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DE2204244C3 - Photopolymerizable recording material - Google Patents

Photopolymerizable recording material

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Publication number
DE2204244C3
DE2204244C3 DE19722204244 DE2204244A DE2204244C3 DE 2204244 C3 DE2204244 C3 DE 2204244C3 DE 19722204244 DE19722204244 DE 19722204244 DE 2204244 A DE2204244 A DE 2204244A DE 2204244 C3 DE2204244 C3 DE 2204244C3
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DE
Germany
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layer
solution
water
image
gravure
Prior art date
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Expired
Application number
DE19722204244
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German (de)
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DE2204244B2 (en
DE2204244A1 (en
Inventor
Joseph Edmund Red Bank N.J. Gervay (V.St.A.)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of DE2204244A1 publication Critical patent/DE2204244A1/en
Publication of DE2204244B2 publication Critical patent/DE2204244B2/en
Application granted granted Critical
Publication of DE2204244C3 publication Critical patent/DE2204244C3/en
Expired legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F5/00Screening processes; Screens therefor
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers

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  • Structural Engineering (AREA)
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Description

a) mindestens einem bei Normaldruck oberhalb 1000C siedenden äthylenisch ungesättigten Monomeren, das befähigt ist, über eine durch freie Radikale initiierte, sich kettenförmig fortpflanzende Additionspolymerisationspolymerisation ein Hochpolymeres zu bilden, undto form a) at least one at normal pressure above 100 0 C boiling ethylenically unsaturated monomers which is capable, initiated via a free radical, is a chain-like propagating Additionspolymerisationspolymerisation a high polymer, and

b) einem freien Radikale liefernden Photoinitiator, der durch aktinische Strahlung aktivierbar ist und in Mengen von 0,01 bis 20,0 Gew.-%, bezogen auf den Gesamtfeststoff, in der Dispersion vorliegt,b) a photoinitiator which produces free radicals and can be activated by actinic radiation and in amounts of 0.01 to 20.0% by weight, based on the total solids, in the Dispersion is present,

enthält, sowie enthaltend zwischen dem Schichtträger und der photopolymerisierbaren Schicht eine Zwischenschicht aus einem hydrophilen, makromolekularen organischen Kolloid, dadurch gekennzeichnet, daß die Zwischenschicht ein oberflächenaktives Mittel enthält und ein Schichtgewicht von mindestens 1,0 mg/dm2 besitzt.contains, as well as containing between the support and the photopolymerizable layer an intermediate layer of a hydrophilic, macromolecular organic colloid, characterized in that the intermediate layer contains a surface-active agent and has a layer weight of at least 1.0 mg / dm 2 .

2. Verwendung des photopolymerisierbaren Aufzeichnungsmaterials gemäß Anspruch 1, zur Herstellung von bildmäßig modifizierten Metalloberflächen durch Diffusionsätzung.2. Use of the photopolymerizable recording material according to claim 1 for production of image-wise modified metal surfaces by diffusion etching.

3. Verwendung des photopolymerisierbaren Aufzeichnungsmaterials gemäß Anspruch 2, zur Herstellung von Tiefdruckformen.3. Use of the photopolymerizable recording material according to claim 2 for the production of gravure forms.

Die Erfindung betrifft ein fotopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial gemäß Oberbegriff des Anspruch 1 sowie dessen Verwendung zur Herstellung von bildmäßig modifizierten Metalloberflächen durch Diffusionsätzung. The invention relates to a photopolymerizable recording material according to the preamble of the claim 1 and its use for the production of image-wise modified metal surfaces by diffusion etching.

Ei ist bekannt, die Fotopolymerisation so durchzuführen, daß Text und Bildvorlage wie in der US-PS 27 60 863 beschrieben reproduziert werden. Ein solches Verfahren wird beispielsweise praktisch angewandt für die Herstellung von Reliefdruckformen durch Auswaschen nichtpolymerisierter Bereiche. Eine thermische über,ragung nichtpolvmerisierter Bereiche, wie sie in der US PS 30 60 025 beschrieben ist. ist gleichfalls möglich. Üblicherweise sind die bekannten photopolymensierbaren Gemische homogene Gemische, in denen das polymerisierbar Monomere, der Fotoimtiator und das Bindemittel sämtlich in einer einzigen Phase vorliegen. Bei einem solchen Einphasensystem wird die Polymerisationsreaktion durch die Anwesenheit von Sauerstoff bekanntlich stark gehemmt. Es ist daher schwierig, Bilder mit kontinuierlich verlaufenden Hellig' keils- bzw. Farbwerten durch Fotopolymerisation von homogenen Gemischen zu reproduzieren, wahrscheinlich bedingt durch die hemmende Wirkung des Sauerstoffs. Es ist weiterhin bekannt, fotografische Schichten für Tiefdruckformen unter Verwendung eines Abstreiffilms, der mit einer Gelatine-Silberhalogenidemulsion beschichtet ist, nach dem Verfahren der US-PS 29 93 792 herzustellen. Dieses Verfahren und dieses Material haben in großem Umfang Eingang in die Technik gefunden. Das Anwendungsverfahren umfaßt jedoch mehrere Stufen, zu denen die Entwicklung und Fixierung des belichteten Silberhalogenids in flüssigen Verarbeitungslösungen gehören und die durch erfahrene und geübte Fachleute durchgeführt werden müssen.It is known to carry out the photopolymerization in such a way that text and original images are reproduced as described in US Pat. No. 2,760,863. Such a method is used in practice, for example, for the production of relief printing forms by washing out non-polymerized areas. Thermal coating of non-polymerized areas, as described in US Pat. No. 3,060,025. is also possible. Usually, the known photopolymerizable mixtures are homogeneous mixtures in which the polymerizable monomer, the photo-initiator and the binder are all present in a single phase. In such a single-phase system, the polymerization reaction is known to be greatly inhibited by the presence of oxygen. It is therefore difficult to reproduce images with continuously running light values or color values by photopolymerization of homogeneous mixtures, probably due to the inhibiting effect of oxygen. It is also known to produce photographic layers for intaglio printing forms using a stripping film which is coated with a gelatin-silver halide emulsion by the process of US Pat. No. 2,993,792. This method and material have found widespread use in technology. However, the method of use involves several steps which include development and fixation of the exposed silver halide in liquid processing solutions and which must be carried out by a skilled person.

ίο Es erfordert ferner das Auswaschen der nicht belichteten Bereiche der fotografischen Schicht mit heißem Wasser, um diese Bereiche von der Oberfläche zu entfernen, bevor die übliche Eisen(III)-chIorid-ÄtzIösung verwendet wird.ίο It also does not require washing out exposed areas of the photographic layer with hot water to remove these areas from the surface to remove before the usual ferric chloride caustic solution is used.

In der US-PS 3418 118 und in der belgischen Patentschrift 7 15 520 werden heterogene, fotopolymerisierbare Gemische beschrieben, die dem genannten hemmenden Einfluß des Sauerstoffes wen,D'cr unterliegen. Diese Gemische werden zur Bildung sowohl von einschichtigen als auch von mehrschichtigen Aufzeichnungsmaterialien auf einen Schichtträger aufgebracht, die einen Teil eines farbbilderzeugenden Bestandteils enthalten und sich zur Herstellung von Farbbildern eignen. Aus diesen Patentschriften geht nicht hervor, daß ähnliche Gemische, die keine farbbilderzeugenden Bestandteile enthalten, als hochwertige fotografische Schichten für Tiefdruckformen und für Druckformen für gedruckte Schaltungen und Stromkreise verwendet werden können, und daß die Anwendung dieserIn US-PS 3418 118 and in Belgian patent 7 15 520 heterogeneous, photopolymerizable mixtures are described which are subject to the inhibiting influence of oxygen wen, D 'cr mentioned. These mixtures are applied to a support for the formation of both single-layer and multilayer recording materials which contain part of a color image-forming component and are suitable for the production of color images. It does not appear from these patents that similar mixtures containing no colored image-forming components can be used as high quality photographic layers for gravure forms and for printing forms for printed circuits and circuits, and that the application of these can be used

jo Gemische nur ein Minimum von einfachen Arbeitsschritten zur Durchführung des Verfahrens erfordert. jo mixtures requires only a minimum of simple steps to carry out the process.

Die DE-OS 19 50 120J beschreibt ein fotopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial, insbesondere zur Herstellung von Tiefdruckplatten, mit einem Schichtträ-DE-OS 19 50 120J describes a photopolymerizable one Recording material, in particular for the production of gravure printing plates, with a layer carrier

J5 ger und diesem anliegender Schicht aus einem heterogenen, fotopolymerisierbaren Gemisch mit einem Dispersionsmedium aus einem hydrophilen, makromolekularen, organischen Polymeren und einer dispergierten Phase. Diese dispergierte Phase besteht aus:J5 ger and this adjoining layer from one heterogeneous, photopolymerizable mixture with a dispersion medium made of a hydrophilic, macromolecular, organic polymers and a dispersed phase. This dispersed phase consists of:

a) mindestens einem bei Normaldruck unterhalb von 100° siedenden, äthylenisch ungesättigten Monomeren, das befähigt ist, über eine durch freie Radikale initiierte, sich kettenförmig fortpflanzende Additionspolymensation ein Hochpolymeres zua) at least one ethylenically unsaturated monomer boiling below 100 ° at normal pressure, that is capable of propagating in a chain-like manner via a chain-initiated, free radical Addition polymerization to a high polymer

4<i bilden und 4 <i form and

b) einem freie Radikale liefernden Fotoinitiator, der durch aktinische Strahlung aktivierbar ist und in Mengen von 0,01 bis 20 Gew.-%, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt, in der Disoersion vorliegt.b) a photoinitiator which produces free radicals and which can be activated by actinic radiation and which is in Amounts from 0.01 to 20% by weight, based on the total solids content, are present in the dispersion.

Das Material ist dadurch gekennzeichnet, daß der Schichtträger sich von der heterogenen, fotopolymerisierbaren Schrcht abtrennen läßt und vorzugsweise gegen aktinische Strahlung durchlässig ist.The material is characterized in that the The support can be separated from the heterogeneous, photopolymerizable layer and preferably is transparent to actinic radiation.

y; Im Beispiel 22 der DE-OS 19 50 120 wird eine Gelatineschicht mit einem Gehalt an p-tert.-Octylphenol beschrieben. Diese Gelaimeschicht dient aber nicht als Zwischenschicht im Sinne der vorliegenden Erfindung, da die Gelatineschicht auf der anderen Seite des Schichtträgers liegt und damit eine andere Funktion erfüllt, die mit der erfindungsgemäß vorgesehenen Zwischenschicht nicht verglichen werden kann. Die Oeiatineschicht aus dem Beispiel 22 dient insbesondere als Lichthofschutzschicht die weiterhin einen Uner* wünschten Aufbau von statischer Ladung auf dem Schichtträger verhindern soll.y; In Example 22 of DE-OS 19 50 120 is a Gelatin layer with a content of p-tert.-octylphenol described. However, this gel layer does not serve as an intermediate layer in the context of the present invention, because the gelatin layer is on the other side of the support and therefore has a different function fulfilled, which cannot be compared with the intermediate layer provided according to the invention. the Oeiatin layer from example 22 serves in particular as an antihalation layer which also has an un * to prevent the desired build-up of static charge on the substrate.

Als makromolekulares, organisches Polymeres Vep wendel man vorzugsweise Gelatine- Das ungesättigteAs a macromolecular, organic polymer Vep Preferably gelatin is used - the unsaturated one

Monomere ist bevorzugt Pentaerythrittriacrylat und/ oder Trimethylolpropantriacrylat. Die dispergierte Phase kann auch Triäthylenglykoldicaprat und Triäthylenglykoldicaprylat enthalten. Als Fotoinitiatoren haben sich dabei 9,10-Phenanthrenchinon sowas 4,4'-Bis-dimethylaminobenzophenon oder Mischungen dieser Initiatoren bewährt Gute Ergebnisse wurden auch mit einem Fotoinitiator erzielt, der ein Lophindimeres ist, das aus zwei Lophinresten besteht, die durch eine einzige kovalenta Bindung miteinander verbunden sind, insbesondere ein ortho-ChlorphenyW^-diphenylimidazolyldimeres. Monomers is preferably pentaerythritol triacrylate and / or trimethylol propane triacrylate. The dispersed phase can also be triethylene glycol dicaprate and triethylene glycol dicaprylate contain. The photoinitiators are 9,10-phenanthrenequinone and 4,4'-bis-dimethylaminobenzophenone or mixtures of these initiators have proven successful. Good results have also been achieved with one Photo initiator, which is a lophine dimer that is made up consists of two lophine residues, which are connected to one another by a single covalent bond, in particular an ortho-chlorophenyW ^ -diphenylimidazolyl dimer.

Obgleich diese Materialien sich im Handel als brauchbar erwiesen haben, weisen sie doch gewisse Nachteile auf. Wendet man gegen Lichthofbildung \s schützende Verbindungen an, so müssen diese entweder in die lichtempfindliche Schicht eingearbeitet werden, wobei die damit verbundenen sensitometrischen Effekte auftreten, oder man bringt sie in einer auf der Rückseite liegenden Schich* unter und muß dabei einen gewissen Verlust an Wirksamkeit in Kauf nehmen. Außerdem müssen bei der Übertragung dieser Materialien auf die zu ätzende Oberfläche und beim Abstreifen des Schichtträgers zur Erzielung bester Ergebnisse oft spezielle Lösungsmittel, wie Alkohol/Wasser-Gemisehe, und kritische Belichtungsbedingungen angewandt werden. Ein weiterer Nachteil der vtx-stehend beschriebenen Materialien liegt darin, daß sich der Schichtträger zwar vor der Belichtung leicht von der Resistschicht abziehen läßt, während nach der Belichtung die Haftfestigkeit des Trägers auf der Schicht in den belichteten Bereicnen des Materials viel größer ist. Als Folge davon ist es schwierig, den Schichtträger von der Resistschicht abzuziehen, nachdem das Material auf die zu ätzende Oberfläche zum Haften ge' .acht worden ist, ohne die Resistschicht zu schädigen. Dieses Problem ist von besonderer Bedeutung, wenn Wasser, die bevorzugte Flüssigkeit, angewandt wird, um die Oberfläche, auf welche die Resistschicht zum Haften gebracht wird, zu befeuchten.While these materials have been found to be commercially useful, they have certain disadvantages. Turning antihalation \ s protective compounds to, these must either be incorporated into the photosensitive layer, the sensitometric effects associated occur, or placing them in a lying on the back Schich * under and must exhibit a certain loss of effectiveness accept. In addition, when transferring these materials to the surface to be etched and when stripping the substrate, special solvents, such as alcohol / water mixtures, and critical exposure conditions must often be used in order to achieve the best results. Another disadvantage of the materials described above is that the substrate can be easily peeled off the resist layer before exposure, while after exposure the adhesion of the substrate to the layer in the exposed areas of the material is much greater. As a result, it is difficult to peel the substrate from the resist layer after the material has been adhered to the surface to be etched without damaging the resist layer. This problem is of particular concern when water, the preferred liquid, is used to wet the surface to which the resist layer is being adhered.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial zur Ausbildung eines heterogenen Diffusions-Ätz-Resssts zur Verfügung zu stellen, das einfach und beschädigungsfrei auf die zu ätzende Oberfläche übertragbar ist und mit dem das Ätz-Resist in einfachen und mit wenigen Arbeitsschritten herstellbar ist.The invention is based on the object of providing a photopolymerizable recording material To provide training of a heterogeneous diffusion-etching resource that is simple and damage-free is transferable to the surface to be etched and with which the etching resist in simple and with can be produced in just a few steps.

