower than that of the surrounding film surface, the electrical conductivity of the defect is greater than that of the rest of the film. This will allow a large current to flow, and the breakdown at this point will be increased. However, since the film 3 is made of a dielectric or insulating material and the electrical conductivity is very small compared to that of the metal electrode, the current that is brought through film 3 to the surface of the film 3 is small enough to cause the breakdown in to prevent this area. Even if a breakdown is caused, the amount of current flowing through film 3 is small compared to where it is in direct contact with the electrode, and the energy level is low. Therefore, the resin around the areas exposed to the voltage breakdown will never melt. Defects larger than "pin holes" will never arise, the electrodes will never evaporate. Accordingly, it is not desirable that the value οΊ be very large. The upper limit of the value Cf 2 should be approximately 10 GIcm), which is relatively close to the electrical conductivity of a dielectric in semiconductors. It is better to use a dielectric with an electrical conductivity lower than 10 dflcm). The lower limit of the electrical conductivity 02 is higher than the electrical conductivity C Ί. In accordance with the local fluctuations in the electrical conductivity of the film, it is recommended that the lower limit of the electrical conductivity Cf2 is more than 1.5, better still three times, greater than the electrical conductivity Cf1.
Nehmen wir nun den Fall an, daß die Spannung V zwischen denLet us now assume the case that the voltage V between the
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Elektroden 2 und 2' angelegt ist und der zu polarisierende Film 1 eine Defektstelle mit niedrigem Widerstand besitzt, durch die große Ströme fließen, verglichen mit den Strömen in anderen Bereichen des Films- In diesem Fall fließen die Ladungen, die in den Zwischenraum zwischen beiden Filmen oberhalb der Defektstelle 4 gespeichert wurden (später als "der Zwischenraum 4'" bezeichnet) zur Elektrode 2. Das bedeutet, daß die Zahl der Ladungen in dem Zwischenraum 4' abnimmt, Da der Film 3 zwischen der Elektrode 2' und dem Zwischenraum aus einem Dielektrikum oder einem Halbleiter besteht, ist die elektrische Leitfähigkeit des Films 3 klein. Dementsprechend ist die Strommenge, die von der Elektrode 2l durch den Film 3 in den Zwischenraum 4* fließt, klein. Obwohl Ladungen in dem restlichen Bereich des Zwischenraums zwischen den Filmen 1 und 3 gespeichert wurden, ist die Ladungsmenge, die von dort zum Zwischenraum 41 fließt, extrem klein. Daher wird das Ladungsdefizit nicht sofort aufgefüllt, wenn die Ladungsmenge im Zwischenraum 4' erniedrigt worden ist, und dementsprechend fließt kein nennenswerter Strom durch die Defektstelle 4. Der Film ist daher nicht dem Spannungsdurchschlag im Bereich 3 und 4 unterworfen. Sogar wenn die Defektstelle 4 durch Entladung in den Zwischenraum 41 beschädigt worden ist, und ein "pin hole" gebildet worden ist, ist dieElectrodes 2 and 2 'is applied and the film to be polarized 1 has a low resistance defect through which large currents flow compared to the currents in other areas of the film. In this case, the charges that flow in the space between the two films above the defect 4 (later referred to as "the gap 4 '") to the electrode 2. That is, the number of charges in the gap 4' decreases Dielectric or a semiconductor, the electrical conductivity of the film 3 is small. Accordingly, the amount of current flowing from the electrode 2 1 through the film 3 into the space 4 * is small. Although charges have been stored in the remaining area of the gap between films 1 and 3, the amount of charge flowing from there to gap 4 1 is extremely small. Therefore, the charge deficit is not filled up immediately when the amount of charge in the gap 4 'has been decreased, and accordingly no significant current flows through the defect 4. Even if the defect 4 has been damaged by discharge into the gap 4 1 , and a "pin hole" has been formed, that is
Größe des Lochs sehr klein, weil die Ladungsmenge die so entladen wird, extrem klein ist. Später ist es möglich, eine höhere Spannung anzulegen, da der Film sich,durch die Entladungen selbst heilen wird. Wie oben beschrieben, werden in der erfindungsgemäßen Polarisationstechnik kaum "pin holes" gebildet, und sogar wenn solch ein Loch gebildet wird, bleibt dessen Größe sehr klein. Daher ist es nicht notwendig, Bereiche mit "pin holes" aus dem polarisierten Film zu entfernen,, d.h., der polarisierte Film kann ohne weitere Behandlung für fast alle Zwecke benutzt werden. Die Polarisationsausbeute, die in dem erfindungsgemäßen Ver-The size of the hole is very small because the amount of charge that is discharged is extremely small. Later it is possible to apply a higher voltage as the film moves through the Discharges will heal themselves. As described above, in the polarization technique of the present invention, hardly "pin holes" are formed, and even if such a hole is formed, its size remains very small. Hence it is not It is necessary to remove areas with "pin holes" from the polarized film, i.e. the polarized film can without further treatment can be used for almost any purpose. The polarization yield, which in the inventive method
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fahren erreicht wird, ist praktisch 100 %.driving is achieved is practically 100%.
