DE2648702C3 - Infrarotdurchlässige Lichtleitfaser aus sauerstoffarmem bzw. sauerstofffreiem GUs und Verfahren zu ihrer Herstellung - Google Patents
Infrarotdurchlässige Lichtleitfaser aus sauerstoffarmem bzw. sauerstofffreiem GUs und Verfahren zu ihrer HerstellungInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betiiflt im Infraroten
durchlässige Lichtleitfasern, die die hncrgieübertragung
im Zusammenhang mit hochencrgelischen Inlrarotlascrn
(CO- und CO2-Lascrn) ermöglichen, sowie Verfahren zu ihrer Herstellung.
Die schon heute bemerkbare ' Jberlastung der
Leitungen als Träger des Energiellusses hat eine Suche nach Leitungr.materialicn zur Energieübertragung ausgelöst,
wobei neben der herkömmlichen elektrischen Übertragung neuerdings auch die optische an Bedeutung
gewinnt. Die Medizintechnik, die Werkstoffbearbeitung, die Nachrichtentechnik nutzen heule cnergiercichc
Lichtquellen, wie Laser und lichtemittierende Dioden (LED). Die Übertragung ist aber an nicht
flexible Strahlengängc oder Kupfer benutzende Übcrtragungskabel gebunden. Das im Vergleich zum Kupfer
recht billige anorganische Glas entwickelt sich augenblicklich zu einem echten Frsatzwcrkstoff für die
Nachrichtenübertragung. Das neue Übertragungssystem besteht aus einer Quelle, dem Sender, der
entweder ein Laser oder eine LED ist, und an die Für die Nachrichtenübertragung im infraroten Spektralbcrcieh
setzten schon die Arbeiten von Kao & Hockham(Proc. IEEE 113(1966) 1151) deutlich die Ziele
zur Entwicklung geeigneter Nachrichtenfasern. Damals schon wurde erkannt, daß nebeneinander und gleichberechtigt
die Übertragungsverluste (die Dämpfung des Informationsflusses über die Faserlänge) und die
Übertragungskapazität (die mögliche übertragbare Informationsmenge) entscheidend sind. Anfangs legte
man zunächst Wert auf die Verringerung der Absorptionsverluste im Wellenlängcnbereich der später zu
verwendenden Lichtquellen.
Die Lichtquellen werden anfangs lichtemittierende Dioden (LED) sein. Sie strahlen inkohärent und schwach
gerichtet im Wellcnlängenbercii-h um 750 bis 900 mn.
Spätere Generationen werden wahrscheinlich HaIbleiterinjektions-Laser
verwenden, also kohärente Lichtquellen im gleichen Wellenlängenbereich. Der Wellenlängenbereich
für den Laser ist durch die Wahl des AlGaAs-Lasers als Halbleiterlaser festgelegt. Die
Verschiebung in den infraroten .Spektralbereich wird sich zu immer größeren Wellenlängen fortsetzen.
Weitere Verlustursachcn neben den reinen Absorptionsverlusten, z. B. infolge Lichtstreuung, die Verluste
durch Biegung der Lichtleiter oder geometrische Querschnittsänderung der Faser usw. addieren sich.
Aufgrund der Schwierigkeiten, niedrige Verluste in Lichtleitern zn erreichen, wurde lange Zeit an den
Stufenindcx-Fasern gearbeitet und die ebenbürtige Forderung nach genügend hoher Übertragungskapazität
spät in Angriff genommen. Für die Werkstoffbearbeitung und die Medizintechnik werden flexible
optische Überlragungsleirngen bcnö.igt, die möglichst
niedrige Verluste auch auf längeren Übcrlragungssirek-J5
ken besitzen. Im Spektralbeic'ch über 1 μηι soll durch
hohe Übertragungskapazität und hohe Impiilshomogenität
ein Optimum an Energie der Infraroil.iser
übertragbar sein.
Um die erforderliche Verlustarnui! der Fasern /u
erreichen, muß eine extrem geringe Absorption erreich ι werden, d. h. es müssen Fasern mit geringsten
absorbierenden Verunreinigungen hergestellt werden. Diese Fasern, sofern heule überhaupt vorhanden,
werden fast ausschließlich nach der Methode des Niederschlags aus der Dampfphase erzeugt (CVD-Technik).
