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DE2137805A1 - Process for the production of shiny, decorative composite chrome layers - Google Patents

Process for the production of shiny, decorative composite chrome layers

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Publication number
DE2137805A1
DE2137805A1 DE19712137805 DE2137805A DE2137805A1 DE 2137805 A1 DE2137805 A1 DE 2137805A1 DE 19712137805 DE19712137805 DE 19712137805 DE 2137805 A DE2137805 A DE 2137805A DE 2137805 A1 DE2137805 A1 DE 2137805A1
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DE
Germany
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layer
nickel
cobalt
particles
thin
Prior art date
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Pending
Application number
DE19712137805
Other languages
German (de)
Inventor
Hyman Birmingham Mich Chessin (V St A )
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
M&T Chemicals Inc
Original Assignee
M&T Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by M&T Chemicals Inc filed Critical M&T Chemicals Inc
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Pending legal-status Critical Current

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Description

Priorität: 2108.1970 - U.S.A.Priority: 2108.1970 - U.S.A.

Die Erfindung bezieht sich auf neue zusammengesetzte Matallbeläge«, welche eine verbessert© Korrosionsbeständigkeit aufweisen, und auf Verfahren und Zusammensetzungen für d±© Herstellung solcher zusammengesetzter Metallbeläge«»The invention relates to new composite metal coverings «, which have an improved © corrosion resistance, and on methods and compositions for d ± © manufacture such composite metal coverings «»

Es ist bekannt s daß verschieden© Kombinationen von galvanischen Metallbelägen verwendet werden köna©n»uia $fetallaminate h®a?zu« stsllsa* die verschiedene Ko?:?o9ionsbeständigis:®it©ä, · Bu&tilitätsa» ölanzeigenschaftisa. und Glätten besitaea* sind in der Technik Dreif aGhschichtnickalsystame , ^obei die Mengen dös Schwefels in einem ^©den Iied©i?schlag aaders ist5 um die Potentialverhältniss© der ]Ji©d®rsöhlägeIt is known that different combinations of galvanic metal coverings can be used. and smoothing besitaea * are threefold aGhschichtnickalsystame in technology, whether the quantities of sulfur in a single blow is 5 around the potential ratio of the ji © d®rsöhläge

209809/1458209809/1458

in bestimmter Weise zu kontrollieren. Galvanische Ghromabscheidungen wurden auf galvanischen Mckel- und Nickellegierungsabscheidungen in Kombination mit Kupfer- oder Nickelunterbelägen und einem Kupfer/ETickel-Legierungs-Belag verwendet. Die bekannten Verfahren und die bekannten zusammengesetzten Beläge weisen verhältnismäßig dicke Einzelschichten auf. Wenn eine Schicht dünner gemacht wird, dann kann es nötig sein, in einem anderen Abschnitt des zusammengesetzten Gegenstands eine dickere Schicht zu verwenden* Weiterhin ist es bekanntv daß zusammengesetzte galvanische Abscheidungen in einer speziellen physikalischen oder chemischen Eigenschaft besonders gut sein können, wie z.B. bezüglich des Glanzes oder der Widerstandsfähigkeit gegen elektrochemisches Ätzen, wobei sie aber dann hinsichtlich anderer Eigenschaften mangelhaft sind, .wie z.B. hinsichtlich der Korrosionsbeständigkeit, Duktilität oder Gleichförmigkeit aufgrund der verschiedenen Abscheidungsverfahren,/fur Herstellung der zusammengesetzten Netallgegenstände verwendet wurden. to control in a certain way. Electroplated chromium deposits have been used on electroplated Mckel and Nickel alloy deposits in combination with copper or nickel underlay and a copper / E nickel alloy overlay. The known methods and the known composite coverings have relatively thick individual layers. When a film is made thinner, it may be necessary in another portion of the composite article, a thicker layer to use * It is also known v that composite galvanic deposition in a specific physical or chemical property particularly may be good, such as respect gloss or resistance to electrochemical etching, but they are then deficient in other properties, such as corrosion resistance, ductility or uniformity due to the different deposition processes / were used for manufacturing the composite metal objects.

Ein Ziel der Erfindung ist es, einen neuen glänzenden, dekorativen zusammengesetzten Chrombelag zu schaffen, der unter ungünstigen physikalischen und chemischen Bedingungen eine verbesserte Korrosionsbeständigkeit aufweist. Ein weiteres Ziel der Erfindung 1st es, ©inen neuen glänzenden, dekorativen zusammengesetzten Chrombelag zu schaffen, wobei eine extrem dünne Schicht aus Cobalt als feil des Ifiederschlags verwendet wird. Andere Ziele gehen aus der folgenden Beschreibung hervor. An object of the invention is to provide a new shiny, decorative To create composite chrome coating, which under unfavorable physical and chemical conditions improved Has corrosion resistance. Another object of the invention is to provide new shiny, decorative To create a composite chrome coating, using an extremely thin layer of cobalt as a source of precipitation will. Other goals will emerge from the description below.

Es wurde nunmehr gefunden, daß unerwartet korrosionsbeständig© glänzende dekorative zusammengesetzte Chrombeläge dadurch hergestellt werden können, daß aan zunächst eine erst© Schicht*It has now been found that unexpectedly corrosion-resistant shiny decorative composite chrome coverings thereby can be made so that a first © layer *

209809/1458209809/1458

aus Kupfer, eine zweite dünne Schicht aus glänzendem Cobalt, eine dritte dünne Nickelschicht und eine vierte Schicht aus glänzendem dekorativen Chrom abscheidet» wobei »an die erfindungsgemäßen Badzusammensetzungen verwendet.made of copper, a second thin layer of shiny cobalt, a third thin layer of nickel and a fourth layer shining decorative chrome deposited »whereby» to the invention Bath compositions used.

Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung eines korrosionsbeständigen, glänzenden dekorativen zusammengesetzten Chrombelags wird dadurch ausgeführt, daß manThe inventive method for producing a corrosion-resistant, shiny decorative composite chrome coating is carried out by

1. auf ein Grundmaterial eine erste Schicht aus Kupfer abscheidet;1. deposits a first layer of copper on a base material;

2. auf der Kupferschicht eine zweit® dünne Schicht aus glänzendem Cobalt abscheidet;2. on the copper layer a thin one A layer of shiny cobalt is deposited;

3* auf der Cobaltsohicht eine dritte dünne3 * a third thin layer on the cobalt top

nickelhaltige Schicht mit einer Dicke vonnickel-containing layer with a thickness of

2,0 bis 12,0^ abscheidet; und 4. galvanisch auf der dritten nicke !halt igen2.0 to 12.0 ^ separates; and 4. Galvanically stop at the third nod!

Schicht eine vierte Schicht aus glänzendemLayer a fourth layer of glossy

dekorativen Chrom abscheidet.decorative chrome deposits.

