DE2821131C2 - Vakuumbeschichtungsanlage mit einer Kondensat-Auffangeinrichtung - Google Patents
Vakuumbeschichtungsanlage mit einer Kondensat-AuffangeinrichtungInfo
- Publication number
- DE2821131C2 DE2821131C2 DE19782821131 DE2821131A DE2821131C2 DE 2821131 C2 DE2821131 C2 DE 2821131C2 DE 19782821131 DE19782821131 DE 19782821131 DE 2821131 A DE2821131 A DE 2821131A DE 2821131 C2 DE2821131 C2 DE 2821131C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- collecting device
- substrates
- vacuum
- coating system
- vacuum coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vakuumbeschichtungsanlage mit einer Quelle für das Beschichtungsmaterial, einer Vakuumkammer und einer Auffangeinrichtung für das nicht auf den Substraten niedergeschlagene
Material.
Bei Vakuumbeschichtungsanlagen wird nur ein Teil des für die Schichterzeugung benötigten Materials auf
den Substraten niedergeschlagen. Wenn beispielsweise in einer Vakuumaufdampfanlage oder in einer Katodenzerstäubungsanlage mehrere Substrate im Strom
des Beschichtungsmaterials angeordnet sind, so trifft ein Teil des Beschichtungsmateriab notwendigerweise
nicht auf den Substraten auf, sondern kondensiert beispielsweise auf dem Substrathalter, wenn dieser die
Substrate beispielsweise in Form eines kalottenförmigen Substrathalters an den Substraträndern umgibt,
oder das Material tritt durch die Lücken zwischen den Substraten hindurch und kondensiert auf den inneren
Kammerwänden bzw. auf Einbauteilen der Vakuumkammern. So ist beispielsweise beim Bedampfen einer
Vielzahl von Einzelteilen im Dampfstrom eine Ausnutzung von 5% des Verdampfungsmaterials als gut zu
bezeichnen, das heißt 95% des Verdampfungsmaterials kondensieren auf den Innenflächen der Vakuumaufdampfkammer sowie auf Einbauteilen. Aber selbst wenn
einzelne, flächige Substrate bedampft oder bestäubt werden sollen, so gelangt stets ein Teil des Beschichtungsmaterials an den Substraten vorbei auf substratfremde Kondensationsflächen, weil entweder die Substrate aus Gründen einer gleichmäßigen Schichtdickenverteilung kleiner sein müssen als die Materialquelle,
oder weil beispielsweise bei einer Glimmentladung stets ein Teil des abgestäubten Materials die Entladungszone
verläßt.
Unabhängig davon, daß das nicht auf den Substraten kondensierende Material eine Quelle ständigen Verlustes von teilweise teuerem Beschichtungsmaterial darstellt, so bilden die Ablagerungen des Beschichtungsmaterials auf anderen als den Substratflächen eine Ursache
für Betriebsstörungen. Die in der Vakuumkammer kumulativ aufgebauten Schichten nehmen im Laufe der
Zeit eine beträchtliche Dicke an, die bis zu mehreren Millimetern betragen kann. Da auf den substratfremden
Oberflächen keine ausreichenden Kondensationsbedingungen eingehalten werden können, haben die kondensierten Schichten keine haftfeste Verbindung mit dem
Untergrund, sprich: den Kammerteilen. Sie beginnen infolgedessen, sich früher oder später abzuschälen und
herunterzufallen, wobei sie auf die Substrate selbst oder auf die Quelle für das Beschichtungsmaterial gelangen
to können und dort den Beschichtungsvorgang in erheblichem MaQe stören. Insbesondere beim Verdampfen von
Legierungsmaterialien haben die kondensierten Schichten eine andere Legierungszusammensetzung als das zu
verdampfende Material, so daß ein Fallen von bereits
kondensiertem Beschichtungsmaterial in den Verdampfertiegel zu einer Änderung der Legierungszusammensetzung führen würde, ein Vorgang, der unbedingt verhindert werden muß.
