DE2529505C2 - Elektronenstrahlröhre - Google Patents

Description

dadurch gekennzeichnet, daß Strahlzentriereinrichtungen vorgesehen sind, die aus einem Paar paralleler Zentrierplatten (36, 37) für jeden Elektronenstrahl (44 bzw. 45) bestehen, welche zwischen den vertikalen und horizontalen Ablenkplattenpaaren angeordnet sind, zwischen denen die Elektronenstrahlen hindurchtreten und von denen die inneren Zentrierplatten (366,37b) auf einem positiven Potential gegenüber den äußeren (36a bzw. 37a) liegen, um die Elektronenstrahlen in Richtung auf die Mittelachse des Kolbens abzulenken.

2. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine Isolationsabschirmeinrichtung mit Abschirmungen (80,82,84,85,120,121), die /wischen den zwei horizontalen Ablenkplattenpaarcn (40, 41) angeordnet sind und mit diesen eine gemeinsame Stützstruktur teilen (F i g. 3 bis 5).

3. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Zentrierplatten (36, 37) zur vertikalen Spurverbiegungskorrektur gebogene Kanten aufweisen, um die Weglänge der Elektronenstrahlen (44, 45) durch diese Platten in Abhängigkeit von deren Ablenkung durch die vertikalen Ablenkplatten (32,33) zu verändern.

4. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß zur vertikalen Spurverbiegungskorrektur Kompensationsplatten (70, 71) angrenzend an zumindest jeweils eine der gebogenen Kanten der Zentrierplatten (36 bzw. 37) angeordnet sind, um deren elektrostatisches Feld zu beeinflussen.

5. Elektronenstrahlröhre nach einem der vorhergehenden Ansprüche 2 bis 4, gekennzeichnet durch Isolationsabschirmplatten (75), die zwischen den vertikalen Ablenkplattenpaaren (32, 33) angeordnet sind.

6. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 2. dadurch gekennzeichnet, daß die Sliitzstruktur Stützbeine (140, 144) umfaßt, die von isolierenden Stützslangen (134, 136) gehalten werden, wobei die Isolationsabschirmeinrichtung eine plattenförmige Abschirmung (80) umfaßt, die mit Stützbeinen (140) an den isolierenden Stüt/.stangen befestigt ist, von den horizontalen Ablenkplatten (40, 41) isoliert ist und

ausgezackte Kanten aufweist, um die Einben 11115: von Stützbeinen (144) der horizontalen Ablenkplatten in die Stützstangen zu ermöglichen (F i g. 3 bis 5).

Die Erfindung betrifft eine Elektronenstrahlröhre gomä3 Oberbegriff des Patentanspruchs 1.

ίο Eine derartige Elektronenstrahlröhre ist aus der US-PS 38 19 984 bekannt. Die bekannte Elektronenstrahl röhre hat gegenüber anderen Konstruktionen, hei denen die zwei Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichuin gen übereinander angeordnet sind, wobei diese zur Mittelachse hin geneigt sein müssen und daher eine Elektronenstrahlröhre mit verhältnismäßig großem Halsdurchmesser erfordern, den Vorteil, daß neben der parallelen Anordnung der Elektronenstrahl-Erzeugungsanordnungen in einer horizontalen Ebene der Durchmesser des Röhrenhalses geringer bleiben kann. Dafür ergibt sich allerdings der Nachteil, daß zwei voneinander getrennte elektrische Zentren für die Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen entstehen, die einen Abstand von z. B. bis zu 8 cm aufweisen, was zu Problemen hinsichtlich der vertikalen Spurverbiegung im Zentrum des Bildschirms führt.

Aufgabe der Erfindung ist es. bei einer Elektronenstrahlröhre der eingangs genannten Art die zentralen Auftreffflecke der beiden Elektronenstrahl in Übereinstimmung zu bringen, um auf diese Weise mit jedem der beiden Strahlen den gesamten Bildschirm verzerrungsfrei beschreiben zu können.

Gelöst wird die Aufgabe durch den kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs 1.

Besondere Ausführungsarten der Erfindung sind in den Unteransprüchen gegeben.

Durch die im Patentanspruch 2 angegebene Maßnahme wird eine gegenseitige Beeinflussung der zwei dicht beieinander liegenden Elektronenstrahl-F.r/eiigungseinrichtungen verhindert.