Beispiele für Grundmaterialien, die gemäß der Erfindung beschichtet werden können, um darauf einen korrosionsbeständigen, glänzenden dekorativen zusammengesetzten Chrombelag herzustellen, sind: Eisenlegierungen, wi« s.B* Stahl, Kupfer, Nickel, ffessing, Broc£0, Zink oder Legierungen aus diesen Betallen, sowie Kunststoffe, wie z.B· (ABS) Aerylonitril/Butadies/Styrol-, Polypropylen-, Polyäthylen-, Polystyrol- und Polyacryl&tharze usw. Besonders gute Resultate werden erhalten, wenn das Grundmaterial aus Stahl oder einem 2iinkspritzgußt©il besteht oder wenn das Grundmaterial ABS ist»Examples of base materials coated according to the invention can be made to have a corrosion-resistant, shiny finish to produce decorative composite chrome plating are: iron alloys, like B * steel, copper, nickel, ffessing, Broc £ 0, zinc or alloys made from these metals, as well as plastics, such as (ABS) aerylonitrile / butadies / styrene, polypropylene, Polyethylene, polystyrene and polyacrylic resins, etc. Particularly good results are obtained when the base material consists of steel or an injection-molded part, or if the base material is ABS »

BAD OFUGINAU 209809/U58BAD OFUGIN AU 209809 / U58

Die erste Stufe des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht darin, daß man auf das Grundmaterial eine Kupferschicht abscheidet, die in der Folge als erste Schicht oder als Grundschicht bezeichnet wird. Die Abscheidung der ersten Kupferschicht auf einem Zinkspritzgußteil oder auf einem anderen Grundmetall kann dadurch erfolgen, daß man Kupfer beispielsweise aus einem Cyanid-Kupferbad, einem iyrophosphat-Kupferbad oder einem sauren Kupferbad abscheidet. Solche Bäder können typischerweise die in Tabelle 1 angegebenen Zusammensetzungen besitzen, wobei alle Werte in g/l angegeben sind? sofern nichts anderes ausgeführt wird*The first stage of the process according to the invention consists in depositing a copper layer on the base material, which is hereinafter referred to as the first layer or the base layer. The first copper layer can be deposited on a zinc injection-molded part or on another base metal by depositing copper, for example, from a cyanide-copper bath, an iyrophosphate-copper bath or an acidic copper bath. Such baths can typically have the compositions given in Table 1 , all values being given in g / l? unless otherwise stated *

Tabelle ITable I. Komponentecomponent

(A)(A)

Cu*Cu *

(B)(B)

(0)(0)

freies KCN (oder ITaCH)free KCN (or ITaCH)

* zugesetzt als Kupfer«
cyanid CuCN
* added as copper «
cyanide CuCN

Ou(BI4)-Ou (BI 4 ) -

HBF4 H3BO ClHBF 4 H3BO Cl

CuSO4.CuSO 4 .

Schwefelsäure SusatzSulfuric acid susatz

Minimum Maximum bevorzugtMinimum maximum preferred

45
15
45
15th

1818th

200200 500500 225225 1,51.5 5,05.0 5,55.5 5,05.0 25,025.0 13,013.0 0,010.01 0,200.20 0,050.05 180180 (Sättigung)(Saturation) 240240 7070 8080 7575 1010 2020th 1515th

BAD ORIGINALBATH ORIGINAL

209803/1458209803/1458

Das Bad (B) kann zusätzlich einen heterocyclischen Harnstoff in Mengen von 0,5 - 10^0 g/l (vorzugsweise 0,7 - 4·90 g/l) in Kombination mit einem Polyätherträger in Mengen von 0,005 10 g/l (vorzugsweise 0,1 - 1,0 g/l) und einen Polysulfid der Formel HaOxS(CH2^ S-S-^QH2^T SO3Na in Mengen von 0$001 g/l bis 1,0 g/l (vorzugsweise 0,005 g/l ~ 0,2 g/l) enthalten, wenn extrem eingeebnete, glänzende Kupferabscheidungen erwünscht sind.The bath (B) can additionally contain a heterocyclic urea in amounts of 0.5-10 ^ 0 g / l (preferably 0.7-4 · 90 g / l) in combination with a polyether carrier in amounts of 0.005-10 g / l (preferably 0.1 - 1.0 g / l) and a polysulfide of the formula HaOxS (CH 2 ^ SS- ^ QH 2 ^ T SO 3 Na in quantities of 0 $ 001 g / l to 1.0 g / l ( preferably 0.005 g / l ~ 0.2 g / l) if extremely leveled, shiny copper deposits are desired.

Der Zusatz für ein Bad der Zusammensetzung (G) ist vorzugsweise Bochelle-Saiz» Pheaolsulfonsäur© usw« Das Roeh@ll@-3alss wird vorzugsweise in Mengen von 10 - 20 g/l ,gewöhnlich ungefähr 15 g/l5 verwendet. Die Abscheidung der erstan Kupferschicht unter Verwendung des Bads (A) kann durch 8-18 mis dauerndes3 beispielsweise 10 min dauerndes Galvanisieren bei 60 - 700G, beispielsweise 650G9 ausgeführt wardea* wobeiThe additive for a bath of the composition (G) is preferably Bochelle-Saiz "Pheaolsulfonsäur © etc." The Roeh @ ll @ -3alss is preferably used in amounts of 10-20 g / l, usually about 15 g / l5. The deposition of the first copper layer using the bath (A) can be carried out by electroplating for 8-18 m 3 , for example 10 min, at 60-70 0 G, for example 65 0 G 9

eine Eathödenstroffidicht© voa 3-6 A/dm , beispielsweise M-,5 A/tlss φ verwendet wird» Torsugsweisa wird das Bad gerührt, beispielsweis© mittels Luft oder :dureh B©¥©ges, aar Kathode» Während dieser Zait Isasaa Κηρϊ®τ mit @in©r Diek© voa tjpisehervjaisa 15 - 25/&-mi&. vorsugsweis© taagafähi? abgeschieden werden«an Eathödenstroffidicht © voa 3-6 A / dm, for example M- , 5 A / tlss φ is used »Torsugsweisa the bath is stirred, for example by air or : through B © ¥ © ges, aar cathode» During this time Isasaa Κηρϊ ®τ with @ in © r Diek © voa tjpisehervjaisa 15 - 25 / & - mi &. precautionary © taagafähi? to be separated "

Die galvanisch© Abscheidung fies* @2?st©n Supfersslalöb.t aas @iaam sauren Kmpfsrfeaa kaaa b@i 40 *= 5O°ö9 bei^ielsWaist 4·5®05, während 3a5 ~ 35 aiia odss» ®elir9 b@iapieisweis® 25 ®ia5 heftiger Luftrühsiasg ausgeführt "YjS25ä©a2 wobei eia© stromdioht© voa 1 ~ 5 A/da°°? "b©ispi©lsti©is© 3 A/da detThe galvanic deposition fies * @ 2? St © n Supfersslalöb.t aas @iaam sauren Kpfsrfeaa kaaa b @ i 40 * = 50 ° ö 9 at ^ ielsWaist 4 · 5®05, while 3 a 5 ~ 35 aiia odss »® elir 9 b @ iapieisweis® 25 ®ia 5 violent air spray executed "YjS2 5 ä © a 2 where eia © stromdioht © voa 1 ~ 5 A / da °°?" b © ispi © lsti © is © 3 A / da det