Diese Erfindung ist für die Herstellung eines Elektrets mit vorherbestimmter Oberflächenleitungspolarisation geeignet oder für die Produktion von piezoelektrischen Elementen, die einen piezoelektrischen oder pyroelektrischen Effekt aufgrund einer inneren Polarisation aufweisen, anwendbar. Es ist besonders für Herstellungen von piezoelektrischen Elementen oder pyroelektrischen Elementen geeignet, die eine interne Polarisation hoher Genauigkeit erfordern.This invention is useful for making an electret with predetermined surface conduction polarization or for the production of piezoelectric elements that have a piezoelectric or pyroelectric effect have due to an internal polarization, applicable. It is especially useful for making piezoelectric Elements or pyroelectric elements that require internal polarization of high accuracy.
Der erfindungsgemäß zu polarisierende Film kann ein hochmolekularer Film mit hoher Polarisation sein, wie z.B. Polyvinylidenfluorid oder ein Polyvinylfluorid für den Fall, daß man piezoelektrische oder pyroelektrische Charakteristika erreichen will. Falls man ein Elektret mit hoher Oberflächenladung herstellen will, kann auch ein hochmolekularer Film mit hohem elektrischen Widerstand wie z.B. Polyethylen, Polypropylen, Polystyren, Polytetrafluorethylen oder PoIycarbonat verwendet werden. Der dielektrische oder halbleitende Film zwischen dem zu polarisierenden Film und der Elektrode kann ein Dielektrikum oder ein Halbleiter sein, das einen Schmelzpunkt besitzt, der höher als die Polarisationstemperatur ist und eine elektrische Leitfähigkeit hat, die höher als die des zu polarisierenden Films bei der Polarisationstemperatur ist. Für den Fall, daß der zu polarisierende Film aus Polyvinylidenfluorid besteht, kann der zwischen dem zu polarisierenden Film und der Elektrode gelegene Film 3 aus Harzen relativ hoher elektrischer Leitfähigkeit bestehen wie Harzen auf Polyvinylfluoridpolyamidbasis, ionischen Harzen auf Ethylenbasis, plastisches Polyvinylchlorid und plastisches Copolymer von Vinylidenchlorid und Vinylchlorid. Weiterhin kann ein Material verwendet werden, das durch Mischen eines ionischen Materials wie Salz, Kaliumchlorid, Kaliumbromid und Kaliumsulfat mit einem HarzThe film to be polarized in the present invention may be a high molecular one Be a film with high polarization, such as polyvinylidene fluoride or a polyvinyl fluoride in case that one wants to achieve piezoelectric or pyroelectric characteristics. If you have an electret with a high surface charge a high molecular weight film with high electrical resistance such as polyethylene, Polypropylene, polystyrene, polytetrafluoroethylene or polycarbonate be used. The dielectric or semiconducting film between the film to be polarized and the electrode can be a dielectric or a semiconductor that has a melting point higher than the polarization temperature and has an electrical conductivity higher than that of the film to be polarized at the polarization temperature is. In the event that the film to be polarized consists of polyvinylidene fluoride, the between the film to be polarized and the electrode, film 3 made of resins of relatively high electrical conductivity exist such as polyvinyl fluoride polyamide based resins, ionic ethylene based resins, plastic polyvinyl chloride and plastic copolymer of vinylidene chloride and vinyl chloride. Furthermore, a material can be used this by mixing an ionic material such as salt, potassium chloride, potassium bromide and potassium sulfate with a resin
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wie Polyvinylidenfluorid, Polyethylen oder Polypropylen zustande kommt, dessen elektrische Leitfähigkeit gleich oder kleiner als die des zu polarisierenden Films ist.such as polyvinylidene fluoride, polyethylene or polypropylene comes about whose electrical conductivity is equal to or less than that of the film to be polarized.