Die im Anspruch 4 angegebene Konstruktion ermöglicht ziich eine Kompensation von Teiletoleran/en. die sich bei Massenproduktion nicht immer vermeiden kissen.

Zur Verbesserung der Abbildungsqualität dienen auch die im Anspruch 5 angegebenen Maßnahmen. Sie verhindern ebenfalls eine gegenseitige Störung der elektrostatischen Felder der zwei nebeneinander liegenden Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungcn und ermöglichen gleichfalls eine Kompensation in der Weise, daß die charakteristische Impedanz längs dieser Platten konstant bleibt.

Um zu verhindern, daß durch Temperaturänderungen sich die Abbildungseigenschaften ändern, ist es gemälJ einer noch anderen Ausführungsform günstig, wenn die Stützstruktur entsprechend dem Anspruch 6 ausgebildet wird.

Ein Ausführungsbeispiel wird nachstehend anhand der Zeichnung erläutert. In der Zeichnung zeigen

ho F i g. 1 und 2 eine schematisierte Drauf- bzw. Seitenansicht einer zweistrahligen Elektronenstrahlröhre als Ausführungsbeispiel der Erfindung:

F i g. 3 eine perspektivische Ansicht einer Isnlntinnsabschirmeinrich'iung zur Anwendung bei der /woistrah-

b5 ligen Elektronenstrahlröhre nach F i g. I und 2,

F i g. 4 und 5 eine Seiten- bzw. Drausicht auf eine Isolationsabschirmeinrichtung zur Verwendung bei der zweistrahligen Elektronenstrahlröhre: und

F i g. bA. 6B und 6C Illustrationen von rechteckigen Darstellungsmustern, die von einem Elektronenstrahl auf dem fluoreszierenden Bildschirm einer Elektronenstrahlröhre gebildet werden.

In F i g. 1 ist eine Elektronenstrahlröhi« 10 gezeigt, die einen evakuierten Kolben 12 aus Glas, Keramik oder aus einem anderen geeigneten isolierenden Material aufweist, wobei in dem Kolben ein fluoreszenter Schirm 14 aus auf der inneren Oberfläche einer lichtdurchlässigen Frontplatte 16 aufgebrachten; Phosphormaterial an dem Vorderende des Kolbens befestigt ist. Eine dünne metallische Beschichtung 18. vorzugsweise aus Aluminium, ist auf der der Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtung zugewandten Seite des Bildschirms 14 angeordnet.

Zwei getrennte Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen herkömmlicher Bauart sind in dem Kolben 12 angeordnet, wöbe diese Erzeugungseinrichtungen Kathoden 20 bzw. 21. Steuergitter 24 bzw. 25 und Fokussieranoden 28 bzw. 29 aufweisen. Zusätzlich sind zwei getrennte Elektronenstrahl-Ablenksysteme innerhalb des Kolbens 12 vorgesehen, einschließlich einem ersten Paar von vertikalen Ablenkplatten 32 und einem zweiten Paar von vertikalen Ablenkplatten 33, einem ersten Paar von Strahl-Zentrierplatten 36 und einem zwpjten Paar von Strahl-Zentrierplatten 37, sowie einem ersten Puar von horizontalen Ablenkplatten 40 und einem /weiten Paar von horizontalen Ablenkplatten 41.

Wie aus den Fig. 1 und 2 zu erkennen ist, besitzen gleiche Elemente gleiche Bezugszeichen, wobei der Kathode 20 das Steuergitter 24, die Fokussieranoden 28, die vertikalen Ablenkplatten 32. die Strahl-Zentrierplatten 36 und die horizontalen Ablenkplatten 40 einem Elektronenstrahl 44 zugeordnet sind, der von der Kathode 20 erzeugt wird, an die eine Spannung von —3 kV angelegt werden kann. In ähnlicher Weise kann an die Kathode 21 eine Spannung von —3 kV gelegt werden, wobei zu dieser Kathode das Steuergitter 25, die Fokussieranoden 29. die vertikalen Ablenkplatten 33, die Strahl-Zentrierplatten 37 und die horizontalen Ablenkplatten 41 gehören, um den Elektronenstrahl 45 zu steuern, der von der Kathode 21 erzeugt wird.

