DE2431770A1 - Abbildungsteil und -verfahren - Google Patents
Abbildungsteil und -verfahrenInfo
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Description
Xerox Corporation, Rochester, N.Y. / USA
Abbildunsrsteil und -verfahren
Die Erfindung betrifft elektrooptisch^ Abbildungsteile
und insbesondere vielschichtige Abbildungsteile, die eine deformierbare Elastomerschicht und eine dünne flexible
■ leitende Metallschicht einschließen. Die Erfindung betrifft
auch Verfahren zur Bildung der Metallschicht und Abbi'ldungsmethoden unter Verwendung der neuen Abbildungsteile.
In der Abbildungstechnik ist eine breite Klasse von Abbildungsteilen
bekannt, die optische Bilder durch eine bildweise. Verteilung von photoerzeugten Spannungen oder
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Strömen aufzeichnen, welche auf ein spannungs- oder stromveränderbares
Aufzeichnungsmedium einwirken. Bei diesen Teilen gestattet typischerweise eine bildweise aktivierende
Strahlung,,die auf einen Photoleiter einfällt, daß die Ladungsträger sich in einem äußeren elektrischen Feld
bewegen. Diese Ladungsträger stehen in Wechselwirkung mit einem spannungs- oder stromempfindlichen Teil, das seinerseits
das Licht moduliert.
In der US-PS 2 896 507 wird ein Abbildungsteil beschrieben,
das eine photoleitende Schicht und eine elastisch deformierbare Schicht einschließt, welche zwischen ein Paar
Elektroden gelegt ist, wovon eine eine dünne Metallschicht ist, die über der deformierbaren Schicht liegt. Beim Betrieb
wird eine1bildweise aktivierende Strahlung auf das
Teil gerichtet und es wird ein elektrisches Feld über die photoleitende und die deformierbare Schicht ausgebildet,
wodurch bewirkt wird, daß sich diese Schichten in einer bildweisen Konfiguration deformieren. Es heißt, daß dieses
Teil dazu imstande ist, als ein Bildintensivator zu wirken, da das Deformierungsbild dann mit einer Lichtquelle
hoher Intensität und einem optischen Schlierensystem abgelesen werden kann.
Vorrichtungen dieser Art sind wegen der vielen Anwendungszwecke, für die sie verwendet werden können, beispielsweise
für eine Bildverstärkung, Bildlagerung etc., von großem Interesse. Naturgemäß sollten für handelsübliche Zwecke
diese Vorrichtungen typischerweise für sehr viele Abbilduhgszyklen,
z.B. von mindestens etwa 100000, und vorzugsweise viel mehr, geeignet sein. Für ein zufriedenstellendes
Verhalten werden viele Anforderungen an die metallische Elektrodenschicht gestellt. Diese dünne metallische
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Schicht sollte gewünschterweise stark reflektierend sein, um das abgelesene Licht wirksam zu verwerten, eine gute
seitliche Leitfähigkeit haben, da sie, wenn sie als eine Elektrode der Vorrichtung verwendet wird, einen Laduhgsaustausch
mit allen Punkten der Vorrichtung gestatten sollte, hoch flexibel sein, damit die Abbildungsdeformierungen
ohne eine Behinderung bei den Betriebsbedingungen auftreten können, eine ausgezeichnete Stabilität haben, d.h. die
Abbildungseigenschaften sollten sich während der Lagerung oder unter einer wiederholten Zyklisierung nicht wesentlich
verändern, und sie sollte nur geringe innere Spannungen haben, da z.B. nennenswerte Spannungen in typischer
Weise dazu neigen wurden, die maximale Deformation zu vermindern,
und auch eine Verschiebung zu niedrigeren Raumfrequenzen vornehmen würden. Ein wichtiges Erfordernis besteht
darin, daß die Metallschicht an der deformierbaren Schicht haftend sein sollte, so daß die Deformationen der
Metallschicht wirksam an diejenigen der deformierbaren Schicht angekuppelt werden.
Es sollte beachtet werden, daß die US-PS 2 896 507 nichts hinsichtlich der Materialien aussagt," die für die Metallschicht
verwendet werden, und daß sie auch keine Angaben über Methoden macht, um die Metallschicht auf der deformierbaren
Schicht auszubilden. Es wird ersichtlich, daß enorme Probleme damit verbunden sind, metallische Schichten
zur Verfügung zu stellen, die dazu imstande sind, den gestellten Forderungen zu genügen. So können z.B. bei
solchen dünnen Schichten einige Metalle hochreflektierend, jedoch nicht genügend leitfähig sein.
In neuerer Zeit wurde von Sheridon ein weiterer Fortschritt
erzielt, der die Ruticon-Familie (hergeleitet von den grie-
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chischen Wörtern "rutis" für falten und "icon" für Bild)
von AtTbildungsteilen beschrieb. Dabei kann ein spannungsempfindliches
lichtmodulierendes Aufzeichnungsmedium aus einer deformierbaren Elastomerschicht und dem photoleitenden
Material als gesonderte Schicht vorgesehen werden oder in die Elastomerschicht eingearbeitet werden (nähere Beschreibungen
der Ruticon-Vorrichtungen finden sich z.B.
in "IEEE Transactions On Electron Devices", September 1972, sowie in der US-PS 3 716 359). Es werden verschiedene unterschiedliche
Ausführungsformen beschrieben, um ein elektrisches Feld über die Elastomerschicht auszubilden.
Bei einer Ausführungsform, die von Sheridon als Gamma-Ruticon bezeichnet wird, wird auf der Oberfläche der Elastomerschicht
eine dünne flexible Metallschicht vorgesehen, die als eine Elektrode der Vorrichtung wirkt. Das Gamma-Ruticon
von Sheridon ist dazu imstande, ein ausgezeichnetes Verhalten für sehr viele Abbildungszyklen zu zeigen, da unter
anderem die flexible Metallschicht den daran gestellten strengen Erfordernissen genügen kann. Von Sheridon wird
dieses erwünschte Ergebnis erhalten, indem Metallschichten gebildet werden, die eine Vielzahl von unterschiedlichen
Metallen enthalten. Die bevorzugte Metallschichtzusammensetzung
umfaßt Gold und Indium. Andere Metalle, die für Metallschichten der Gamma-Ruticon-Vorrichtungen geeignet
sind, sind ebenfalls beschrieben (vgl. insbesondere US-PS 3 716 359, Spalte 10, Zeilen 1 bis 8). Es wird auch beschrieben,
daß zu diesen Schichten weitere Materialien gegeben v/erden können, um besondere Eigenschaften zu verstärken
oder zu unterdrücken. Es v/erden auch verschiedene Techniken beschrieben, um die Metallschicht auf der
Elastomerschicht zu bilden, z.B. durch Vakuumeindampfung.
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Obgleich, wie bereits ausgeführt wurde, die metallischen Schichtzusammensetzungen, die von Sheridon beschrieben
werden, ein ausgezeichnetes Verhalten aufweisen, ist es doch immer erwünscht, bestimmte Betriebseigenschaften
von solchen Metailschichten zu verbessern. Bei relativ neuen und wachsenden technischen Gebieten, z.B. bei elektrooptischen
Abbildungsteilen, die eine deformierbare Elastomerschicht enthalten, geht die Entwicklung nach neuen
Materialien zur Verwendung in diesen Teilen weiter. Die vorliegende Erfindung betrifft nun eine neue und vorteilhafte
flexible Zusammensetzung der Metallschicht.
Ziel der Erfindung ist es, neue elektrooptische Abbildungsteile
zur Verfügung zu stellen.
Es ist ein weiteres Ziel der Erfindung, elektrooptische Abbildungsteile zur Verfügung zu stellen, die eine deformierbare
Elastomerschicht und eine flexible leitfähige Metallschicht einschließen.
Es ist ein weiteres Ziel der Erfindung, eine neue Zusammensetzung zur Verfügung zu stellen, die Titan und Siloei· enthält
und die für flexible leitende Metallschichten in solchen elektrooptischen Abbildungsteilen geeignet ist.
Es ist ein weiteres Ziel der Erfindung, Abbildungsmethoden zur Verfügung zu stellen, bei denen die neuen elektrooptischen
Teile der Erfindung verwendet werden.
Schließlich ist es noch ein weiteres Ziel der Erfindung, Methoden zur Verfügung zu stellen, um die neue flexible
leitende Metallschicht zu bilden.