Gelöst wird die Aufgabe durch die Maßnahme gemäß Patentanspruch I. Das so erhaltene fotopolymerisierbare Aufzeichnungsmaterial ist besonders geeignet zur Herstellung von bildmäßig modifizierten Metalloberflächen durch Diffusionsäuung. insbesondere zur Herstellung von Tiefdruckformen.The object is achieved by the measure according to claim I. The thus obtained photopolymerizable Recording material is particularly suitable for the production of imagewise modified metal surfaces by diffusion. especially for the production of gravure forms.

Durch die Erfindung wird erreicht, daß die hydrophile Kolloidschicht die fotopolymerisierbar Schicht nach der durch Belichtung mit aktinischem Licht erfolgten Polymerisation wirksam daran hindert, auf dem Schichtträger zu haften. Geeignete hydrophile, makromolekulare, organische Kolloide, die sich zur Verwendung in der hydrophilen, kolloiden Schicht eignen, sind Gelatine, Polyvinylalkohol und Polyvinylpyrrolidon, Die hydrophile Schicht kann Hilfssfoffe enthalten, die es ermöglichen, zusätzliche Wirkungen sicherzustellen. Auf diese Weise können gegen Lichthofbildung schützende Farbstoffe oder Pigmente vorliegen sowie Verbindungen, die befähigt sind, ein durch Licht hervorgerufenes bildlieferndes System zur Erzeugung eines sichtbaren Bildes auszubilden.The invention achieves that the hydrophilic Colloid layer the photopolymerizable layer after exposure to actinic light Effectively prevents polymerization from adhering to the support. Suitable hydrophilic, macromolecular, organic colloids suitable for use in the hydrophilic colloidal layer are Gelatin, polyvinyl alcohol and polyvinylpyrrolidone, the hydrophilic layer can contain auxiliaries that make it make it possible to ensure additional effects. This way you can prevent halation protective dyes or pigments are present, as well as compounds that are capable of forming a through light to form evoked image-providing system for generating a visible image.

Die Schicht aus dem hydrophilen, makromolekularen, organischen Kolloid soll im wesentlichen von zusätzlichen polymerisierbaren Bestandteilen frei sein.The layer of the hydrophilic, macromolecular, organic colloid should essentially contain additional be free of polymerizable ingredients.

Zur Herstellung von bildmäßig modifizierten Metalloberflächen, insbesondere zur Herstellung von Tiefdruckformen unter Verwendung des srfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterials belichtet man zuerst durch ein Tiefdruckraster und dann durch eine Vorlage eines Bildes mit kontinuierlich verlaufenden Tonwerte, >. und der Ausbildung eines durch Fotopolymerisation modilierten Resistbildes, überträgt dann die Oberfläche des Materials auf eine wasserfeuchte, zu ätzende Fläche, zieht den Schichtträger ab und ätzt bildmäßig die Fläche unter Erzeugung einer Tief Jruckformoberfläche.For the production of image-wise modified metal surfaces, especially for the production of gravure printing forms using the recording material according to the invention, exposure is first carried out through a gravure screen and then through a template of an image with continuously running tonal values, >. and the formation of a resist image modified by photopolymerization, then transfers the surface of the Material on a water-damp surface to be etched, pulls off the layer support and etches the surface image-wise producing a deep pressure form surface.

Zum Ätzen der Fläche benutzt man ein übliches Lösungsmittel, beispielsweise Eisen(III)-chIorid. Die geätzte Oberfläche kann dann ausgewaschen werden, beispielsweise mit der wäßrigen Lösung, um die Reste der Ätzlösung und der übertragenen, belichteten Schicht zu entfernen. Diese Arbeitsweise kann nach einer Variante auch so durchgeführt werden, daß man mit dem Tiefdruckraster durch einen transparenten Schichtträger belichtet und dann von der gegenüberliegenden Seite mit einer Vorlage eines Bildes mit kontinuierlich verlaufenden Tonwerten. Das Material kann auch auf der zu ätzenden Fläche zum Haften gebracht und am ber.en der Schichtträger vor der bildmäßigen Belichtung abgezogen werden.A common solvent, for example iron (III) chloride, is used to etch the surface. the The etched surface can then be washed out, for example with the aqueous solution, to remove the residue the etching solution and the transferred, exposed layer to remove. This way of working can be done according to a variant can also be carried out in such a way that one can go through a transparent screen with the gravure screen Layer substrate exposed and then from the opposite side with a template of an image with continuous tone values. The material can also adhere to the surface to be etched and peeled off the top of the support before the imagewise exposure.

Der für die Herstellung der Materialien der Erfindung benutzte Schichtträger besteht vorzugsweise aus einer Polyäthylenterephthaiatbahn, die biaxial gereckt, in der Hitze formfest gemacht und in der Hitze entspannt worden ist. Dieser Schichtträger ist keiner Oberflächenbehandlung unterworfen und auch nicht mit einer Haftschicht versehen worden, auf die die fotopolymerisierbare Schicht aufgebracht wird. Es sind aber Schichtträger brauchbar, die eine Oberfläche aufweisen, die elektrische Entladungen nach der in der US-PS 2113 208 beschriebenen Weise ausgesetzt worden oder wie in der US-PS 3145 242 Deschrieoen mit einer Luftpropanflamme behandelt worden sind. Als Schichtträger bewährt haben sich auch hydrophobe Folien aus organischen Polymeren, z. B. aus intralinearen Polyestern und Celluloseestern, wie Celluloseacetat Glattes, nichtporöses, wasserundurchlässiges Papier, wie es in der Fotografie als !schichtträger benutzt wird, kommt auch als Schichtträger in Frage.The support used for the manufacture of the materials of the invention preferably consists of one Polyäthylenterephthaiatbahn, the biaxially stretched, in the Heat made dimensionally stable and relaxed in the heat. This support is not a surface treatment subjected and not provided with an adhesive layer on which the photopolymerizable Layer is applied. However, layers can be used which have a surface exposed to electrical discharges in the manner described in US Pat. No. 2,113,208 or as in US-PS 3145 242 Deschrieoen with a Air propane flame have been treated. Hydrophobic films have also proven useful as a layer carrier organic polymers, e.g. B. from intralinear polyesters and cellulose esters, such as cellulose acetate smooth, non-porous, water-impermeable paper, as it is used in photography as a layer carrier also possible as a layer carrier.

Die hydrophile Schicht aus einem organischen Kolloid in den Materialien der Erfindung ist für die zum Ätzen der Tiefdruckbilder angewandte Ätzlösung vorzugsweise frei durchlässig. Diese Durchlässigkeit läßt sich erreichen durch Ausbildung einer geeigneten dünnen hydrophilen Kolloidschicht oder durch Einarbeitung geeigneter Weichmacher, beispielsweise nichtionischer oberflächenaktiver Substanzen in die hydrophile Schicht. Für diese geringen Mengen eines oberflächenaktiven Mittels für einwandfreies Aufbringen enthaltende Schichten hat sich ein Schichtgewichts bereich von 1,0 mg/dm* bis 26 mg/dm2 besonders bewährt. Man kann in einem Material der Erfindung eine relativ dicke hydrophile Schicht anwenden und durch Waschen mit Wasser von der fotopolymerisierten Resistschicht entfernen, nachdem man sie auf die zu ätzende Fläche aufgebracht und den Schichtträger abgezogen hat. Eine solche Schicht entspricht aber einer nicht bevorzugten Ausfühfüngsform der Erfindung, da sie einen besonderen Arbeitsgang bei der Anwendung erforderlich macht. Um in wirksamer Weise dasThe hydrophilic organic colloid layer in the materials of the invention is preferably freely permeable to the etching solution used to etch the intaglio images. This permeability can be achieved by forming a suitable thin hydrophilic colloid layer or by incorporating suitable plasticizers, for example nonionic surface-active substances, into the hydrophilic layer. For layers containing these small amounts of a surface-active agent for perfect application, a layer weight range of 1.0 mg / dm * to 26 mg / dm 2 has proven particularly useful. A relatively thick hydrophilic layer can be used in a material of the invention and removed from the photopolymerized resist layer by washing with water after it has been applied to the area to be etched and the substrate has been peeled off. Such a layer, however, corresponds to a non-preferred embodiment of the invention, since it requires a special operation during use. To effectively do that

Festhaften des belichteter. Resists auf dem Schichtträger zu verhindern, muD die hydrophile Schicht dick genug sein, um ihre Struktur zu behandeln, wenn sie mit der Fotoresistschicht überschichtet wird. Vorzugsweise besitzt die Schicht ein Schichtgewicht von mindestens 1,0 mg/dm2.Clinging the exposed. To prevent resists on the substrate, the hydrophilic layer must be thick enough to treat its structure when it is overlaid with the photoresist layer. The layer preferably has a layer weight of at least 1.0 mg / dm 2 .

In die BeschichtungslGsung des Kolloids wird ein geeignetes oberflächenaktives Mittel eingearbeitet, so daß die Lösung die Oberfläche des Schichtträgers einheitlich benetzt Die Auswahl des Mittels hängt etwas von der besonderen Art des Kolloids ab, das auf den Schichtträger aufgebracht wird, bietet aber dem Fachmann keine Schwierigkeiten. Besteht der Schichtträger aus Polyethylenterephthalat, so haben sich Phosphatester besonders bewährt, die lange Ketten von Äthoxygruppen aufweisen, welche am Ende eine Alkylphenoxygruppe tragen, außerdem Natrium- oder Kaliumsalze von Alkylsulfaten mit 8—20 Kohlenstoffatomen und Saponin.In the coating solution of the colloid is a suitable surfactant incorporated so that the solution hits the surface of the support uniformly wetted The choice of agent depends somewhat on the particular type of colloid that is on the substrate is applied, but presents no difficulties for the person skilled in the art. If the substrate exists made of polyethylene terephthalate, phosphate esters have proven particularly useful, the long chains of Have ethoxy groups, which carry an alkylphenoxy group at the end, also sodium or Potassium salts of alkyl sulfates containing 8-20 carbon atoms and saponin.

Obgleich das hydrophile, organische Kolloid das Abziehen des Schichtträgers von der Resistschicht, nachdem diese auf die zu ätzende Fläche übertragen worden ist, erheblich erleichtert, kann arä hydrophile Schicht auch andere Funktionen ausüber. Einer oder mehrere feinverteilte, gegen Lichthof schützende Farbstoffe und/oder Pigmente können in die Schicht eingearbeitet werden, um sowohl Lichthofschutz als auch schützende Filtereigenschaften in der Schicht sicherzustellen. Eine diese feinverteilten Substanzen enthaltende Schicht adsorbiert bildlieferncie aktinische Strahlung, die durch die lichtempfindliche Schicht des Materials hindurchgeht, so daß sie nicht in die lichtempfindliche Schicht unter Verschlechterung der Bildschärfe reflektiert wird. Eine solche Schicht verhindert, nachdem das Material auf die zu ätzende Fläche übertragen und der Schichtträger entfernt worden ist, auch Streustrahlung des aktinischen Lichts beim Erreichen der lichtempfindlichen Schicht. Diese Eigenschaft macht es möglich, eine Fläche mit aufhaftendem Resist einige Zeit unter normalen Raumlicliiverhältnissen ohne Schädigung aufzubewahren. Although the hydrophilic, organic colloid considerably facilitates the removal of the layer support from the resist layer after the latter has been transferred to the surface to be etched, the hydrophilic layer can also perform other functions. One or more finely divided antihalation dyes and / or pigments can be incorporated into the layer in order to ensure both antihalation and protective filter properties in the layer. A layer containing these finely divided substances adsorbs image-providing actinic radiation which passes through the light-sensitive layer of the material so that it is not reflected into the light-sensitive layer to deteriorate the sharpness of the image. After the material has been transferred to the surface to be etched and the support has been removed, such a layer also prevents scattered radiation of the actinic light when it reaches the photosensitive layer. This property makes it possible to keep a surface with adhering resist for some time under normal spatial conditions without damage.

Die angewandten, gegen Lichthofbildung schützenden und filtrierenden Verbindungen wurden ausgewählt, um die Strahlung zu absorbieren, die die Polymerisation der fotopolymerisierbaren Schicht initiieren wird. Für allgemeine Fotoresistschichten, die für ultraviolettes Licht empfindlich sind, haben sich Farbstoffe wie C. 1. Solvent Yellow 47 und C. I. Disperse Yellow 5 sehr bewährt.The applied antihalation protective and filtering compounds have been chosen to absorb the radiation causing the polymerization the photopolymerizable layer will initiate. For general photoresist layers used for ultraviolet Sensitive to light, dyes such as C. 1. Solvent Yellow 47 and C. I. Disperse Yellow 5 have proven to be very good proven.

Die hydrophile Sciiicht kann auch Verbindungen enthalten, die allein oder in Kombination ein sichtbares Bild erzeugen, wenn sie aktinisches Licht enthalten. Ein solcnes sichtbares Bild ist brauchbar zur Identifizierung belichteter Proben und zum richtigen Einpassen des « Resists auf die zu ätzende Fläche. Jedes bildliefernde System, das eine mit der der fotopolymerisierbaren Schicht vergleichbare Lichtempfindlichkeit hat, kann angewandt v/erden. Ein besonders bevorzugtes bildlieferndes System besteht in einer Kombination einer Hexaarylbiimidazolylverbindung mit einem Leukofarbstoff, insbesondere bewährt haben sich die in der US'PS M 45 234 beschriebenen Kombinationen.The hydrophilic layer can also contain compounds which, alone or in combination, produce a visible image when they contain actinic light. Such a visible image is useful for identifying exposed samples and for properly fitting the resist onto the area to be etched. Any image-forming system having a photosensitivity comparable to that of the photopolymerizable layer can be employed. A particularly preferred image-providing system consists of a combination of a hexaarylbiimidazolyl compound with a leuco dye; the combinations described in US Pat. No. M 45,234 have proven particularly useful.