In Figur 1 werden die polarisierenden Elektroden als auf dem zu polarisierenden Film aufliegend angenommen und der dielektrische Film wird auf den zu polarisierenden Film gelegt, nichtsdestoweniger ist die Erfindung nicht durch diese Annahmen limitiert, d.h., die Elektrodenflächen ober- und unterhalb des Films können natürlich auch als polarisierende Elektroden verwendet werden.In FIG. 1, the polarizing electrodes are assumed to lie on the film to be polarized and the dielectric one Film is placed on top of the film to be polarized, nonetheless the invention does not preclude them Limited assumptions, i.e. the electrode surfaces above and below the film can of course also be used as polarizing Electrodes are used.
Ein monoaxial gereckter Polyvinylidenfluoridfilm mit 25 yuA monoaxially stretched polyvinylidene fluoride film of 25 yu
2
Dicke und 10 000 cm Fläche, der ungefähr um das 5-fache gereckt war, wurde verwendet. Eine Aluminiumschicht wurde
auf einer Oberfläche des Films durch Vakuumaufdampfen gebildet. In ähnlicher Weise wurde ein Polyvinylidenfluorid-2
Thickness and 10,000 cm area stretched about 5 times were used. An aluminum layer was formed on one surface of the film by vacuum evaporation. Similarly, a polyvinylidene fluoride
2
film mit 25 .u Dicke und 10 000 cm Fläche verwendet und eine Aluminiumschicht auf eine Oberfläche dieses Films durch
Vakuumaufdampfen gebildet. Die beiden Filme wurden so aufeinandergelegt, daß die Aluminiumschichten auf der Außenseite
der so übereinandergelegten Filme zu liegen kamen. Nun wurden zur Polarisation bei 115 C 20 Minuten lang
2500 Volt Gleichspannung so zwischen den beiden Aluminiumschichten oder Elektroden angelegt, daß die direkt auf
dem Vinylidenfluoridfilm aufliegende Elektrode negativ geladen war. Nach Abkühlen auf Raumtemperatur wurde die Gleichspannung
ausgeschaltet.2
film 25 .u thick and 10,000 cm in area was used, and an aluminum layer was formed on one surface of this film by vacuum evaporation. The two films were placed one on top of the other in such a way that the aluminum layers came to lie on the outside of the films placed one on top of the other. For polarization at 115 ° C. for 20 minutes, 2500 volts direct voltage were applied between the two aluminum layers or electrodes in such a way that the electrode lying directly on the vinylidene fluoride film was negatively charged. After cooling to room temperature, the DC voltage was switched off.
Der so polarisierte Polyvinylidenfluoridfilm wurde untersucht. Es wurden keine defekten Stellen in dem Film gefunden. Genauer, keine der Aluminiumschichten wurde abgelöst oder heruntergezogen, und es wurden keine Löcher in demThe polyvinylidene fluoride film thus polarized was examined. No defects were found in the film. More precisely, none of the aluminum layers was peeled off or pulled down and there were no holes in that
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Film gebildet. Eine Aluminiumschicht wurde durch Vakuumaufdampfen auf der Oberfläche des Films gebildet, die noch nicht dem Vakuumaufdampfen unterworfen worden war. Die piezoelektrische Konstante des Films wurde bestimmt zu d3 1 = 8,18 χ 10~ (cgs-esu). Die elektrische Leitfähigkeit (Xlcm) des hier benutzten Polyvinylidenfluorids war 3,3 χ 1O~16 bei 25° C und 2,1 χ 1O~12 bei 100° C. Die elektrische Leitfähigkeit des hier benutzten Polyvinylfluorids war 5,5 χ 1O~14 (25°C) und 1,2 χ 1θ"10 (100° C).Film formed. An aluminum layer was formed by vacuum evaporation on the surface of the film which had not yet been subjected to the vacuum evaporation. The piezoelectric constant of the film was determined to be d 3 1 = 8.18 χ 10 (cgs-esu). The electrical conductivity (Xlcm) of the polyvinylidene fluoride used here was 3.3 1O ~ 16 at 25 ° C and 2.1 χ 10 ~ 12 at 100 ° C. The electrical conductivity of the polyvinylfluoride used here was 5.5 χ 10 ~ 14 (25 ° C) and 1.2 χ 1θ " 10 (100 ° C).