Sofern in der Beschickungsanlage eine Wärmedäm
mung wie ein Strahlungsschutz etc. angeordnet ist, führt
eine Kondensation von Beschichtungsmaterial auf dieser Wärmedämmung zu einer unerwünschten Veränderung der thermischen Eigenschaft der Wärmedämmung.
Zum Schutz von Vakuum-Aufdampfanlagen ist es be
reits bekannt, in unmittelbarer Nähe des Verdampfers
zwei endlose Metallbänder vorzusehen, die über senkrecht stehende Umlenkwalzen geführt sind und auf der
dem Verdampfer abgekehrten Seite über ein Schälmesser geführt werden, welches die sich auf den Bändern
bildenden Ablagerungen erfaßt. Eine solche Vorrichtung ist aufwendig in der Herstellung und im Betrieb
und außerdem unter Vakuumbedingungen in hohem Maße störanfällig. Sie hat den weiteren Nachteil, daß es
unmöglich ist, mit einem endlosen Förderband kompli
ziert geformte Innenflächen von Vakuumkammern ab
zudecken, da für die Führung eines Endlosbandes über jede ebene Teilfläche der Vakuumkammer zwei Umlenkwalzen mit den notwendigen Lagern und Antrieben
vorgesehen werden müssen. Die bekannte Vorrichtung
hat daher in der Praxis nur einen beschränkten Wert.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine
Vakuumbeschichtungsanlage der eingangs beschriebenen Gattung so zu verbessern, daß das nicht auf den
Substraten kondensierende Material von der Auffang
einrichtung aufgefangen, zuverlässig festgehalten and
zusammen mit der Auffangeinrichtung aus der Beschichtungsanlage entfernt werden kann, ohne daß hierfür unvertretbar hohe Investitions- oder Betriebskosten
in Kauf genommen werden müssen.
Die Lösung der gestellten Aufgabe erfolgt bei der eingangs angegebenen Vakuumbeschichtungsanlage erfindungsgemäß dadurch, daß die Auffangeinrichtung
mindestens vor den nicht mit den Substraten identischen Kondensationsflächen stationär angeordnet ist
und aus einem Flächengebilde mit einer Vielzahl von über die Oberfläche verteilten Durchbrüchen besteht.
Ein solches Flächengebilde kann beispielsweise ein Drahtgewebe oder ein Lochblech sein, welches hinsichtlich seiner Raumform der Vakuumkammer ähnlich ist.
Vereinfacht ausgedrückt besteht die Auffangeinrichtung aus einem kastenförmigen Gebilde, welches in die
Vakuumkammer eingesetzt werden kann und deren innere Oberfläche und gegebenenfalls auch Einbauteile
soweit wie möglich abdeckt.
Das nicht von den Substraten aufgefangene Beschichtungsmaterial schlägt sich beim Betrieb einer solchen
Vorrichtung auf der Auffangeinrichtung nieder und durchdringt dabei teilweise die Durchbräche. Dieser
10
15
Vorgang setzt sich so lange fort, bis sämtliche Durchbrüche
geschlossen sind, wodurch eine innige »Verzahnung« zwischen der Auffangeinrichtung und dem niedei-geschlagenen
Material entsteht Dieser Vorgang kann sich über eine längere Zeitdauer fortsetzen, wobei
selbst beträchtliche Schichtdicken auf der Auffangeinrichtung in Kauf genommen werden können. Die betreffenden
Schichten können sich nicht von der Auffangeinrichtung lösen; sie werden vielmehr nach Erreichen einer
bestimmten Schichtdicke zusammen mit der Auffangeinriciitung aus der Vakuumkammer entfernt Es
hängt dann von dem Wert des niedergeschlagenen Materials ab, ob eine Aufbereitung und Wiederverwendung
vertretbar ist, oder ob der Verbund aus Auffangeinrichtung und kondensiertem Material verworfen
werden muß. Die Auffangeinrichtung kann auf eine sehr billige Weise hergestellt werden, in dem man beispielsweise
Drahtgewebe und/oder Lochbleche mit oder ohne Stützrahmen zu einem in sich steifen Gebilde vereinigt,
welches in die Vakuumkammer eingesetzt werden kann.