Zur Herstellung einer bevorzugten fotopolymerisierbaren Dispersion und Schicht wird eine wäßrige Lösung oder Dispersion eines makromolekularen, organischen Polymeren, z. B. eine wäßrige Gelatinelösung, untor hoher Scherwirkur.g während des Zusatzes einer nichtwäßrigen Phase oder ölphase gerührt, die aus einer Lösung wenigstens eines additionspolymerisierbaren Monomeren oder polymerisierbai en Polymertn und eines Fotoinitiators in einem organischen Lösungsmittel, z. B. Äthylacetat, besteht Um gute Dispersionen von fotopolymerisierbaren Tröpfchen zu erhalten, sollten wirksame oberflächenaktive Mittel vorhanden sein. Das oberflächenaktive Mittel kann mit der wäßrigen Gelatinelösung gemischt werden. Ein einzelnes additionspolymerisierbares Monomeres, z. B. Pentaerythrittriacrylat, genügt im allgemeinen, jedoch kann auch eine Kombination von Monomeren verwendet werden. Polymerisierbare Polymere, die eine lineare Kohlenstoffhauptkette mit extralinearen, endständigen, äthylenisch ungesättigten Gruppen enthalten, wie sie in den US-PS 34 18 295 und 34 48 089 beschrieben sind, können ebenfalls verwendet werden. Weitere Mittel können dem Schichtgemisch zugesetzt werden, um die Eigenschaften bei der Schichtbildung und/oder den Mechanismus der Fotopolymerisation zu steuern, z. 8. Vernetzungsmittel, wie N,N'-M. thylen-bis-acrylamid und Diacetor.acrylarnid; zusätzliche Bindemitte!, z. B. Polyacrylamid, Weichmacher, z. B. Glycerin. Ferner kann ein Inhibitor, der die thermische Polymerisation verhindert z. B. p-Methoxyphenol, verwendet werden. Ätbylacetat eignet sich als organisches Lösungsmittel für die Herstellung von heterogenen Fotopolymersystemen, weil es einen niedrigen Siedepunkt hat und leicht vor dem Auftrag der Dispersion entfernt werden kann, ohne daß hohe Temperaturen angewandt werden, die die Emulsion schädigen könnten. Es ist ferner ein gutes Lösungsmittel für die Ölphase. Äthylacetat kann beispielsweise durch Erhitzen der Dispersion auf 500C in einem Rotationsverdampfer entfernt werden.To prepare a preferred photopolymerizable dispersion and layer, an aqueous solution or dispersion of a macromolecular organic polymer, e.g. B. an aqueous gelatin solution, untor high Scherwirkur.g stirred during the addition of a non-aqueous phase or oil phase, which consists of a solution of at least one addition polymerizable monomer or polymerizable polymer and a photoinitiator in an organic solvent, e.g. B. Ethyl acetate. In order to obtain good dispersions of photopolymerizable droplets, effective surfactants should be present. The surfactant can be mixed with the aqueous gelatin solution. A single addition polymerizable monomer, e.g. B. pentaerythritol triacrylate is generally sufficient, but a combination of monomers can also be used. Polymerizable polymers containing a linear carbon backbone with extralinear terminal ethylenically unsaturated groups, such as those described in US Pat. Nos. 3,418,295 and 3,448,089, can also be used. Further agents can be added to the layer mixture in order to control the properties during layer formation and / or the mechanism of photopolymerization, e.g. 8. Crosslinking agents such as N, N'-M. ethylene-bis-acrylamide and diacetor.acrylamide; additional binding agent! B. polyacrylamide, plasticizers, e.g. B. glycerin. Furthermore, an inhibitor that prevents thermal polymerization, e.g. B. p-methoxyphenol can be used. Ethyl acetate is suitable as an organic solvent for the preparation of heterogeneous photopolymer systems because it has a low boiling point and can easily be removed before the application of the dispersion without the use of high temperatures which could damage the emulsion. It is also a good solvent for the oil phase. Ethyl acetate of the dispersion to 50 0 C can be removed, for example by heating in a rotary evaporator.

Die Schichten können auch ohne Verwendung eines niedrigsiedenden Lösungsmittels aufgezogen werden. In diesen Fällen wird die Ölphase in einem mit Wasser mischbaren, hochsiedenden Lösungsmittel, wie 2-Methoxyäthanol. gelöst. Das letztgenannte System arbeitet ebenso gut wie das provisorische niedrigsiedende, mit Wasser nicht mischbare Lösüpgsmittelsystem und macht die Maßnahme der Entfernung des niedrigsiedenden Lösungsmittels durch Abdampfen vor dem Auftrag der Dispersionsschicht überflüssig. Die Größe der dispergierten fotopolymerisierbaren Tiöpfchen liegt zwischen 0.1 und ΙΟμιτι. wobei der größere Teil einen Durchmesser von etwa 0,5 μπι hat. Die Gleichmäßigkeit der Dispersion steht in direkter Beziehung zur Länge der Zeit und dem Grad der Durchmischung. Farbstoffe zum Schutz gegen Lichthofbildung und zur Färbung des Bildes können dem System ebenfalls zugesetzt werden.The layers can also be drawn up without the use of a low-boiling solvent. In In these cases, the oil phase is dissolved in a water-miscible, high-boiling solvent such as 2-methoxyethanol. solved. The latter system works just as well as the provisional low boiling point, with Water immiscible solvent system and makes the measure of removing the low-boiling solvent by evaporation before application the dispersion layer superfluous. The size of the dispersed photopolymerizable droplets is between 0.1 and ΙΟμιτι. the greater part being one Has a diameter of about 0.5 μm. The evenness the dispersion is directly related to the length of time and the degree of mixing. Dyes to protect against halation and to color the image can also be added to the system.

Die Dispersionen können auf die Schichtträgerfolien mit einer kleinen Laboratoriums-Beschichtungsapparatur bei einer Temperatur von etwa 35° C und etwa 73 m/Min, aufgetragen werden. Die Schichten werden durch Abkühlung zum Erstarren gebrrrht und und bei Raumtemperatur getrocknet. Die Gelatine-Konzentration der Schichtmasse bestimmt direkt die Viskosität der Emulsion und damit indirekt das Schichtgewicht. Die Dicke der fot polymerisierbaren Schichten hängt von der Arf des gewünschten Resists ab, sie beträgt z. B. 0,0013 bis 0,025 mm und mehr, vorzugsweise. Ö,ÖÖ5 bis 0,018 mm. Eine 0,0003 bis 0,0076 mm d'ckü Oberflächenschutzschicht, die ein oberflächenaktives Mittel enthält, kann auf die fotopolymerisierbare Schicht aufgebracht werden.The dispersions may be on the substrate films with a small laboratory Beschichtungsapparatu r at a temperature of about 35 ° C and about 73 m / min, can be applied. The layers are boiled to solidify by cooling and then dried at room temperature. The gelatin concentration of the layer mass directly determines the viscosity of the emulsion and thus indirectly the layer weight. The thickness of the phot polymerizable layers depends on the Ar f of the desired resist, it is, for. B. 0.0013 to 0.025 mm and more, preferably. Ö, ÖÖ5 to 0.018 mm. A 0.0003 to 0.0076 mm thick surface protective layer containing a surface active agent can be applied to the photopolymerizable layer.

Das Verfahren zur Herstellung des Gelatinereliefs als Resistbild kann in beliebiger üblicher Weise durchge-The process for producing the gelatin relief as a resist image can be carried out in any conventional manner.

führt werden, wobei es jedoch im Gegensatz zu den bekannten Verfahren nicht erforderlich ist, die unbelichteten Teile der Schicht durch Waschen zu entfernen, bevor der Träger, z. B. die Kupferoberfläche, mit wäßrigen Eisen(IiI)-chloridlösungen geätzt wird. Zweckmäßig ist ein Verfahren, bei dem das Aufkopieren mit Hilfe eines Kopierrahmens vorgenommen wird, beispielsweise mit einer Kopiervorrichtung, bei der eine Xenonlampe als Kopierlicht Verwendet wird.However, in contrast to the known methods, it is not necessary to use the unexposed To remove parts of the layer by washing before the support, e.g. B. the copper surface, with aqueous iron (III) chloride solutions is etched. A method in which the copying is expedient is made with the help of a copy frame, for example with a copier in which a Xenon lamp is used as a copy light.

Zwei Belichtungen können auf der lichtempfindlichen Rcsistschicht für Übliche Tiefdruckformen vorgenommen werden. Zunächst wird ein üblicher seitlicher Tiefdruckraster aufkopiert, worauf eine Negativ- oder Positivvorlage mit einem Bild mit kontinuierlich verlaufenden Tonwerten aufgebracht wird. Der Raster kann auf die Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht oder durch den transparenten Schichtträger, auf den die lichtempfindliche Schicht aufgebracht ist, aufkopiert werden, VürüüSgcsciZt, daß keine LiC~iiuiüi5Chüi25CmCniTwo exposures can be made on the photosensitive backing for conventional gravure forms will. First, a conventional gravure screen is copied onto the side, whereupon a negative or Positive original is applied with an image with continuously running tonal values. The grid can be applied to the surface of the photosensitive layer or through the transparent support on which the light-sensitive layer is applied, can be copied, VürüüSgcsciZt that no LiC ~ iiuiüi5Chüi25CmCni

auf die Rückseite aufgebracht worden ist. Überraschenderweise wurde festgestellt, daß beim Aufkopieren durch den Schichtträger die Punkte besser ausgebildet sind. Der Grund hierfür liegt darin, daß bei dieser Methode eine erwünschte verbesserte Wandgestalt während des Ätzens erzeugt wird.has been applied to the back. Surprisingly, it was found that when copying the points are better formed by the layer support. The reason for this is that in this Method a desired improved wall shape is created during the etching.

Das Verhältnis von Strich- zu Punktbreite beim Raster kann 1 :1 betragen, jedoch ist dies keineswegs entscheidend wichtig und kann variiert werden. Aufkopieren in einem Arbeitsgang genügt, wenn das Bild, durch das die Schicht belichtet wird, bereits ein Tiefdruck-Halbtonbild ist.The ratio of line to point width in the grid can be 1: 1, but this is by no means crucially important and can be varied. Copying in one operation is sufficient if that Image through which the layer is exposed is already a gravure halftone image.

Nach den Belichtungen wird die Oberfläche der belichteten Schicht auf die Fläche übertragen, die bildmäßig geätzt werden soll. Die zu ätzende Oberfläche wird befeuchtet und die belichtete Schicht übertragen, indem die Fotopolymer-Schicht auf der Schichtträgerfolie mit der Schichtseite durch eine Hartgummiwalze auf die befeuchtete Oberfläche, z. B. eine Kupferplatte, angepreßt wird. Die zu ätzende Oberfläche muß gut gereinigt werden, um Verunreinigungen wie Fett und Beschlag zu entfernen. Im Falle einer Kupferplatte kann die Oberfläche mit einer Lösung der folgenden Zusammensetzung gereinigt werden:After the exposures, the surface of the exposed layer is transferred to the area that is to be etched imagewise. The surface to be etched is moistened and the exposed layer transferred by placing the photopolymer layer on the base film with the layer side through a Hard rubber roller on the moistened surface, e.g. B. a copper plate is pressed. The one to be corrosive Surface must be cleaned well to remove any contamination how to remove grease and fog. In the case of a copper plate, the surface can be finished with a Solution of the following composition to be cleaned:

Eisessig
Natriumchlorid
destilliertes Wasser
Glacial acetic acid
Sodium chloride
distilled water

50 ml
250 g
95OmI
50 ml
250 g
95OmI

4545

Nach der Reinigung mit dieser Lösung kann die Platte poliert werden, indem sie mit feuchtem Wiener Kalk abgerieben und abr:hließend getrocknet wird. Es ist wichtig, daß die Oberfläche kein Wasser abstößt Nach der Übertragung wird die Schichtträgerfolie von der Fotopolymerschicht entfernt, in dem eine Ecke angehoben und die Folie von der Kupferplatte abgezogen wird.After cleaning with this solution, the plate can be polished by rubbing it with damp Viennese lime rubbed off and rubbed off: is then dried. It is important that the surface does not repel water After the transfer, the carrier film is removed from the photopolymer layer by lifting one corner and the foil is peeled from the copper plate.

Nach der Entfernung der Schichtträgerfolie wird eine Ätzlösung, z. B. Eisen(III)-chlorid von 41 bis 42 Be, auf die Oberfläche der Resistschicht 25 bis 35 Min. oder bis zum Erreichen der erforderlichen Ätztiefe zur Einwirkung gebracht Das Bild wird direkt proportional dem Grad der Härtung in der Resistschicht geätzt, weil das Eisen(III)-chlorid durch die Gelatine mit einer Geschwindigkeit diffundiert, die vom Härtungsgrad der lichtempfindlichen Schicht abhängt Die Ätzung kann auch unter Verwendung von mehreren Ätzlösungen, z. B. einer Ätzlösung von 44 Be für 44 Min. und anschließend einer Ätzlösung von 40 Βέ für eine Dauer von 5 Min. vorgenommen werden.After removing the carrier film, an etching solution, e.g. B. iron (III) chloride from 41 to 42 Be on the surface of the resist layer for 25 to 35 minutes or until the required etching depth is reached The image is etched in direct proportion to the degree of hardening in the resist layer because that Ferric chloride diffuses through the gelatin at a rate that depends on the degree of hardness of the depends on the photosensitive layer The etching can also be done using several etching solutions, z. B. an etching solution of 44 Be for 44 min. And then an etching solution of 40 Βέ for a duration of 5 minutes.

5050

5555

6060

65 Nach Beendigung des Ätzens wird die Kupferplatte mit heißem Wasser gespült, um die Einwirkung der Ätzlösung zu unterbrechen und die restliche Gelariheschtcht zu entfernen. 65 After the end of the etching, the copper plate is rinsed with hot water in order to interrupt the action of the etching solution and to remove the remaining gel layer.

Die fotopoiymerisierbare Schicht kann nach den folgenden Verfahren belichtet werden:The photopolymerizable layer can be exposed using the following methods:

A. Belichtung der Schicht durch einen aufliegenden Tiefdruckraster und danfi durch ein aufliegendes Bild mit kontinuierlichen Tonwerten.A. Exposure of the layer through an overlay Gravure raster and danfi through an overlay image with continuous tonal values.

B. Belichtung der Schicht durch einen Tiefdruckraster, der mit dem Schichtträger in Berührung ist. und dann durch ein Bild mit kontinuierlich verlaufenden Tonwerten, das mit der fotopolymerisierbaren Schicht in Berührung ist.B. Exposure of the layer through a gravure screen which is in contact with the substrate. and then through an image with continuous tone values that is made with the photopolymerizable Layer is in contact.

C. Belichtung der Schicht durch ein Kalbtonbild.C. Exposure of the layer through a calf tone image.

D. Belichtung der Schicht durch ein Halbtonbild und durch ein Bild mn kontinuierlich verlaufenden Tonwerten.D. Exposure of the layer through a halftone image and through an image mn continuously Tonal values.

Anstelle von Gelatine als Bindemittel im Dispergiermedium können auch andere natürliche oder synthetische wasserdurchlässige, organische Kolloide als Bindemittel verwendet werden. Beispiele solcher Bindemittel sind wasserdurchlässiger oder wasserlöslicher Polyvinylalkohol und seine Derivate, z. B. teilhydrolysierte Polyvinylacetate, Polyvinyläther und Acetyle, die eine große Zahl von extralinearen — ChbCHOH-Gruppen enthalten, Lydrolysierte Interpolymere von Vinylacetat und ungesättigten additionspolymerisierbaren Verbindungen, wie Maleinsäureanhydrid, Acryl- und Methacrylsäureäthylester und Styrole.Instead of gelatin as a binder in the dispersing medium, other natural or synthetic ones can also be used water-permeable, organic colloids are used as binders. Examples of such binders are water-permeable or water-soluble polyvinyl alcohol and its derivatives, e.g. B. partially hydrolyzed Polyvinyl acetates, polyvinyl ethers and acetyls, which contain a large number of extralinear - ChbCHOH groups contain hydrolyzed interpolymers of vinyl acetate and unsaturated addition polymerizable compounds such as maleic anhydride, acrylic and methacrylic acid ethyl esters and styrenes.

Geeignete Kolloide des letztgenannten Typs werden in den US-PS 22 76 322 und 22 76 323 beschrieben.Suitable colloids of the latter type are described in U.S. Patents 2,276,322 and 2,276,323.