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Gemäß der Erfindung wird nun eine dünne flexible leitende Metallschicht zur Verfügung gestellt, die Titan und Silber
auf einer Oberfläche einer deformierbaren Elastomerschicht in einem elektrooptischen Abbildungsteil umfaßt, das auch
ein photoleitendes isolierendes Material einschließt. Bei einer Ausführungsform der Erfindung ist das photoleitende
Material als getrennte Schicht vorhanden. Bei einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist das photoleitende Material
in die deformierbare Elastomerschicht eingearbeitet. Die flexible leitfähige metallische Schicht dient als eine
Elektrode für das Abbildungsteil, das vorzugsweise eine weitere Elektrode angeordnet an der anderen Seite des Abbildungsteils
aufweist.
Die Erfindung wird anhand der beigefügten Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine teilweise schematische Querschnittsansicht eines erfindungsgemäßen elektrooptischen Abbildungsteils,
Fig. 2 eine logarithmische graphische Darstellung, die das Kontrastverhältnis gegen die Anzahl der Abbildungszyklen bei einem erfindungsgemäßen Abbildungsteil
und einem Abbildungsteil gemäß dem Stand der Technik zeigt,
Fig. 3 eine logarithmische graphische Darstellung, die das
Kontrastverhältnis gegen die Anzahl der Abbildungszyklen für die gleichen Teile wie in Figur 2 zeigt,
wobei jedoch während der Abbildung eine unterschiedliche Polarität des Feldes angewendet wird,
Fig. 4 eine halblogarithmische graphische Darstellung, die
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die Beugungsleistung gegen die Anzahl der Abbildungszyklen
bei den gleichen Teilen zeigt, die dazu verwendet worden sind, um die in Figur 2 dargestellten
Ergebnisse zu erhalten,
Fig. 5 eine halblogarithmische graphische Darstellung, die
die Beugungsleistung gegen die Anzahl der Abbildungszyklen bei den gleichen Abbildungsteilen und
-bedingungen zeigt, die verwendet worden sind, um die Ergebnisse der Figur 3 zu erhalten, und
Fig. 6 eine teilweise schematische Querschnittsansicht einer Ausführungsform eines elektrooptischen Abbildungsteils
gemäß der Erfindung.
Die Figur 1 zeigt eine teilweise schematische Querschnittsansicht eines elektrooptischen Abbildungsteils, das allgemein
als 10 bezeichnet wird, wobei ein im wesentlichen transparentes Trägersubstrat 12 und eine im wesentlichen
transparente leitfähige Schicht 14 eine im wesentlichen transparente Elektrode bilden. Es sollte beachtet werden,
daß die Elektrode nicht transparent zu sein braucht. Sie kann auch je nach der Art und Weise, wie das Abbildungsteil
10 verwendet wird, opak sein. Die überliegende leitende Schicht 14 ist eine Schicht aus einem photoleitenden
isolierenden Material 16, die ihrerseits die deformierbare Elastomerschicht 18 trägt. Bei einer weiteren Ausführungsform
kann das photoleitende isolierende Material in die deformierbare Elastomerschicht 18 eingearbeitet
werden, wodurch die Notwendigkeit für eine Schicht 16
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in Wegfall kommt. Die überliegende Elastomerschicht 18
ist eine dünne flexible leitfähige Metallschicht 20, die als zweite Elektrode für die Abbildungsvorrichtung dient.
Die Elektroden sind durch Leitungen 24 an eine Potentialquelle 22 angeschlossen. Die Potentialquelle 22 kann z.B.
eine Wechselstromquelle, eine Gleichstromquelle oder eine Kombination daraus sein. Der äußere elektrische Stromkreis
kann auch geeignete (nicht gezeigte) Schaltereinrichtungen enthalten.
Es sollte beachtet werdens daß das Substrat 12 und die leitfähige
Schicht 14 nicht erforderlich sind, wenn das elektrische Feld mittels einer Koronaaufladung ausgebildet
wird, So kann z.B. das Feld nach der Doppelseiten-Koronaaufladungstechnik aufgebracht werden, bei der eine Koronaaufladungsvorrichtung
an jeder Seite des Abbildungsteils angeordnet ist, oder es kann alternativ eine Seite des
Abbildungsteils koronabeladen werden, während die andere Seite geerdet ist. Naturgemäß ist es auch möglich, ein Substrat
in dem Abbildungsteil zu haben, wenn das Feld in dieser Weise ausgebildet wird. In diesem Falle braucht es
nicht seitlich ±eitfähig zu sein.
Beim Betrieb des Abbildungsteils 10 wird ein elektrisches Feld über die photoleitende Schicht 16 und die Elastomerschicht
18 ausgebildet, indem ein Potential von der Quelle 22 zu den Elektroden angelegt wird. Mit dem elektrischen
Feld wird ein bildweises Muster einer aktivierenden elektromagnetischen Strahlung auf das Abbildungsteil gerichtet.
Das elektrische Feld induziert einen Ladungsfluß in den Gegenden der photoleitenden Schicht 16, die der
Strahlung ausgesetzt sind, wodurch das Feld über die Elastomerschicht 18 variiert. Die mechanische Kraft des elek-
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trischen Feldes bewirkt, daß sich die Elastomerschicht
in einem Muster deformiert, das der bildweisen aktivierenden Strahlung entspricht. Die leitende Metallschicht 20
ist genügend flexibel, um den Deformationen der Elastomerschicht 18 zu folgen.
Naturgemäß muß die aktivierende elektromagnetische Strahlung die photoleitfähige isolierende Schicht 16 erreichen.
Wenn die flexible leitfähige Metallschicht 20 opak bzw. trüb ist, dann müssen das Trägersubstrat 12 und die leitfähige
Schicht 14 transparent sein, damit die Bildinformation die photoleitfähige Schicht 16 erreicht. In diesem
Falle kann die Bildinformation kontinuierlich abgelesen v/erden, wenn das Ableselicht von dem Teil 10 einfällt. Wenn
die Metallschicht 20 transparent ist, dann kann die Ablesestrahlung von ihrer Oberfläche reflektiert werden, oder
das Teil 10 kann in Transilluminierung abgelesen werden, vorausgesetzt, daß das Substrat 12 und die leitende Schicht
14 transparent sind.
Wie bereits zum Ausdruck gebracht wurde, kann die Bodenelektrode des Aboildungsteils 10 jedes geeignete leitfähige
Material umfassen und es kann transparent oder trüb sein. Die Elektrode kann aus einer einzigen Schicht eines
leitfähigen Materials bestehen oder sie kann, wie in Figur 1 gezeigt wird, eine transparente leitfähige Schicht
enthalten, die auf einem geeigneten Trägersubstrat, z.B.
Glas oder Kunststoff, angeordnet ist. Typische geeignete transparente leitfähige Schichten schließen kontinuierlich
leitfähige Überzüge von Leitern, wie Zinn, Indiumoxid, Aluminium, Chrom, Zinnoxid oder einem anderen geeigneten Leiter,
ein. Diese im wesentlichen transparenten leitfähigen Überzüge v/erden typischerweise auf das stärker isolierende
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transparente Substrat aufgedampft. NESA-Glas, ein zinnoxidbeschichtetes
Glas, hergestellt von Pittsburgh Plate Glass Company, ist ein handelsübliches Beispiel für eine
typische transparente leitfähige Schicht, die auf ein transparentes Substrat aufgezogen ist.
Für die Schicht 16 kann jedes beliebige typische geeignete photoleitende isolierende Material verwendet werden.
Typische geeignete photoleitende isolierende Materialien sind z.B. Selen, Poly-n-vinylcarbazol (PVK), Poly-n-vinylcarbazol,
dotiert mit Sensibilisatoren, wie Brillantgrün, Phthalocyanin und 2,4,7-Trinitro-9-fluorenon (TIJF), Cadmiumsulfid,
Cadmiumselenid, Zinkoxid, Schwefel, Anthracen und Tellur. Darüber hinaus kann die photoleitende Schicht
16 ein feingemahlenes photoleitendes isolierendes Material enthalten, das in einem Bindemittel mit hohem elektrischem
Widerstand, wie es z.B. in der US-PS 3 121 006 beschrieben wird, oder in einem anorganischen photoleitenden
isolierenden Material, wie es z.B. in der US-PS 3 121 007 beschrieben wird, oder in einem organischen Photoleiter,
wie Phthalocyanin, in einem Bindemittel dispergiert ist. Allgemein kann Jedes beliebige photoleitende
isolierende Material oder jede entsprechende Zusammensetzung für die Schicht 16 verwendet werden.