Diese CVD-Technik Is1 seit etwa H40 bekannt
(|. O. S. A. 36 (1946) 70? If), sie beruht auf der pyrolylischen
Oxidation von Metallchloriden. Diese Metallchloride liegen häufig in flüssiger Form vor, /. B. als SiCU
oder GeCU, oder lassen sich unter Druck leicht verflüssigen, wie /. B. BC U Der Vorteil dieser flüssigen
Mctaüchloride oder Metallhalogenide liegt in ihrer leichten Desiillierbarkeit, wodurch die Forderung nach
geringer Absorption der laser über die Sauberkeit der
Ubertragungsstrccke, die Glasfaser, angekoppelt wird, 55 Rohstoffe erfüllt wird. Eine weite Anwendung hai diese
an deren Ende der Empfänger angefügt ist. Diese CVD-Verfahren in der Halljlcin-ricchnik gefunden.
Anordnung ist mehrfach hintereinander wicdcrholbar. Die Qualität der Übertragungsstrecke hängt in allen
Anwendungsfällcn von der Menge der übertragbaren Energie ab.
Besonders günstige Übertragungskapazitäten, also hohe Informationsdichte, lassen sich in solchen Fasern
mit Hilfe von Brechungsindcx-Gradicntenprofilen im lichtführenden Faserkern von Lichtleitfasern erreichen.
In solchen Gradientenfasern wird das Licht nicht durch Totalreflexion, sondern durch Rücklenkung ins Innere
des Faserkerns infolge des Brechungsindex-Profils transportiert.
Zwei Wege weiden heule vorwiegend zur Herstellung glasiger Lichtleitfasern für die Nachrichtenübertragung
bcschriiicn. Sie unterscheiden sich /war in
b0 wesentlichen Punkten, nutzen jedoch beide das
CVD-Verfahren zur Erzeugung eines Oxidniederschlages für die Glaslaser. Die ersten Patente auf dem Gebiet
der Glasfaserherstellung für die Nachrichtentechnik nutzen diesen Prozeß /ur Erzeugung eines wußen,
b5 rußähnlichcn Niederschlages, der sich nach den
l-rf lirungen der Halbleiterteehnik sehr rein darstellen
läßi. Spätere Patentanmeldungen gehen auf die ältere
Möglichkeit zurück, aus der Gasphase mich dom
CVD-Verfahren direkt ein Glas zu erzeugen. Beide genannten Verfahrenswege bedienen sich entweder der
Außenbeschichtung eines sehr sauberen Kicsclglasstabes
mil niedriger brechendem Material oder aber der Innenbeschichtung eines Kieselglasrohres mit höher
brechendem Material. Die so erzeugten stabförmigen Vorformen (Preform) werden anschließend zur Faser
ausgezogen. Die Erzeugung des Brechungsindex-Gradienten erfolgt schon bei der Herstellung der Vorform
(Preform), indem die Zusammensetzung der nicdcrgeschlagenen Materialien verändert wird. Beim Außcnbcschichtungsverfahren
wird der Brechungsindex des Materials mit zunehmendem Abstand von der Preforni-Achse
verringert, beim Innenbeschichiungsverfahren wird der Brechungsindex mit Annäherung zur Faserachse
schrittweise erhöht. Beim Innenbeschichtungsverfahren wird das innen beschichtete Rohr nach genügender
Innenbeschichtung zu einem Stab kollabiert.
Der eigentliche Niederschlag, sei es Ruß oder Glas. wird erreicht, indem die in einem Sauerstoffstrom
befindlichen Metallhalogenid-Moleküle in ein Temperaturfeid gelangen, dort mit dem Sauerstoff reagieren und
als Oxide niedergeschlagen werden. Die Halogene rauchen ab. Die Temperaturerzeugung erfolgt in
Anpassung an die zu verwendenden Metalle (Si zu SiO? 25 (je /u GeO2, Ti zu TiO2, B zu B2Oj) mit KnallgasbreniKTii
oder Plasma. Die Pyrolyse ist in diesen Fällen eine Oxidation mit Hilfe des zusätzlich zugefiihrten Trägergases
Sauerstoff.