Als Polyvinylacetat eignen sich Polyvinylacetaldehydacetal, Polyvinylbutyraldehydacetal und Polyvinylnatrium-o-sulfobenzaldehydacetal. Weitere als Bindemittel geeignete Kolloide sind die in der US-PS 24 95 918 beschriebenen Poly-N-vinyllactame, die in der US-PS 28 33 650 beschriebenen hydrophilen Mischpolymeren von N-Acrylamidalkylbetainen und hydrophile Celluloseäther und -ester.Suitable polyvinyl acetate are polyvinyl acetaldehyde acetal, Polyvinyl butyraldehyde acetal and polyvinyl sodium o-sulfobenzaldehyde acetal. Further colloids suitable as binders are the poly-N-vinyllactams described in US Pat. No. 2,495,918, which are described in US Pat US-PS 28 33 650 described hydrophilic copolymers of N-acrylamide alkyl betaines and hydrophilic Cellulose ethers and esters.

Wenn der dispersen Phase ein Bindemittel zugesetzt werden soll, so eignen sich als Bindemittel wasserunlösliche Polymere, z. B. Methylmethacrylatharze, Polyvinylacetat wie Polyvinylbutyral und Polyvinylformal, Vinylidenchloridcopolymere (z. B. Vinylidenchlorid-Acetonitril-, Vinylidenchlorid-Methacrylat- und Vinylidenchlorid- Vinylacetat-Copolymere), synthetische Kautschuke (z. B. Butadien-Acrylnitril-Copolymere und ChIor-2-butadien-l,3-polymere); Celluloseester (z. B. Celluloseacetat, Celluloseacetosuccinat und CelluLseacetobutyrat); Polyvinylester (z. B. Polyvinylacetoacry-Iat, Polyvinylacetomethacrylat und Polyvinylacetat-Polyvinylchlorid und Mischpolymere (z. B. Polyvinylchloridacetate), Polyurethane und Polystyrol. Wenn Materialien der oben genannten Art den dispersen Phasen zugemischt werden, können sie als viskositätsmodifizierende Mittel wirksam sein. Beispielsweise kann die Viskosität der Tröpfchen bis zu einem Punkt in der Nähe des »Schwellenwertes« erhöht werden, wodurch ein zusätzlicher Anstieg der Viskosität durch Polymerisation eine sehr merkliche Änderung gewisser physikalischer oder chemischer Eigenschaften hervorrufen kann.If a binder is to be added to the disperse phase, water-insoluble binders are suitable Polymers, e.g. B. methyl methacrylate resins, polyvinyl acetate such as polyvinyl butyral and polyvinyl formal, vinylidene chloride copolymers (e.g. vinylidene chloride-acetonitrile, Vinylidene chloride-methacrylate and vinylidene chloride-vinyl acetate copolymers), synthetic Rubbers (e.g. butadiene-acrylonitrile copolymers and chloro-2-butadiene-1,3 polymers); Cellulose ester (e.g. Cellulose acetate, cellulose acetosuccinate and cellulose acetate butyrate); Polyvinyl ester (e.g. polyvinyl acetoacrylate, Polyvinyl acetomethacrylate and polyvinyl acetate-polyvinyl chloride and mixed polymers (e.g. polyvinyl chloride acetates), polyurethanes and polystyrene. If materials of the type mentioned above are added to the disperse phases, they can be used as viscosity-modifying agents Means to be effective. For example, the viscosity of the droplets can be up to a point in the Close to the "threshold value" can be increased, causing an additional increase in viscosity due to polymerization cause a very noticeable change in certain physical or chemical properties.

Weitere geeignete polymere Bindemittel für die dispergierte Phase werden in der US-PS 34 18 295 beschrieben. Diese ungesättigten Polymeren können vernetzt oder durch wachsende Monomerketten aufgepfropft werden, wobei sie einen gesteigerten physikali-Other suitable polymeric binders for the dispersed phase are disclosed in US Pat. No. 3,418,295 described. These unsaturated polymers can be crosslinked or grafted on by growing monomer chains become, whereby they have an increased physical

sehen Effekt, insbesondere eine stärkere Härtung des dispergierten Tröpfchens bewirken. Ein nicht polymerisierbarer Weichmacher in einer Menge von 1 bis 10 Gew.-% der Gesamtfeststoffe oder in noch größerer Menge, kann in der organischen Phase der fotopolymerisierbaren Dispersion verwendet werden, um die fotografische Empfindlichkeit zu verbessern. Zu den bevorzugten Weichmachern gehört der gemischte Ester voj? {"riäthylenglykoldicaprylat und -dicaprat.see effect, especially a stronger hardening of the effect dispersed droplets. A non-polymerizable plasticizer in an amount from 1 to 10 % By weight of the total solids, or in an even greater amount, can be in the organic phase of the photopolymerizable Dispersion can be used to improve photographic sensitivity. To the preferred plasticizers include the mixed ester voj? {"riethyleneglycol dicaprylate and dicaprate.

Als äthylenisch ungesättigte Verbindungen, die über eine durch freie Radikale initiierte, sich kettenförmig fortpflanzende Additionspolymerisatioa ein Hochpolymeres zu bilden vermögen, verwendet man vorzugsweise Alkylen- oder Polyalkylenglykoldiacrylate, die aus einem Äthylenglykol mit 1 bis 15 C-Atomen oder einem Polyalkylenätherglykol mit 1 bis 10 Ätherbindungen hergestellt worden sind und die äthylenisch ungesättigten Verbindungen, die in der US-PS 29 27 022 beschrieben sind, z. B. Verbindungen mit mehrerenAs ethylenically unsaturated compounds, which are initiated by free radicals, form a chain propagating addition polymerizatioa a high polymer able to form, one preferably uses alkylene or polyalkylene glycol diacrylates, which from an ethylene glycol with 1 to 15 carbon atoms or a polyalkylene ether glycol with 1 to 10 ether bonds have been prepared and the ethylenically unsaturated compounds described in US Pat. No. 2,927,022 are described, e.g. B. Connections with multiple

. uu: ι >-:_: ι . uu: ι> -: _: ι

auuflluiMpuijltlciiaiui υαιυΐιauuflluiMpuijltlciiaiui υαιυΐι

1,3-Propafldioldimethacrylat,
1,2,4-ButanirioltrimethacryIat,
l/f-CycIohexandioldiacrylat,
1,4-BenzoldioldimethacryIat,
Pentaerythrittetramethacrylat,
13-Propandioldiacrylat,
1,5-Pentandioldimethacrylat,
1,3-propaflodiol dimethacrylate,
1,2,4-butaniriol trimethacrylate,
l / f-cyclohexanediol diacrylate,
1,4-benzenediol dimethacrylate,
Pentaerythritol tetramethacrylate,
13-propanediol diacrylate,
1,5-pentanediol dimethacrylate,

die Bisacrylate und -methacrylate von Polyäthylenglykölen vom Molekulargewicht 200 bis 500, Vinylester, wie Divinylsuccinat, Divinyladipat, Divinylphthalat und Divihylterephthalat, Styrol und dessen Derivate und ungesättigte Aldehyde, z. B. Sorbaldehyd (Hexadienal). Eine herausragende Klasse dieser bevorzugten additionspolymerisierbaren Komponenten sind die Ester von a-Methylencarbonsäuren und substituierten Carbonsäuren mit Polyolen und Polyamiden, worin die Molekülketten zwischen den Hydroxylgruppen und Aminogruppen ausschließlich aus Kohlenstoff oderthe bisacrylates and methacrylates of polyethylene glycols from molecular weight 200 to 500, vinyl esters such as divinyl succinate, divinyl adipate, divinyl phthalate and Divi-ethyl terephthalate, styrene and its derivatives and unsaturated aldehydes, e.g. B. Sorbaldehyde (hexadienal). An outstanding class of these preferred addition polymerizable components are the esters of α-methylenecarboxylic acids and substituted carboxylic acids with polyols and polyamides, in which the molecular chains between the hydroxyl groups and Amino groups made up exclusively of carbon or

C ln C l n

insbesondere, wenn diese als endständige Bindungen vorhanden sind, und insbesondere äthylenisch ungesättigte Verbindungen, in denen wenigstens eine, vorzugsweise die meisten dieser Bindungen mit einem doppelt gebundenen Kohlenstoffatom einschließlich eines Kohlenstoffatoms, das doppelt an Kohlenstoff und an Heteroatome, wie Stickstoff, Sauerstoff und Schwefel, gebunden ist, konjugiert sind. Besonders vorteilhaft sind Materialien, in denen die äthylenisch ungesättigten Gruppen, insbesondere die Vinylidengruppen, mit Esterstrukturen konjugiert sind. Die folgenden spezielle.* Verbindungen veranschaulichen weiter diese Klasse: Ungesättigte Ester von Alkoholen, vorzugsweise die ungesättigten Ester von Polyolen, insbesondere Ester der<x-Methylencarbonsäuren,z. B.especially if these are present as terminal bonds, and in particular ethylenically unsaturated Compounds in which at least one, preferably most of these bonds with a double bonded carbon atom including a carbon atom that doubles on carbon and on Heteroatoms, such as nitrogen, oxygen and sulfur, are bonded, are conjugated. Are particularly advantageous Materials in which the ethylenically unsaturated groups, especially the vinylidene groups, with Ester structures are conjugated. The following special. * Compounds further illustrate this class: Unsaturated esters of alcohols, preferably the unsaturated esters of polyols, especially esters the <x-methylenecarboxylic acids, e.g. B.

Äthylenglykoldiacrylat, Diäthylenglykoldiacrylat,
Glycerindiacrylat, Glycerintriacrylat,
Äthylenglykoldimethacrylat,
Ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate,
Glycerine diacrylate, glycerine triacrylate,
Ethylene glycol dimethacrylate,

Bevorzugt als monomere Verbindungen werden difunktionelle Monomere, jedoch können auch monofunktionelle Monomere verwendet werden. Außerdem können die polymerisierbaren, äthylenisch ungesättigten PoIymeren, die in den US-PS 30 43 805 und 29 29 710 beschrieben sind, und ähnliche Materialien allein oder in Mischung mit anderen Materialien verwendet werden.Preferred monomeric compounds are difunctional ones Monomers, however, monofunctional monomers can also be used. Also can the polymerizable, ethylenically unsaturated polymers, described in U.S. Patents 3,043,805 and 29 29,710, and similar materials alone or in Mixture with other materials can be used.

Außer den vorstehend beschriebenen Initiatorsystemen können Cyanin-, Carbocyanin- oder Merocyaninfarbstoffe als Materialien, die aktinische Strahlung zu absorbieren vermögen, verwendet werden. Die verschiedenen Cyaninfarbstoffe und verwandten Farbstoffe sind seit vielen Jahren in der Fotografie bekannt. Hierzu gehören Farbstoffe wie 3-Äthyl-5-(2-äthyI-lbenzoxazyIiden-0-methyläthyliden)-2-thio-2,4-(3,5)-ox- azoldion (hergestellt auf die in Beispiel 16 der US-PS 22 72 163 beschriebene Weise) und Farbstoffe der folgenden Formeln:In addition to the initiator systems described above, cyanine, carbocyanine or merocyanine dyes can be used can be used as materials capable of absorbing actinic radiation. The different Cyanine dyes and related dyes have been known in photography for many years. These include dyes such as 3-ethyl-5- (2-ethyl-lbenzoxazyIiden-0-methylethylidene) -2-thio-2,4- (3,5) -ox- azoldione (prepared in the manner described in Example 16 of US Pat. No. 2,272,163) and dyes of the following formulas:

1Θ 1 Θ

C2H5 C 2 H 5

CH3 CH 3

C2H5 C 2 H 5

Ιθ Ι θ

Geeignete fotoreduzierbare Farbstoffe der vorstehend genannten Art wurden kürzlich in den US-PS 28 50 445 und 28 75 047 beschrieben.Suitable photo-reducible dyes of the foregoing have recently been disclosed in U.S. Patents 28 50 445 and 28 75 047.

Geeignet sind ferner Kombinationen eines oder mehrerer der vorstehend genannten Farbstoffe mit Chinonverbindungen, z. B. Phenanthrenchinon in Kombination mit dem gemäß Beispiel 16 der US-PS 22 72163 hergestellten Farbstoff. Weitere geeignete Verbindungen, die aktinische Strahlung zu absorbieren vermögen, sind die Additionspolymerisationsinitiatoren, die freie Radikale bilden und durch aktinisches Licht aktivierbar und bei oder unter 185° C thermisch inaktiv sind. Hierzu gehören die substituierten oder unsubstituierten mehrkernigen Chinone, d. h. Verbindungen mit zwei intracyclischen Carbonylgruppen, die an intracyclische C-Atome in einem konjugierten carbocyclischen Rihgsystem gebunden sind. Beispiele geeigneter Initiatoren dieser Art sindCombinations of one or more of the aforementioned dyes are also suitable Quinone compounds, e.g. B. phenanthrenequinone in combination with that according to Example 16 of US-PS 22 72163 produced dye. Other suitable compounds that absorb actinic radiation are the addition polymerization initiators that form free radicals and actinic light can be activated and are thermally inactive at or below 185 ° C. These include the substituted or unsubstituted polynuclear quinones, d. H. Compounds with two intracyclic carbonyl groups attached to intracyclic C atoms are bound in a conjugated carbocyclic Rihgsystem. Examples of suitable initiators are of this type

Q JG-,^*>*J*rschinon 1 "Chiorsnthrschinon 2-Chloranthrachinon,2-Methylanthrachinon, 2-Äthylanthrachinon, 2-tert-Butylanthrachinon, Octamethylanthrachinon, 1.4-Naphthochinon, 9,10-Phenanthrenchinon, 1,2-Benzanthrachinon, 2,3-Benzanthrachinon,Q JG -, ^ *> * J * rschinon 1 "Chiorsnthrschinon 2-chloroanthraquinone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,4-naphthoquinone, 9,10-phenanthrenequinone, 1,2-benzanthraquinone, 2,3-benzanthraquinone,

2-Methyl-l,4-naphthochinon, 2,3-Dichlornaphthochinon,2-methyl-1,4-naphthoquinone, 2,3-dichloronaphthoquinone,

1,4-Dimethylanthrachinon,1,4-dimethylanthraquinone,

2,3-Dimethylanthrachinon, 2-Phenylanthrachinon, 2,3-Diphenylanthrachinon,2,3-dimethylanthraquinone, 2-phenylanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone,

das Natriumsalz von Anthrachinone sulfonsäure, 3-Chlor-2-methylanthrachinon, Retenchinon, 7,8,9,10-Tetrahydronaphthacenchinon und 1,2,3,4-Tetrahydrobenz(a)-anthracen-7,l 2-dion.the sodium salt of anthraquinones sulfonic acid, 3-chloro-2-methylanthraquinone, retenquinone, 7,8,9,10-tetrahydronaphthacenquinone and 1,2,3,4-tetrahydrobenz (a) anthracene-7,12-dione.