Die Dicke der photoleitenden Schicht 16 liegt typischerweise im Bereich von etwa 0,1 bis etwa 200 ii oder mehr,
wobei die Dicke der Schicht im Einzelfall unter anderem stark von der Raumfrequenz der aufzuzeichnenden Information
abhängt. Die photoleitende Schicht kann auf dem Substrat 14 durch jede beliebige der bekannten Methoden gebildet
werden, die dem Fachmann bekannt sind, z.B. durch Vakuumaufdampfen, Tauchbeschichten aus einer Lösung etc.
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Es ist erneut zu beachten, daß das photoleitende Material in der deformierbaren Elastomerschicht 18 eingeschlossen
werden kann, wodurch die Notwendigkeit für eine Schicht wegfällt.
Die deformierbare Schicht 18 kann aus jedem beliebigen geeigneten Elastomermaterial bestehen. Typische geeignete
elastomere weiche feste Materialien für die erfindungsgemäßen Abbildungsvorrichtungen schließen sowohl natürliche
(z.B. Naturkautschuk) als auch synthetische Polymere mit kautschukartigen Eigenschaften, d.h. solche, die elastisch
sind, ein. Beispiele hierfür sind Styrol/Butadien-, Polybutadien-, Neopren-, Butyl-, Polyisopren-, Nitril-, Urethan-
und Äthylenkautschuke. Eine bevorzugte Klasse von Elastomermaterialien schließt Gelatinegele auf Wasserbasis und
Dimethylpolysiloxangele ein. Die Elastomere sollten im allgemeinen einigermaßen gute Isolatoren sein und typischerweise
Volumenwiderstände von oberhalb etwa 10 Ohm-cm void Schermoduls von etwa 10 bis etwa 10 dyn/cm sowie dielektrische
Festigkeiten von oberhalb etwa 10 V/mil haben. Vorzugsweise haben die Elastomeren Volumenwiderstände von
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mehr als etwa 10 0hm-cm, Schermoduls von etwa 10 bis
C ρ
etwa 10 dyn/cm und dielektrische Festigkeiten von mehr
als etwa 500 V/mil. Beispiele für geeignete handelsübliche Elastomere sind die folgenden Produkte: Sylgard 182,
Sylgard 184, Sylgard 188 (verfügbar von Dow Corning Co.), RTV 602 und RTV 615 (verfügbar von General Electric Co.).
Es werden Elastomere mit höherem Volumenwiderstand bevorzugt, da diese typischerweise eine ausgedehnte Bildlagerungsfähigkeit
ergeben. Elastomere mit relativ hoher dielektrischer Festigkeit werden bevorzugt, da diese es typischerweise
gestatten, daß die Vorrichtungen bei relativ hohen Spannungswerten betrieben werden, was wünschenswert ist.
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Ein besonders bevorzugtes Elastomere ist eine transparente,
sehr nachgiebige Zusammensetzung, die ein elastomeres Dimethylpolysiloxangel
enthält, das durch Stufen hergestellt wird j die die Kombinierung von etwa 1 Gewichtsteil Silikonharz-Komponente
Dow Corning Nr. 182^ etwa 091 Gewichtsteil
Härter und etwa 0 bis etwa 30 Gewiehtst©ilen Dlmethylpolysiloxansilikonöl
Dow Corning Nr. 200 einschließen. Andere geeignete Harze schließen transparente flexible Organosiloxanharze
des in der US-PS 3 284 406 beschriebenen Typs eins
bei denen ein Hauptteil der organischen Gruppen, die an das Silizium angefügt sind, Methylradikale sind.
Die Dicke der Elastomerschicht 18 liegt -typiseherweige im
Bereich von etwa 0,1 bis etwa 2000 μ , was unter anderem
von der Raumfrequenz der aufzuzeichnenden Information abhängt. Verschiedene optische Eigenschaften des Abbildungsteils können durch geeignete Auswahl des Elastizitätsmoduls
des jeweiligen Elastomermaterials gesteigert werden. So erholt sich z.B. ein relativ steiferes Elastomeres typischerweise
rascher von einem Bild, wenn das elektrische Feld entfernt wird, so daß es rascher gelöscht werden kann. Andererseits
ist in typischer Weise ein Elaslomermaterial, das
einen relativ niedrigen Elastizitätsmodul besitzt, für größere Deformationen geeignet, so daß für einen gegebenen
Wert des elektrischen Felds eine größere optische Modulation erzielt wird. Das Elastomermaterial kann auf die photoleitende
Schicht 16 als Monomeres aufgeschichtet werden und in situ polymerisiert werden oder es kann auf die Oberfläche
des Ehotoleiters aus Lösungen in flüchtigen Lösungsmitteln aufgeschichtet werden, die abdampfen und eine dünne
gleichförmige Schicht zurücklassen. Die Elastomerschicht
kann auch durch Spinnbeschichtungstechniken gebildet werden.
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Die flexible leitfähige Schicht 20 muß genügend flexibel sein, daß sie den Deformationen der Elastomerschicht 18
folgt. Dazu sollte, wie bereits zum Ausdruck gebracht wurde, die leitfähige Schicht 20 zur Erzielung eines zufriedenstellenden
Verhaltens gewünschterweise hochreflektierend sein, eine gute Seitenleitfähigkeit besitzen, eine ausgezeichnete
Stabilität haben, geringe innere Spannungen aufweisen und an der Elastomerschicht 18 stark haften.
Bei den günstigen Abbildungsteilen gemäß der Erfindung umfaßt
die flexible leitfähige Schicht 20 Titan und Silber. Da die Schicht 20 typischerweise trüb ist, werden vorzugsweise
das Substrat 12 und die leitfähige Schicht 14 transparent ausgestaltet, damit die Bildinformation die photoleitfähige
Schicht 16 erreichen kann. Naturgemäß können weitere Materialien zu der Schicht gegeben werden, um bestimmte
Eigenschaften zu verstärken oder zu unterdrücken. Materialien, wie Gold und/oder Indium und dergleichen, können
in die flexible leitfähige Schicht eingearbeitet werden, um Eigenschaften, wie die Spektralreflexion, zu steigern
oder Eigenschaften,/wie die Streuung, zu vermindern und um innere Spannungen zu vermindern. Die Diclis der flexiblen
leitfähigen Schicht 20 liegt typischerweise im Bereich von etwa 100 S bis etwa mehreren tausend Ä-Einheiten, was unter
anderem von der gewünschten Flexibilität und der erforderlichen Leitfähigkeit abhängt. Im Falle, daß eine optische
Isolierung zwischen der Einlese- und Auslesebeleuchtung gewünscht wird (die Bildinformation wird durch das Substrat
eingelesen und das Abbildungsteil wird durch Reflexion herausgelesen), wird eine optische Dichte von etwa 6 in typischer
Weise für die Titan-Silber-Schicht bevorzugt. Wenn eine Isolierung zwischen der Einlese- und Auslesebeleuchtung
nicht erforderlich ist, dann würden in typischer Weise Schichten mit einer optischen Dichte von etwa 2 zufriedenstellend
sein.