Ziel der Erfindung ist eine Lichtleitfaser, die geeignet i(i
ist zur optischen Energieübertragung, und welche im infraroten Spcktralbcreich über 600 mn besonders guie
l.ichldurchlässigkeit besitzt. Diese l.ichileilfaser soll
möglichst wenig Absorptionsbaiidcn im Bereich /wischen
600 nm und 30 000 η m möglichst sogar bis ir>
150 000 nni besitzen. Diese Lichtleitfaser soll aufgrund
ihrer Absorplionsarnuit im infraroten .Spektralbereich
die Übertragung von infrarotem Licht in mecliziniechnischen,
naehrichtentcchnischeii und anderen energieübei
tragenden Systemen unter Verwendimg von Lasern und LLD ermöglichen. Die Faser soll darüber hinaus
eine Erleichterung in der definierten Erzeugung des Brcchungsindcx-Gradicnicn zur l.ichiüberlragung im
Easerinncrn ermöglichen. Dieser Brechiingsindex-Giadient
dient der Erhöhung der Übertragungskapazität. 41»
Dieses Ziel wird crfindungsgemäß mit einer Lichtlcii-Ia1Cr
entsprechend dem I lauptanspruch erreicht.
Es wurde gefunden, daß sich das Ziel der Erfindung dadurch erreichen läßt, daß von einem CVD-Verfahren
unter Verwendung von Sauerstoff abgegangen wird. Die bisher bekannte Pyrolyse der Metallhalogenide in
Anwesenheit von Sauerstoff führt zur Ausbildung von Oxidgläsern, die grundsätzliche Nachteile besitzen,
legliehe Anwesenheit von Protonen führt zur Bildung von Wasser bzw. OH-Gruppcn, welches im infraroten s-i
Spektralbereich zur Ausbildung von starken Baiidenstriikiurcn
führt. Banden hei 460 nm, 1200 bis IbOO mn
und insbesondere 2800 bis JOOO nm sind die Folge. Die
Ausbildung von D'jfektstrukturen der Oxide se,wie die
ungünstige Malerialdispersion sind weitere Nachteile bo
der Oxidation der Metallhalogenide zu Oxiden.
Demgegenüber bcsit/i die Hcrsn-iiuiig von sair.Tstofffreien
Komponenten bedeutende Vorteile.
Erfindungsgcmäß lassen sich so im infraroten
Spekiralbereich fast bandenfreic Transmissionsspek- <
>5 Iren in den Lichtleitfasern erzeugen. Darüber hinaus is;
das Verfahren der Erzeugung eines .sauerstofffreien Niederschlages aus der Gasphase wesentlich leichter
und bei niedrigeren Temperaturen durchzuführen als das herkömmliche, die Oxidation nutzende CVD-Verfahren.
Es wurde gefunden, daß Lichtleitfasern mit einer besonders hohen Transmission im infraroten Spektralbereich
besonders günstig dann erhalten werden, wenn der lichileitende Kern aus einem Glas besteht, dessen
Anionen vorwiegend die Ionen des S, Se und/oder des Tc sind. Andererseits sollen die lichtleiienden Kerne als
Kationen insbesondere Ionen des Ge, Si, P, B. As. Sb, Ti enthalten. Solche Lichtleitfasern können hergestellt
werden, indem Halogenide des S, Se, Te einerseits und Halogenide des Ge, Si. P, B, As, Sb. Ti andererseits nach
einem bekannten Gaszersetzungsverfahren als lichtleitender Glaskern aus der Dampfphase niedergeschlagen
werden Es wurde jedoch gefunden, daß als Treibgas auf keinen Fall Sauerstoff verwendet werden darf. Ein
bevorzugtes Treibgas stellt Cl dar. Edelgase können ebenfalls verwendet werden. Es wurde darüber hinaus
gefunden, daß sich dabei auch beträchtliche Mengen an Halogeniden (bis etwa 40 Atom-%). welche aus der
Dampfphase niedergeschlagen werden können, in die Gläser einbauen lassen.