Weitere Fotoinitiatoren, die ebenfalls geeignet sind, obwohl einige von ihnen bei Temperaturen bis hinab zu 85°C thermisch aktiv sein können, werden in der US-PS 27 60 863 beschrieben. Hierzu gehören vicinale Ketaldonylverbindungen, z. B. Diacetyl, Benzil, «-Ketaldonylalkohole wie Benzoin, Pivaloin, Acyloinäther, z. B. Benzoinmethyl- und äthyläther, «-kohlenwasserstoffsubstituierte aromatische Acyloine, einschließlich Λ-Methylbenzoin, a-Allylbenzoin und «-Phenylbenzoin.More photoinitiators are also suitable, although some of them run at temperatures down to Can be thermally active 85 ° C, are described in US Pat. No. 2,760,863. These include vicinal ketaldonyl compounds, z. B. diacetyl, benzil, "-Ketaldonylalkohole such as benzoin, pivaloin, acyloin ethers, e.g. B. Benzoin methyl and ethyl ether, «-kohlenwasserstoffubstituierte aromatic acyloins including Λ-methylbenzoin, α-allylbenzoin and -phenylbenzoin.

Weitere geeignete Initiatorsysteme, die in den fotopolymerisierbaren Dispersionen und Materialien gemäß der Erfindung verwendet werden können, sind die Lophindimeren (2,4,5-Triphenylimidazolyldimere), die aus zwei Lophinradikalen bestehen, die durch eine einzelne kovalente Bindung miteinander verbunden sind, z. B. das 2(o-Chlorphenyl)-4,5-diphenylimidazolyldimere und andere, die in den GB-PS 9 97 396 und !0 47 569 beschrieben sind. Geeignete Elektronendonatoren, die freie Radikale bilden und in diesen Systemen verwendet werden können, z. B. organische Amine, Merkaptane, Triphenylmethanfarbstoffe, sind in den vorstehend genannten britischen Patentschriften beschrieben. Geeignete aminsubstituierte Leukofarbstoffe, die sowohl als Farbbildner als auch als freie Radikale bildendes Mittel wirksam sind, können in den Aufzeichnungsmaterialien gemäß der Erfindung verwendet werden. Besonders vorteilhafte Leukofarbstoffe enthalten wenigstens eine Dialkylaminogruppe. Ferner können beliebige aminsubstituierte Leukotriphenylmethanfarbstoffe oder verschiedene Salze der Farbstoffe verwendet werden. Leukoformen von Kristallvioletc, die bei der Belichtung unter Bildung von sichtbaren Bildern oxydiert werden, werden bevorzugt Andere geeignete Leuko-Farbstoffe oder deren Salze sind in der US-PS 35 49 367 beschrieben.Other suitable initiator systems in the photopolymerizable dispersions and materials can be used according to the invention, the lophine dimers (2,4,5-triphenylimidazolyldimers), which consist of two lophine radicals linked together by a single covalent bond are e.g. B. the 2 (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer and others described in GB-PS 9 97 396 and 0 47 569. Suitable electron donors, which form free radicals and can be used in these systems, e.g. B. organic amines, Mercaptans, triphenylmethane dyes, are described in the aforementioned British patents. Suitable amine-substituted leuco dyes, both as color formers and as free radicals forming agent can be used in the recording materials according to the invention will. Particularly advantageous leuco dyes contain at least one dialkylamino group. Furthermore can any amine-substituted leukotriphenylmethane dyes or various salts of the dyes be used. Leuco forms of crystal violetc that form visible upon exposure Images are oxidized are preferred. Other suitable leuco dyes or their salts are in the US Pat. No. 3,549,367.

Da die Aufzeichnungsmaterialien gemäß der Erfindung in einem Fotopolymerisationsprozeß verwendet werden, sollen sie natürlich gegen eine thermisch initiierte Polymerisation beständig sein. Als Inhibitoren der thermischen Polymerisation, die in fotopolymerisierbaren Gemischen verwendet werden können, eignen sich p-MethoxyphenoI, Hydrochinon und alkyl- und aryl-substituierte Hydrochinone und Chinone, tert.-Butylcatechin, Pyrogallol, Kupferresinat, Naphthylamine, ^-Naphthol, Kupferchlorid, 2,6-Di-tert.-butylp-kresol, Phenothiazin, Pyridin. Nitrobenzol und Dinitrobenzol sowie p-ToIuchinon und Chloranil und Thiazinfarbstoffe, C. I. Basic Blue 25, C. I. Basic Blue 9 und C. I. Basic Blue 17. Bei den besonders bevorzugten Ausführungsformen, die gewisse Farbstoffe als Fotoinitiatoren oder Fotoinitiatoren vom Chinontyp enthalten, ist jedoch kein thermischer Inhibitor erforderlich, daSince the recording materials according to the invention are used in a photopolymerization process they should of course be resistant to thermally initiated polymerization. As inhibitors thermal polymerization, which can be used in photopolymerizable mixtures, p-methoxyphenol, hydroquinone and alkyl and aryl-substituted hydroquinones and quinones, tert-butylcatechol, pyrogallol, copper resinate, naphthylamines, ^ -Naphthol, copper chloride, 2,6-di-tert.-butylp-cresol, Phenothiazine, pyridine. Nitrobenzene and Dinitrobenzol as well as p-ToIuchinon and Chloranil and Thiazine dyes, C.I. Basic Blue 25, C.I. Basic Blue 9, and C.I. Basic Blue 17. Among the most preferred Embodiments containing certain dyes as photoinitiators or photoinitiators of the quinone type, however, no thermal inhibitor is required because

*t A\nr-n Initintnpan Airtn /Jrtnrwaltn Ci art L· (Un K ο War» ttnA irr»* t A \ nr-n Initintnpan Airtn / Jrtnrwaltn Ci art L · (U n K ο War » ttnA irr»

Dunkeln als thermische Inhibitoren wirksam sind.Dark as thermal inhibitors are effective.

Da freie Radikale bildende, durch aktinische Strahlung aktivierbare Initiatoren der Additionspolymerisation im allgemeinen ihre maximale Empfindlichkeit im Ultraviolettbereich haben, sollte die Strahlungsquelle gewöhnlich eine wirksame Menge dieser Strahlung emittieren. Geeignet als Strahlungsquellen sind Kohlebogenlampen, Quecksilberdampflampen, Fluoreszenzlampen mit UV-Strahlung emittierenden Leuchtstoffen.There are free radical initiators of addition polymerization that can be activated by actinic radiation The radiation source should generally have its maximum sensitivity in the ultraviolet range usually emit an effective amount of this radiation. Carbon arc lamps are suitable as radiation sources, Mercury vapor lamps, fluorescent lamps with fluorescent materials that emit UV radiation.

Argonglühlampen, Elektronenblitzlampen und Fotoflutlampen. Argon incandescent lamps, electronic flash lamps and photo flood lamps.

Die Erzeugung des Bildes durch Belichtung eines heterogenen Systems gemäß der Erfindung beruht auf der unterschiedlichen Polymerisation der einzelnen Tröpfchen in der dispergierten Phase. Diese Unterschiede können das Bild ohne weitere Behandlung sichtbar machen, d. h. es entsteht häufig ein sichtbares Reliefbild. Vorzugsweise wird ein oberflächenaktives Mittel bei der Dispergierung der Tröpfchen verwendet, jedoch ist dies nicht wesentlich. Geeignet als oberflächenaktive Mittel sind Alkylnaphthalinsulfonsäure, organische Ester der Phosphorsäure, Benzylalkohol, OctyMkohol, Laurvlalkohol. Natriumlaurvlsulfat. sulfonierte Derivate von Fettsäureamiden, die Kondensationsprodukte von Octylphenol und Sorbitanmonolaurat mit Polyäthylenoxyd. The generation of the image by exposure of a heterogeneous system according to the invention is based on the different polymerization of the individual droplets in the dispersed phase. Those differences can make the image visible without further treatment, d. H. a visible relief image is often created. Preferably, a surfactant is used in dispersing the droplets, however this is not essential. Suitable surfactants are alkylnaphthalenesulfonic acid, organic Phosphoric acid esters, benzyl alcohol, octyl alcohol, lauryl alcohol. Sodium Laurel Sulphate. sulfonated derivatives of fatty acid amides, the condensation products of octylphenol and sorbitan monolaurate with polyethylene oxide.

Als niedrigsiedende Lösungsmittel, die mit Wasser nicht mischbar sind, eignen sich ferner Ester (z. B. Äthylformiat, Propylacetat, n-Butylacetat und Äthylbutyrat), Kohlenwasserstoffe (z. B. Benzil), chlorierte Kohlenwasserstoffe (z. B. Chloroform und Methylenchlorid) und Äther (z. B. Diäthyläther).Other suitable low-boiling solvents that are immiscible with water are esters (e.g. Ethyl formate, propyl acetate, n-butyl acetate and ethyl butyrate), hydrocarbons (e.g. benzil), chlorinated Hydrocarbons (e.g. chloroform and methylene chloride) and ethers (e.g. diethyl ether).

Die Erfindung wird in den nachstehenden Beispielen veranschaulichtThe invention is illustrated in the following examples

Beispiel 1example 1

Wie nachstehend angegeben, wurde eine Gelatinelösung hergestellt Dabei wurden 18 g Gelatine in 725 ml kaltes Wasser gegeben und quellen gelassen. Die Lösung wurde auf 35° erhitzt, 0,5 g Nonylphenoxypolyäthoxyphosphat als oberflächenaktives Mittel zugefügt und die Lösung 3 Min. in einem Mischer vermischt, der mit einem hochtourigen Rührwerk ausgestattet war. Die Gelatinelösung wurde dann auf eine 0,18 mm dicke, keine Haftschicht aufweisende Bahn aus Polyalkylenterephthalat aufgebracht, die auf der Rückseite eine Lichthofschutzschicht aufwies, wobei bei einer Temperatur von 35° C mit einer Geschwindigkeit vonA gelatin solution was prepared as shown below. 18 g of gelatin in 725 ml given cold water and left to swell. The solution was heated to 35 °, 0.5 g of nonylphenoxypolyethoxyphosphate added as a surfactant and the solution mixed for 3 min. In a mixer that was equipped with a high-speed agitator. The gelatin solution was then cut to a 0.18 mm thick, No adhesive layer having a web of polyalkylene terephthalate applied, which on the back a Antihalation layer, at a temperature of 35 ° C at a rate of

7,62 m/Min, beschichtet wurde. Anschließend wurde mit warmer Luft unter Ausbildung einer etwa 0,0025 mm dicken Gelatineschicht getrocknet.7.62 m / min. Then with warm air to form a gelatin layer about 0.0025 mm thick.

Nunmehr wurde wie folgt eine fotopolymerisierbar Dispersion hergestellt:A photopolymerizable dispersion was now prepared as follows:

Lösung ASolution a

Gelatine 18 gGelatin 18 g

Wasser 250 mlWater 250 ml

Lösung BSolution b

Wasser 75 mlWater 75 ml

Nonylphenoxypolyäthoxyphosphat 0,5 gNonylphenoxypolyethoxyphosphate 0.5 g

10%ige Lösung von Saponin in10% solution of saponin in

Alkohol/Wasser 3 mlAlcohol / water 3 ml

Gelber FarbstoffYellow dye

(C. I. Pigment Yellow 74)(C.I. Pigment Yellow 74)

(22%ige wäßrige Dispersion mit 6%(22% aqueous dispersion with 6%

Nonylphenoxypolyäthoxyäthanol) 1 gNonylphenoxypolyethoxyethanol) 1 g

Lösung ΓSolution Γ

Mi hylenchlorid 25 mlMi hylene chloride 25 ml

2-(o-Chlorphenyl)-4,5-diphenylimidazolyldimeres 3 g2- (o-Chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer 3 g

Tris-(4-diäthyIamino-o-tolyi)-methan 1,5 gTris- (4-diethyIamino-o-tolyi) methane 1.5 g

Leukokristallviolett 0,3 gLeuco crystal violet 0.3 g

Trimethylolpropantriacrylat 12 gTrimethylolpropane triacrylate 12 g

Mischung der Ester von Ocia- und
Decacarbonsäure mit Triäthylenglykol 2 g
Mixture of the esters of ocia and
Decacarboxylic acid with triethylene glycol 2 g

Polyvinylpyrrolidon
(durchschnittliches Molekulargewicht: 40 000;
25%ige Lösung in Methylenchlorid 0,75 g
Polyvinyl pyrrolidone
(Average molecular weight: 40,000;
25% solution in methylene chloride 0.75 g

Lösung in Methylenchlorid der Gelatinelösung zugefügt wurden, während diese in der mit hoher Drehzahl laufenden Mischvorrichtung durchgerührt wurde. Analog Beispiel 1 wurde unter Verwendung dieser Lösung anstelle der dort für die untere Schicht verwandten Lösung ein Material hergestellt; dieses wurde entsprechend Beispiel 1 belichtet und wie dort beschrieben eine Kupferplatte unter Verwendung des Materials dieses Beispiels geätzt. In die Oberfläche der Kupferplatte war ein Tiefdruckmuster des Tiefdruckrasters eingeätzt worden.Solution in methylene chloride were added to the gelatin solution while it was running at high speed running mixer was carried out. Using this solution, the procedure was analogous to Example 1 instead of the solution used there for the lower layer, a material was produced; this became accordingly Example 1 exposed and, as described there, a copper plate using the material of this Etched for example. A gravure pattern of the gravure screen was etched into the surface of the copper plate been.

Beispiel 3Example 3

Beispiel 2 wurde wiederholt mit der Ausnahme, daßExample 2 was repeated with the exception that

!5 eine Schutzschicht der gleichen Zusammensetzung, wie sie die untere Schicht hatte, über die lichtempfindliche Schicht aufgebracht wurde, indem unter Abstreichen bei einer Temperatur von 35° C und einer Geschwindigkeit von 7,62 m/Min, beschichtet und mit warmer Luft getrocknet wurde. Das Material wurde entsprechend Beispiel 2 belichtet und weiterbehandelt. In die Oberfläche der Kupferplatte war ein Tiefdruckmuster des Tiefdruckrasters eingeätzt worden.! 5 a protective layer of the same composition as she had the lower layer, over which the photosensitive layer was applied by skimming off at a temperature of 35 ° C and a speed of 7.62 m / min, coated and with warm air was dried. The material was exposed and further treated as in Example 2. In the A gravure pattern of the gravure screen was etched into the surface of the copper plate.

Lösung A wurde auf 35° C erwärmt und in einen Intensivmischer gegeben, die Lösungen B und C wurden nacheinander zugefügt und die Mischung 2 Min. durchgemischt, wonach wieder auf 35° erwärmt wurde. Die vorliegende Mischung wurde unter Abstreichen bei einer Temperatur von 35° C und einer Beschichtungsgeschwindigkeit von 7,62 m/Min, über die Gelatineschicht _„_„[.:„!,.;.. sb~c!iühlt und mit -/srmcr Luft unisr Ausbildung einer 0,01 mm dicken Schicht getrocknet.Solution A was heated to 35 ° C and placed in an intensive mixer, Solutions B and C became added in succession and the mixture mixed for 2 minutes, after which it was heated again to 35 °. The present mixture was wiped at a temperature of 35 ° C and a coating speed of 7.62 m / min, over the gelatin layer _ "_" [.: "!,.; .. sb ~ c! iühlt and with - / srmcr air unisr Formation of a 0.01 mm thick layer dried.