Ein ringförmiges Montier- und Abschirmglied 50 ist innerhalb des Kolbens 21 derart angeordnet, daß die Ausgangsenden der horizontalen Ablenkeinrichtungen 40 und 41 darin angeordnet sind. Dieses Glied 50 wird nahe Massepotential gehalten. Das Glied 50 dient dazu, die horizontalen Ablenkeinrichtungen von der Hochspannung der hinter der Ablenkung liegenden Beschleunigungsanode 54 abzuschirmen, die wiederum aus einer leitenden Beschichtung auf der inneren Oberfläche des Kolbens 12 bestehen kann, die in elektrischem Kontakt zu einer metallischen Beschichtung 18 steht und ein Betriebspotential von 20 bis 24 kV besitzt.

Ein Ablenk-Ausdehnungsnetz 58 ist an dem Glied 50 befestigt, wobei das Netz eine nach außen gerichtete halbkugelförmige Form besitzt, um eine divergierende Linse für eine Ablenk-Ausdehnung in der Weise zu schaffen, wie es in dem Buch mit dem Tiiel »Cathode-Ray Tubes« auf den S. 51 —54 beschrieben ist; das Buch wurde von Tektronix, Inc., 1970 veröffentlicht. Dieses Net/ 58 sorgt dafür, daß die Elektronenstrahlen über den Bildschirm in voll überlappender Weise abgelenkt worden.

Nachdem die Elektronenstrahl 44 und 45 die Erzeugimgsemrichtungen verlassen haben, laufen sie zunächst durch die vertikalen Ablenkplatten 32 bzw. 33. In den I·' i g. I und 2 gezeigte herkömmliche vertikale Ablenkplatten liefern zufriedenstellenden Betrieb bis zu ungefähr 150 MHz. Für Kathodenstrahlröhren-Betrieb oberhalb dieser Frequenz liefert jedoch eine vertikale Ablenkeinrichtung der in dem US-Patent 36 94 689 offenharten Art die besten Betriebsergebnisse.

Die Strahl-Zentrierplatten 36 und 37 sind in ihrer Form indentisch und jedes Paar umfaßt eine äußere ebene Platte 36a bzw. 37a und eine innere ebene Platte 366 bzw. 376, die im gleichen Abstand voneinander und parallel zur Mittelachse der Röhre angeordnet sind, um die Elektronenstrahlen 44 bzw. 45 aufzunehmen,die von den vertikalen Ablenkplatten 32 bzw. 33 her hindurchlaufen. Die inneren Strahl-Zentrierplatten 36b bzw. 37b. die der Mittelachse der Röhre am nächsten sind, werden auf ein elektrisches Potential vorgespannt, das positiv hinsichtlich der äußeren Platten 36a bzw. 37a ist. um dio Elektronenstrahlen 44 und 45 zur Mittelachse der Röhre längs der Zentrallinie der horizontalen Ablenkplatten 40 und 41, siehe Fig. 1, zu richten. Die Strahlemgangs- und Ausgangsteile der Strahl-Zentrierplatten können von gebogener Form sein, wie in F i g. 2 dargestellt, um vertikale Spurverbiegung zu korrigieren, die von dem Netz 58 erzeugt wird. Wie zu erkennung ist, muß ein Strahl 44, 45, der von den vertikalen Ablenkplatten 32, 33 nach oben oder unten abgelenkt wird, einen längeren Weg zurücklegen, während er durch die Strahl-Zentrierplatten 36, 37 läuft, und er wird daher horizontal stärker abgelenkt durch die Strahl-Zentrierplatten, als es bei einem Strahl der Fall wäre, der durch das Zcntrum hindurchläuft. Somit wird eine Verbiegung absichtlich in die vertikale Spur hineingebracht, die entgegengesetzt ist zu der, die von dem Netz 58 erzeugt wird, was zu einer geraden vertikalen Mittelspur führt, wenn man auf den Schirm 14 blickt.

Kompensationsplatten 70 und 71, die ebene Platten mit geraden Kanten darstellen, sind angrenzend /u der Strahl-Eintrittskante der äußeren Strahl-Zentrierplaiten 36a und 37a angeordnet, um eine Steuerung der Größe der vertikalen Spurverbiegung zu liefern, wie in dem vorangegangenen Absatz erörtert wurde, um Teile-Toleranzen und leichte Fehlausrichtungen der Teile bei der Herstellung der Kathodenstrahlröhren zu kompensieren. Ein veränderliches elektrisches Potential wird jeder Kompensationsplatte 70 und 71 zugeführt.

um ein elektrostatisches Feld zu erzeugen, dessen Äquipotentiallinien mit den Äquipotentiallinien an den äußersten Kanten eines jeden Satzes von Strahl-Zentrierplatten 36 bzw. 37 zusammenwirken und die resultierende Krümmung der Eingangskante der äußeren Strahl-Zentrierplatten 36a und 37a verändern, um so die gewünschte geradlinige vertikale Spur zu erzeugen.