Die ©2?©t© £mpf©s?seliielit kaas auch aThe © 2? © t © £ mpf © s? Seliielit kaas also a

Bad uiafe Susaas^asefcsuag5 uiö si# laBad uiafe Susaas ^ asefcsuag 5 uiö si # la

09809/U509809 / U5

Tabelle IITable II Komponente Minimum Maximum bevorzugtComponent minimum maximum preferred

Cu++ 20 30 25Cu ++ 20 30 25

P0O "~ 140 210 175P 0 O "~ 140 210 175

Die elektrolytische Abscheidung der ersten Kupferschicht aus einem Pyrophosphat-Kupferbad kann bei Temperaturen von 40 - 60°0, beispielsweise 50°0, während 5*5 bis 35 min oder mehr» beispielsweise 25 min, unter heftiger Luftrührung ausgeführt werden, wobei eine Kathodenstromdiohte von 1-4 A/dm^,.beispielsweise 3 A/dm verwendet wird»The electrodeposition of the first copper layer a pyrophosphate copper bath can be used at temperatures of 40-60 ° 0, for example 50 ° 0, for 5 * 5 to 35 min or more »for example 25 min, carried out with vigorous air agitation, whereby a cathode current diameter of 1-4 A / dm ^, for example 3 A / dm is used »

Das Basismaterial, typischerweise entweder (a) ein Zinkspritzgußstück oder (b) ein Stahl stück mit der ersten Kupferabsehsidung, wird dann weiter gemäß der Erfindung behandelt. Vorzugsweise wird dann auf das Grundmaterial eine zweite dünne Schicht aus Cobalt mit einer Dicke von 0,25 - 5,0^ (vorzugsweise 1,3 - 2,8/^) aufgebracht« Die zweite dünne Schicht aus glänzendem Cobalt kann aus einem galvanischen Cobaltbad abgeschieden werden, wie es in der folgenden Tabelle III angegeben ist» Sine weitere H^ßnahme ist die Zersetzung von Cobaltcarbonyl unter Abscheiduag einer dünnen glänzenden Cobaltschicht» Überhaupt kommt cjsd©s Verfahren in Betracht., welches sich aur Herst@llmag eiasr dünnen öobaltschicht eignet.The base material, typically either (a) a zinc die casting or (b) a steel piece with the first copper deposit, is then further treated in accordance with the invention. A second thin layer of cobalt with a thickness of 0.25-5.0 ^ (preferably 1.3-2.8 / ^) is then preferably applied to the base material. The second thin layer of shiny cobalt can be made from a galvanic cobalt bath are deposited, as indicated in the following Table III "Sine more H ^ ßnahme is the decomposition of cobalt carbonyl under Abscheiduag a thin shiny cobalt layer" Ever comes c jsd © s method into consideration., which is aur Prod @ llmag eiasr thin öobaltschicht suitable.

typische 0obalröbäd©r9 di© g@iaäS der Irfinduni verwendet können, aind di@ folgend©»3 i/ölöii© la wässriger- Löaung dietypical 0obal r öbäd © r 9 di © g @ iaäS of the Irfinduni can be used, aind di @ following © » 3 i / Ölöii © la aqueous solution the

in g/iin g / i

BAD ORICNALBAD ORICNAL

TabelleTabel A. Sulfaraat-BadA. Sulpharaate bath IIIIII ife.ximumife.ximum "bevorsugt"prevent KomponentenComponents Go (als 00(O5SUHg)2,Go (as 00 (O 5 SUHg) 2 , HinimumHinimum 400400 300300 GoOl2.6H2O und/oderGoOl 2 .6H 2 O and / or 65
5,0
65
5.0
45
3,2
45
3.2
HxBO3,
Saccharin
H x BO 3 ,
Saccharin
200200 4,54.5 2,32.3
Natrium-allyl-sulfonatSodium allyl sulfonate 25
I9O
25th
I 9 O
0,50.5 0*050 * 05
Bis-ß-hydroxyäthyl-
äther von 2-Butin-1,4-diol
Bis-ß-hydroxyethyl
ether of 2-butyne-1,4-diol
1,51.5 0,50.5 0,1250.125
Hatrium-di-n-hexyl-sueeinstSodium-di-n-hexyl-suead 0,0010.001 4?54 ? 5 3,83.8 pH (elektrometrisch)pH (electrometric) 0,050.05 B. Fluoborat-BadB. Fluoborate bath 2,52.5 Maximummaximum feevörzußtfairy adorned KomponentenComponents 500500 300300 Co(BF4),,Co (BF 4 ) ,, HinimumHinimum 5050 4545 H5BO5 H 5 BO 5 200200 5050 4545 HBF4 HBF 4 3030th 66th 33 pH (elektrometrisch)pH (electrometric) 3030th 22

G* G* Pyro-pnoBTphat-Bad KomponentenPyro-pnoBTphat bath Components

HlnimiamHlnimiam

Kalium-pyrophospaat
(laydratisiert)
Potassium pyrophospaat
(laydated)
5050 100100 6060
Oobaltsulfat (hydratisiert)Oobalt Sulphate (hydrated) 6060 150150 9090 Zitronensäurecitric acid 1010 1515th CöoaltchloridCoalt chloride 2525th 5050 3030th

2Q9809/14532Q9809 / 1453

Tabelle III forts.Table III cont.

D. Chlorid-Bad KomponentenD. Chloride bath components

.6HgO.6HgO

H5BO3 H 5 BO 3

3S. Mscnsalz-Bad Komponenten3S. Salt bath Components

Cobaltsulfate (hydratisiert) Cobaltohlorid (hydratisiert) BorsäureCobalt sulfate (hydrated) Cobalt chloride (hydrated) boric acid

Minimum Maximum bevorzugtMinimum maximum preferred

200 30200 30

500 50500 50

3030th

Minimum Maximum bevorzugtMinimum maximum preferred

200200 350350 300300 3030th 6060 5050 3030th 4040 3535

Bei der galvanischen Abscheidung der zweiten dünnen Schicht aus glänzendem duktilen Cobalt unter Verwendung der in !Tabelle III angegebenen Bäder können Kathodenstromdichten von 1-10 l/dm , beispielsweise 5 A/dm , und Temperaturen von 50 - 600C, beispielsweise 55°c» sowie Abseheidungszeiten von StO - 1Q min, beispielsweise 5 min, zur Verwendung gelangen· Während dieser Zeit wird eine zweite dünne Schicht aus glänzendem Cobalt auf die erste Kupferschicht abgeschieden, und zwar typiseherweise in einer Dicke von 0,25 - 5,0 ,&-, gewöhnlich 1*3 - 2,8/6, und insbesondere ungefähr 2,5 /I-■. ! In the galvanic deposition of the second thin layer of glossy ductile cobalt using in Table III indicated baths cathode current densities of 1-10 l / dm, for example, 5 A / dm, and temperatures of 50-60 0 C, for example 55 ° c »As well as the deposition times of StO - 1Q min, for example 5 min. -, usually 1 * 3 - 2.8 / 6, and especially about 2.5 / I- ■.