Nachstehend werden einige Beispiele für die vorliegende Erfindung anhand einer einfachen Versuchsapparatur
beschrieben. Andere Anordnungen sind genauso möglich. F i g. 1 zeigt eine Chlor enthaltende Gasflasche
Cl. von der aus ein Chlorsirom durch einen Gasmengendurchflußreglcr
V/strömt. Der dort dosierte Chlorstrom gelangt entweder direk1 oder aber über Chargiergefäße
in ein Glasrohr T. Die Chargiergefäße sind mit flüssigen Halogenverbindungen gefüllt, so daß sich der Chlorstrom
mit Molekülen dieser Halogenverbindungen beladen kann, bevor er in das Rohr T gelangt. Die
Gasmengendurchflußregler Λ/ können über einen
Programmgeber Pin ihrer Stellgröße geregelt werden. Es können auch gasförmige, evtl. komprimierte
Komponenten C über solche Mengenregler gesteuert werden. Die Gasstiöine vereinigen sich vor dem Rohr,
durchströmen das auf Rollenlagern /. gelagerte Rohr T und gelangen in cineTeinpcralurzone der Wärmequelle
//. Hier erfolgt die Zersetzung, die Pyrolyse z\i
Metallsulfid-, -selenid- und/oder -lelliiridgläsern. Das
überschüssige Chlor verläßt das Rohr am entgegengesetzten Ende. Die Wärmequelle wird über die
Rohrlänge parallel zur Rohrachse hin- und hergcsehoben,
wodurch eine gleichmäßige Beschichtung auf der Rohrinnenwand erfolgt. Durch stufenweise Veränderung
der Konzentrationen der im Chlorsirom mitgeführien Metallhalogenide und der Halogenide des
Schwefels, des Selens und des Tellurs läßt sich eine Änderung der Glaszusammcnselzung von Schicht zu
Schicht über die Durchflußmengenregler M und den Programmgeber I' steuern. Nach Erzeugung einer
genügend dicken, in ihrer Konzentration sich verändernden Innenbeschichtung wird das Rohr nach
bekanntem Verfahren /um Stab (Preform) kollabiert und anschließend zur Faser ausgezogen.
Vielfältige Variationen des Brechungsindex mit Hilfe dieses Verfahrens sind möglich untor Benutzung der
Metallhalogenide des Germaniums, des Siliciums, des Titans, des Phosphors, des Antimons, des Bors und des
Arsens sowie der Halogenide des Schwefels, de?: Selens und/öde1" des Tellurs. Ebenso wie das Rohnnncnbeschichiungsverfahren
kann auch ein Außenbcschich-Iiingsvcifahren
zur Anwendung kommen. Auch Halogene, wie Chlor. Brom. |od und/oder Fluor bis zu
40 Atom-% kissen sich einbauen.
Die Flüssigkeit im Dotierbehälter A kann z. B.
bestehen aus GeCI4. SiCI4. TiCL. PCI1. SbCI-,. AsCI). usw.
Die Flüssigkeit im Dotierbchälter /-"kann z. B. bestehen
aus TeF4. SCIi. S;( "Ij, ScjCb. ScF4 usw. Die Flüssigkeiten
im Dotierbchäl: .V ... V können bestehen aus ·> Komponenten uer Gruppe des Behälters A oder
Komponenten der Gruppe des Behälters B. die additiv zugeführt werden. Darüber hinaus ist eine beliebige
Anzahl von zusätzlichen Dotierbehältern leicht einzubauen. Im Behälter C sind gasförmige Komponenten, to
z. B. BCIi usw. enthalten. Ebenso können verwendet werden als Komponenten im Behälter A. R. X ... V
solche Komponenten, deren Schmelztemperatur oberhalb der Raumtemperatur liegt, wenn das Gesümtsv
siem oder Teile davon auf höhere Temperatur H
thermostatisiert werden.
Als Treibgas kann anstelle von oder zusätzlich zum Chlorgas auch jedes andere Halogen oder ein Edelgas,
wie Hc. Ar. Kr Verwendung finden. Kombinationen sind ebenfalls möglich.