Die horizontalen Ablenkplatten 40 und 41 sind in ihrer Form identisch und jedes Paar umfaßt eine äußere Platte 40a, 41a und eine innere Platte 4Oo, 41 b, die gewohnlich 1,3 mm voneinander Abstand am Eingang und ungefähr 8,9 mm Abstand am Ausgang haben, um so einen keilförmigen Raum zwischen sich zu bilden, jeder Satz von horizontalen Ablenkplatten ist in einem Winkel innerhalb des Kolbens 12 angeordnet, so daß die Elektronenstrahlen 44 und 45, die von den bereits genannten Strahl-Zentrierplatten zur Mittelachse der Röhre gerichtet werden, eintreten und ohne Behinderung längs einer Linie hindurchlaufen können, die das elektrische Zentrum des Schirms 14 trifft. Das elektiisehe Zentrum des Schirmes wird definiert als der Punkt. auf dem die Strahlen 44 und 45 auftreffen, wenn die vertikalen Ablenkplatten 32, 33 und die horizontalen Ablenkplatten 40 und 41 alle geerdet sind, so daß /wi-

sehen den Plattenpaaren jeweils eine Spannungsdifferenz von 0 V entsteht. Der Effekt der Strahl-Zentrierplatten 36 und 37, der horizontalen Ablenkplatten 40 und 41 und des Ablenk-Ausdehnungsnetzes 58 ist der. das elektrische Zentrum des Bildschirms an das physikalische Zentrum des Schirms zu legen, obwohl die nebeneinander angeordneten Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen mehrere Millimeter voneinander entfernt sind.

Zwischen den vertikalen Ablenkplattenpaaren sind Isolationsabschirmplatten 75 angeordnet, um elektrostatische Felder dieser vertikalen Ablenkeinrichtungen daran zu hindern, sich gegenseitig zu stören, wie auch zur Lieferung einer Kompensation, so daß die charakteristische Impedanz längs dieser Platten konstant ist. Die Platten 75 werden nahe dem mittleren Potential der vertikalen Ablenkeinrichtungen betrieben.

Eine Isolationsabschirmung 80 ist zwischen den horizontalen Ablenkplattenpaaren 40 und 41 angeordnet, um die von den entsprechenden horizontalen Ablenkplatten erzeugten elektrostatischen Felder daran zu hindern, einander zu beeinflussen. Die Abschirmung 80 wird bei oder nahe dem mittleren Potential der horizontalen Ablenkeinrichtungen betrieben. Diese Abschirmung dient auch dazu, die Kapazität zwischen den Ab-Icnkplaitensälzen zu vermindern, wodurch ein hochfrequentes Übersprechen zwischen den zwei Elektronenstrahl-Erzeugungseinriehtungen möglichst klein gemacht wird.

Weitere innere und äußere Isolationsabschirmungen 82 b/w. 84 und 85 sind angrenzend zum Ausgang der horizontalen Ablenkplatten 40 und 41 angeordnet und werden auf Potentialen betrieben, die ausreichen, um die Gesamtverzerrung zu korrigieren, insbesondere die horizontale Trapezverzeichnung, die noch im folgenden genauer erläutert wird.

Eine weitere geometrische Korrektur kann erreicht werden, indem die horizontalen Ablenkplatten 40 und 41 mit gebogenen oder abgerundeten Ausgangskanten vergehen werden, statt sie mit geraden Ausgangskanten 711 \ ersehen, wie es in den Figuren dargestellt ist.