In die erfindungsgemäß verwendeten Badzusammensetzungen können verträgliche cooperierende Zusätze einverleibt werden. Solche cooperierende Zusätze sind z.B.: aromatische Sulfonate« Sulfonamide oder Sulfonimide (wie z.B. Natriumbensolsulfonat. Saccharin, Bibenzolsulfonimld usw.); aliiphatische oder aromatieeh-aliphatisch ungesättigte Sulfonate (wie z.B. Natrium-allyl-sulfonat, Hatrium-3-chloro-2-buten-1-In the bath compositions used according to the invention compatible cooperating additives can be incorporated. Such cooperating additives are e.g .: aromatic sulfonates, sulfonamides or sulfonimides (such as sodium benzene sulfonate. Saccharin, bibenzenesulfonimld, etc.); aliiphatic or aromatic-aliphatically unsaturated sulfonates (such as sodium allyl sulfonate, sodium 3-chloro-2-butene-1-

BAD ORIGINALBATH ORIGINAL

209809/1458209809/1458

sulfonat, Natriua-beta-styrol-sulfonat usw.)» aeetyleniseh ungesättigte Verbindtangen (wie z.B. 2-Butin-l,4-diol und dessen di-, tetra- und hexasubstituierten Ithylenoxidaddukte; 2-Methyl-2-butin-2-ol und dessen A'thylenoxidaddukte; N-Heterocyclen, wie z.B. N-1,2~Dlchloropropenyl~ pyridinium-ohlorid, N~Allyl-chlnaldiniumbromid; 2,4,6-iDrimethyl-N-propargyl-pyridiniumbromid; anionisohe Antilunkermittel, wie z.B. Natrium-lauryl-sulfat, Natrium-di~n*- hexyl-sulfosuccinat, Natrium-2-äthyl-h.exyl-sulfat; aktiven Schwefel einführende Verbindungen, wie z.B. aromatische SuI-finate (wie z.B. Katrium-benzol-monosulfinat), Bis-omegasulfopropyl-sulfid (Natriumsalz), usw.sulfonate, sodium beta-styrene sulfonate, etc.) »aeetyleniseh unsaturated compounds (such as 2-butyne-1,4-diol and its di-, tetra- and hexasubstituted ethylene oxide adducts; 2-methyl-2-butyn-2-ol and its ethylene oxide adducts; N-heterocycles, such as N-1,2 ~ chloropropenyl ~ pyridinium chloride, N ~ allyl chloraldinium bromide; 2,4,6-iDrimethyl-N-propargyl-pyridinium bromide; anionic anti-cigarette agents, such as sodium lauryl sulfate, sodium di ~ n * - hexyl sulfosuccinate, sodium 2-ethyl-h.exyl sulfate; active Sulfur-introducing compounds, such as aromatic sulfinates (such as sodium benzene monosulfinate), bis-omega-sulfopropyl sulfide (Sodium salt), etc.

Gemäß der Erfindung wird eine dritte nickelhaltige Schicht galvanisch auf der zweiten duktilen dünnen Sdicht aus glänzendem Cobalt abgeschieden. Sie dritte dünne nickelhaltige Schicht kann eine Dicke von annähernd 2 - Λ2/1 besitzen. Typisckerweise ist die Dicke der dritten Schicht 3,0 - 8,0 fo , vorzugsweise 4,0 - 7,QM und insbesondere ungefähr 5/t.According to the invention, a third nickel-containing layer is electrodeposited on the second ductile thin layer of shiny cobalt. The third thin nickel-containing layer can have a thickness of approximately 2 - Λ2 / 1 . Typisckerweise is the thickness of the third layer from 3.0 to 8.0 fo, preferably 4.0 to 7, QM and particularly about 5 / t.

Gemäß der Erfindung kann als dritte nickelhaltige Schicht eine solche abgeschieden werden, die aus Nickel besteht oder die aus einer Nickel/Cobalt-Legierung besteht* Die galvanische Abscheidung des Nickels kann aus Bädern erfolgen, die Hickelsulfat, ein Chlorid, typischerweise Nickelchlorid, einen Puffer, typischerweise Borsäure, und ein Netzmittel enthalten* Andere Bäder können als Nickelquelle eine Kombination aus Nickelfluoborat mit Nickelsulfat und Nickelchlorid oder eine Kombination aus Nickelsulfamat und Nickelchlorid enthäL ten. !Typische Watts-Bäder und Bäder mit hohem Chloridgehalt sind in den folgenden (Tabellen IV und V angegeben.According to the invention, a third nickel-containing layer can be deposited which consists of nickel or which consists of a nickel / cobalt alloy * The Electrodeposition of the nickel can be done from baths that contain nickel sulfate, a chloride, typically Nickel chloride, a buffer, typically boric acid, and a wetting agent contain * Other baths can be used as a source of nickel a combination of nickel fluorate with nickel sulfate and nickel chloride or a combination of nickel sulfamate and nickel chloride.! Typical Watts and high chloride baths are in the the following (Tables IV and V given.

209809/U58209809 / U58

KomponentenComponents

Nickelsulfat Nickelchlorid Borsäure Temperatur (0G) RührungNickel Sulphate Nickel Chloride Boric Acid Temperature ( 0 G) Stir

PHPH

Tabelle IVTable IV Maximummaximum bevorzugtpreferred Watts-BadWatts bath 400400 300300 Minimumminimum 7575 6060 200200 5050 4040 3030th 6565 5050 5050 3838

mechanisch und/oder Luft oder Umpumpen der Lösung usw.mechanical and / or air or pumping the solution, etc.

2,5 4,5 3,52.5 4.5 3.5

KomponentenComponents

Nickelchlorid Nickelsulfat Borsäure Temperatur (0C) BührungNickel Chloride Nickel Sulphate Boric Acid Temperature ( 0 C) Lead

pHpH

Tabelle νTable ν Maximummaximum bevorzugtpreferred Chlorid-BadChloride bath 300300 225225 Minimumminimum 150150 8585 150150 5050 4040 4040 6565 5555 3030th 3838

mechanisch und/oder Luft oder Umpumpen der Lösung usw.mechanical and / or air or pumping the solution, etc.

2,5 4,5 3,52.5 4.5 3.5

Zn den galvanischen Bädern der Tabellen 17 und V können auch primäre Nickelglänzer in Mengen von 0,002 - 0,2 g/l, beispielsweise 0,05 g/l; sekundäre Glänzer in Mengen von 1-30 g/l, beispielsweise 5 β/l? und sekundäre HiIfsglänzer in Mengen von 0,5 ~ 3 g/l» beispielsweise 1 g/l, vorhanden sein. Typische primäre Glänz sr sind z.B. acetylenische Verbindungen, wie z.B. 2-Butin-1i4-diol, oder pyridiniumverbindungen, wie z.B. quaternisierte Pyridinderivate.In the electroplating baths of Tables 17 and V, primary nickel polishers can also be used in quantities of 0.002-0.2 g / l, for example 0.05 g / l; secondary glossers in amounts of 1-30 g / l, for example 5 β / l? and secondary auxiliaries may be present in amounts of 0.5-3 g / L, for example 1 g / L. Typical primary Glänz sr are, for example, acetylenic compounds, such as 2-butyn-1 i 4-diol, or pyridinium compounds, such as, for example, quaternized pyridine derivatives.