Ein Ausführungsbeispiel des Erfindungsgegenstandes sei nachfolgend anhand der F i g. 1 bis 4 näher erläutert
Es zeigt
F i g. 1 einen senkrechten Längsschnitt durch eine Vakuumaufdampfanlage
für die Beschichtung einer Vielzahl von Substraten,
Fig.2 einen Schnitt durch den Gegenstand nach
F i g. 1 entlang der Linie H-II,
F i g. 3 einen Schnitt durch eine Auffangeinrichtung in Form eines Drahtgewebes mit einem dickeren Überzug
von kondensiertem Material und
F i g. 4 einen Schnitt analog F i g. 3, jedoch mit dem Unterschied, daß an die Stelle eines Drahtgewebes ein
Lochblech getreten ist.
In F i g. 1 ist eine Vakuumkammer 10 dargestellt, die
an beiden Enden mit Schleusenventilen 11 und 12 versehen
ist Auf dem Boden der Vakuumkammer 10 ist eine Quelle 13 für das Beschichtungsmaterial dargestellt, die
aus einem langgestreckten Verdampfertiegel 14 besteht der mit dem Beschichtungsmaterial 15 gefüllt ist welches
einen Badspiegel 16 aufweist. Dieser Badspiegel wird mit Elektronenstrahlen 17 beschossen, die von
zwei Elektronenstrahlkanonen 18 und 19 erzeugt werden.
Durch das (offene) Schleusenventil 11 ragt eine Haltestange
20 in die Vakuumkammer 10 hinein, an deren vorderem Ende ein Substrathalter 21 befestigt ist, der
gabelförmig ausgebildet ist wobei zwischen den Schenkeln der Gabel mehrere Substrate 22 befestigt sind, die
im vorliegenden Falle durch Turbinenschaufeln gebildet werden. Es ist ersichtlich, daß ein Teil des vom Badspiegel
16 ausgehenden Dampfes zwischen den Substraten 22 hindurchtreten kann und notwendigerweise an anderen
Stellen kondensiert.
Im Innern der Vakuumkammer 10 befindet sich, die Quelle 13 und die Substrate 22 möglichst allseitig umgebende,
eine Wärmedämmung 23 in Form eines kastenförmigen Blechgehäuses, welches aus einer Vielzahl von
Blechen bestehen kann. In der Wärmedämmung 23 sind Durchtrittsöffnungen 24 für die Elektronenstrahlen 17
und den Substrathalter 21 angeordnet, die gerade eben zur Erfüllung ihrer Aufgabe ausreichend bemessen sind.
Aus Fi g. 2 geht noch zusätzlich hervor, daß die Wärmedämmung
23 noch mit einer weiteren öffnung 25 versehen ist die über einen Einblickschacht 26 mit einer
Einblickeinrichtung 27 verbunden ist, die beispielsweise aus einem optischen System in Verbindung mit einer
stroboskopischen Schutzeinrichtung besteht Gemäß F i g. 2 wird die Vakuumkammer 10 über einen Saugstutzen
28 evakuiert
Die gesamte Innenfläche der Wärmedämmung 23 sind von einer Auffangeinrichtung 29 überzogen, die aus
einem Drahtnetz oder Drahtgewebe 30 (F i g. 3) oder aus einem Lochblech 31 (F i g. 4) bestehen kann. Selbstverständlich
ist auch die Auffangeinrichtung 29 an den Stellen der Durchtrittsöffnungen 24 bzw. der Öffnung
25 unterbrochen.
Die Wirkungsweise der Auffangeinrichtung 29 geht aus den F i g. 3 und 4 hervor. Die Richtung des Materialstroms
ausgehend von der Quelle 13, ist durch Pfeile gekennzeichnet Zunächst kondensiert auf dem Drahtgewebe
30 bzw. auf dem Lochblech 31 eine Materialschicht in asymmetrischer Verteilung, wie dies durch die
gestrichelten Linien angedeutet ist, welche die einzelnen Querschnitte der Auffangeinrichtung umgeben. Nach
dem Aufwachsen einer entsprechenden Schichtdicke schließen sich die Zwischenräume allmählich, so daß
sich eine dicke, geschlossene Schicht 32 aus dem von der Quelle 13 ausgehenden Material bildet Diese Schicht 32
ist mit den Auffangeinrichtungen außerordentlich gut »verzahnt«, und kann infolgedessen nicht herunterfallen.