Eingangssignale werden an die Eingangsanschlüsse 100 bzw. 101 angelegt, die mit entsprechenden vertikalen Verstärkern 106 bzw. 107 verbunden sind. Die vertikalen Verstärker 106 und 107 erzeugen Gegentakt-Ausgangssignale. die entsprechend an vertikale Ablenkeinrichtungen 32 bzw. 33 angelegt werden. Horizontale Sägezahngeneratoren 110 bzw. 111 werden aufgrund der Aufnahme von Eingangssignalen an den Eingangsanschlüssen 100 und 101 ausgelöst, die durch Trigger- schaltkreise 116 bzw. 117 geliefert werden, deren Eingänge entsprechend mit den Eingangsanschlüssen 100 und 101 und deren Ausgänge entsprechend mit Eingängen der horizontalen Sägezahngeneratoren 110 und 111 verbunden sind. Die horizontalen Sägezahngeneratoren erzeugen Gcgentakt-Sägezahnsignale für die Ablenkplatten. Diese Signale werden entsprechend den horizontalen Ablenkplatten 40 und 41 zugeführt.

Auf diese Weise werden die entsprechend von den Kathoden 20 und 21 emittierten Elektronenstrahlen 44 und 45 durch die Fokussieranoden 28 bzw. 29 in geeigneter Weise fokussiert, danach wirken die vertikalen Ablenkplatten 32 bzw. 33 und die horizontalen Ablenkplatten 40 bzw. 41 auf die fokussierten Elektronenstrahlcn ein, um die Elektronenstrahlen in Übereinstimmung mit den an den Eingangsanschlüssen 100 und 101 liegenden Signalen abzulenken, und danach laufen die Elekironcrstrahlen durch das Ablenk-Ausdehnungsnetz 58.

wodurch sie auf ungefähr 24 kV beschleunigt worden, bevor sie auf den Strahlauftreffeinrichtungen atiftrcffcn. : die aus der Leuchtstoffschicht 14 und der metallischen ;.';? Beschichtung 17 bestehen, die Leuchtbildet· dieser Elck- ;■■ tronenstrahlen erzeugen, wobei diese Leuehtbilder in ;' den meisten Fällen den Verlauf der Signiilwcllcnformcn i,; der vertikalen Ablenksignale darstellen. Der dünne AIu- ?: miniumfilm, der einige Zehntel nm dick ist. ist gegenüber Elektronen durchsichtig und reflektiert das von der Leuchtstoffschicht 14 emittierte Licht, um die Helligkeit der Darstellung in herkömmlicher Weise zu erhöhen.

Fig.3 zeigt eine perspektivische Ansicht einer Isolationsabschirmeinrichtung einer vorzugsweisen Ausfiihrungsform der vorliegenden Erfindung, während die Fig.4 und 5 entsprechend eine Seitenansicht und eine Ansicht von oben darsteilen. Wiederum haben gleiche Bauelemente gleiche Bezugszeichen. Eine Abschirmung 120 bzw. 121 bestehend aus geschlitzten halbkreisförmigen Scheiben, ist an der Abschirmung 80 auf einer ebenen Querverbindung zu der Abschirmung 80 befestigt, um eine Isolation der horizontalen Ablenkeinrichmngcn von dem Hochspannungsfeld zu erhalten, das durch die hinter der Ablenkung liegende Anode 54 erzeugt wird. wie schon beschrieben wurde. Die Abschirmungen 84 und 85 sind isoliert an der Abschirmung 120 bzw. 121 befestigt. Die Abschirmung 80. die Abschirmungen 120 und 121, die außerhalb der Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtung liegenden Abschirmungen 84 und 85 sind mittels Stützbeinen 125 zusammengebaut, 1. B. mittels Drähten, die zu den verschiedenen Teilen ptinktvor- ₍ schweißt sind und voneinander durch Glasperlen 128 isoliert sind.

Die innere Abschirmung 82 umfaßt zwei getrennte Abschirmglieder 130 und 131, die voneinander isoliert sind und in dem von der Abschirmung 80 gelieferten Raum isolierend montiert sind.

Die vollständige Isolationsabschirmeinrichtung, die oben beschrieben wurde, wird dann in der Röhre zwischen zwei Paaren von horizontalen Ablenkplatten 40 und 41 angeordnet, und zwar angebracht an den inneren horizontalen Ablenkplatten-Stützstangen 134 und 136. die in geeigneter Weise aus Glas oder einem anderen isolierenden Material hergestellt sein können, mittels Stützbeinen 140, die an der Abschirmung 80 punktverschweißt und in den Stützstangen 134 und 136 eingebettet sind, wie in F i g. 4 gezeigt ist.