Ein auf ungefähr 5,3-fache Länge monoaxial gereckter PoIyvinylidenfluoridfilm mit einer Dicke von 15 u und einer Fläehe von 10 000 cm wurde auf einen Film von 25 p. Dicke undA polyvinylidene fluoride film monoaxially stretched to about 5.3 times the length and having a thickness of 15 µm and an area of 10,000 cm was applied to a film of 25 µm . Thickness and
ο
10 000 cm Fläche, der aus Polyvinylidenfluorid mit 20 ppm Kaliumiodid gemischt bestand, aufgebracht. Ein Paar Elektroden
wurden in engen Kontakt mit beiden Oberflächen des so schichtweise aufgebauten Films gebracht. Polarisation
wurde durch Anlegen einer Gleichspannung von 1400 Volt bei 115 C für fünf Minuten an die Elektroden erreicht, wobei
die direkt auf dem Kaliumiodid enthaltenden Filme aufliegende Elektrode negativ war. Nach Abkühlung der Filmanordnung
wurden die Elektroden von den Filmschichten entfernt.ο
10,000 cm area, which consisted of polyvinylidene fluoride mixed with 20 ppm potassium iodide, applied. A pair of electrodes were brought into close contact with both surfaces of the thus layered film. Polarization was achieved by applying a direct voltage of 1400 volts at 115 C for five minutes to the electrodes, the electrode lying directly on the film containing potassium iodide being negative. After the film assembly had cooled, the electrodes were removed from the film layers.
Der polarisierte Film zeigte keine "pin holes"The polarized film showed no "pin holes"
, die man auf dielektrisches Zusammenbrechen zurückführen hätte können. Nach Aufdampfen von Aluminium im Vakuum auf beide Oberflächen des Polyvinylidenfluoridfilms ohne Kaliumiodid wurde die piezoelektrische Konstante des Films zu d, 1 = 8,3 χ 10 (cgs-esu) bestimmt.which could have been traced back to dielectric breakdown. After aluminum was vapor-deposited on both surfaces of the polyvinylidene fluoride film without potassium iodide, the piezoelectric constant of the film was determined to be d, 1 = 8.3 χ 10 (cgs-esu).
Die elektrische Leitfähigkeit (vQ,cm) des Polyvinyliden-The electrical conductivity (vQ, cm) of the polyvinylidene
fluoridfilms ohne Kaliumiodid war 3,4 χ 10~16 (25° C) und 2,1 χ 10 (100° C), das entspricht innerhalb der To-fluoride film without potassium iodide was 3.4 10 ~ 16 (25 ° C) and 2.1 χ 10 (100 ° C), which corresponds to within the to-
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BOEHMERT & BOEHMERTBOEHMERT & BOEHMERT
leranzgrenzen den Werten, die in Beispiel 1 gefunden wurden. Die elektrische Leitfähigkeit des Polyvinylidenfluoridfilms mit Kaliumiodid war 5,5 χ 1O~ (25° C) und 4,5 χ 1O~10 (100° C).The tolerance limits of the values found in Example 1. The electrical conductivity of the polyvinylidene fluoride film with potassium iodide was 5.5 10 (25 ° C) and 4.5 χ 10 10 (100 ° C).
Aluminiumschichten wurden durch Vakuumaufdampfverfahren auf beide Oberflächen eines Polyvinylidenfluoridfilms mitAluminum layers were applied to both surfaces of a polyvinylidene fluoride film by vacuum evaporation method
2
25 u Dicke und 10 000 cm Fläche gebildet wie in Beispiel 1, aber es wurde keine Polarisation angewendet. 20 Minuten
lang wurden 1700 Volt Gleichspannung an den Aluminiumelektroden
bei 115 C angelegt, anschließend wurde der Film ab gekühlt. Der so behandelte Polyvinylidenfluoridfilm hatte
25 Stellen, wo Spannungsdurchschläge aufgetreten waren, und seine piezoelektrische Konstante war d., . = 6,9 χ 10
(cgs-esu).2
25µ thick and 10,000 cm in area formed as in Example 1, but no polarization was applied. 1700 volts DC voltage was applied to the aluminum electrodes at 115 ° C. for 20 minutes, then the film was cooled. The polyvinylidene fluoride film thus treated had 25 locations where voltage breakdown had occurred, and its piezoelectric constant was d., . = 6.9 χ 10 (cgs-esu).