Eine Probe des Materials wurde mit einer ultraviolettes Licht liefernden Lichtquelle (Quecksilberdampflampe) im Abstand von 66 cm 2 Min. durch einen Tiefdruckraster belichtet Die belichtete Probe wurde dann auf eine mit Wasser befeuchtete Kupferplatte übertragen, indem man das Laminat durch den Spalt kalter Gummiwalzen führte, wobei ein Druck von 535,7 kg/m und eine Geschwindigkeit von 1,83 m/Min, eingehalten wurde. Der Schichtträger wurde dann unter Zurücklassung des Resists auf der Kupferoberfläche abgezogen. Das Kupfer mit aufgebrachtem Resist wurde mit einer wäßrigen Eisen(III)-chloridlösung von 42° Be 20 Min. geätzt und das Resist von der Kupferplatte durch Waschung mit heißem Wasser entfernt In die Oberfläche der Kupferplatte war ein Tiefdruckmuster des Tiefdruckrasters eingeätzt worden.A sample of the material was exposed to an ultraviolet light source (mercury vapor lamp) exposed through a gravure screen at a distance of 66 cm for 2 minutes. The exposed sample was then transferred to a water-moistened copper plate by pushing the laminate through the gap cold rubber rollers, with a pressure of 535.7 kg / m and a speed of 1.83 m / min, was adhered to. The support was then made leaving the resist on the copper surface deducted. The copper with applied resist was mixed with an aqueous ferric chloride solution of 42 ° Be etched for 20 min. And the resist from the copper plate by washing with hot water removed A gravure pattern of the gravure screen had been etched into the surface of the copper plate.

Beispiel 2Example 2

Wie in Beispiel 1 beschrieben wurde eine Beschichtungslösung hergestellt mit der Ausnahme, daß 3 g einer 25 Gew.-% Polyvinylpyrrolidon mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von 40 000 enthaltendenA coating solution was prepared as described in Example 1, except that 3 g of one Containing 25% by weight polyvinylpyrrolidone having an average molecular weight of 40,000

Beispiel 4Example 4

Lösung ASolution a

Farbstoff (C. I. Solvent Yellow 47) 2 gDye (C.I. Solvent Yellow 47) 2 g

Farbstoff (C. 1.21 230) 2 gDye (C. 1.21 230) 2 g

Äthanol 60 mlEthanol 60 ml

Lösung BSolution b

Gelatine 18 gGelatin 18 g

Wasser 300 mlWater 300 ml

Lösung CSolution C

Wasser 100 mlWater 100 ml

Nonylphenoxypolyäthoxyphosphat 0,2 gNonylphenoxypolyethoxyphosphate 0.2 g

Lösung DSolution D

Mischung aus TriEthylenglykolestern der Octa- undMixture of triethylene glycol esters of octa and

Decacarbonsäure 3 gDecacarboxylic acid 3 g

Polyvinylpyrrnlidnn
(durchschnittliches Molekulargewicht: 40 000;
Polyvinylpyrrnlidnn
(Average molecular weight: 40,000;

25%ige Lösung in Methylenchlorid 3 g25% solution in methylene chloride 3 g

Methylenchlorid 25 mlMethylene chloride 25 ml

Die Lösungen A, B, C und D wurden 30 Min. in einer mit hoher Geschwindigkeit laufenden Zerkleinerung? mühle vermischt Die erhaltene Emulsion wurde unter Abstreichen auf eine 0,18 mm dicke, keine Haftschicht aufweisende Bahn aus Polyäthylenterephthalat mit einer Geschwindigkeit von 3,05 m/Min, aufgeschichtet, gekühlt und in warmer Luft getrocknet unter Ausbildung einer Schichtdicke von etwa 0,004 mm.Solutions A, B, C and D were crushed for 30 minutes in a high-speed grinder? mill mixed. The emulsion obtained was smeared onto a 0.18 mm thick, non-adhesive layer having a sheet of polyethylene terephthalate at a speed of 3.05 m / min, coated, cooled and dried in warm air to form a layer thickness of about 0.004 mm.

Es wurde eine heterogene fotopolymerisierbare Emulsion ähnlich der des Beispiels 1 mit nachstehender Zusammensetzung hergestellt:A heterogeneous photopolymerizable emulsion similar to that of Example 1 with the following was obtained Composition made:

Wäßrige PhaseAqueous phase

Gelatine 18 gGelatin 18 g

Natriumsalz von technischem Octylalkoholsulfat 3 mlSodium salt of technical grade octyl alcohol sulfate 3 ml

10%ige Lösung von Saponin
in Alkohol/Wasser 3 ml
10% solution of saponin
in alcohol / water 3 ml

Nonylphenoxypolyäthoxyphosphat 0,5 gNonylphenoxypolyethoxyphosphate 0.5 g

Wasser 325 mlWater 325 ml

Organische Phase
Methylenchlorid
Trimethylolpropantriacrylat
Mischung der Triäthylenglykolester der Octa- un J der
Decacarbonsäure
2-(o-ChIor-4,5-diphenylimidazolyldimeres
Tris-(4-diäthylamino-o-toIyl)-methan
Organic phase
Methylene chloride
Trimethylol propane triacrylate
Mixture of the triethylene glycol esters of the octa and J the
Decacarboxylic acid
2- (o-chloro-4,5-diphenylimidazolyl dimer
Tris (4-diethylamino-o-toyl) methane

Leukokristall violett
Farbstoff C. I. Solvent Yellow 47
Farbstoff CL 1.21 230
Polyvinylpyrrolidon
(durchschnittliches Molekulargewicht: 40 000;
25%ige Lösung in Methylenchlorid)
Leuco crystal violet
CI Solvent Yellow 47 dye
Dye CL 1.21 230
Polyvinyl pyrrolidone
(Average molecular weight: 40,000;
25% solution in methylene chloride)

22 u4 24422 u4 244

25 ml
12 g
25 ml
12 g

2g
3g
2g
3g

50 mg
50 mg
50 mg
50 mg

3g3g

Die lichtempfindliche Schicht wurde, wie im Beispiel 1 beschrieben, hergestellt und aufgebraucht Eine Probe des so hergestellten Materials wurde durch einen üblichen Tiefdruckraster mit Hilfe der im Beispiel 1 angegebenen Lichtquelle 1 Min. belichtet und anschließend ein j/2-Stufenkeil bei einer Belichtungsdauer von Sek. mit der gleichen Lichtquelle aufkopiert Das belichtete Resist wurde entsprechend Beispiel 1 auf eine Kupferplatte übertragen, der Schichtträger abgezogen und d;e Platte 30 Min. bei 22°C in einer Eisenchloridlösung von .43° Βέ geätzt Das Resist wurde durch Waschen mit heißem Wasser entfernt Auf die Oberfläche der Kupferplatte war ein Tiefdruckbild des Stufenkeils mit einer Wiedergabe von Stufen mit einer optischen Dichte von OJ bis 1,6 entstanden.The photosensitive layer was produced and used up as described in Example 1. A sample of the material produced in this way was exposed for 1 minute through a conventional gravure screen with the aid of the light source specified in Example 1 and then a 1/2 step wedge with an exposure time of seconds Copied on with the same light source The exposed resist was transferred to a copper plate in accordance with Example 1, the layer carrier peeled off and d ; The plate was etched for 30 min. at 22 ° C in a ferric chloride solution of .43 ° Βέ The resist was removed by washing with hot water , 6 emerged.

Eine andere Probe wurde in gleicher Weise behandelt mit der Ausnahme, daß nach der Übertragung des Resists auf das Kupfer und bevor das dann vorliegende Material der Ätzung unterworfen wurde, dieses 9 Std. im Abstand von 0,61 m mit einer Pult-Weißlicht-Leuchtstofflampe belichtet wurde. Nach dem Ätzen konnte kein Unterschied zwischen dieser Probe und jener Probe festgestellt werden, die keine Nachbelichtung mit weißem Licht erhalten hatte.Another sample was treated in the same way except that after the transfer of the Resists on the copper and before the then present material was subjected to the etching, this 9 hours. at a distance of 0.61 m with a desk white light fluorescent lamp was exposed. After the etching, there could be no difference between this sample and that one Sample that had not received any post-exposure to white light.

Beispiel 5
Es wurden drei Lösungen hergestellt:
Example 5
Three solutions were made:

Lösung A
Gelatine
Wasser
Solution a
gelatin
water

Lösung B
Wasser
Solution b
water

Nonyiphenoxypolyäthoxyphosphat
gelber Farbstoff
(C. I. Pigment Yellow 74)
(22%ige wäßrige Dispersion mit
6%Nonylphenoxypolyäthoxyäthanol)
Nonyiphenoxy polyethoxy phosphate
yellow dye
(CI Pigment Yellow 74)
(22% aqueous dispersion with
6% nonylphenoxypolyethoxyethanol)

Lösung CSolution C

Gemisch von Triäthylenglykolestern der Octan' und Decansäurc
2-(o'Chlor)-4,5'diphenyl·
imidazolyldimeres
LeukökfiställviöIeU
Mixture of triethylene glycol esters of octane 'and decanoic acid
2- (o'Chlor) -4,5'diphenyl
imidazolyl dimers
LeukökfiställviöIeU

18 g
375 ml
18 g
375 ml

75 ml
0.5 g
75 ml
0.5 g

3 g3 g

PolyvinylpyrrolidonPolyvinyl pyrrolidone 4g4g PP. (durchschnittliches Molekular(average molecular 25 ml25 ml ΪΪ gewicht: 40 000;weight: 40 000; 11 25 Gew.-°/o enthaltende Lösung inSolution containing 25% by weight in Methylenchlorid)Methylene chloride) II. MethylenchloridMethylene chloride

Die Lösungen A, B und C wurden in einem Mischer mit hoher Drehzahl 2 Min. durchmischt und die Dispersion unter Abstreichen bei einer Temperatur von 35° auf eine 0,18 mm dicke, keine Haftschicht aufweisende Polyäthylenterephthalatbahn bei einer Beschichtungsgeschwindigkeit von 4,57 m/Min, aufgeschichtet, gekühlt und an der Luft getrocknetSolutions A, B and C were mixed in a mixer at high speed for 2 minutes and the Dispersion with wiping at a temperature of 35 ° onto a 0.18 mm thick, no adhesive layer comprising polyethylene terephthalate web at a coating speed of 4.57 m / min, coated, chilled and air dried

Wie folgt wurde eine fotopolymerisierbare Resisischicht hergestellt:A photopolymerizable resist layer was made as follows manufactured:

Lösung DSolution D

Gelatine 18 gGelatin 18 g

Wasser 250 mlWater 250 ml

Lösung ESolution E

Wasser 75 mlWater 75 ml

Nonyiphenoxypolyäthoxyphosphat 0,5 gNonyiphenoxy polyethoxy phosphate 0.5 g

Gelber FarbstoffYellow dye

(C I. Pigment Yellow 74)(C I. Pigment Yellow 74)

(22%ige wäßrige Dispersion mit 6%NonyIphenoxvpoIyäthoxyäthanol) 1.0 g(22% aqueous dispersion with 6% NonyIphenoxvpoIyäthoxyäthanol) 1.0 g

Lösung FSolution F.

2-(o-Chlorphenyl)-4,5-bis-(m-methoxyphenylj-imidazolyldimeres
2-(o-ChIorphenyl)-4,5-diphenylimidazolyldimeres 1,5 g
2- (o-Chlorophenyl) -4,5-bis- (m-methoxyphenylj-imidazolyldimers
2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer 1.5 g

Tris-(4-Diäthylamino-o-tolyl)-methan 1,5 gTris (4-diethylamino-o-tolyl) methane 1.5 g

Hydrochinon 5 mgHydroquinone 5 mg

Trimethylolpropantriacrylat 12 gTrimethylolpropane triacrylate 12 g

Mischung von Triäthylenglykolestern der Octan- und Decansäure 3 gMixture of triethylene glycol esters of octanoic and decanoic acids 3 g

Polyvinylpyrrolidon
(durchschnittliches Molekulargewicht: 40 000;
Polyvinyl pyrrolidone
(Average molecular weight: 40,000;

25%ige Lösung in Methylenchlorid) 3 g25% solution in methylene chloride) 3 g

Methylenchlorid 25 mlMethylene chloride 25 ml

Die drei Lösungen wurden in einem hochtourigen Mischer 2 Min. vermischt und bei einer Temperatur von 35°C sowie einer Beschichtungsgeschwindigkeit von 4,57 m/Min, über die Lichtadhäsions-Kontrollschicht aufgebracht, gekühlt und mit Warmluft getrocknet.The three solutions were mixed in a high-speed mixer for 2 min. And at a temperature of 35 ° C and a coating speed of 4.57 m / min, over the light adhesion control layer applied, cooled and dried with warm air.

Auf eine Probe des Materials wurde ein Tiefdruckraster mit der Lichtquelle des Beispiels 1 im Abstand von 1,5 m und einer Belichtungszeit von 2 Min. und dann ein j/2-Stufenkeil bei einer Belichtungszeit von 1 Min. aufkopiert. Die Probe wurde entsprechend Beispiel 4 benutzt, um eine Kupferplatte zu ätzen/ mit der Ausnahme, daß 26 Min. geätzt wurde. Erhalten wurde ein 9 Stufen von einer optischen Dichte von 03 bis 1.65 zeigendes Tiefdruckbild auf der Oberfläche der Kupferplatte. A gravure screen with the light source of Example 1 at a distance of 1.5 m and an exposure time of 2 minutes and then a 1/2 step wedge with an exposure time of 1 minute was copied onto a sample of the material. The sample was used to etch a copper plate as in Example 4 / with the exception that it was etched for 26 minutes. A gravure image showing 9 steps from an optical density of 03 to 1.65 was obtained on the surface of the copper plate.

