DE2831710B1 - Einrichtung zur Erhoehung des Vakuums in einer von einem Band durchlaufenen Vakuumkammer - Google Patents
Einrichtung zur Erhoehung des Vakuums in einer von einem Band durchlaufenen VakuumkammerInfo
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Description
- Zwischen der Vorvakuumkammer 21 und der Hochvakuumkammer 23 sind analog der Fig. 1 ausgebildete Platten 24 an den Bandein- und -auslaßöffnungen der Hochvakuumkammer 23 angeordnet, wobei mit Pfeilen II das Abschälen und Ableiten von Luftmolekülen angezeigt ist. Weiter Pfeile 111 geben die Umlaufrichtung des endlosen Stahlbandes 22 an, das z. B. von einem Elektromotor 25 mit hoher Geschwindigkeit angetrie- ben ist. Die Hochvakuumkammer 23 ist mit einem symbolisch angedeuteten Anschluß 26 für eine Hochvakuumleitung versehen, der zweckmäßig im Zentrum der Hochvakuumkammer und senkrecht zur Zeichenebene angeordnet ist.
Claims (3)
- Patentansprüche: 1. Einrichtung zur Erhöhung des Vakuums in einer von einem Band durchlaufenen Vakuumkammer, der Vorvakuumkammern vorgelagert sind, d a d u r c h gekennzeichnet, daß das Band (3) ein- und ausgangsseitig der Vakuumkammer (2) zwischen an der Ober- bzw. Unterseite des Bandes (3) anliegenden Platten (8) geführt ist, die mit einer Vielzahl von quer zur Längserstreckung des Bandes (3) verlaufenden Schlitzen (9 und 10) versehen sind, von denen die einlaßseitigen Schlitze (10) schräg gegen die Laufrichtung des Bandes (3) und die auslaßseitigen Schlitze (9) schräg zur Laufrichtung des Bandes (3) geneigt sind.
- 2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Schlitze (9 und 10) Luftabschälkanten (11 und 12) aufweisen.
- 3. Einrichtung nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Band ein in einer Vorvakuumkammer (21) umlaufendes Endlosband (22) ist, das die Hochvakuumkammer (23) in entgegengesetzten Richtungen durchläuft.Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zur Erhöhung des Vakuums in einer von einem Band durchlaufenen Vakuum kammer, der Vorvakuumkammern vorgelagert sind.Vakuumkammern, durch die ein die Kammer durchlaufendes Band geführt ist, werden insbesondere bei Anlagen zur Beschichtung von Bändern benötigt.Dabei ist entweder ein hoher Aufwand an Einrichtungen zur Dichtung am Bandeinlaß und am Bandauslaß erforderlich, den beispielsweise die Deutsche Auslegeschrift 1542 532 für eine vergleichbare Einrichtung aufzeigt, oder es ist ein relativ großes vakuumdichtes Gehäuse nach der Deutschen Auslegeschrift 25 05 275 nötig, das die gesamte Anlage einschließlich des Bandantriebes umgibt. Derart voluminöse Gehäuse erfordern zur Erzeugung eines ausreichenden Vakuums in der zur Beschichtung des Bandes vorgesehenen Kammer relativ große und leistungsfähige Pumpen, die an das Gehäuse angeschlossen sind.Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei einer Einrichtung der eingangs genannten Art das Vakuum in der zur Beschichtung eines Bandes vorgesehenen Kammer gegenüber dem Vakuum in vorgeschalteten Kammern zu erhöhen und den zur Dichtung der Vakuumkammer erforderlichen Aufwand sowie den Aufwand an Vakuumpumpen zu verringern.Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß das Band ein- und ausgangsseitig der Vakuumkammer zwischen an der Ober- bzw. Unterseite des Bandes anliegenden Platten geführt ist, die mit einer Vielzahl von quer zur Längserstreckung des Bandes verlaufenden Schlitzen versehen sind, von denen die eingangsseitigen Schlitze schräg gegen die Laufrichtung des Bandes und die auslaßseitigen Schlitze schräg zur Laufrichtung des Bandes geneigt sind. Zur besseren Ablösung der am Band anhaftenden Luftmoleküle können die Kanten der Schlitze in vorteilhafter Weiterbildung der Erfindung als Luftabschälkanten ausgebildet sein.Ohne vom Prinzip der Erfindung abzuweichen, ist auch eine Anwendung für Hochvakuumpumpen gegeben, bei denen ein Vorvakuum die Hochvakuumkammer umgibt. In zweckmäßiger Ausgestaltung der Erfindung ist dabei das Band als Endlosband ausgebildet, das in einer Vorvakuumkammer umläuft und das die Hochvakuumkammer in entgegengesetzten Richtungen durchläuft.Anwendungsmöglichkeiten der Erfindung sind beispielsweise für die Bedampfung von Stahlbändern mittels eines Elektronenstrahles gegeben, wobei die Bedampfungseinrichtung zweckmäßig in der Vakuumkammer angeordnet ist.Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung schematisch vereinfacht dargestellt und im folgenden näher beschrieben. Es zeigt F i g. 1 eine Vorrichtung zur kontinuierlichen Metall-oder Kunststoffbedampfung von Metallbändern mit einer Einrichtung zur Erhöhung des Vakuums in der Vakuumkammer; F i g. 2 eine Pumpe zur Hochvakuumerzeugung mit Hilfe eines endlosen die Hochvakuumkammer durchlaufenden Metallbandes.An einer Vorrichtung 1 zur kontinuierlichen Metall-oder Kunststoffbeschichtung von Metallbändern zeigt die F i g. 1 eine Vakuumkammer 2, durch die in Richtung der Pfeile I mit hoher Geschwindigkeit ein Stahlband 3 läuft, das über Führungsrollen 4 geführt ist. Der Vakuumkammer 2 sind Vorvakuumkammern 5 ein- und auslaßseitig vorgelagert, durch die das Stahlband 3 ebenfalls läuft. Die Vorvakuumkammern 2 sind über Vakuumschieber 6 an eine gemeinsame - oder wie dargestellt - an getrennte Vakuumpumpen 7 angeschlossen und weisen Platten 8 auf, zwischen denen das Stahlband 3 hindurchgeführt ist. Ein bei offenem Vakuumschieber 7 sowohl in den Vorkammern 5 als auch in der Vakuumkammer 2 erzeugtes Vakuum wird bei schnellbewegtem Stahlband 3 in der Vakuumkammer 3 dadurch erhöht, daß am Stahlband 3 anhaftende Luftmoleküle mit Hilfe einer Vielzahl von Schlitzen 9 und 10, die quer zur Laufrichtung des Stahlbandes 3 in den Platten 8 angebracht sind, abgeschält und in die Vorvakuumkammern 5 abgeleitet werden. Hierzu sind die Schlitze 10 in den -Platten 8 am einlaßseitigen Ende der Vakuumkammer 3 gegen die Einlaufrichtung des Stahlbandes geneigt und mit Luftabschälkanten 11 versehen. Am auslaßseitigen Ende der Vakuumkammer 3 ist die Neigung der Schlitze 9 umgekehrt, bei entsprechender Anordnung der Luftabschälkanten 12.Die Vakuumkammer 2 ist schließlich mit einer bekannten Beschichtungseinrichtung 13 versehen, mit der das Stahlband 2 behandelt wird.Der wesentliche Vorteil der beschriebenen Einrichtung besteht darin, daß das zu beschichtende Stahlband zur Erzeugung und Aufrechterhaltung eines hohen Vakuums in der Vakuumkammer 2 beiträgt, wobei teuere Dichtungsmaßnahmen an den Banddurchtrittsstellen der Vakuumkammer 2 entfallen. Zusätzlich ergeben sich dabei erhebliche Einsparungen an den zur Erzeugung eines Vorvakuums benötigten Pumpen.Das weitere in der Fig. 2 gezeigte Anwendungsbeispiel für eine Hochvakuumpumpe 20 entspricht hinsichtlich ihres Aufbaues und ihrer Wirkungsweise weitgehend dem vorherbeschriebenen Beispiel. In einer Vorvakuumkammer 21, an die eine nicht dargestellte Vakuumpumpe üblicher Bauart angeschlossen ist, läuft ein endloses Stahlband 22 um, dessen oberes und unteres Trum eine Hochvakuumkammer 23 durchläuft.
Priority Applications (1)
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DE19782831710 DE2831710B1 (de) | 1978-07-19 | 1978-07-19 | Einrichtung zur Erhoehung des Vakuums in einer von einem Band durchlaufenen Vakuumkammer |
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Publications (1)
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DE2831710B1 true DE2831710B1 (de) | 1979-10-25 |
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ID=6044787
Family Applications (1)
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DE19782831710 Withdrawn DE2831710B1 (de) | 1978-07-19 | 1978-07-19 | Einrichtung zur Erhoehung des Vakuums in einer von einem Band durchlaufenen Vakuumkammer |
Country Status (1)
Country | Link |
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DE (1) | DE2831710B1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998035773A1 (de) * | 1997-02-14 | 1998-08-20 | Voest-Alpine Industrieanlagenbau Gmbh | Verfahren zum verhindern des kontaktes von sauerstoff mit einer metallschmelze |
DE102004010688B4 (de) * | 2003-06-24 | 2010-07-22 | Tokyo Electron Ltd. | Bearbeitungseinrichtung, Bearbeitungsverfahren, Drucksteuerverfahren, Transportverfahren, und Transporteinrichtung |
-
1978
- 1978-07-19 DE DE19782831710 patent/DE2831710B1/de not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998035773A1 (de) * | 1997-02-14 | 1998-08-20 | Voest-Alpine Industrieanlagenbau Gmbh | Verfahren zum verhindern des kontaktes von sauerstoff mit einer metallschmelze |
DE102004010688B4 (de) * | 2003-06-24 | 2010-07-22 | Tokyo Electron Ltd. | Bearbeitungseinrichtung, Bearbeitungsverfahren, Drucksteuerverfahren, Transportverfahren, und Transporteinrichtung |
US8623765B2 (en) | 2003-06-24 | 2014-01-07 | Tokyo Electron Limited | Processed object processing apparatus, processed object processing method, pressure control method, processed object transfer method, and transfer apparatus |
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