09809/U5809809 / U58

Typische sekundäre Glänzer sind z.B. Schwefel und Sauerstoff enthaltende Verbindungen, vie ZeE. Saccharin, Natrium-benzolsulfonat usw. Ein typischer sekundärer Hilfsglanzer ist beispielsweise Natrium-allyl-sulfonat.Typical secondary glossers are, for example, compounds containing sulfur and oxygen, such as ZeE. Saccharin, sodium benzenesulfonate etc. A typical secondary auxiliary shimmer is, for example Sodium allyl sulfonate.

Die Abscheidung der dritten niekelhaltigen Söhioht kann bei 40 - 600C, beispielsweise 500O, und bei einem pH von 2,5 bis 4,5, beispielsweise 5»5» während 8-14 min, beispielsweise 10 min, ausgeführt werden, wobei ein nickelhaltiger Belag mit einer Dicke von 2 - Λ2/1, beispielsweise 5Α^Γίι&1*θη wird. Nickellegierungen, wie a.B* Sickel/0obalt<5&gierusgen, können ebenfalls als dritte Schicht verwendet werden« Es können glänzende und halbglänsende Mckelabsc&eidumgen verwendet werden· Die dritte nicke .!halt ige Schicht kann auch dadurch hergestellt werden, daß man zunächst ©in© halb» glänzende Kickelschicht und dann eine glänzende liekelgeäieht aufbringt, wobei die Gesamt&iek® d®s> nickelhaltigen Schicht, ungefähr 3 - 6/4 beträgt«, düngendes Hickal wir-d als dritte nickelhaltig© Schicht tThe deposition of the third niekelhaltigen Söhioht can at 40 - 60 0 C, for example 50 0 O, and at a pH of 2.5 to 4.5, for example 5 »5» min while 8-14, for example 10 minutes, are executed, with a nickel-containing coating with a thickness of 2 - Λ2 / 1, for example 5Α ^ Γίι & 1 * θη . Nickel alloys, such as aB * Sickel / 0obalt <5 & gierusgen, can also be used as a third layer. applying a shiny kick layer and then a shiny layer, the total nickel-containing layer being about 3 - 6/4, "fertilizing hickal becomes the third nickel-containing layer t

!Die Bick&lsehicht kesii. wie bereits erwilat9 glitas@n& seia, aber es' können auch andere dekerati^® Niek@lb©llg@ verwendet werden, wie ζ·Β. solch©,- dl© ein© seidige oder eise gebürstete Ober?lächenbeschaff©aheit aufwe'isea, wobei diese Oberflächenbeschaff©nh.@it@n durch mechanische ©des? andere iiüttel hervorgerufen werden»! The Bick & lsehicht kesii. as already erwilat 9 glitas @ n & seia, but other dekerati ^ ® Niek @ lb © llg @ can also be used, such as ζ · Β. such ©, - dl © a © silky or iron-brushed surface texture, whereby this surface texture is achieved by mechanical © des? other vibrations are caused »

die dritte dünne Schient eis,® nickelh&ltige Bohicht ist, dana wird die dünn© Nickelsehieht vorzugsweise in ©inern zweistufigen Verfahren hergestellt, welche© dadisrch ausgeführt wird, daS man auf ®±n Basismaterial* das eine leitende Metalloberfläche aus Cobalt sait einer Dicke von ungefähr 0,25 - 5.OyC* aufweist, «unlehst einethe third thin splints ice, ® nickelh & DEFINITELY Bohicht is Dana the thin © Nickelsehieht preferably in © iners two-stage process is prepared, which is executed © dadisrch which is to ® ± n base material * having a conductive metal surface of cobalt sait a thickness of about 0.25 - 5. OyC *, «unlehst a

209809/U58 . BAD 0RK3INAL 209809 / U58. BATHROOM 0RK3INAL

Lage aus (Teilchen mit einer Teilchengroße von ungefähr 0,05"--5eO/fr und einer Dichte τοπ 100 bis 5-000.000 Teil-Layer made of (particles with a particle size of approximately 0.05 "- 5 e O / fr and a density τοπ 100 to 5-000,000 part

2
chen/cm aufbringt und aaß man dann in dieeer Lege aus Teilchen eine leitende nickelhaltige Schicht in einer Dicke von 0,25 - 5?0JU/abscheidet, die dünner ist als die maximale Dicke der genannten Teilehenlage, wobei eine nickelhaltige Matrix ersielt tvird5 in welcher die Teilchen in einer festen Lage in der leitenden nickelhaltigen Schicht festgehalten werdenί wobei mindestens ein Teil dieser Teilchen durch die Oberfläche der leitenden nickelhaltigen Schicht hindurchgeht. Typische galvanische Bäder und Verfahren sur Herstellung von niekelhaltigen Matrixschiohten sind in der US-PatentanmeIdung 767 972 angegeben, auf die hier Bezug genommen wird*
2
chen / cm applied and then AASS in dieeer laying of particles of a conductive nickel-containing layer in a thickness of 0.25 - 5 0 JU / deposits, is thinner than the maximum thickness of said partial double layer, with a nickel-containing matrix ersielt TVIRD 5 in which the particles are held in a fixed position in the conductive nickel-containing layer, at least a portion of these particles passing through the surface of the conductive nickel-containing layer. Typical galvanic baths and processes for the production of matrix layers containing zero are specified in US patent application 767 972, to which reference is made here *

Typische Bäder, die gemäß der Erfindung verwendet werden können, sind die Bäder der Tabellen IV und V wie auch Bäder, die in den Tabellen Vi-X angegeben sind,, wobei alle Werte in g/l ausgedrückt sind,, sofern nichts anderes angegeben ist.Typical baths which can be used according to the invention are the baths of Tables IV and V as well as baths, which are given in Tables Vi-X, where all values are expressed in g / l, unless otherwise stated.

Ein typisches Sulfeinat-Bad, welches gemäß d?>r Erfindung verwendet werden kann, enthält die folgenden Komponenten in einer wässrigen Lösung (g/l, sofern nichts anderes angegeben ist).A typical sulfeinate bath used in accordance with the invention contains the following components in an aqueous solution (g / l, unless otherwise stated is).