Die Kanten der Abschirmung 80 sind ausgezackt, um für die inneren horizontalen Ablenkplatten bestimmten Stützbeinen 144, die mit den inneren horizontalen Ablenkplatten 406 und 41Z) punktverschweißt sind, eine Einbettung in die Stützstangen 134 und 136 zu ermöglichen, ohne daß die Abschirmung 80 berührt -A-ird. Diese Anordnung ermöglicht es. zwei Sätze von horizontalen Ablenkplatten 40 und 41 so eng wie möglich nebeneinander zu montieren, um volle Abtastüberlappung zu erreichen, während gleichzeitig die Verzerrung möglichst klein gemacht wird und wobei gleichzeitig auch noch die Kapazität zwischen den zwei Sätzen von hori- " zontalen Ablenkplatten, die sich aufgrund des dieleketrischen Mediums (Luft und Stützstangen) ergibt, vermindert wird.

Wie zu erkennen ist. liegen die Stützbeine 144 für die Ablenkplatten auf dem gleichen Potential, wie ihre zugehörigen Ablenkplatten 40i und 416. Um die Abschirmung zu vervollständigen und die Kapazität in den Stützstangcn 134 und 136 noch weiter zu verkleinern, sind die Außenseiten der Stützstangen 1341 und 136 mit einer elektrisch leitenden Farbe 150 in Bändern be-

schichtet, die die Abschirmung 80 mit den Stützbeinen 140 verbinden.

In Abwesenheit der Abschirmung 82 und der äußeren Abschirmungen 84 und 85 wäre die von der linken Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtung gelieferte Darstellung trapezförmig verzerrt, wie es in F i g. 6A gezeigt ist, wodurch die horizontalen Linien oberhalb und unterhalb der mittleren horizontalen Linie von dieser in Richtung von links nach rechts immer stärker abweichen, während die von der rechten Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtung erzeugte Darstellung eine Trapezver-/cichnung liefert, wie sie in Fig.6B gezeigt ist, wobei die horizontalen Linien oberhalb und unterhalb der mittleren horizontalen Linie von dieser in einer Richtung immer stärker abweichen, die entgegengesetzt ist zu der der Darstellung der linken Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtung. wie in Fig. 6A gezeigt. Somit liefern die gegenseitigen Beeinflussungen der elektrostatischen Felder der vertikalen und der horizontalen Ablenkeinrichtung ohne die innerhalb der Erzeugungseinrichtung liegenden Abschirmungen 82 und ohne die äußeren Abschirmungen 84 und 85 Darstellungen, die eine Trape/verzeichnung aufweisen, wie sie in den F i g. 6A und bB für einen zweistrahligen Elektronenstrahl-Oszillographen gezeigt sind, sofern die Elektronenstrahl-Er-Zeugungseinrichtungen parallel nebeneinander angeordnet sind. Wenn die zwischen den Erzeugungseinrichtungen liegende Abschirmung 82 und die außerhalb der Erzeugungseinrichtungen liegenden Abschirmungen 84 und 85 für die horizontalen Ablenkeinrichtungen vorgesehen sind, ergibt sich die richtige rechteckige Darstellung, wie sie in F i g. 6 gezeigt ist. wodurch die trapezförmige Verzeichnung korrigiert ist.

Eine herkömmliche Elektronenstrahlröhre wurde /war als Beispiel beschrieben, jedoch ist es möglich, die vorliegende Erfindung auch beispielsweise auf eine bistabile Ladungsbild-Speicherröhre anzuwenden, einschließlich einer Bauart, bei der die Leuchtschicht mit dielektrischer Speicherung arbeitet.

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Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

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Claims (1)

Patentansprüche:

1. Elektronenstrahlröhre mit

— einem evakuierten Kolben (12) mit Strahlauftreffeinrichtungen,

— zwei Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen, die in einer horizontalen Ebene nebeneinander beiderseits der Mittelachse des Kolbens im Abstand zu den Strahlauftreffeinrichtungen angeordnet sind, um zwei parallele Elektronenstrahlen (44,45) zu erzeugen,

— /.wischen den Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichiungen und den Strahlauftreffeinrichtungen angeordneten vertikalen und horizontalen Ableckplattenpaaren (32, 33 bzw. 40, 4d) für jede Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtung zur vertikalen bzw. horizontalen Ablenkung jedes Elektronenstrahls, wobei jeweils die innere Ablenkplatte (40b. 4\b) der horizontalen Ablenkplattenpaare (40 bzw. 41) in Strahlrichtung gesehen zur Mittelachse des Kolbens geneigt ist.