Mit Hilfe der in Fig. 1 dargestellten Anlage lassen sich die verschiedensten Lichtleitfasern unterschiedlicher
Zusammensetzung im Rahmen der Erfindung wie folgt herstellen:
Im einfachsten Fall der Erfindung werden außer den is
Dotierbehältern A und SaIIe übrigen Dotiermöglichkeiten fortgelassen. Als Flüssigkeit für A wird Germanium-Tetraehlorid
bei 20 C und als Flüssigkeit für B Schwefeldichlorid bei 20 C verwendet. Stellt man den
Chlorstrom durch A auf einen Durchfluß von 4 5 ml'min so
und den Chlorstrom durch R auf 48 ml/min ein. wobei der Exeess-Chlorstrom auf 10 ml/min eingestellt werden
sollte, entsteht ein Gasstrom, der nach Einleitung in das
rotierende Rohr Teinen glasigen Niederschlag an der
Rohnnnenflächc ergibt, wenn die Temperaturquelle im Ji
Rohrinnern eine Temperatur von 878 C ± 25 C erzeugt. Die Temperaturquelle war in diesen) Fall ein
ringförmiges Plaiinrohr. dicker als das sich drehende Glasrohr. Dieses Platinrohr winde als Widerstand
benutzt: es haue eine Länge vi-r, 2.5 cm und einen 4<
> Innendurchmesser von 24 mm. Die Wandstärke des Platinrohres betrug 2 mm. die durchfließende elektrische
.Strommenge betrug etwa 480 Ampere bei O.b Volt. Das innen zu beschichtende Glasrohr war ein
handelsübliches Natrium- K a Iz ium-Silikat-Glasrohr. 4;
Durch die beidseitige Einspannunc in die Backen einer
Gleichlauf-Drehbank konnte es in einen) bestimmten Bereich partiell über seinen Erweichungspunkt erhitzt
werden. Die Innenbeschichtung bestand aus GeS: in
glasiger Form.
Bei diesem prinzipiellen Versuch wurde eine konstante
Konzentration zur Demonstration des Versuchsablaufs gewählt. Nach Kollabieren des Rohres zur
Preform und Ausziehen zur Faser ergab sich eine Stufenindex-Lichtleitfaser, deren lichtführender Kern
aus glasigem GeS2 bestand.
Unter Nutzung der Möglichkeiten der in Fig. 1 angegebenen Apparatur wurde unter nachstehenden
Bedingungen eine Brechungsindex-Gradientenprofil-Faser wie folgt erzeugt: Im Dotiergefäß A befand sich
GeCI4. Im Dotiergefäß B befand sich SCb. In einem
weiteren Dotiergefäß Xbefand sich die Flüssigkeit PCIj.
Als Treibgas wurde wiederum Chlor benutzt. Die Durchflußmengenregler wurden so eingestellt, daß
durch das Germaniumchlorid enthaltende Dotiergefäß 175 ml/min Chlorgas, durch das SCb enthaltende
Dotiergefäß 245 ml/min und durch das PCIj enthaltende Dotiergefäß 280 ml/min flössen. Im Lauf des Herstellprozesses
der Innenbeschichtung wurde die Konzentration schrittweise bis /tir Endkonzenlralion von
350 ml/min Chlorgas durch das (JeCI4 enthaltende
Dotiergefäß. 245 ml/min durch das SCIi enthaltende Doliergefäß und 105 ml/min durch das PCI1 enthaltende
Dotiergefäß geändert. Dadurch ergab sich eine glasige Innenbeschichtung, deren erste, d.h. direkt auf der
Innenwand des Glasrohres aufgebrachte Schicht eine Zusammensetzung aus 25 Atom% Ge. 35 Atom'Vii S und
40 AtOiIi0A) P besaß. Die am weitesten in der Rohrmitte,
zum Schluß erzeugte glasige Schicht besaß eine Zusammensetzung aus 50 Atom% Gc, 35 Atom% S und
15 Atom% P. Als günstigste Temperatur, die durch die
Temperaturqueüe erzeug! wurde, wurde nach Vorversuchen
eine während des gesamten Vcrsuchsablaufs konstante Temperatur von 790 + IOC' als geeignet
gefunden. Es wurden bei der Innenbeschichtung 52 Schichten mit unterschiedlicher Zusammensetzung
aufgebracht. Die mittlere Schichtdicke betrug 7 um. Kollabierung und Ausziehen zur Faser erfolgten unter
bekannten Bedingungen oberhalb der Erweichungstemperatur des Natrium-Kalzium-Silikat-Glasrohres. Es
ergab sich eine Lichtleitfaser, die in Fig. 2 im Brechungsindex-Profil dargestellt ist. Die l'aserdieke
betrug dabei 120 μηι.der lichtl'ühiende Kern halte einen
Durchmesser von 60 μηι. der äußere Mantel von 30 um
Rohrmalerial Γ umgibt den lichtführenden Kern (. Im
Mantel T ist der Brechungsindex konstant und entspricht dem des Natnum-kalzium-Silikal-Glases. Im
Inneren der Faser im lichlfühi enden Kern (ändert sich
der Brechungsindex parabellörmig ansteigend, nachdem
er an der Grenze zum Mantel einen Sprung getan hat. In der Mitte des Faserkerns existiert ein aiii
Verdampfiingsverlustc zurückzuführendes kleines Minimum.