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Die flexible leitfähige Schicht 20 kann durch verschiedene Techniken gebildet werden, wie chemische Umsetzungen,
Ausfällungen aus einer Lösung, Elektrophoresen, Elektrolysen, stromloses Galvanisieren, Dampfabscheiden und andere
Methoden. Es wird bevorzugt, die erfindungsgemäßen flexiblen leitfähigen Titan-Silber-Schichten durch Dampfabscheidung
zu bilden. Naturgemäß ist es bekannt, daß dampfabgeschiedene
Metallschichten beim Abkühlen zum Schrumpfen, d.h. zum Zusammenziehen, neigen und daß bei einem gewissen thermoenergetischen
Zustand die Metallschicht dazu neigen kann, aufzubrechen oder Risse zu bilden, wodurch die Schicht diskontinuierlich
wird. Dieses Aufbrechen der Metallschicht wird üblicherweise als "Schlammrißbildung" bezeichnet, da
Schlammrisse das Aussehen von solchen Schichten nach dem Schrumpfen beschreiben. Dieses Problem kann bei der Bildung
der flexiblen leitfähigen Schicht 20 vermieden werden, indem das zweite Metall über dem ersten dampfabgeschiedenen
Metall dampfabgeschieden wird, bevor bei dem ersten Metall
eine Schlammrißbildung erfolgt ist. Alternativ können die zwei Metalle auch gleichzeitig dampfabgeschieden werden. Obgleich
das Titan und das Silber in jeder beliebigen Reihen- folrr? abgeschieden werden können, wird es doch bevorzugt,
das Titan zuerst abzuscheiden. Die hierdurch gebildete flexible leitfähige Titan-Silber-Schicht ist eine hochreflektierende
kontinuierliche Schicht, die die erforderlichen Eigenschaften zeigt und die doch über einen weiten Temperaturbereich,
z.B. bis zu etwa 1000C oder mehr, keine Schlammrißbildung
zeigt. Die Schicht kann Teile enthalten, bei denen die zwei Metalle (oder, andere geeignete Materialien)
aufeinander geschichtet sind, Teile, bei denen die zwei Metalle makroskopisch sowie mikroskopisch (z.B. unter BiL-dung
einer Legierung) vermengt sind, und schließlich Teile, wo die zwei Metalle Seite an Seite vorliegen.
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Es wurde gefunden, daß sehr zufriedenstellende flexible leitfähige Metallschichten hergestellt werden können, indem
die Metalle auf das Elastomere in aufeinanderfolgender Reihenschichtweise aufgedampft werden, z.B. zuerst Titan,
dann Silber, dann Titan, dann Silber etc., wobei die Anzahl der Schichten in erster Linie durch die gewünschte Trübung
bestimmt wird. Naturgemäß kann in manchen Fällen ein gegebenes Überzugsmuster modifiziert werden müssen, um Anpassungen
an Materialveränderungen vorzunehmen, wobei z.B. eine Zunahme der Nachgiebigkeit der Elastomerschicht im allgemeinen
eine dickere Titanschicht benötigt, um Metallschichten mit relativ niedrigem Seitenwiderstand zu erhalten.
Zur größeren Genauigkeit und Einfachheit wird hierin die Dicke der Metallschichten anhand der Frequenzveränderung
bezeichnet. Die Messungen erfolgen mit einem 5 MHz-Sloan-Stärkemonitor,
der die Abscheidungsdicke mit der Frequenzveränderung in einem resonierenden Quarzsystem in Beziehung
bringt. Im Prinzip kann die Frequenzveränderung /Sp durch
folgende Gleichungen in Dickeeinheiten umgewandelt werden: tCR = 0,278 ^f und tAQ = 0,190 £±£. Wenn /\,f in Hz ausgedrückt
wird, dann gibt t S ein. Bei diesen Gleichungen
wird angenommen, daß das abgeschiedene Material eine Dichte aufweist, die dem Massenmaterial gleich ist. Diese Annahme
ist selten richtig, wenn das Substrat (in diesem Falle das Elastomere) ein relativ weiches Material ist. In diesen
Fällen kann die wirkliche Dichte zwei- oder dreimal kleiner als die Massendichte sein, so daß die durch die obigen
Gleichungen ermittelten Dickewerte um ungefähr den gleichen Faktor zu niedrig sind. Somit wird es aufgrund der Unsicherheit
der Beschichtungsdichte bevorzugt, die Metallschichtdicke
anhand der Frequenzveränderung anzugeben.
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Es wurde gefunden, daß sowohl die Titan- als auch die SiI-"berabscheidungen
genügend dick sein sollten, daß eine angemessene elektrische Leitfähigkeit gewährleistet wird.
Typischerweise sind mindestens ungefähr 50 Hz Titan und etwa 2 bis 3 kHz Silber erforderlich, um die gewünschte
Schicht zu bilden. Es wird erneut festgestellt, daß es für eine gesteigerte Reflexion in der flexiblen leitfähigen
Metallschicht von Vorteil ist, die Schicht in mindestens zwei Stufen mit einem Zeitraum von wenigen min zwischen den
Stufen zu bilden. Eine typische Metallschicht aus, Titan und Silber würde nach folgendem Muster gebildet: 50 Hz Ti, 1
kHz Ag, 1,7 kHz Ag, wobei diese Sequenz dreimal wiederholt wird.
Es muß ein angemessenes Vakuum verwendet werden, um die Metalle zur Bildung der flexiblen leitfähigen Schicht zu
verdampfen. Vakuumwerte von etwa 10 Torr und darunter sind in typischer Weise annehmbar. Die Metalle sollten
vorzugsweise mit einer solch hohen Geschwindigkeit wie möglich abgeschieden werden. Weiterhin wurde gefunden, daß
die Aufrechterhaltung des Substrats bei Raumtemperatur oder geringfügig, darüber während der Abscheidung der Metalle
typischerweise eine längerhaltende, qualitativ hochwertigere Metallschicht ergibt.
Es wurde gefunden, daß Abbildungsteile, die die neuen flexiblen Titan-Silber-Metallschichten gemäß der Erfindung
enthalten, dazu imstande sind, sich über einer großen Anzahl von Abbildungszyklen ausgezeichnet zu verhalten.
Die Figur 2 ist eine logarithmische graphische Darstellung, die das Kontrastverhältnis gegen die Anzahl der Abbildungszyklen
bei einem erfindungsgemäßen Abbildungsteil und einem Abbildungsteil nach dem Stand der Technik zeigt.
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Das Kontrastverhältnis der Abbildungsteile wird durch folgenden Ausdruck gegeben:
Beugungswirksamkeit bei einer angegebenen Kontrastver- = Spannung und Belichtung
hältnis Beugungswirksamkeit bei der Spannung null
Die Abbildungsteile, mit denen die angegebenen Ergebnisse der Figur 2 erhalten worden waren, wurden wie folgt hergestellt:
Ein 40-Linienpaar/mm.-Chromsieb wurde auf der leitfähigen Oberfläche einer NESA-Glaselektrode mit einer aktiven
Fläche von etwa 5,08 cm χ 5,08 cm abgeschieden· Eine
photoleitfähige Zusammensetzung wurde hergestellt, indem 78 g Poly-n-vinylcarbazol in etwa 1200 crsr Tetrahydrofuran
aufgelöst wurden und indem danach etwa 52 g 2,4,7-Trinitro-9-fluorenon
zugesetzt wurden und über Nacht gerührt wurde. Die Lösung hatte eine Viskosität von etwa 100 cps. Eine
ungefähr 4,1 u dicke Schicht der photoleitfähigen Zusammensetzung wurde über dem Sieb durch Tauchbeschichten gebildet
und das Teil wurde etwa 20 std bei einer Temperatur von etwa 1100C gebacken. Eine Elastomerzusammensetzung wurde
gebildet, die etwa 2 Gewichtsteile Sylgard-182-Harz,
etwa 0,2 Gewichtsteil Härtungsmittel für das Sylgard-182-Harz
und etwa 2,2 Gewichtsteile Dimethylpolysiloxansilikonöl
Dow Corning 200 enthielt. Die Elastomerzusammensetzung wurde in Isooctan im Gewichtsverhältnis von etwa 3:2 aufgelöst
und auf der photoleitfähigen Schicht wurde durch Tauchbeschichten eine ungefähr 6,7 » dicke Schicht des
Elastomeren gebildet. Das Teil wurde sodann etwa 20 std bei etwa 1100C gebacken, um das Elastomere zu härten. Das
Abbildungsteil wurde sodann mit der Bildung einer Titan-Silber-Schicht mit einem Durchmesser von 1,27 cm und einer
Gold-Indium-Chrom-Schicht mit einem Durchmesser von 1,27 cm
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auf der Oberfläche der Elastomerschicht vervollständigt, indem die Metalle in einer Vakuumauf dampfkammer unter
einem Vakuum von etwa 10" Torr vakuumaufgedampft wurden (das Titan wurde mit einer Geschwindigkeit von mehr als
1 Hz/sec und das Silber, Gold und Indium mit einer Geschwindigkeit von mehr als 10 Hz/sec aufgedampft). Die Titan-Silber-Schicht
wurde nach dem folgenden Muster abgeschieden: 50 Hz Ti, 1 kHz Ag, 1,7 kHz Ag, wobei diese Sequenz- dreimal
wiederholt wurde. Die Gold-Indium-Chrom-Schicht wurde wie folgt abgeschieden: 1,5 kHz Au, 0,5 kHz In, 3 kHz Au,
1 kHz In, 150 Hz Cr, 3 kHz Au, 1 kHz In, 150 Hz Cr, 1,5 kHz Au, 0,5 kHz In, 1,5 kHz Au, 0,5 kHz In.