Tabelle VITable VI

Komponentecomponent Minimumminimum Maximummaximum bevorzugtpreferred NickelsulfamatNickel sulfamate 330330 400400 375375 Mckelchlorid (hydratisiert)Milk chloride (hydrated) 1515th 6060 4545 BorsäureBoric acid 3333 5555 4545 pHpH 33 55 4,04.0

BAD 2098Ü9/US8 BAD 2098Ü9 / US8

Ein typisches ehloridfreies Sulfat-Bad, welches gemäß der Erfindung verwendet werden kann, enthält die folgenden Komponenten in wässriger LösungjA typical chloride-free sulfate bath made according to the invention contains the following components in aqueous solutionj

TabelleTabel YlIYlI Maximummaximum bevorzugtpreferred Komponentecomponent Minimumminimum 500
55
5
500
55
5
400
45
4,0
400
45
4.0
Nickelsulfat
Borsäure
pH
Nickel sulfate
Boric acid
pH
(hydratisiert)(hydrated) 300
35
3
300
35
3

Ein typisches chloridfreies SuIfamat-Bad, welches gemäß der Erfindung verwendet werden kann, enthält die folgenden Komponenten in wässriger Lösung;A typical chloride-free sulfamate bath which can be used in accordance with the invention contains the following components in aqueous solution;

Tabelle VIIITable VIII Maximummaximum bevorzugtpreferred Komponentecomponent Minimumminimum 400
55
5
400
55
5
350
45
4,0
350
45
4.0
Niekelsulfamat
Borsäure
pH
Niekel sulfamate
Boric acid
pH
300
35
3
300
35
3

Ein typisches Pyrophosphat-Bad, welches gemäß der Erfindung verwendet werden kann, enthält die folgenden Komponenten in wässriger Lösung:A typical pyrophosphate bath made according to the invention contains the following components in aqueous solution:

Komponentecomponent

Natriumpyropho sphat (hydratisiert) Nickelsulfat (hydratiaiert) Natriumbisulfit Natriumeitrat (hydratisiert)Sodium Pyrophosphate (hydrated) Nickel Sulphate (hydrated) Sodium bisulfite sodium citrate (hydrated)

BAD 209809/U58 BATH 209809 / U58

Tabelle IXTable IX Maximummaximum bevorzugtpreferred Minimumminimum 8080 6565 5050 160160 120120 ert) 80ert) 80 2,52.5 22 "U5"U5 7070 6060 iert) 50iert) 50

Tabelle IX forts.Table IX cont.

Komponentecomponent

Zitronensäure
Natriumchlorid
Ammoniak (28%)
pH
citric acid
Sodium chloride
Ammonia (28%)
pH

Minimumminimum Maximummaximum bevorsufffcbevorsufffc 1010 2020th 1515th J20 J 20 4040 5050 5050 6060 5050 7,57.5 99 8,58.5

Ein typisches IPluoborat-Bad, welches gemäß der Erfindung ver* wendet werden kann, enthält die folgenden Komponenten in wässriger Lösung:A typical IPluoborate bath, which according to the invention ver * contains the following components in aqueous solution:

Tabelle XTable X

Komponente Minimum Component Minimu m

Nickelfluoborat (hydratisiert) 250Nickel fluoborate (hydrated) 250

Nickelchlorid (hydratisiert) 15Nickel chloride (hydrated) 15

Borsäure 15Boric acid 15

pH 2pH 2

Maximummaximum bevorzugtpreferred 400400 500500 60 ·60 · 5050 5050 2020th 44th 5,05.0

Ein typisches Nicke1/Cobalt-Legierungs-Bad enthält die folgenden Komponenten in g/l in wässriger Lösung:A typical nickel / cobalt alloy bath contains the following Components in g / l in aqueous solution:

Komponentecomponent

.6H2O.6H 2 O

H3BO3,H 3 BO 3 ,

Minimum Maximum bevorzugtMinimum maximum preferred

400 500400 500

15 225 8015 225 80

15 75 6015 75 60

50 50 4550 50 45

209809/U58209809 / U58

Es ist selbstverständlich, daß die Bäder die Komponenten in Mengen außerhalb der angegebenen Maxima und Minima enthalten können, aber der zufriedenstellenste und der wirtschaftlichste Betrieb wird normalerweise erhalten 5 wenn die Komponenten in den Bädern in den angegebenen Mengen enthalten sind.It goes without saying that the baths can contain the components in amounts outside the stated maximums and minimums, but the most satisfactory and economical operation is normally obtained when the five components are included in the baths in the amounts indicated.

Wenn die dritte dünne nickelhaltige Schicht eine Nickel/Cobalt-Legierungs-Schicht ist (welche typiseherweise ungefähr 25 50 Gew.~% Cobalt enthält), dann kann die dritte nickelhaltige Schicht aus einem üblichen Bad abgeschieden werden, die sowohl Nickel- als auch Cobaltionen enthält, wobei man den Strom und das Zusatzsystem so wählt, daß aus dem gleichen Bad zunächst eine Cobaltschicht und dann eine Schicht aus einer Nickel/Cobalt-Legierung abgeschieden wird.If the third thin layer containing nickel is a nickel / cobalt alloy layer (which typically contains about 25-50 wt.% cobalt), then the third can be nickel-containing Layer are deposited from a conventional bath, which contains both nickel and cobalt ions, with the Electricity and the auxiliary system so chooses that from the same Bath first a cobalt layer and then a layer of a nickel / cobalt alloy is deposited.

Wenn die dünne dritte Schicht aus halbglänzendem Nickel besteht, dann wird gewöhnlich ein aliphatischer Aldehyd in Kombination mit einem Netzmittel, wie z.B. Natrium-di-nhexyl-sulfosuecinat verwendet, wobei das Bad 200 - 400 g/l NiSO4.7H2C enthält.If the thin third layer consists of semi-bright nickel, an aliphatic aldehyde is usually used in combination with a wetting agent such as sodium di-nhexyl-sulfosuecinate, the bath containing 200-400 g / l NiSO 4 .7H 2 C.

Die Bäder können also mit dem Bad verträgliche Glänzer oder andere mit dem Bad verträgliche Zusätze enthalten, wie z.B. Natriumsaccharat, Netzmittel usw. Stark schäumende Netzmittel, wie z.B. Natrium-lauryi-sulfat können besonders gut verwendet werden« wenn eine mechanische lührung angewendet wird. Schwach schäumende Mittel, wie z.B. Natrium-dialkylsulfosuccinate sind besonders günstig, wenn Luftrührung angewendet wird.The baths can therefore contain glossers that are compatible with the bath or other additives that are compatible with the bath, such as Sodium saccharate, wetting agents, etc. High foaming wetting agents, such as sodium laury sulfate can do particularly well be used «when a mechanical guide is used. Low foaming agents such as sodium dialkyl sulfosuccinate are particularly beneficial when air circulation is used.