Es wurden dreiThere were three Beispiel 6Example 6 18g18g II. Lösung ASolution a Lösungen hergestellt:Solutions made: 3Ö0ml3Ö0ml ffff * E* E "Gelatine"Gelatin 130 208/98130 208/98 11 1.2 g1.2 g Wasserwater SS. igig M
■|
M.
■ |

Lösung B
Wasser
Nonylphenoxypolyäthoxyphosphat
Solution b
water
Nonylphenoxy polyethoxy phosphate

Lösung CSolution C

2-(o-ChIorphenyl)-4,5-bis-(m-methoxy-phenyl)-imidazolyldimeres Leukokristallviolett
Farbstoff CI. Disperse Yellow 5 Mischung von Triäthylenglykolestern der Octa- und Deeacarbonsäure Polyvinylpyrrolidon
(durchschnittliches Molekulargewicht: 40 000;
2- (o-Chlorophenyl) -4,5-bis- (m-methoxyphenyl) -imidazolyl dimeric leuco crystal violet
Dye CI. Disperse Yellow 5 Mixture of triethylene glycol esters of octa- and deeacarboxylic acid polyvinylpyrrolidone
(Average molecular weight: 40,000;

25 Gew.-% enthaltende Lösung in Methylenchlorid)
Methylenchlorid
25% by weight solution in methylene chloride)
Methylene chloride

Analog Beispiel 5 wurden die drei Lösungen miteinander vermischt und, wie dort angegeben, mit einer Beschichtungsgeschwindigkeit von 7,62 m/Min, aufgeschichtet. Die die lichtempfindliche Schicht Oberziehende Lösung des Beispiels 5 wurde wie dort angegeben über die hydrophile Kolloidschicht geschichtet Auf eine Probe des so hergestellten Materials wurde ein üblicher Tiefdruckraster aufkopiert, wobei mit der im Beispiel 1 angegebenen Lichtquelle 3 Min. im Abstand von 1,5 m belichtet wurde. Dann wurde mit einer Belichtungszeit von 1 Min. ein /Z-Stufenkeii aufkopiert. Analog Beispiel 4 wurde die Probe dazu benutzt, eine Kupferplatte zu ätzen mit der Ausnahme, daß 42 Min. mit einer Eisen(lH)-chIoridlösung von 43$' Be geätzt wurde. Auf der Kupferplatte waren 10 Stufen des \ 2-Stufenkeils als Tiefdruckbild reproduziertAs in Example 5, the three solutions were mixed with one another and, as indicated there, coated at a coating speed of 7.62 m / min. The solution of Example 5 covering the photosensitive layer was coated over the hydrophilic colloid layer as indicated there. A customary gravure screen was copied onto a sample of the material produced in this way, exposure to the light source indicated in Example 1 for 3 minutes at a distance of 1.5 m became. Then, with an exposure time of 1 minute, a / Z-step key was copied on. Analogously to Example 4, the sample was used to etch a copper plate with the exception that it was etched for 42 minutes with an iron (1H) chloride solution of 43 % Be. On the copper plate 10 levels of \ 2-step wedge were reproduced as gravure picture

Beispiel 7Example 7

Lösung DSolution D

ml Gelatine 10 gml gelatin 10 g

0,5 g Wasser 250 ml0.5 g of water 250 ml

Lösung ESolution E

Wasser 75 mlWater 75 ml

Nonylphenoxypolyäthoxyphosphat 0,5 gNonylphenoxypolyethoxyphosphate 0.5 g

Gelber FarbstoffYellow dye

(C I. Pigment Yellow 74)
ίο (22%ige wäßrige Dispersion mit
(C I. Pigment Yellow 74)
ίο (22% aqueous dispersion with

6% Nonylphenoxypolyäthoxyäthanol 1,0 g6% nonylphenoxypolyethoxyethanol 1.0 g

Lösung FSolution F.

2-(o-Chlorphenyl)-4,5-bis-(m-methoxyphenylj-imidazolyldimeres 1,5 g2- (o-Chlorophenyl) -4,5-bis (m-methoxyphenylj-imidazolyl dimers 1.5 g

2-(o-Chlorphenyl)-4,5-diphenyIimid-2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimide-

azolyldimeres 1,5 gazolyl dimers 1.5 g

Tris-(4-diäthylamino-o-tolyl)-Tris- (4-diethylamino-o-tolyl) -

methan 1,5 gmethane 1.5 g

Hydrochinon 5 mgHydroquinone 5 mg

Trimethylolpropantriacrylat 15 gTrimethylolpropane triacrylate 15 g

Methylenchlorid 25 mlMethylene chloride 25 ml

PolyvinylpyrrolidonPolyvinyl pyrrolidone

(durchschnittliches Molekulargewicht: 40 000;(Average molecular weight: 40,000;

25%ige Lösung in Methylenchlorid) 3 g25% solution in methylene chloride) 3 g

1,0 g 3 g1.0 g 3 g

5 g5 g

4 g 25 ml4 g 25 ml

Es wurden drei Lösungen hergestellt:Three solutions were made:

Lösung ASolution a

Gelatine 18 gGelatin 18 g

Polyacrylamid (Molekulargewicht: 5 000 000-6 000 000) 0,5 gPolyacrylamide (molecular weight: 5,000,000-6,000,000) 0.5 g

Wasser 375 mlWater 375 ml

Lösung BSolution b

Wasser 75 mlWater 75 ml

Nonylphenoxypolyäthoxyphosphat 0,5 gNonylphenoxypolyethoxyphosphate 0.5 g

Gelber FarbstoffYellow dye

(C. I. Pigment Yellow 74)(C.I. Pigment Yellow 74)

(22%ige wäßrige Dispersion mit 6% Nonylphenoxypolyäthoxyäthanol) 1,0 g(22% aqueous dispersion with 6% nonylphenoxypolyethoxyethanol) 1.0 g

Lösung CSolution C

Mischung der Triäthylenglykolester von Octa- und Deeacarbonsäure 5 g 2(oChlorphenyl)-4,5-diphenyl·Mixture of the triethylene glycol esters of octa- and deeacarboxylic acid 5 g 2 (o-chlorophenyl) -4,5-diphenyl

imidazolyldimeres 1,0 gimidazolyl dimer 1.0 g

Leukokristallviolett 0,5 gLeuco crystal violet 0.5 g

Methylenchlorid 25 mlMethylene chloride 25 ml

Die Lösungen wurden 2 Min< in einem hochlourig arbeitenden Mischer miteinander vermischt und bei 35° und einer Beschichtungsgeschwindigkeit von 4,57 m/ Min. auf eine keine Haftschicht aufweisende Polyätliy· ienterephthaiatbahn unter Abstreichen aufgeschichtet, gekühlt und rriit warrtief Luft getrocknetThe solutions were mixed with one another for 2 minutes in a high-purity mixer and, at 35 ° and a coating speed of 4.57 m / min., Coated onto a polyethylene terephthalate web with no adhesive layer, with wiping, cooled and dried in warm air

Dann wurden folgende Lösungen hergestellt:Then the following solutions were made:

Die Lösungen D, E und F wurden 2 Min. in einem hochtourigen Mischer miteinander vermischt, beiSolutions D, E and F were mixed with one another in a high-speed mixer for 2 min

jo und einer Beschichtungsgeschwindigkeit von 7,62 m/Min unter Abstreichen über die vorher aufgebrachte Gelatineschicht geschichtet, abgekühlt und in warmer Luft getrocknet
Auf eine Probe des Materials wurde ein üblicher Tiefdruckraster aufkopiert unter Verwendung der Lichtquelle des Beispiels 1. Belichtet wurde im Abstand von 1,5 m bei einer Belichtungsdauer von 3 Min, wonach bei einer Belichtungsdauer von 1,5 Min. ein j/2-StufenkeiI aufkopiert wurde. Das Material wurde
jo and a coating speed of 7.62 m / min with wiping over the previously applied gelatin layer, cooled and dried in warm air
A conventional intaglio screen was copied onto a sample of the material using the light source of Example 1. Exposure was carried out at a distance of 1.5 m for an exposure time of 3 minutes, after which a ½ step number was given for an exposure time of 1.5 minutes was copied. The material was

-to dazu benutzt, eine Kupferplat'.e entsprechend Beispiel 4 zu ätzen mit der Ausnahme, daß das Wegätzen 44 Min. unter Verwendung einer Eisen(III)-chIoridlösung von 43,5° Be erfolgte und 16 Min. mit einer entsprechenden Lösung von 38° Be. Auf der Oberfläche der Kupferplatte-to used to make a Kupferplat'.e according to Example 4 to etch with the exception that the etching away 44 min. Using a ferric chloride solution of 43.5 ° Be took place and 16 min. With a corresponding Solution of 38 ° Be. On the surface of the copper plate

4ϊ war ein Tiefdruckbild des Stufenkeils entstanden.4ϊ a gravure image of the step wedge was created.

Beispiel 8 Drei Lösungen wurden wie folgt hergestellt:Example 8 Three solutions were prepared as follows:

Lösung ASolution a

Gelatine 18 gGelatin 18 g

Wasser 30OmIWater 30OmI

Lösung BSolution b

Wasser 100 mlWater 100 ml

Nonylphenoxypolyäthoxyphosphat 0,5 gNonylphenoxypolyethoxyphosphate 0.5 g

Natriumsalz von technischemSodium salt of technical

Octylalkoholsulfat 3,0 mlOctyl alcohol sulfate 3.0 ml

6ö )0%ige Lösung von Saportiii in6ö) 0% solution of Saportiii in

Alkohol/Wasser 3,0 mlAlcohol / water 3.0 ml

Lösung CSolution C

2-(O'Chlorphenyl)"4i5-bis-(mimethöxyphenylj-imüdazolyldimeres 1,5g2- (O'Chlorophenyl) "4 i 5-bis (m i methoxyphenylj-imüdazolyldimeres 1.5g

Leukokristall violett 1,0 gLeuco crystal violet 1.0 g

Mischung von Triäthylenglykol' estern dor Octa* und Decacarböflsäüf e 5,0 gMixture of triethylene glycol esters dor Octa * and Decacarböflsäüf e 5.0 g

MethylenchloridMethylene chloride

Farbstoff (C, L Disperse Yellow 5) Polyvinylpyrrolidon
(durchschnittliches Molekulargewicht: 40 000;
25%ige Lösung in Methylenchlorid)
Dye (C, L Disperse Yellow 5) polyvinylpyrrolidone
(Average molecular weight: 40,000;
25% solution in methylene chloride)

25 ml 3,0 g25 ml 3.0 g

3,0 g3.0 g

Die Lösungen A1 B und C wurden in einem schnell umlaufenden Mischer miteinander vermischt (2 Min,), unter Abstreichen bei 35° C und einer Beschichtungsgeschwindigkeit von 4,57 m/Min, auf eine keine Unterschicht tragende Polyäthylenterephthalatbahn aufgeschichtet, gekühlt und mit warmer Luft getrocknet Drei weitere Lösungen wurden hergestelltThe solutions A 1 B and C were mixed with one another in a high-speed mixer (2 min,), with skimming at 35 ° C and a coating speed of 4.57 m / min, coated on a polyethylene terephthalate sheet without an underlayer, cooled and with warm Air dried Three more solutions were made

Lösung ASolution a

Gelatine 18 gGelatin 18 g

Wasser 300 mlWater 300 ml

Lösung BSolution b

Wasser 100 mlWater 100 ml

Nonylphenoxypolyäthoxyphosphat 04 gNonylphenoxypolyethoxyphosphate 04 g

Gelber FarbstoffYellow dye

(C I. Pigment Yellow 74)(C I. Pigment Yellow 74)

(22%ige wäßrige Dispersion mit(22% aqueous dispersion with

6% Nonylphenoxypolyäthoxyäthfcnol) 1,0 g Natriumsalz von technischem6% nonylphenoxypolyethoxyethanol) 1.0 g Sodium salt of technical

Octylalkoholsulfat 3,0 mlOctyl alcohol sulfate 3.0 ml

10%ige Lösung von Saponin in10% solution of saponin in

Alkohol/Wasser 3,0 mlAlcohol / water 3.0 ml

Lösung CSolution C

2-(o-ChlorphenyI)-44-bis-(m-metnoxyphenylj-imidazolyldimeres 14 g2- (o-ChlorophenyI) -44-bis- (m-Metnoxyphenylj-imidazolyldimeres 14 g

2-(o-Ch!orphenyl)-43-diphenyI-imidazolyldimeres 13 g2- (o-chlorophenyl) -43-diphenyl-imidazolyl dimers 13 g

Tris-(4-diäthylamino-o-toIyl)-methan 14 gTris (4-diethylamino-o-toyl) methane 14 g

Trimethylolpropantriacrylat 12 gTrimethylolpropane triacrylate 12 g

Mischung von Triäthylengiykolestern der Octa- undMixture of triethylene glycol esters of octa- and

Decacarbonsäure 2,0 gDecacarboxylic acid 2.0 g

Methylenchlorid 25 mlMethylene chloride 25 ml

Polyvinylpyrrolidon
(durchschnittliches Molekulargewicht: 40 000;
25%ige Lösung in Methylenchlorid) 3,0 g
Polyvinyl pyrrolidone
(Average molecular weight: 40,000;
25% solution in methylene chloride) 3.0 g

Die Lösungen D, E und F wurden in einem schnellaufenden Mischer miteinander vermischt (2 Min.), unter Abstreichen bei 35° und einer Beschichtungsgeschwindigkeit von 447 m/Min, über die aufgebrachte und getrocknete untere Schicht aufgeschichtet, gekühlt und getrocknetSolutions D, E and F were mixed together in a high speed mixer (2 min.), With wiping at 35 ° and a coating speed of 447 m / min, over the applied and dried lower layer piled up, cooled and dried

Eine Probe des Materials wurde, wie im Beispiel 7 beschrieben, belichtet mit der Ausnahme, daß das Aufkopieren des Stufenkeils bei einer Belichtungszeit von 2 Min. erfolgte. Die Probe wurde, wie im Beispiel 1 beschrieben, auf eine Kupferplatte übertragen, die Hälfte des Bildes mit einem undurchsichtigen Deckblatt abgedeckt und das Ganze im Abstand von 0,61 m 1 Std. mit einer 40-Watt-Leuchtstoffpultlampe belichtet. Dann wurde die undurchsichtige Abschirmung entfernt und die resistüberzogene Kupferplatte mit einer Eisen(III)· chloridlösung von 44° B6 40 Min. geätzt. Es entstand ein Stufen des Sfüfenkeils wiedergebendes Tiefdrückbild auf der Oberfläche der Küpferplatte. Zwischen den Bildteilen, die mit der opaken Abschirmung während der Nachbelichtung abgedeckt waren, und denen, dieA sample of the material was exposed as described in Example 7 with the exception that the The step wedge was copied on with an exposure time of 2 minutes. The sample was as in Example 1 described, transferred to a copper plate, half of the picture with an opaque cover sheet covered and the whole thing at a distance of 0.61 m for 1 hour. exposed with a 40 watt fluorescent desk lamp. then the opaque shielding was removed and the resist-coated copper plate with an iron (III) · chloride solution at 44 ° B6 etched for 40 minutes. There was a Depression image on the surface of the Küpferplatte showing the steps of the foot wedge. Between Parts of the image that were covered with the opaque shield during post-exposure and those that

nicht abgedeckt worden waren, bestand kein Unterschied. had not been covered, there was no difference.

Beispiel 9Example 9

Eine l%ige Lösung von Polyvinylalkohol mit hohem Molekulargewicht wurde hergestellt und unter Abstreichen bei Raumtemperatur und einer Geschwindigkeit von 9,14 m/Min, auf eine nicht mit einer Haftscücht ausgestatteten, 0,18 mm dicken Polyäthylenterephthalatbahn aufgeschichtet, die eine Lichthofschutzschicht auf der Rückseite hatte, wonach mit Warmluft bei etwa 50° getrocknet wurde. Trockendichte der Polyvinylalkoholschicht: 0,0013 bis 0,0018 mm.A 1% solution of high molecular weight polyvinyl alcohol was prepared and scraped off at room temperature and a speed of 9.14 m / min, on one not with an adhesive force equipped, 0.18 mm thick polyethylene terephthalate sheet, which has an antihalation layer on the back, after which it was dried with warm air at about 50 °. Dry density of the polyvinyl alcohol layer: 0.0013 to 0.0018 mm.

Über die Polyvinylalkoholschicht wurde eine fotopolymerisierbare Tiefdruckresistemulsion, die der des Beispiels 8 entsprach, unter Abstreichen bei 35" und einer Geschwindigkeit von 9,14 m/Min, aufgeschichtet abgekühlt und mit Warmluft bei 50° getrocknet Der Überzug war 0,0076 mm dick.A photopolymerizable layer was applied over the polyvinyl alcohol layer Gravure resist emulsion corresponding to that of Example 8, with stroking at 35 "and a speed of 9.14 m / min cooled and dried with hot air at 50 °. The coating was 0.0076 mm thick.