welches icdoch die I aseic|iialilät in bezug aiii die
Übertragung nicht stört, da der überwiegende Anteil
der Energie im parabelförmigen Bereich des Faserprofils transportiert wird.
Allein im System GeCL-PCI ι-SCIj ergeben sich
zahlreiche Möglichkeiten der Kon/entralionsanderung. Unter der Voraussetzung, daß durch unterschiedliche
Thermostatisierung der Doiiergefäße gleiche Dampfdrücke
erzeugt werden, lassen sich die Treibgas-Chlormcngen
die proportional sind der transportierten Menge der verschiedenen Halogenide im Dreistoffsystem,
durch die Halogenide selbst darstellen.
In Fig. 3 sind für das System GcCI4-PCI)-SCIj die
entsprechenden Trcibgasmcngcn durch die transportierten Mengen an Halogeniden dargestellt. Auf diese
Weise lassen sich die Bereiche, in denen sich glasige Innenbeschichtungcn erfindungsgemäß herstellen lassen,
in diesem System z. B. gut ablesen. Die Darstellung erfolgt in Volumen0/!). Der schraffierte Bereich C stellt
dabei den Bereich der Glasbildung dar.
Die in der Fig.3a — m dargestellten Kombinalionsmöglichkeiten
lassen sich alle auch zu Vierstoffsystemen erweitern unter Hinzuziehung der Komponente BCIj.
Auch eine Kombination von zwei und mehr Dreistoffsystemen der F i g. 3a — m sind möglich. Weitere Kationen
lassen sich, sofern sie nicht in Verbindungen erhältlich sind, welche bei Raumtemperatur flüssig sind, durch
zumindest teilweise auf Temperaturen oberhalb der Raumtemperatur thermostatisierte Systeme bzw. Apparaturen
in den Prozeß einfügen.
Für ein anderes erfindungsgemäßes Beispiel benötigt man folgende Komponenten in den entsprechenden
Dosierbehältern, die bei 25°C thermostalisiert werden:
SiCI4. PCIj. TeF4. BCI, und SCI2. Zu Beginn des
Prozesses werden Schichten aus SiCU, BCIj und SCI2
niedergeschlagen. Dazu liefert die Temperaturquelle eine Rohrinnentemperatur von 84O0C. Der Chlor-Trägergas-Fluß
(in M zu regeln) beträgt 91 ml/min. Der SCI2-FIuB, in M zu regeln, beträgt 380 ml/min. Der
BCh-Strom ist in M so zu regeln, daß im Verhältnis zum SiCU mit 91 Teilen und zum SCI2 mit 380 Teilen das BCl3
7 Teile in den Gesamtstrom einbringt. Es werden 15 Schichten mit konstanter Zusammensetzung in das
Rohr innen beschichtet.
Anschließend wird die Rohrinnentemperatur durch Variation der Temperaturquelle auf 76O°C abgeändert.