An die Elektroden der Abbildungsteile und an eine Kepco-Gleichstromquelle
für eine Abgabe von etwa 400 V wurden Kontaktdrähte angebracht, wobei das NESA-Glas das negative
Ende war. Die Abbildungsteile wurden sodann in einem zyklischen Betriebsmodus in Betrieb genommen, wobei jeder
Zyklus etwa 5 see in Anspruch nahm.. Jeder Abbildungszyklus
umfaßte die folgenden Stufen: Anlegung einer Spannung an das Abbildungsteil im Dunkeln, Aussetzen nach etwa 1 see
des Abbildungs-ceils an eine gleichförmige Strahlung, die
durch ein 6-V-Batterielicht erzeugt wurde und durch ein diffuses Sieb projiziert wurde (wobei das Ableselicht
während dieser Zeit nicht an war), Aussetzen des Abbildungsteils nach etwa 1 see und immer noch unter Einschaltung
des Eingabelichtes einer gleichförmigen Ablesebeleuchtung eines 6-V-Batterielichtes, Sammlung der Ablesebeleuchtung
mittels eines Schlieren-Ablesesystems und Projektion auf ein Sieb, Kurzschließung nach etwa 3 see vom Be-
-19-
509816/1 165
ginn des Zyklus des Abbildungsteils durch Verbindung der Drähte miteinander, während die Eingabe- und die Ablesebeleuchtung
immer' noch auf das Teil gerichtet waren, und etwa 5 see nach Beginn des Zyklus Abschalten der Eingabe-
und Ableselichter und Wiederholung der Sequenz.
Die zyklische Betriebsweise wurde periodisch unterbrochen, um Messungen des Kontrastverhältnisses und der Beugungswirksamkeit durchzuführen. Es sollte beachtet werden, daß
die Messungen mit dem NESA-Glas gemacht wurden, das an negative und positive Enden bzw. Klemmen angeschlossen
war. Jedoch wurden die Abbildungszyklen in der Weise durchgeführt, daß das NESA-Glas an das negative Ende bzw. negativen
Anschluß angeschlossen war. Die in Figur 2 dargestellten Kurven zeigen die Messungen, bei denen das NESA-Glas
an die positive Klemme angeschlossen war. Die Figur 3 zeigt die Messungen, wo das NESA-Glas an die negative
Klemme angeschlossen war. Die Messungen wurden mit dem Licht von 6328 S von He-Ne-Lasern durchgeführt. Zum Einlesen
bzw. Eingeben wurde ein Spectra Physics-Stabilite TM-Modell 120 verwendet. Zum Auslesen bzw. Ablesen wurde
ein Spectra Physics Modell 132 eingesetzt. Die Reihenfolge
der Stufen, die zur Durchführung der Messungen angewendet wurde, war ähnlich der oben beschriebenen, mit der
Ausnahme, daß die Auslese- bzw. Ablesebeleuchtung auf das Abbildungsteil durch die gesamte Sequenz hindurch gerichtet
wurde. Die Eingabe- bzw. Einlesestrahlung wurde so eingestellt, daß eine maximale Beugungswirksamkeit durch
Betätigen eines Verschlusses erzielt wurde. Die Beugungswirksamkeit wurde gemessen, indem der gebeugte Strahl
der Nullordnung herausgehalten wurde und indem alle anderen gebeugten Ordnungen auf einen Solar-Zellendetektor
fokusiert wurden. Der Nullspannungswert wurde durch die
-20-
509816/1165
gleiche Reihenfolge von Stufen gemessen mit der Ausnahme, daß auf das Abbildungsteil keine Spannung angelegt wurde
und daß auf das Teil keine Eingabebeleuchtung gerichtet wurde. Es sollte beachtet werden, daß die in den Figuren
gezeigten Messungen, die das Kontrastverhältnis und die Beugungswirksamkeit zeigen, Spitzenwerte für die gegebenen
Testbedingungen darstellen.
Die in Figur 2 wiedergegebenen Ergebnisse zeigen überraschende und unerwartet signifikant verbesserte Charakteristika
der Titan-Silber-Metallschicht. Es wird ersichtlich,
daß das Kontrastverhältnis für das Abbildungsteil mit der Titan-Silber-Schicht am Anfang signifikant höher ist als
fürcas Teil mit der Gold-Indium-Chrom-Schicht. Weiterhin
wird ersichtlich, daß das Kontrastverhältnis für das Titan-Silber-Teil über einen Bereich von mehr als 1000000 Abbildungszyklen
sich nur geringfügig vermindert. Es wird auch ersichtlich, daß das Kontrastverhältnis des Gold-Indium-Chrom-Teils
am Anfang bis zu etwa 200000 Abbildungszyklen mit niedriger Geschwindigkeit abnimmt und sodann rasch abfällt.
Dies weist darauf hin, daß die Gold-Indium-Chrom-Meoallschicht
einer "Kaltarbeit" unterworfen wird, d.h. daß sich eine permanente Deformation in der Schicht während
des Gebrauchs ausbildet, welche eine signifikant große Veränderung der Ausleseoptik erfordert, um den Bildkontrast
aufrechtzuerhalten. Das Titan-Silber-Abbildungsteil zeigt
nur eine sehr geringe Abnahme im Kontrastverhältnis über einen Bereich von mehr als 1000000 Zyklen, was beweist,
daß dieses Metallschichtsystem keine signifikante Kaltarbeit zeigt. Naturgemäß ist auch das Gold-Indium-Chrom-Abbildungsteil
eine hoch zufriedenstellende Vorrichtung, was sich aus der Tatsache ergibt, daß sie über 200000 Abbildungszyklen
ausgezeichnete Ergebnisse liefert. Nichts-
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destoweniger zeigen die Vergleichsergebnisse das signifikant
überlegene Kontrastverhältnis für das Titan-Silber-Abbildungsteil.
Die Figur 3 zeigt das Kontrastverhältnis gegen die Anzahl der Abbildungszyklenkurven für die gleichen
zwei Abbildungsteile, die bei den Ergebnissen der Figur 2 verwendet wurden, mit der Ausnahme, daß bei diesen
Versuchen die NESA-Glaselektrode die negative Elektrode
war. Ähnliche Ergebnisse wurden erhalten, was darauf hinweist, daß die Kontrastverhältniseigenschaften dieser
Abbildungsteile im wesentlichen von der Polarität des elektrischen Feldes unabhängig sind.
Die Figur 4 ist eine halblogarithmische graphische Darstellung
der Beugungswirksamkeit gegen die Anzahl der Abbildungszyklen für die gleichen Abbildungsteile und bei
den gleichen Betriebsbedingungen wie bei den Ergebnissen der Figur 2. Es wird ersichtlich, daß am Anfang die Beugungswirksamkeit
für das Gold-Indium-Chrom-Abbildungsteil
geringer ist als diejenige für das Titan-Silber-Abbildungsteil, daß aber nach etwa 500000 Abbildungszyklen die Werte
für beide etwa die gleichen waren und daß sodann die Beugungswirksamkeit für das erstere höh^r war als für das
letztere. Es wird natürlich ohne weiteres ersichtlich, daß die Beugungswirksamkeit für das Titan-Silber-Abbildungsteil
tatsächlich hoch zufriedenstellend ist und daß sie geringfügig mit zunehmender Anzahl der Abbildungszyklen zunimmt. Die Figur 5 zeigt die Beugungswirksamkeit
gegen die Anzahl der Abbildungszyklen für die gleichen Abbildungsteile und für die gleichen Betriebsbedingungen
wie bei den Ergebnissen der Figur 3. Ähnliche Ergebnisse
wurden erhalten, was darauf hinweist, daß die Beugungswirksamkeitseigenschaften dieser Abbildungsteile im wesentlichen
von der Polarität des elektrischen Feldes unabhängig sind.
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509816/1165
Es sollte beachtet werden, daß ähnliche Ergebnisse, wie in den Figuren 2 bis 5 dargestellt, erhalten worden sind,
als Tests mit Abbildungsteilen durchgeführt wurden, die nicht bebildert wurden, sondern die nur lediglich eine
Anzahl von Tagen, z.B. bis zu etwa 50 Tagen lang, stehen gelassen wurden.
