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DE2301631C2 - Device for carrying out a method for regenerating an ammoniacal solution containing a copper-tetrammine complex and chloride ions - Google Patents

Device for carrying out a method for regenerating an ammoniacal solution containing a copper-tetrammine complex and chloride ions

Info

Publication number
DE2301631C2
DE2301631C2 DE19732301631 DE2301631A DE2301631C2 DE 2301631 C2 DE2301631 C2 DE 2301631C2 DE 19732301631 DE19732301631 DE 19732301631 DE 2301631 A DE2301631 A DE 2301631A DE 2301631 C2 DE2301631 C2 DE 2301631C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
etchant
copper
compound
weight
etching
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE19732301631
Other languages
German (de)
Other versions
DE2301631A1 (en
Inventor
Rainer 7033 Herrenberg Haas
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hans Hoellmueller Maschinenbau & Co 7033 Her GmbH
Original Assignee
HANS HOELLMUELLER MASCHINENBAU GmbH and CO 7033 HERRENBERG DE
Hans Hoellmueller Maschinenbau & Co 7033 Herrenberg GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from CH102572A external-priority patent/CH587923A5/en
Application filed by HANS HOELLMUELLER MASCHINENBAU GmbH and CO 7033 HERRENBERG DE, Hans Hoellmueller Maschinenbau & Co 7033 Herrenberg GmbH filed Critical HANS HOELLMUELLER MASCHINENBAU GmbH and CO 7033 HERRENBERG DE
Publication of DE2301631A1 publication Critical patent/DE2301631A1/en
Application granted granted Critical
Publication of DE2301631C2 publication Critical patent/DE2301631C2/en
Expired legal-status Critical Current

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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/46—Regeneration of etching compositions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Description

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings

Claims (1)