Bei einer bevorzugten erfindungsgemäßen Arbeitsweise erhält das Grundmaterial eine erste Kupferschicht, eine zweite dünne Cobaltschicht (vorzugsweise mit einer Dicke vonIn a preferred method of operation according to the invention the base material a first copper layer, a second thin cobalt layer (preferably with a thickness of

209809/U58209809 / U58

0,25 - 5»0/Oi auf der sich dann eine Lage aus teilchen mit einer Teilchengröße von ungefähr 0,05 - 6, O/i anschließt, auf welcher eine dritte dünne nickelhaltige Schicht abgeschieden wirdj so daß eine JTickelmatrix von 2 - 12^ und einem Schwefelgehalt von weniger als 0*1 Gew,-% entsteht, worauf dann eine vierte Schicht aus glänzendem dekorativen Chrom abgeschieden wird*0.25 - 5 »0 / Oi on which there is then a layer of particles with a particle size of about 0.05-6.0 / i which a third thin nickel-containing layer is deposited so that a nickel matrix of 2-12 ^ and a sulfur content of less than 0 * 1% by weight is produced, whereupon a fourth layer of shiny decorative chrome is deposited will*

Die Verwendung einer Matrix gestattet die Verwendung geringerer effektiver Dicken im Vergleich zu Nickel- oder Uickel/Cobalt-Legierungen. Eine mikroskopische Prüfung der Matrix zeigt, daß die Teilchen in einer Matrix aus der dritten dünnen nickelhaltigen Schicht festgehalten werden· Es ist auch zu beobachten (beispielsweise durch Dunkelfeldbeleuchtung in einem Mikroskop oder durch den Dubpernell-Test), daß die Teilchen durch die nickelhaltige Schicht hindurchgehen können und daß sie über der oberen Oberfläche zu beobachten sind*The use of a matrix allows the use of lower effective thicknesses compared to nickel or nickel Uickel / cobalt alloys. A microscopic examination the matrix shows that the particles are held in a matrix of the third thin nickel-containing layer It can also be observed (for example through dark field lighting in a microscope or by the Dubpernell test) that the particles pass through the nickel-containing layer can pass through and that they can be observed over the upper surface *

Das auf diese Weise hergestellte zusammengesetzte Produkt enthält typischerweise also folgendes: eine erste Kupferschicht, eine zweite Cobaltschicht (vorzugsweise mit einer Dicke von 0,25 bis 5,0/06), eine dritte dünne nickelhaltige Schicht mit einer Dicke von 2 - 12 /£, welche vorzugsweise einen Sehwefe!gehalt von weniger als ungefähr 0,1 Gew»-%, bezogen auf das Gewicht der nickelhaltigen Schicht,aufweist und welche dadurch hergestellt worden ist-, daß man auf die zweite dünne Schicht aus glänzendem Cobalt 100 5.000.000 Teilchen/cm2 mit einer Größe von Jeweils 0,05 -The composite product produced in this way thus typically contains the following: a first copper layer, a second cobalt layer (preferably 0.25 to 5.0 / 06 thick), a third thin nickel-containing layer with a thickness of 2-12 / £ which preferably has an optical content of less than about 0.1% by weight, based on the weight of the nickel-containing layer, and which has been produced by adding 100 5,000,000 onto the second thin layer of shiny cobalt Particles / cm 2 with a size of 0.05 each -

aufbringt und diese Teilchen in einer dünnen nickelhaltigen Matrix befestigt, wobei mindestens ein Teil dieser Teilchen durch die nickelhaltige Matrix hindurchschaut und ihre Oberfläche durchschneidet.applies and these particles fixed in a thin nickel-containing matrix, at least a portion of these Seeing particles through the nickel-containing matrix and cutting through its surface.

209809/1458209809/1458

Die Nickelmatrixschicht wird dadurch hergestellt, daß man den mit Cobalt beschichteten Gegenstand (der also eine dünne Schicht aus glänzendem Cobalt trägt) in ein Dispersionsbad einbringt 5, welches suspendierte Teilchen mit einer Größe von ungefähr 0,05 - 5%0/C aufweist. Der mit glänzendem Cobalt beschichtete Gegenstand kann in dieser Dispersion eine bestimmte Zeit lang (beispielsweise ungefähr 30 sek) eingetaucht bleiben, wobei die Zeit ausreicht, um darauf eine Lage aus Teilchen zu bilden. Dann wird er entnommen und in ein Matrixbad überführt, in welchem eine leitende Schicht aus .glänzendem Nickel aufgebracht wird. Das Nickelplatierungsbad (welches von Zeit zu Zeit mit Aktivkohle behandelt und filtriert wird, um die Lösung frei von Verunreinigungen und unlöslichen Stoffen zu halten) kann 300 g Nickelsulfatheptahydrat? 60 g Nickelchlorid-hexahydrats 45 g Borsäure und Wasser bis zu einem Liter enthalten und einen pH von 4,0 (elektrometrisch) aufweisen. Es können die verschiedensten dispergierten Materialien zur Herstellung der Nicketaatrix verwendet werden, wie z.B. Teilchen aus den folgenden Materialien: Talcum$ Kaolin; Wachs5 Graphit; Sulfide, wie z.B. Hblybdändisuifid und Wolframdisulfid; Pigmente, wie z.B. Baryte9 Chrom/Cobalt-Grün und Cobalt/Aluminium-Blau und Oxide, wie z.B. Siliciumdioxid und Aluminiumoxid; Kunststoffteilchen, wie z.B. Teilchen aus Polymeren oder Mischpolymeren von Styrol, Butadien, Acrylonitrile Vinylacetat, Vinylchlorid usw.; Diatomeenerden; pulverisiertes Aluminium; Aktivkohle; Silicate=, wie z.B. Natriuasilicat; Carbonate« wie z.B. Kaliumcarbonat; Carbide $ Schwefel; und Gemische dieser Materialien.The nickel matrix layer is produced by placing the object coated with cobalt (which therefore has a thin layer of shiny cobalt) in a dispersion bath 5 which has suspended particles with a size of approximately 0.05-5 % O / C. The article coated with glossy cobalt can remain immersed in this dispersion for a certain period of time (for example about 30 seconds), which time is sufficient for a layer of particles to form thereon. Then it is removed and transferred to a matrix bath, in which a conductive layer of .shining nickel is applied. The nickel plating bath (which is treated with activated carbon from time to time and filtered to keep the solution free of impurities and insolubles) can hold 300 g of nickel sulfate heptahydrate ? 60 g of nickel chloride hexahydrate s contains 45 g of boric acid and water up to one liter and has a pH of 4.0 (electrometric). A wide variety of dispersed materials can be used to make the nickel matrix, such as particles made from the following materials: talc, kaolin; Wax 5 graphite; Sulfides such as hydrogen disulfide and tungsten disulfide; Pigments such as barite 9 chromium / cobalt green and cobalt / aluminum blue and oxides such as silicon dioxide and aluminum oxide; Plastic particles such as particles of polymers or copolymers of styrene, butadiene, acrylonitrile, vinyl acetate, vinyl chloride, etc .; Diatomaceous earth; powdered aluminum; Activated carbon; Silicates =, such as sodium silicate; Carbonates «such as, for example, potassium carbonate; Carbides $ sulfur; and mixtures of these materials.