Es sollte beachtet werden, daß das Kontrastverhältnis, das ein Abbildungsteil ergeben kann, eine extrem wichtige
und kritische Eigenschaftv eines Abbildungsteils darstellt.
Das Kontrastverhältnis ist ein Vergleich des Aussehens der Bild- und Hintergrundflächen und es zeigt die visuelle
Ausgeprägtheit der Bildgegenden gegenüber den Hintergrundgegenden an. Wenn das Kontrastverhältnis 1 ist, dann
kann kein Bild aufgenommen werden, da die Bild- und Hintergrundgegenden gleich hell sein würden. Für eine annehmbare
Abbildung ist ein Kontrastverhältnis von 5 oder mehr in typischer Weise erforderlich. Vergleiche z.B. "Fundamentals
of Display System Design", S. Sherr, Wiley-Interscience-1970,
Wiley and Sons, Inc. Die Beugungswirksamkeit ist ein Maß für die Wirksamkeit des Abbildungsteils zur
Erzeugung von Bildgegenden, d.h. wie wirksam die Auslesebeleuchtung durch das Teil verwertet wird. Ein Teil kann
Jedoch eine gute Beugungswirksamkeit besitzen, jedoch keine sehr guten Bilder liefern. Wenn z.B. ein^permanente
Deformation in dem Abbildungsmaterial über eine Anzahl von Abbildungszyklen ausgebildet wird, mit dem Ergebnis, daß
die Hintergrund- oder Nullspannungswirksamkeit signifikant hoch wird, dann sind selbst sehr hohe Beugungswirksamkeiten
nicht dazu imstande, den Mangel an Kontrastverhältnis zu überwinden. Anders ausgedrückt bedeutet dies, daß, wenn
die Wirksamkeit in den Hintergrundgegenden sich an die ma-
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509816/1165
ximale Wirksamkeit anzunähern beginnt, die in den Bildgegenden
möglich ist, dann kein scharfes beobachtbares Bild durch das Abbildungsteil gegeben werden kann. Daher stellen
die signifikant überlegenen Kontrastverhältniseigenschaften, die die neuen erfindungsgemäßen Abbildungsteile
haben, einen erheblichen technischen Fortschritt dar.
Es ist gefunden worden, daß die wirksame Lebensdauer der Titan-Silber-Metallschichten unabhängig von dem jeweils
verwendeten Photoleiter ist. Jedoch kann die Lagerungszeit dieser Abbildungsteile vermindert werden, wenn als Photoleiter
Selen oder eine Selenlegierung verwendet wird. Es ist beobachtet worden, daß die Metallschicht in diesem
Fall die Neigung aufweist, fortschreitend trüber zu werden, was offenbar auf eine chemische Umsetzung des Selens
mit dem Silber zurückzuführen ist. In diesem Falle können Schrankenschichten, z.B. Gold-Indium-Unterlageschichten,
dazu verwendet werden, um das Silber von dem Selen zu isolieren, wodurch die Gebrauchsdauer der Titan-Silber-Metallschicht
stark verbessert wird.
Auf der flexiblen leitfähigen Schicht 20 kann eine optisch transparente Schicht 26 aus einer isolierenden Flüssigkeit,
z.B. öl, angeordnet werden. Mit der Verwendung der Schicht 26 ist eine Anzahl von Vorteilen verbunden. Die isolierende
Flüssigkeitsschicht übt eine wichtige Funktion aus, wenn sie einen Brechungsindex hat, der sich von demjenigen der
Luft unterscheidet. Die Gegenwart der Schicht 26 über der flexiblen leitfähigen Schicht 20 bedeutet, daß das Licht,
das von oberhalb des Teils fortschreitet, stärker moduliert wird, als es der Fall wäre, wenn nur Luft vorhanden wäre.
Der Grund hierfür ist darin zu sehen, daß für das gleiche Ausmaß der Oberflächendeformation die optischen Wegverän-
-24-5098 16/1165
derungen proportional zu dem Brechungsindex des Mediums sind, das an die Oberfläche angrenzt. Als Ergebnis wäre
es, wenn es gewünscht würde, die gleiche Modulation aufrechtzuerhalten, wie sie durch eine Vorrichtung ohne Schicht
26 zur Verfügung gestellt wird, möglich, dieses bei niedrigeren Spannungen zu tun, wodurch die Möglichkeit des Spannung
sabbruches verbessert würde. Ein zweiter Vorteil liegt darin, daß die Schicht 26 als Schutz für die leitfähige
Schicht 20 dient, indem sie diese von einer Verunreinigung durch Staub oder dergleichen isoliert, wodurch eine konstantere
Umgebung aufrechterhalten wird. Weiterhin erniedrigt die Schicht 26 die Herstellungserfordernisse für das Abbildungsteil.
Die Anwesenheit von Nadellöchern in der Elastomerschicht 18 kann eine KurzSchließung des Abbildungsteils
bewirken, wodurch möglicherweise sein Verhalten zerstört wird. Die Zugabe der Schicht 26 kann solche Kurzschlüsse
und ein solches Abbrechen des Verhaltens des Teils verhindern, indem eine isolierende Flüssigkeit in
solche Nadellöcher einfließen gelassen wird.
Die Potentialquelle 22 liefert eine Gleichstromspannung von einer Polarität, um ein Deformationsbild auf der Oberfläche
des Elastomeren zu bilden. Die erforderliche Polarität hängt von der Natur des Photoleiters ab. Der Spannungsabfall
über die Photoleiter-Elastomer-Schichtung liegt im Bereich von etwa 1 bis etwa 25000 V je nach dem
Elastizitätsmodul des Elastomeren und seiner Dicke, sowie bestimmten Eigenschaften des Photoleiters. Die Potentialquelle
22 muß dazu imstande sein, abgeschaltet werden zu können, um das Bild zu löschen, oder sie muß hinsichtlich
der Spannung verschiebbar sein, damit das Bild rascher gelöscht werden kann. Für einen Televisionstyp des Bildes,
bei dem ungefähr 30 vollständige Bilder je see gebildet,
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gelagert und gelöscht werden, muß die Energiezuführung dazu imstande sein, solche Zyklen mit der richtigen Geschwindigkeit
durchzuführen. Das Ausmaß der Deformation und die Geschwindigkeit, mit der die Information gelöscht werden
kann, hängt von den Spannungen ab, die durch die Energiequelle zugeführt werden. Die Stabilität der Spannungsabgabe
der Energiequelle muß groß genug sein, daß ein unerwünschtes Löschen des Bildes verhindert wird. Ein alternierendes
Schema zum Löschen des Oberflächendeformationsbildes ist vorgesehen, um ein Schwellenlicht unterhalb des
Abbildungsteils 10 anzuordnen, um die photoleitfähige Schicht 16 mit Licht zu fluten, wodurch das modulierte
Feldmuster über die Struktur gelöscht wird, welche durch das bildweise Licht ausgebildet worden ist. Diese Betriebsweise
ist angemessen, solange die Felder quer über die Elastomerschicht 18 unterhalb eines Wertes liegen, der
bewirkt, daß die Oberflächehdeformationen befestigt werden. Um das Deformationsbild zu bilden und zu befestigen,
würden die Werte für die Spannung zwischen der leitfähigen Schicht 14 und der flexiblen leitfähigen Schicht 20
ungefähr zwischen 1 und 25000 V je nach der Dicke und anderen
Charakteristiken des Exastomeren 18 liegen.
Die Bilder, die in dem Abbildungsteil gebildet werden, löschen in typischer Weise aufgrund einer Vielzahl von
Gründen. So können z.B. Ladungsträger, die in dem Photoleiter erzeugt worden sind, die Photoleiter-Elastomer-Grenzfläche
erreichen oder Ladungsträger, die an der Photoleiter-Elastomer-Grenzfläche vorhanden sind, können in
Seitenrichtung fließen oder Ladungsträger können in die Elastomerschicht von der Photoleiter-Elastomer-Grenzfläche
eingespritzt werden und die Metallschicht erreichen. Alle diese Wirkungen bewirken, daß das Kontrastpotential
über das Elastomere sich vermindert oder verschwindet.