23 Ol23 Ol Patentanspruch:Claim: Einrichtung zur Durchführung eines Verfahrens zum Regenerieren einer einen Kupfer-Tetrammin-Komplex und Chloridionen enthaltenden ammoniakalischen Lösung zum Ätzen von Kupfer und Kupferlegierungen, insbesondere von kupferkaschierten Leitungsplatten, bei dem die Kupfer-Tetrammin-Komplexverbindung durch das von dem Ätzgut abgeätzte Kupfer zu einer unwirksamen Diammin-Komplexverbindung abgebaut und als Regenerierungsmittel für die verbrauchte Tetrammin-Komplexverbindung eine Chloridionen enthaltende Verbindung aus der Gruppe Salzsäure, Ammoniumchlorid und Natriumchlorid in Abhängigkeit von der Wichte des zu regenerierenden Ätzmittels beigegeben und entweder in Abhängigkeit von der jeweiligen Wichte und vom pH-Wert des Ätzmittels oder allein von dessen pH-Wert soviel einer ammoniakatischen Verbindung aus der Gruppe Anünoniunihydroxid und Ammoniakgas zugegeben wird, daß der pH-Wert des zu regenerierenden Ätzmittels wieder etwa 8,5—10,0 und das MoIverhältnis der Chloridionen enthaltenden Verbindung zur ammoniakhaltigen Verbindung 1 :2 beträgt, mit Dosierbehältern, welche die Regenerationsmittel enthalten und über absperrbare Leitungen mit dem Ätzmittel verbunden sind, mit einer die Wichte und den pH-Wert des Ätzmittels überprüfenden und die Zugabe der Regenerationsmitti". steuernden Meßeinrichtung nach Patent 21 40 215, dadurch gekennzeichnet, daß eine direkt an den zu einer Ätzmaschine (39) gehörigen Ätzmittelbehälter £42) anschließbare Ätzmittelumwälzleitung (43, 44, 47) vorgesehen ist, und daß die Zuführung der Regenerationsmitte! (34, 53) in die Ätzmittel-Umwälzleitung (43,44, 47) mittels Injektoren (45, 46) erfolgt, welche über die absperrbaren Leitungen (51,52) an die Dosierbehälter angeschlossen sind.Device for carrying out a method for regenerating an ammoniacal solution containing a copper-tetrammine complex and chloride ions for etching copper and copper alloys, in particular copper-clad conduit plates, in which the copper-tetrammine complex compound is transformed into an ineffective diamine by the copper etched off from the etch material -Complex compound degraded and a compound containing chloride ions from the group consisting of hydrochloric acid, ammonium chloride and sodium chloride was added as a regeneration agent for the used tetrammine complex compound, depending on the specific weight of the etchant to be regenerated and either depending on the specific weight and the pH value of the etchant or just enough of an ammoniacal compound from the group of ammonium hydroxide and ammonia gas is added from its pH value that the pH value of the caustic to be regenerated is again about 8.5-10.0 and the molar ratio of the chloride ion-containing Ver bond to the ammonia-containing compound is 1: 2, with dosing containers which contain the regeneration agent and are connected to the etchant via lockable lines, with a control of the weight and pH of the etchant and the addition of the regeneration agent. controlling measuring device according to patent 21 40 215, characterized in that an etchant circulation line (43, 44, 47) which can be connected directly to the etchant container £ 42) belonging to an etching machine (39) is provided, and that the supply of the regeneration agent! (34, 53) into the etchant circulation line (43, 44, 47) by means of injectors (45, 46) which are connected to the metering containers via the lockable lines (51, 52). Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zur Durchführung eines Verfahrens zum Regenerieren einer einen Kupfer-Tetrammin-Komplex und Chloridionen enthaltenden ammoniakalischen Lösung zum Ätzen von Kupfer und Kupferlegierungen, insbesondere von kupferkaschierten Leitungsplatten, bei dem die Kupfer-Tetrammin-Komplexverbindung durch das von dem Ätzgut abgeätzte Kupfer zu einer unwirksamen Diammin-Komplexverbindung abgebaut und als Regenerierungsmittel für die verbrauchte Tetrammin-Komplexverbindung eine Chloridionen enthaltende Verbindung aus der Gruppe Salzsäure, Ammoniumchlorid und Natriumchlorid in Abhängigkeit von der Wichte des zu regenerierenden Ätzmittels beigegeben und entweder in Abhängigkeit von der jeweiligen Wichte und vom pH-Wert des Ätzmittels oder allein von dessen pH-Wert so viel einer ammoniakalischen Verbindung aus der Gruppe Ammoniumhydroxid und Ammoniakgas zugegeben wird, daß der pH-Wert des zu regenerierenden Ätzmittels wieder etwa 8,5—10,0 und das Molverhältnis der Chloridionen enthaltenden Verbindung zur ammoniakhaltigen Verbindung 1 :2 beträgt, mit Dosierbehältern, welche die Regenerationsmittel enthalten und über absperrbare Leitungen mit dem Ätzmittel verbunden sind, mit einer die Wichte und den pH-Wert des Ätzmittels überprüfenden und die Zugabe des Regenerationsmittels steuernden Meßeinrichtung nach Patent 21 40 215.The invention relates to a device for performing a method for regenerating a Copper-tetrammine complex and ammoniacal solution containing chloride ions for etching copper and copper alloys, in particular of copper-clad conduction plates, in which the copper-tetrammine complex compound the copper, which has been etched off from the etch material, turns it into an ineffective diammine complex compound degraded and used as a regenerant for the used tetrammine complex compound Compound containing chloride ions from the group consisting of hydrochloric acid, ammonium chloride and sodium chloride in Depending on the weight of the etchant to be regenerated added and either depending from the respective weight and the pH value of the etchant or just from its pH value as much as one ammoniacal compound from the group consisting of ammonium hydroxide and ammonia gas is added that the pH of the etchant to be regenerated is again about 8.5-10.0 and the molar ratio of the chloride ions containing compound to the ammonia-containing compound is 1: 2, with metering containers which the Contain regeneration agents and are connected to the etchant via lockable lines, with a checking the weight and pH of the etchant and controlling the addition of the regenerant Measuring device according to patent 21 40 215. Beim Gegenstand des Hauptpatentes 21 40 215 ist diese Einrichtung Teil einer von der eigentlichen Ätzmaschine gesonderten Regenerationsanlage mit einem eigenen Reaktionsbehälter. Derartige gesonderte Regenerationsanlagen sind insbesondere dann, wenn sie bei kleineren Ätzmaschinen verwendet werden sollen, verhältnismäßig aufwendig.In the subject of the main patent 21 40 215, this device is part of one of the actual etching machine separate regeneration system with its own reaction tank. Such separate regeneration systems are especially proportionate if they are to be used in smaller etching machines laborious. Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Einrichtung der eingangs genannten Art derart auszubilden, daß sie direkt an eine Ätzmaschine angeschlossen werden kann.The object of the present invention is to design a device of the type mentioned at the outset in such a way that that it can be connected directly to an etching machine. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß eine direkt an den zu einer Ätzmaschine gehörigen Ätzmittelbehälter anschließbare Ätzmittelumwälzleitung vorgesehen ist, und daß die Zuführung der Regenerationsmittel in die Ätzmittelumwälzleitung mittels Injektoren erfolgt, welche über die absperrbaren Leitungen an die Dosierbehäiter angeschlossen sind.According to the invention, this object is achieved in that one is attached directly to an etching machine Etchant container connectable etchant circulation line is provided, and that the supply of the regeneration agent into the etchant circulation line by means of injectors, which via the lockable lines are connected to the dosing tanks. Eine beispielsweise Ausführungsform einer solchen Anlage zur Regeneration des Ätzmittels in der Ätzmaschine ist auf der zur nachfolgenden Beschreibung gehörigen Zeichnung schematisch dargestelltAn example embodiment of such a system for the regeneration of the etchant in the etching machine is shown schematically on the drawing belonging to the following description Bei dieser in der Zeichnung mit 39 bezeichneten Ätzmaschine befindet sici*r das zu regenerierende Ätzmittel 5 in einem bodenseitigen Behälter 42, an dem eine eine Wichtemeßeinrichtung 30 sowie eine Umwälzpumpe 40 enthaltende Leitung 41 direkt angeschlossen ist In zwei wieder an der Leitung 41 angeschlossenen Zweigleitungen 43 und 44 befinden sich mit 45 bzw. 46 bezeichnete Injektoren, wobei diese beiden Zweigleitungen wieder in einer gemeinsamen Rückflußleitung 47 zusammenlaufen, an die eine pH-Wert-Elektrode 29 angeschlossen ist Das Ende 48 dieser Leitung 47 dagegen ist an die Maschine 39 angeschlossen und mündet oberhalb des Ätzmittelbehälters 42. An den beiden Injektoren 45 und 46 wieder sind zwei jeweils durch Magnetventile 49 und 50 absperrbare Speiseleitungen 51 und 52 angeschlossen, durch die aus nicht besonders dargestellten Vorratsbehältern einerseits in Wasser gelöstes Ammoniumchlorid 53 und andererseits Ammoniakgas 34 zugeführt wird. Die Beigabe des Ammoniumchlorides 53, von dem beispielsweise 168 Gramm in einem Liter Wasser gelöst ist, wird dabei über das Ventil 49 durch die Wichtemeßeinrichtung 30 und die Beigabe des Ammoniakgases 34 über das Ventil 50 durch die pH-Wert-Elektrode 29 gesteuert. In this etching machine, designated 39 in the drawing, the etchant to be regenerated is located 5 in a bottom container 42 on which a weight measuring device 30 and a circulating pump 40 containing line 41 is directly connected. In two branch lines connected again to line 41 43 and 44 are located injectors 45 and 46, respectively, these two branch lines again converge in a common reflux line 47 to which a pH value electrode 29 is connected The end 48 of this line 47, however, is connected to the machine 39 and opens above the Etchant container 42. At the two injectors 45 and 46 again are two each by solenoid valves 49 and 50 lockable feed lines 51 and 52 connected, through the storage containers not specifically shown on the one hand ammonium chloride 53 dissolved in water and on the other hand ammonia gas 34 are supplied will. The addition of the ammonium chloride 53, of which, for example, 168 grams dissolved in one liter of water is, is thereby via the valve 49 by the weight measuring device 30 and the addition of the ammonia gas 34 Controlled by the pH value electrode 29 via the valve 50. Diese zuvor behandelte Ausführungsform der erfindungsgemäßen Einrichtung ist dabei besonders für kleine: e Ätzmaschinen 39 geeignet und zeichnet sich durch eine sehr einfache und damit auch billige Bauart aus.This previously discussed embodiment of the device according to the invention is particularly suitable for small: e etching machines 39 suitable and is characterized by a very simple and thus cheap design.
DE19732301631 1972-01-21 1973-01-13 Device for carrying out a method for regenerating an ammoniacal solution containing a copper-tetrammine complex and chloride ions Expired DE2301631C2 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH102572A CH587923A5 (en) 1971-03-08 1972-01-21 Etching copper/copper alloys process - using a regenerative soln contg ammonium and chloride ions

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2301631A1 DE2301631A1 (en) 1973-07-26
DE2301631C2 true DE2301631C2 (en) 1985-10-24

Family

ID=4200690

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19732301631 Expired DE2301631C2 (en) 1972-01-21 1973-01-13 Device for carrying out a method for regenerating an ammoniacal solution containing a copper-tetrammine complex and chloride ions

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Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
NICHTS-ERMITTELT

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Publication number Publication date
DE2301631A1 (en) 1973-07-26

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