Sie bilden mit der Auffangeinrichtung ein sich gegenseitig versteifendes Gebilde, welches auch durch eine
zunehmende Ablagerung des Beschichtungsmaterials nicht verformt werden kann. Nach dem Aufwachsen
einer bestimmten Schichtdicke werden das Drahtgewebe 30 und das Lochblech 31 zusammen mit der Schicht
32 aus der Vakuumkammer 10 bzw. aus der Wärmedämmung 23 entfernt und durch eine neue Auffangeinrichtung
29 ersetzt, die als Wegwerfartikel aufgeführt ist.
Aus den F i g. 1 und 2 ist noch zu erkennen, daß die Auffangeinrichtung 29 der Raumform der Vakuumkammer
10 weitgehend ähnlich ist und hinsichtlich ihrer Abmessungen mit den Innenabmessungen der Wärmedämmung
23 weitgehend übereinstimmt.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (4)
1. Vakuumbeschichtungsanlage mit einer Quelle
für das Beschichtungsmaterial, einer Vakuumkammer und einer Auffangeinrichtung für das nicht auf
den Substraten niedergeschlagene Material, dadurch gekennzeichnet, daß die Auffangeinrichtung mindestens vor den nicht mit den Substraten identischen Kondensationsflächen stationär angeordnet ist, und aus einem Rächengebilde mit einer
Vielzahl von über die Oberfläche verteilten Durchbrüchen besteht
2. Vakuumbeschichtungsanlage nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Auffangeinrichtung (29) aus einem Drahtgewebe besteht
3. Vakuumbeschichtungsanlage nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Auffangtinrichtihig (29) aus einem Lochblech besteht
4. Vakuumbeschichtungsanlage nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Auffangeinrichtung hinsichtlich ihrer Raumform der Vakuumkammer ähnlich ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19782821131 DE2821131C2 (de) | 1978-05-13 | 1978-05-13 | Vakuumbeschichtungsanlage mit einer Kondensat-Auffangeinrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19782821131 DE2821131C2 (de) | 1978-05-13 | 1978-05-13 | Vakuumbeschichtungsanlage mit einer Kondensat-Auffangeinrichtung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2821131A1 DE2821131A1 (de) | 1979-11-15 |
DE2821131C2 true DE2821131C2 (de) | 1986-02-06 |
Family
ID=6039376
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19782821131 Expired DE2821131C2 (de) | 1978-05-13 | 1978-05-13 | Vakuumbeschichtungsanlage mit einer Kondensat-Auffangeinrichtung |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2821131C2 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992013980A1 (en) * | 1991-02-06 | 1992-08-20 | Applied Vacuum Technologies 1 Ab | Vapour deposition |
DE19632410C1 (de) * | 1996-08-02 | 1997-04-24 | Siemens Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung eines Bauteils mit einer Wärmedämmschicht |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4573431A (en) * | 1983-11-16 | 1986-03-04 | Btu Engineering Corporation | Modular V-CVD diffusion furnace |
JPS60215540A (ja) * | 1984-04-06 | 1985-10-28 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ−用多孔質母材の製造装置 |
DE3420245A1 (de) * | 1984-05-30 | 1985-12-05 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Vakuumaufdampfanlage, insbesondere fuer die herstellung von magnetbaendern |
US4770196A (en) * | 1986-02-13 | 1988-09-13 | Osswald Hannes E | Chemical cleaning system |
US5601652A (en) * | 1989-08-03 | 1997-02-11 | United Technologies Corporation | Apparatus for applying ceramic coatings |
US5858456A (en) * | 1991-02-06 | 1999-01-12 | Applied Vacuum Technologies 1 Ab | Method for metal coating discrete objects by vapor deposition |