-26-509816/1165
Die Bilder können rascher gelöscht werden, indem das Feld über der Elastomerschicht entfernt wird oder indem die Polarität
des Feldes umgekehrt wird. Für ein noch rascheres Löschen kann der Photoleiter mit einer aktivierenden elektromagnetischen
Strahlung zum gleichen Zeitpunkt, wie das Feld entfernt wird, geflutet werden oder die Polarität kann
umgekehrt werden.
Es sollte beachtet werden, daß andere Elemente neben den hierin beschriebenen, die in Figur 1 gezeigt sind, in
die erfindungsgemäßen Abbildungsteile eingearbeitet werden können. Wie bereits zum Ausdruck gebracht wurde, können
gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung Bilder mit Raumfraquenzen, die erheblich unterhalb der
Resonanz-Deformationsfrequenz des Elastomeren liegen, aufgezeichnet werden, indem ein Liniengitter des Absorptionstyps
zwischen das projizierte Lichtbild und den Photoleiter, auf dem die Belichtung erfolgt, gelegt wird.
Das Elastomere deformiert sich entlang des Musters des Hochraumfrequenz-Siebs in denjenigen Gegenden, wo es belichtet
wird. Das gesiebte Deformationsbild ist sodann aus Segmenten dzr, Schattens des Siebs gemacht. Das Bild,
das durch Beleuchtung der deformierten Elastomerschi cht
erhalten wird, hat somit eine feine Struktur von Linien, die auf das ursprüngliche Bild, das aufgezeichnet wurde,
aufgelegt sind. Wenn diese Linienstruktur störend ist, dann kann sie durch geeignete optische Filterungstechniken, die bekannt sind, entfernt werden. Für die erfindungsgemäßen
Abbildungsteile ist der bevorzugte Ort des Siebe, z.B. eines Liniengitters, unmittelbar angrenzend an die
photoleitfähige Schicht in dem Teil. Andere Siebtypen, die in ähnlicher Weise angeordnet werden können, sind z.B. in
den US-Patentschriften 3 698 893 und 3 719 483 beschrieben.
-27-
509816/1165
Eine Anzahl von Variationen der verschiedenen Elemente kann anstelle derjenigen genommen werden, die bei dem in Figur
1 dargestellten Abbildungsteil verwendet worden sind. Es kann daher jede beliebige Kombination von nachstehend beschriebenen
Elementen anstelle eines oben beschriebenen entsprechenden Elements verwendet werden.
Wie bereits zum Ausdruck gebracht wurde, können angrenzende photoleitfähige und elastomere Schichten durch eine
einzige Schicht eines photoleitfähigen Elastomeren ersetzt werden. So kann z.B. das Elastomere hergestellt werden,
indem Sylgard 184 mit Dimethylpolysiloxanölen, die für das blaue und ultraviolette Licht durch Zugabe von p-Fhenylendiamin,
Indoform und Calco-Oil-Orange-rFarbstoff (von
American Cyanamid Co.) vor dem Härten photoleitfähig gemacht worden sind, kombiniert werden.
Hinsichtlich der Elastomerschichten ist eine dünne Elastomerschicht
dazu imstande, über nur eine begrenzte Bandbreite von Raumfrequenzen eine annehmbare elastische Deformation
zu haben. Die Ansprechbarkeit außerhalb dieser Bandbreite ist geringer als optimal. Die Raumfreque^rransprechbarkeit
des Elastomeren kann erweitert werden oder mit vielen Maxima versehen werden, indem die einzige Elastomerschicht
durch eine vielschichtige Vorrichtung gemäß Figur 6 ersetzt wird. Jede dieser Schichten 30, 32 und 34
hat eine unterschiedliche begrenzte Raumfrequenzansprechbarkeit, doch hat die Kombination der Schichten eine breite
oder mit vielen Maxima versehene Raumfrequenzansprechbarkeit. Im allgemeinen wird festgestellt, daß die dickste
Schicht 30 am engsten an den Fhotoleiter gebracht wird und daß die dünnste Schicht 34 die deformierbare Oberfläche
aufweist. Zwei oder mehrere von solchen Schichten können
-28-
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gewünschtenfalls verwendet werden. Wie bereits beschrieben, kann auch jede dieser Schichten photoleitfähig sein,
wodurch die Notwendigkeit für einen getrennten Photoleiter eliminiert wird und wobei in manchen Fällen die Auflösung
der Vorrichtung gesteigert wird.
Es sollte auch beachtet werden, daß zusätzlich zur Kontrolle der Dicke der Elastomerschicht, um die Raumfrequenzansprechbarkeit
bzw. -beantwortung für eine gegebene Raumfrequenzbandbreite auf ein Maximum zu bringen, auch der
Elastizitätsmodul kontrolliert werden sollte, um Deformationen zu erhalten, die mit der Raumfrequenzbandbreite
im Einklang stehen. Materialien mit niedrigerem Elastizitätsmodul sind dazu imstande, größere elastische Deformationen
zu haben. Andererseits können Materialien mit höherem Elastizitätsmodul rascher gelöscht werden. Solche
Faktoren müssen bei der Gestaltung der Vorrichtung für eine Geschwindigkeits- oder eine größere Deformation in Betracht
gezogen werden.
Es wurde oben angegeben, daß die hierin beschriebenen EIastoiuxäroberflächen
für die Aufzeichnung, die Lagerung und das Löschen von Bildinformationen über sehr viele Zyklen
verwendet werden können, vorausgesetzt, daß die elektrischen Felder über das Elastomere nicht zu stark werden.
¥enn diese Felder stark genug werden, daß die Deformationen der Elastomeroberfläche über die Elastizitätsgrenze
des Elastomeren hinausgehen, dann wurde festgestellt, daß das Bild permanent auf dem Elastomeren aufgezeichnet wird.
Die obere Grenze des elektrischen Feldes, das an das obengenannte Dimethylpolysiloxansilikongel angelegt wird, wurde
zu etwa 100 V pro Mikron beobachtet. Obgleich dies für viele Systeme als unerwünscht angesehen wird, gibt es doch
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509816/1 165
Fälle, wo es gewünscht wird, ein permanentes Bild aufzuzeichnen. Somit können die zyklischen Eigenschaften des
Elastomeren dazu verwendet werden, um ein zufriedenstellendes Bild zu erhalten, das sodann durch eine Anwendung
einer Überspannung permanent aufgezeichnet wird.
Für den Fachmann wird ersichtlich, daß die erfindungsgemäßen Abbildungsteile für zahlreiche Anwendungszwecke, beispielsweise
für die Bildlagerung, für optische Puffer, für die Bildverstärkung und dergleichen, verwendet werden können.
Spezielle Anwendungszwecke für solche Abbildungsteile
werden z.B. in der US-PS 3 716 359 beschrieben.
Die Erfindung wird in den Beispielen näher erläutert. Darin sind sämtliche Teile und Prozentmengen auf das Gewicht
bezogen.
Bei den folgenden Beispielen wurde das Titan aus einem gespulten Wolframkorb aufgedampft und das Silber aus einem
Molybdänschiffchen. Die Vakuumaufdampfung erfolgte in
einer Vakuumkammer mit etwa 10" Torr und mit Geschwindigkeiten von mehr als 10 Hz/ see für das Silber und mehr
als 1 Hz/sec für das Titan.
45 Hz Ti werden auf einem Teil abgeschieden, das eine ungefähr 12 u dicke Elastomerschicht umfaßt, die auf
einem NESA-Glassubstrat liegt. Sodann werden 1 kHz Ag,
2 kHz Ag, 75 Hz Ti, 1 kHz Ag und 2 kHz Ag abgeschieden.
60 Hz Ti werden auf einem Teil abgeschieden, das ein NESA-
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Glassubstrat, das ein Liniensieb trägt, eine ungefähr 5 u dicke photoleitfähige Schicht und eine ungefähr 5 p. dicke
Elastomerschicht umfaßt. Dann werden 1,4 kHz Ag und 1,8
kHz Ag abgeschieden. Diese. Sequenz wird zwei weitere Male wiederholt.