Die weitere Beschichtung erfolgt mit den Komponenten SiCU, PCI3 und TeFa. Die jeweils in M einzuregelnden
Trägergasströme des Chlorgases werden so eingestellt,
daß durch das Dosiergefäß SiCU 372 ml/min strömen, durch das Dosiergefäß mit PCI3 124 ml/min und durch
das Gefäß mit TeFa 744 ml/min. Im weiteren Verlauf der Beschichtung wird schrittweise in linearen Schritten die
Zusammensetzung bis zur Zusammensetzung der letzten Schicht variiert. Die Zusammensetzung der
letzten Schicht wird mit dem Regler M so eingestellt, daß der Chlorgasfluß im SiCU-Dosiergefäß 186 ml/min,
im Dosiergefäß für PCI33IO ml/min und im Dosiergefäß
mit TeF4 744 ml/min in der letzten Schicht erreicht Danach wird mit schrittweiser Reduzierung des
Chlorgasstromes das Rohr schrittweise kollabier'.. Vor dem letzten Kollabierschritt wird der Trägergasstrom
endgültig abgestellt. Das Rohr wird zur Preform kollabiert und die Preform zur Faser ausgezogen. Es
ergibt sich eine Lichtleitfaser mit 100 μm Durchmesser,
die einen äußeren Mantel hat, der aus Material des Trägerrohres besteht. Nach innen folgt dann ein Bereich
konstanter Zusammensetzung, der sich aus einem Glas der Komponenten Si, B und S zusammensetzt. Nach
dieser konstanten Schicht, die einerseits die Diffusion des Sauerstoffs aus dem Trägerrohr in das lichtführende
Kerninnere verhindern soll, andererseits aber auch einen niedrigeren Brechungsindex als der lichtführende
Kern besitzt, folgt der lichtführendc Kern aus den Komponenten Si, P, Te. Er ist so zusammengesetzt, daß
aus seinen Schichten ein parabolisches Brechungsindexprofil resultiert, welches in seinem Brechungsindex-Gradientenverlauf
der Gleichuiia ν = V entspricht.
Dabei ist a als Exponent 1,7 < ,7 < 2,2. Diese Lichtleitfaser mit verstärkter Transmission im Infraroten besitzt
nur extrem schwach ausgebildete Wasserbanden und ist in der Lage, Licht beliebiger Wellenlängen zwischen
500 ηm und 12μηι zu übertragen. Aufgrund der oben
genannten schichtweisen Änderung der Zusammensetzung und der daraus resultierenden Änderung des
Brechungsindex in parabolischer Form hat diese Lichtleitfaser eine sehr hohe Übertragungskapazität für
infrarotes Licht. Sie kann zur flexiblen Einführung des CO2-Laserstrahls in den Operationssaal einer Klinik
benutzt werden, wobei der Laser mehr als 50 m vom Patienten entfernt ist.
Hierzu 3 Blatt Zeichnungen
Claims (6)
1. Infrarotdurchlässige Lichtleitfaser aus sauerstoffarmem bzw. sauerstofffreiem Glas, dadurch
gekennzeichnet, daß sie eine Gradientenfaser ist, deren Glas als Anionen S, Se und/oder Te enthält.
2. Lichtleitfaser nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ihr Glas als Kationen Ge, Si, P,
B, As, Sb und/oder Ti enthält.
3. Lichtleitfaser nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß ihr Glas als Anionen zusätzlich
die Halogene Cl, Br, J und/oder F enthält.
4. Verfahren zur Herstellung von Lichtleitfasern nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß man Halogenide von S, Se und/oder Te einerseits und Halogenide von Ge, Si, P,
B, As, Sb und/oder Ti andererseits durch Zersetzung unter Wärmeeinfluß aus der Gasphase niederschlägt.
5. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, da.'3 man die Lichtleitfaser nach Innenbeschichtung
eines Rohres und anschließendem Kollabieren des Rohres zu einem Stab und weiter durch
Ausziehen des Stabes zur Faser herstellt.
6. Verfahren nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß man die Lichtleitfaser durch
Außenbeschichtung eines geeigneten Stabes herstellt, wobei zunächst eine Vorform erzeugt wird, die
anschließend zur Lichtleitfaser ausgezogen wird.
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