Beide Oberflächen eines Polyvinylidenfluoridfilms mitBoth surfaces of a polyvinylidene fluoride film with
10 000 cm Oberfläche wie in Beispiel 2, aber ohne vorherige Polarisation, wurden mittels Vakuumaufdampfen mit Aluminiumschichten versehen. Fünf Minuten lang wurde eine Gleichspannung von 1100 Volt an den Aluminiumelektroden bei 115 C angelegt, danach wurde der Film abgekühlt. Der so behandelte Film wies an 65 Stellen Spannungsdurchschläge auf. Die piezoelektrische Konstante war d_ 1 =7,2x10 (cgs-esu).A 10,000 cm surface as in Example 2, but without prior polarization, was provided with aluminum layers by means of vacuum vapor deposition. A DC voltage of 1100 volts was applied to the aluminum electrodes at 115 ° C. for five minutes, after which the film was cooled. The film treated in this way exhibited voltage breakdowns at 65 points. The piezoelectric constant was d_ 1 = 7.2x10 (cgs-esu).
Der gleiche Polyvinylidenfluoridfilm wie in Beispiel 2 mitThe same polyvinylidene fluoride film as in Example 2 with
2
10 000 cm Oberfläche, der aber nicht dar Polarisation unter-2
10 000 cm surface, but which does not cause polarization
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worfen wurde und ein Polyethylenterephthalatfilm mit 25 /ιwas thrown and a polyethylene terephthalate film with 25 / ι
Dicke und 10 000 cm Fläche mit einem materialeigenen Durchgangswiderstand von 1,45 χ 10 , wurden verwendet. Diese bei den Firne wurden, wie in Figur 1 gezeigt, angeordnet, um einen zusammengesetzten Film herzustellen.Thickness and 10 000 cm area with an inherent volume resistance of 1.45 χ 10 were used. These at the Firne were, as shown in Figure 1, arranged around a composite film.
Elektroden wurden in sehr nahen Kontakt mit beiden Oberflächen des aufgebäumten Films gebracht, eine Gleichspannung von 1400 Volt wurde an die Elektroden bei 115° C für fünf Minuten angelegt. Danach wurde die Filmanordnung abgekühlt. In dem so behandelten Polyvinylidenfluoridfilm konnte kein Spannungsdurchschlag festgestellt werden. Nachdem auf beiden Seiten dieses Films durch Vakuumaufdampfen Aluminiumschichten gebildet worden waren, wurde die piezoelektrische Konstante dieses Films bestimmt. Das Meßergebnis lag sehr niedrig, nämlich d., . = 0,5 χ 10 (cgs-esu) . Die hier beschriebenen Veränderungen der Prozeßschritte können vorgenommen werden, ohne den Geltungsbereich dieser Erfindung zu verlassen.Electrodes were brought into very close contact with both surfaces of the expanded film, and a DC voltage of 1400 volts was applied to the electrodes at 115 ° C for five minutes. The film assembly was then cooled. No voltage breakdown could be found in the polyvinylidene fluoride film thus treated. After aluminum layers were formed on both sides of this film by vacuum evaporation, the piezoelectric constant of this film was determined. The measurement result was very low, namely d., . = 0.5 χ 10 (cgs-esu). The changes in the process steps described here can be made without departing from the scope of this invention.
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Claims (6)
ner als 10 (Sicm) und mehr als doppelt so groß wie die des zu polarisierenden Films ist.—4 r ^ - 1
ner than 10 (Sicm) and more than twice as large as that of the film to be polarized.
kleiner als 10 (,T&cm) und mehr als 3 mal so groß wie die elektrische Leitfähigkeit des zu polarisierenden Films ist.- 7 - 1
less than 10 (, T & cm) and more than 3 times as large as the electrical conductivity of the film to be polarized.
pyroelektrische Eigenschaften zeigt.4. The method according to any one of the preceding claims, characterized in that the film to be polarized is made of polyvinylidene fluoride and, after it has been subjected to polarization, piezoelectric and
shows pyroelectric properties.
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