Auf eine Probe des so hergestellten Materials wurde eine übliche Tiefdruckform aufkopiert unter Verwendung eines Kohlebogen-Belichtungsgerätes, das bei 220 Volt und 15 Ampere im Abstand von 45,7 cm arbeitete. Belichtungszeit: 60 Sek. Die belichtete Probe wurde auf eine mit Wasser angefeuchtete Kupferplatte auflaminiert und das Ganze dut^h den Spalt eines Gummiwalzenpaares geführt. Druck: 44,64 kg/m, Geschwindigkeit: 1,83 m/Min. Dann wurde der Schichtträger abgezogen und die mit Resist bedeckte Kupferplatte in einer Eisen(III)-chIoridlösung von 453 Be bei 23°C(234 Min.) geätzt Auf der Oberfläche der Kupferplatte entstand ein Intagliobild des Tiefdruckrasters.A conventional intaglio printing form was copied onto a sample of the material thus produced using a carbon arc exposure device operating at 220 volts and 15 amps at a distance of 45.7 cm. Exposure time: 60 seconds. The exposed sample was laminated onto a copper plate moistened with water and the whole thing is the gap between a pair of rubber rollers guided. Pressure: 44.64 kg / m, speed: 1.83 m / min. Then the support was peeled off and the copper plate covered with resist in an iron (III) chloride solution of 453 Be at 23 ° C (234 min.) etched An intaglio image of the gravure screen was created on the surface of the copper plate.

Beispiel 10
Es wurden zwei Lösungen hergestellt:
Example 10
Two solutions were made:

Lösung ASolution a

5%ige wäßrige Lösung von5% aqueous solution of

Polyvinylalkohol mit hohemPolyvinyl alcohol with high

MolekulargewichtMolecular weight

Gelber FarbstoffYellow dye

(C I. Pigment Yellow 74)(C I. Pigment Yellow 74)

(22%ige wäßrige Dispersion mit(22% aqueous dispersion with

6% Nonylphenox vpolyäthoxyäthanol)6% nonylphenoxy polyethoxyethanol)

Lösung BSolution b

MethylenchloridMethylene chloride

2,2'- Dihydroxy-4-methoxybenzo-2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzo-

phenonphenone

Mischung von Tnäthylenglykoi-Mixture of ethylene glycol

esternderOcta-undesternderOcta and

PecacarbonsäurePecacarboxylic acid

400OmI400OmI

100g100 g

100 ml
40 g
100 ml
40 g

70 g70 g

Die Lösungen A und B wurden in einer stark scherenden Mühle 15 Min. vermählen. 9OmI einerSolutions A and B were ground in a high shear mill for 15 minutes. 9OmI one

« lO°/oigen Saponinlösung in Alkohol/Wasser wurden zugefügt.10% saponin solution in alcohol / water added.

Die erhaltene Dispersion wurde bei Raumtemperatur und einer Beschichtungsgeschwindigkeit von 18,28 m/ Min. auf eine keine Haftschicht tragende PolyäthylenteThe dispersion obtained was at room temperature and a coating speed of 18.28 m / Min. On a non-adhesive layer of polyethylene rephthalatbahn aufgeschichtet Die Beschichtung er folgte unter Verwendung einer Luftrakel bei einem Druck von 0,0037 Atm, Anschließend Wurde durch Aufblasen von Warmluft über die Bahn bei einer Temperatur von I07°C getrocknet Die Dicke derrephthalate layered The coating he followed using an air knife at a pressure of 0.0037 atm., followed by Inflating warm air over the web dried at a temperature of I07 ° C. The thickness of the

getrockneten Schicht betrug 0,005 bis 0,006 mm.dried layer was 0.005 to 0.006 mm.

Eine fotopolymerisierbare Tiefdruck-Resistdisper* stan gleicher Zusammensetzung wie die des Beispiels 8 wurde, wie in Beispiel 9 beschrieben, über dieA photopolymerizable gravure resist disperser * stan the same composition as that of Example 8, as described in Example 9, on the

no f\A η λ λ no f \ A η λ λ

Polyvinylalkoholschicht geschichtet Die Dicke der Schicht betrug 0,005 bis 0,006 mm.Polyvinyl alcohol layer layered The thickness of the Layer was 0.005 to 0.006 mm.

Eine Probe des so hergestellten Materials wurde, wie in Beispiel 9 beschrieben, belichtet, laminiert und geätzt Auf der Oberfläche der Kupferplatte entstand ein Intagliobild des Tiefdruckresistrasters.A sample of the material produced in this way was, as described in Example 9, exposed, laminated and etched An intaglio image of the gravure resist screen was created on the surface of the copper plate.

Beispiel 11Example 11

Wie folgt wurden zwei Lösungen hergestellt:
Lösung A
Two solutions were made as follows:
Solution a

Gelatine 72 gGelatin 72 g

Wasser 2736 mlWater 2736 ml

Die Gelatine wurde 0,5 Std. im Wasser eingeweicht und dann 0,5 Std. bei 52° C digeriertThe gelatin was soaked in water for 0.5 hour and then digested at 52 ° C. for 0.5 hour

Lösung BSolution b

10%ige Lösung von Nonylphenoxypolyäthoxyphosphat 36 ml10% solution of nonylphenoxypolyethoxyphosphate 36 ml

10%ige Lösung von Saponin in
Äthanol/Wasser 36 ml
10% solution of saponin in
Ethanol / water 36 ml

Lösung A wurde auf 34° C abgekühlt und Lösung B zugefügt Durch Verdünnen mit Wasser wurdenSolution A was cooled to 34 ° C. and solution B was added by diluting with water

Lösungen von unterschiedlichen Konzentrationen hergestellt Die erhaltenen Lösungen ivurden bei einer Beschichtungsgeschwindigkeit von 9,14 m/Min, und bei 32° auf einen keine Haftschicht tragende, 0,18 mm dicke Polyäthylenterephthalatbahn aufgeschichtet die auf ihrer Rückseite eine Lichthofschutzschicht und eine antistatische Schicht trug, um mehrere Beschichtungen mit Gelatineschichten von unterschiedlicher Dicke auf diese Weise herzustellen. Jede der Schichten wurde mit einer heterogenen, fotopolymerisierbaren Schicht überzogen, die sich für die Herstellung eines Tiefdruckresists, wie im Beispiel 8 besehrieben, eignete. Auf Proben eines jeden auf diese Weise hergestellten Materials wurde ein Tiefdruckraster (59 Linien/cm, Verhältnis von Punkten zu Strichen: 2,5 : 1) aufkopiert Dabei wurde unter Verwendung der Lichtquelle des Beispiels 1 im Abstand von 66 cm belichtet (45 Sek.). Die belichteten Proben wurden dann auf eine mit Wasser angefeuchtete Kupferoberfläche, wie im Beispiel 1 beschrieben, übertragen und in fließender F.l-.>;n(III)-chIoridIösung von 52,1 "Be bei einer Temperatur "ion 23° C geälzt Nachstehend in Tafel I die Ergebnisse.Solutions of different concentrations prepared. The solutions obtained were coated at a coating speed of 9.14 m / min and at 32 ° on a 0.18 mm thick polyethylene terephthalate sheet which had no adhesive layer and which had an antihalation layer and an antistatic layer on its back to produce several coatings with layers of gelatin of different thicknesses in this way. Each of the layers was coated with a heterogeneous, photopolymerizable layer which was suitable for the production of a gravure resist, as described in Example 8. A gravure screen (59 lines / cm, ratio of dots to lines: 2.5 : 1) was copied onto samples of each material produced in this way. ). The exposed samples were then transferred to a water-moistened copper surface, as described in Example 1, and pelted in flowing Fl -.>; N (III) -chloride solution of 52.1 "Be at a temperature" of 23 ° C below in Table I the results.

Tafel IPanel I.

Überzugslösung
% Feststoffe
Coating solution
% Solids

Schichtlayer Dickethickness gewichtweight (mg/dm2)(mg / dm 2 ) (mm)(mm) 7676 0,0060.006 2626th 0,00250.0025 5,15.1 __ UU __ 1.21.2 __

2,52.5

1,251.25

0,6250.625

0,140.14

0,140.14

(3,05 m/Min.
Beschichtungsgeschwindigkeit)
(3.05 m / min.
Coating speed)

Beispiel 12Example 12

Die Bvschichtungslösung der h> jrophilen, kolloidalen Schicht des Beispiels 11 wurde unter Einstellung eines Feststoffgehalts von 0,625 Gew.-% unter den Beschichtungsverhältnissen des Beispiels 11 auf einen keine Haftschicht tragende*. 0.14 mm dicken fotografischen Film-Schichtträger aus Cellulosetriacetat aufgebracht unter Ausbildung eines Schichtgewichtes von 5,7 mg/ dm2. Über die Lichtadhäsions-Kontrollschicht wurde, wie in Beispiel 11, eine fotopolymerisierbar Tiefdruck-Resistschicht aufgebracht. Eine Probe des auf diese Weise hergestellten Materials wurde entsprechend Beispiel 11 belichtet mit der Ausnahme, daß eine Belichtungszeit von 20 Sek. angewandt wurde. Die Weiterbehandlung erfolgte wie in Beispiel 11 unter Ätzung der Oberfläche einer Kupferplatte. Auf der Oberfläche der Kupferplatte wurde ein Tiefdruckbild erzeugtThe coating solution of the hydrophilic, colloidal layer of Example 11 was applied with a solids content of 0.625% by weight under the coating ratios of Example 11 to a non-adhesive layer. 0.14 mm thick photographic film base made of cellulose triacetate applied with a layer weight of 5.7 mg / dm 2 . As in Example 11, a photopolymerizable gravure resist layer was applied over the light adhesion control layer. A sample of the material produced in this way was exposed according to Example 11 with the exception that an exposure time of 20 seconds was used. The further treatment took place as in Example 11 with etching of the surface of a copper plate. A gravure image was formed on the surface of the copper plate

Beispiel 13Example 13

Beispiel 12 wurde wiederholt unter Verwendung eines keine Haftschicht aufweisenden, unbehandelter·, mit Polyäthylen übenogenen fotografischen Papierschichtträger wobei die hydrophile KolloidschichtExample 12 was repeated using an untreated, non-adhesive layer, photographic paper backing practiced with polyethylene wherein the hydrophilic colloid layer

Übertragungtransmission GeätztesEtched u. Abziehenand peeling Bildimage befriedigendsatisfactory jaYes befriedigendsatisfactory jaYes befriedigendsatisfactory jaYes befriedigendsatisfactory jaYes befriedigendsatisfactory jaYes befriedigendsatisfactory jaYes

unter Einstellung eines Schichtgewichts von 8,6 mg/dm2 aufgeschichtet wurde. Auf der Obeiiläche einer unter Verwendung dieses Materials geätzten Kupferplatte wurde ein Tiefdruckbild erhalten.a layer weight of 8.6 mg / dm 2 was set up. A gravure image was obtained on the surface of a copper plate etched using this material.

Beispiel 14Example 14

Eine l%ige, wäßrige Lösung von Polyvinylpyrrolidon des Molekulargewichts von 40 000, die 0,1% Nonylphenoxypolyäthoxyphosphat und 0,1% Saponin enthielt, wurde hergestellt Die Lösung wurde, wie in Beispiel 11 beschrieben, auf einen unbeschichteten, 0,18 mm dicken Schichtträger aus Polyethylenterephthalat aufgeschichtet unter Ausbildung eines Schichtgewichtes von 37 mg/dm2. Über die hydrophile Kolloidschicht wurde, wie in Beispiel 11 angegeben, eine Tiefdruckresisü :hicht aufgebracht Eine Probe dieses Materials wurde entsprechend Beispiel 11 belichtet und getestet Auf der Oberfläche der Kupferplatte war ein Tiefdruckbild erzeugt worden.A 1% strength aqueous solution of polyvinylpyrrolidone having a molecular weight of 40,000 and containing 0.1% nonylphenoxypolyethoxyphosphate and 0.1% saponin was prepared. The solution was prepared as described in Example 11 on an uncoated 0.18 mm thick Layer support made of polyethylene terephthalate coated with formation of a layer weight of 37 mg / dm 2 . As indicated in Example 11, a gravure resist was applied over the hydrophilic colloid layer. A sample of this material was exposed and tested in accordance with Example 11. A gravure image had been produced on the surface of the copper plate.

Beispiel 15Example 15

Es wurde eif.fi: 2,5°/cige wäßrige Gelatinelösung hergestellt, die 0,045% M'onooleyläther des Decaäthylenglykols enthielt Die Lösung wurde entsprechend Beispiel 11 unter Ausbildung eines ÜberzugsgewichtesIt was eif.fi: 2.5% / cige aqueous gelatin solution produced, the 0.045% monooleyl ether of decaethylene glycol The solution was prepared according to Example 11 with formation of a coating weight

von 30 mg/dm2 aufgebracht. Eine Tiefdruckresistschicht wurde wie in Beispiel 11 angegeben über die hydrophile Kolloidschicht geschichtet. Eine Probe des so hergestellten Materials wurde entsprechend Beispiel 11 belichtet und ausgeprüft. Auf der Oberfläche der Kupferplatte wurde ein Tiefdruckbild erhalten,of 30 mg / dm 2 applied. A gravure resist layer was coated over the hydrophilic colloid layer as indicated in Example 11. A sample of the material produced in this way was exposed and tested in accordance with Example 11. A gravure image was obtained on the surface of the copper plate,

Beispiel 16Example 16

Beispiel 15 wurde wiederholt mit der Ausnahme, daß 0,075% Saponin anstelle des Monooleyläthers desExample 15 was repeated with the exception that 0.075% saponin was used instead of the monooleyl ether of the

Decaäthylenglykols angewandt wurden. Eine Probe dieses Materials wurde entsprechend Beispiel! 11 belichtet und getestet. Auf der Oberfläche der Kupferplatte war ein'fiefdrückbild entstanden.Decaethylene glycol were applied. A sample of this material was made according to example! 11th exposed and tested. An intaglio image was created on the surface of the copper plate.

Die die Tiefdruckbilder aufweisenden Metallplatten eines jeden der vorstehend aufgeführten Beispiele waren von hoher Qualität und eigneten sich für Druckzwecke unter Verwendung üblicher im Tiefdruckverfahren angewandter Druckfarben.The metal plates having the intaglio images of each of the above examples were of high quality and suitable for printing using conventional gravure printing applied inks.

Claims (1)

Patentansprüche:Patent claims: 1. Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial zur Ausbildung eines heterogenen Diffusions-Ätz-Resists im wesentlichen gleichbleibender Schichtstärke, mit einem glatten, flexiblen entfernbaren Schichtträger und einer Schicht aus einem heterogenen, photopolymerisierbaren Gemisch, das in einem hydrophilen, makromolekularen, organischen Polymeren eine disperse Phase aus:1. Photopolymerizable recording material for the formation of a heterogeneous diffusion etching resist with essentially constant layer thickness, with a smooth, flexible removable support and a layer of a heterogeneous, photopolymerizable mixture in a hydrophilic, macromolecular, organic polymer a disperse phase from:
DE19722204244 1971-02-02 1972-01-29 Photopolymerizable recording material Expired DE2204244C3 (en)

Applications Claiming Priority (1)

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US11208571A 1971-02-02 1971-02-02

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DE2204244B2 DE2204244B2 (en) 1980-06-04
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