60 Hz Ti werden auf einem Teil abgeschieden, das ein NESA-Glassubstrat,
eine ungefähr 3 » dicke photoleitfähige
Schicht und eine ungefähr 6 ii dicke Elastomerschicht
umfaßt. Dann werden 1 kHz Ag abgeschieden. Diese Reihenfolge wird drei weitere Male wiederholt, gefolgt von
100 Hz Ti, 1,3 kHz Ag und 1 kHz Ag.
20 Hz Ti werden auf einem Teil abgeschieden, das ein NESA-Glassubstrat,
das ein Liniensieb trägt, eine ungefähr 6,5 V. dicke photoleitfähige Schicht und eine ungefähr 6 η dikke
Elastomerschicht umfaßt, gefolgt von 600 Hz Ag und 2,3 kHz Ag. Eine zweite Sequenz von Schichten aus 50 Hz Ti,
600 Hz Ag und 1,3 kHz Ag wird abgeschieden. Diese zweite Sequenz wird zwei weitere Male wiederholt.
50 Hz Ti werden auf einem Teil abgeschieden, das ein NESA-Glassubstrat,
das ein Liniensieb trägt, eine ungefähr 4,1 η dicke photoleitfähige Schicht und eine ungefähr 6,7 udikke
Elastomerschicht umfaßt, gefolgt von 1 kHz Ag und 1,7 kHz Ag. Diese Reihenfolge wird drei weitere Male wiederholt.
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509816/1165
Claims (28)
- PatentansprücheAbbildungsteil, dadurch gekennzeichnet, daß es eine Schicht aus einem photoleitenden Material, eine in einem elektrischen Feld verformbare Elastomerschicht mit einem Volumenwiderstand von oberhalb etwa 10 Ohm-cm, die über der Schicht aus dem photoleitenden Material liegt, und eine flexible leitfähige Metallschicht, die über der Elastomerschicht liegt und die Titan und Silber enthält, umfaßt, wobei die Elastomerschicht dazu imstande ist, sich entsprechend einem elektrischen Feldmuster zu verformen, das durch Veränderung eines elektric sehen Feldes über die Elastomerschicht erzeugt wird, indem das photoleitende Material einer elektromagnetischen Strahlung ausgesetzt wird, gegenüber der es empfindlich ist.
- 2. Abbildungsteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es weiterhin ein Substrat enthält, um die Schichten des Abbildungsteils zu tragen.
- 3. Abbildungsteil nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat ein transparentes leitfähiges Teil ist.
- 4. Abbildungsteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß das Teil eine Vielzahl der durch elektrischer Felder verformbaren Elastomerschichten einschließt, wobei jede Elastomerschicht eine unterschiedliche Dicke und einen unterschiedlichen Elastizitätsmodul als die anderen Elastomerschichten aufweist.
- 5. Abbildungsteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es weiterhin eine Schicht-32-5098 16/1165aus einer isolierenden Flüssigkeit einschließt, die über der flexiblen leitenden Metallschicht liegt.
- 6. Abbildungsteil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es weiterhin eine Einrichtung für die Raummodulierung eines elektrischen Feldes über die Elastomerschicht bei einer Frequenz innerhalb der Raumfrequenz-Deformaticnsfähigkeit der Elastomerschicht einschließt.
- 7. Abbildungsteil nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet , daß die Einrichtung für die Raummodulierung ein Liniengitter einschließt, das an die Schicht des photoleitenden Materials angrenzt.
- 8. Abbildungsverfahren, dadurch gekennzeich net, daß mana) ein Abbildungsteil gemäß Anspruch 3 vorsieht,"b) das Abbildungsteil einem elektrischen Feld unterwirft, und daß manc) das Abbildungsteil einer informationsmodulierten elektromagnetischen Strahlung aussetzt, der gegenüber das photoleitende Material ansprechend ist, um die Elastomerschicht entsprechend den Veränderungen im elektrischen Feld zu verformen, die durch das Aussetzen bewirkt werden.
- 9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß man das Abbildungsteil mit einer elektromagnetischen Auslese- bzw. Ablesespannung beleuchtet, um optisch ein Bild zu konstruieren, das den Deformationen in der Elastomerschicht entspricht.-33-509816/1165- 31 -
- 10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet , daß man die Deformationen in der Elastomerschicht löscht.
- 11. Verfahren, nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß man bei der Stufe der Löschung
das elektrische Feld entfernt, welchem das Abbildungsteil unterworfen wird. - 12. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch g e k e η η zeichnet, daß man bei der Stufe der Löschungdie Polarität des elektrischen Feldes, dem das Abbildungsteil ausgesetzt wird, umkehrt.
- 13. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das elektrische Feld, dem das Abbildungsteil unterworfen wird, bei einer Frequenz innerhalb der Raumfrequenz-Deformationsfähigkeit der Elastomerschicht räumlich moduliert ist.
- 14. Abbildungsteil, dadurch gekennzeichnet, daß es eine im elektrischen Feld deformierbareElastomerschicht mit einem Volumenwiderstand von oberhalbetwa 10 0hm-cm, wobei die Elastomerschicht ein photoleitendes Material einschließt, und eine flexible leitfähige Metallschicht, die Titan und Silber enthält.und welche
über der Elastomerschicht liegt, umfaßt, wobei die Elastomerschicht dazu imstande ist, sich entsprechend eines
elektrischen Feldmusters zu verformen, das erzeugt wird,
indem ein elektrisches Feld über die Elastomerschicht verändert wird, indem das photoleitende Material einer
elektromagnetischen Strahlung ausgesetzt wird, der gegenüber es empfindlich ist.-34-5 0 9816/1165 - 15. Abbildungsteil nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet , daß es weiterhin ein Substrat enthält, um die Schichten des Abbildungsteils zu tragen.
- 16. Abbildungsteil nach Anspruch 15, dadurch g e kennzeichnet, daß das Substrat ein transparentes leitfähiges Teil ist.
- 17· Abbildungsteil nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet , daß das Teil eine Vielzahl der durch elektrische Felder verformbaren Elastomers chichten einschließt, wobei jede Elastomerschicht eine unterschiedliche Dicke und einen unterschiedlichen Elastizitätsmodul als die anderen Elastomers chichten aufweist.
- 18. Abbildungsteil nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet , daß es weiterhin eine Schicht aus einer isolierenden Flüssigkeit einschließt, die über der flexiblen leitenden Metallschicht liegt.
- 19. Abbildungsteil nach Anspruch 14," dadurch gekennzeichnet , daß es weiterhin eine Einrichtung für die Raummodulierung eines elektrischen Feldes über die Elastoiaerschicht bei einer Frequenz innerhalb der Raumfrequenz-Deformationsfähigkeit der Elastomerschicht einschließt.
- 20. Abbildungsteil nach Anspruch 19» dadurch gekennzeichnet , daß die Einrichtung für die Raummodulierung ein Liniengitter einschließt, das an die Schicht des photoleitenden Materials angrenzt.
- 21. Abbildungsverfahren, dadurch gekennzeich η e t * daß man-35-509816/1165a) ein Abbildungsteil gemäß Anspruch 16 vorsieht,b) das Abbildungsteil einem elektrischen Feld unterwirft, und daß manc) das Abbildungsteil einer j r.foraationsmodulierten elektromagnetischen Strahlung aussetzt, der gegenüber das photoleitende Material ansprechend ist, um die Elastomerschicht entsprechend den Veränderungen im elektrischen Feld zu verformen, die durch das Aussetzen bewirkt werden.
- 22. Verfahren nach Anspruch 20, dadurch g e k e η η zeichnet, daß man das Abbildungsteil mit einer elektromagnetischen Auslese- bzw. Ablesespannung beleuchtet, um optisch ein Bild zu konstruieren, das den Deformationen in der Elastomerschicht entspricht.
- 23. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch g e k e η nzeichnet, daß man die Deformationen in der Elastomerschicht löscht.
- 24. Verfahren nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet , daß man bei der Stufe der Löschung das elektrische Feld entfernt, welchem das Abbildungsteil unterworfen wird.
- 25. Verfahren nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, daß man bei der Stufe der Löschung die Polarität des elektrischen Feldes, dem das Abbildungsteil ausgesetzt wird, umkehrt.
- 26. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß das elektrische Feld, dem das Ab--36-509816/1165bildungsteil unterworfen wird, "bei einer Frequenz innerhalb der Raumfrequenz-Deformatiorisfρ. π igkeit der Elastomerschxcht räumlich moduliert ist.
- 27. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß das elektrische Feld eine genügende Stärke besitzt, daß die Elastoserschxcht permanent deformiert wird.
- 28. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß das elektrische Feld eine genügende Stärke besitzt, daß die Elastomerschxcht permanent deiormiert wird.509816/1165
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