KR20090101288A (ko) * | 2006-12-28 | 2009-09-24 | 엑사테크 엘.엘.씨. | 코팅을 안정적으로 하는 방법과 장치 |
DE102009030814B4 (de) * | 2009-06-26 | 2014-02-06 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Anordnung zur Beschichtung von Substraten |
-
1978
- 1978-05-13 DE DE19782821131 patent/DE2821131C2/de not_active Expired
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
NICHTS-ERMITTELT |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992013980A1 (en) * | 1991-02-06 | 1992-08-20 | Applied Vacuum Technologies 1 Ab | Vapour deposition |
DE19632410C1 (de) * | 1996-08-02 | 1997-04-24 | Siemens Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung eines Bauteils mit einer Wärmedämmschicht |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2821131A1 (de) | 1979-11-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2821131C2 (de) | Vakuumbeschichtungsanlage mit einer Kondensat-Auffangeinrichtung | |
DE2844491A1 (de) | Vakuum-beschichtungsanlage mit einer einrichtung zum kontinuierlichen substrattransport | |
DE4412541A1 (de) | Gaseinlassanordnung | |
DE3590269T (de) | Verfahren zum Aufbringen von dünnen Schichten durch Vakuumaufdampfen | |
EP1970474B1 (de) | Bedampfungseinrichtung zur Molekularstrahlbedampfung und Molekularstrahlepitaxie | |
DE3850941T2 (de) | Vakuumbeschichtungsanlage. | |
DE102013206598B4 (de) | Vakuumbeschichtungsanlage | |
DE102010041376A1 (de) | Verdampfereinrichtung für eine Beschichtungsanlage und Verfahren zur Koverdampfung von mindestens zwei Substanzen | |
DE69615598T2 (de) | Erzeugung des Magnesiumdampfes mit hocher Verdampfungsgeschwindigkeit | |
DE3420020A1 (de) | Roststab sowie rostwalze fuer den walzenrost z.b. einer muellverbrennungsanlage oder dergleichen | |
DE3632027C1 (de) | Verfahren und Vakuumbedampfungsanlage zum Metallisieren von Folienoberflaechen | |
EP1555334B1 (de) | Verdampfungseinrichtung für sublimierende Materialien | |
DE2841969C2 (de) | Verdampfertiegel für das Verdampfen von Legierungen mit Komponenten mit unterschiedlichen Dampfdrücken | |
DE2912016A1 (de) | Muenzzaehl- und/oder muenzsortiervorrichtung | |
DE102013108405B4 (de) | Durchlauf-Substratbehandlungsanlage und Reinigungsverfahren | |
DE2548357A1 (de) | Einrichtung zur kontinuierlichen vakuumbedampfung eines traegermaterials | |
DE102010040044B4 (de) | Beschichtungsanlage und Verfahren für eine physikalische Gasphasenabscheidung | |
DE2436431A1 (de) | Verdampfer zum herstellen von aufdampfschichten | |
DE102021117576B4 (de) | Beschichtungsanlage zur Beschichtung eines Gegenstands | |
DE102013108403B4 (de) | Durchlauf-Substratbehandlungsanlage | |
WO2006037516A1 (de) | Vorrichtung für die beschichtung eines bandörmigen substrates | |
DE102012209051A1 (de) | Schutzfolienanordnung für Vakuumbeschichtungsanlagen | |
DE102009060864B4 (de) | Vorrichtung zum Elektronenstrahlverdampfen in kontinuierlich arbeitenden Vakuumbeschichtungsanlagen | |
DE1521588A1 (de) | Einrichtung zum Schutz gegen Bedampfung in Vakuumschmelz- und-verdampfungsanlagen | |
DE3590269C2 (de) | Verdampfer zum Aufbringen von D}nnschichten durch Vakuumaufdampfen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OAM | Search report available | ||
OC | Search report available | ||
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: LEYBOLD AG, 6450 HANAU, DE |
|
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AG, 63450 |