Es können auch andere Zusätze vorliegen, wie z.B. polare organische Verbindungen, beispielsweise Amide, Amine, langkettige Alkohole, acetylenische Verbindungen usw., um die Eigenschaften, die Haftung, die Inhibierung oderThere may also be other additives, such as polar organic compounds, for example amides, amines, long-chain alcohols, acetylenic compounds, etc. to improve properties, adhesion, or inhibition

209809/1458209809/1458

Dispergierung zu verbessern*Improve dispersion *

Das Aufbringen der Teilchen kann dadurch ausgeführt werden, daß man das Grundmaterial mit den Teilchen beschichtet« Die Teilchen können über die Metalloberfläche des Grundmaterials geblasen werden« Bas Grundmaterial kann auch in ein Bett aus den Teilchen eingetaucht werden, wobei vorzugsweise ein fluidisiertes Bett verwendet wird, d.h. ein Bett in dem die Teilchen in einem nach oben strömenden Gasstrom suspendiert sind. Sie Befestigung der Teilchen kann durch elektrostatische oder elektrophoretisch Techniken geschehen. Gegebenenfalls kann das Grundmetall naß sein, um die Haftung der Teilchen zu unterstützen«The application of the particles can be carried out by coating the base material with the particles Particles can be blown over the metal surface of the base material «Bas base material can also be blown into a bed of the particles, preferably using a fluidized bed, i.e. a bed in in which the particles are suspended in an upwardly flowing gas stream. You can attach the particles through electrostatic or electrophoretic techniques are done. Optionally, the base metal can be wet to the To support adhesion of the particles "

Sie Teilchen können in Form eines Bads verwendet werden, d.h. in Form einer Suspension, Emulsion, Dispersion oder eines Latex der festen oder halbfesten Teilchen in einem Medium, vorzugsweise einer Flüssigkeit. Bei einer bevorzugten Ausführungsfora sind feste Teilchen in einer Flüssigkeit suspendiert, wobei die Konzentration nur 0,001%, typischerweise 0,1-2% und vorzugsweise ungefähr 0,5% beträgt. Außergewöhnliche Resultate können erhalten werden, wenn man Bäder verwendet, die 0,1 bis 2% Teilchen enthalten·The particles can be used in the form of a bath, i. in the form of a suspension, emulsion, dispersion or a latex of the solid or semi-solid particles in a medium, preferably a liquid. In a preferred embodiment, solid particles are suspended in a liquid, the concentration being only 0.001%, typically 0.1-2% and preferably about 0.5%. Extraordinary Results can be obtained using baths containing 0.1 to 2% particles

Typischerweise können als Teilchen im Bad handelsübliche Materialien verwendet werden. Ein Beispiel hierfür ist Talcum, welches mit einer Teilchengröße im Bereich bis zu ungefähr 7/1 erhältlich ist. 0,1-2% Talcum können in Wasser eingebracht und dispergiert werden, beispielsweise durch Mahlen in einer Kugelmühle oder in einem Waring-Mischer oder durch Rühren. Ähnliche Techniken können verwendet werden, um Wachs, Pigmente, Kaolin usw. zu dispergieren.Commercially available materials can typically be used as the particles in the bath. An example of this is talc, which is available with a particle size in the range up to about 7/1 . 0.1-2% talc can be introduced into water and dispersed, for example by grinding in a ball mill or in a Waring mixer, or by stirring. Similar techniques can be used to disperse wax, pigments, kaolin, etc.

209309/1458209309/1458

Das Medium, in welchem die Teilchen suspendiert sind, kann aus Wasser bestehen; es ist aber vorzugsweise ein Bad mit einer Zusammensetzung, die dem unmittelbar vorher verwendeten Bad ähnlich ist, aus dem das Baismaterial für die weitere Behandlung entnommen wird« wie z.B. ein Wasserspülbad oder ein galvanisches Nickelbad«The medium in which the particles are suspended can consist of water; but it is preferably a bath with a composition similar to the bath used immediately before, from which the building material for the further Treatment is removed "such as a water rinsing bath or a galvanic nickel bath"

Typische Teilchen können aus einem Bad in Form einer Dispersion aufgebracht werden, die 0*005 - 5 (vorsugsweise 0,5) GewichtBteile Talcum? 95 - 100 (vorzugsweise ungefähr 100) Gswichtsteile Wasser; 0,00005 - 0^10 (vorzugsweise ungefähr 0,01) Gewichtsteile Dirnethyloleamid; und 0,00005 - 0,10 (vorzugsweise ungefähr 0,01} Gewichtsteile Natriumlignosulfonat enthält.Typical particles can be applied from a bath in the form of a dispersion that is 0 * 005 - 5 (preferably 0.5) Weight parts talc? 95 - 100 (preferably about 100) Parts by weight of water; 0.00005 - 0 ^ 10 (preferably about 0.01) Parts by weight of dirnethyloleamide; and 0.00005-0.10 (preferably contains approximately 0.01} parts by weight of sodium lignosulfonate.

Das Aufbringen der Teilchen auf die dünne Oobaltsehicht wird vorzugsweise dadurch ausgeführt, daß man die Metalloberfläche in ein wässriges Bad eintaucht, welches die Teilchen enthält« Das Eintauchen kann bei Raumtemperatur von ungefähr 10 - 400C ausgeführt werden. Die Oberfläche wird so lange im Bad belassen, daß die Oberfläche bedeckt wird, typischerweise 5 bis 60 sek, vorzugsweise ungefähr 30 sek. Eine mäßige Rührung bei dieser Stufe ist vorteilhaft.The application of the particles on the thin Oobaltsehicht is preferably carried out by immersing the metal surface in an aqueous bath containing the particles "the dipping can occur at room temperature of about 10-40 0 C are performed. The surface is left in the bath long enough to cover the surface, typically 5 to 60 seconds, preferably about 30 seconds. Moderate agitation at this stage is beneficial.

Die Oberfläche kann dann aus dem Bad entnommen werden, worauf sie eine Lage aus Teilchen aufweist, welche gleichmäßig verteilt auf der Oberfläche haften. Typischerweise sind 100 5.000.000 Teilchen/cm und üblicherweise 5.000 - 2.000.000 Teilchen/cm auf der Oberfläche vorhanden. Die auf diese Weise erhaltene Oberfläche kann gegebenenfalls trocknen gelassen oder mit Wasser gespült werden. Sie kann auch augenblicklieh wefcer verarbeitet werden (wobei sie noch einen dünnen haftenden Flüssigkeitsfilm trägt). Die nachfolgende Nickelschicht wird aus einem Nickelbad abgeschieden, welches weitgehend frei von diesen Teilchen ist, umThe surface can then be removed from the bath, whereupon it has a layer of particles which adhere evenly to the surface. Typically 100 is 5,000,000 Particles / cm and usually 5,000-2,000,000 particles / cm present on the surface. The on this Surface obtained in this way can optionally be left to dry or rinsed with water. She can too instantly processed wefcer (whereby they still carries a thin adhesive film of liquid). The subsequent nickel layer is deposited from a nickel bath, which is largely free of these particles

209809/ US8209809 / US8

eine leitende Uickelschicht herzustellen, die mit den haftenden !Teilchen durchsetzt ist, wobei eine Nickellmatrix entsteht. to produce a conductive Uickelschicht that adheres to the ! Particles are penetrated, creating a nickel matrix.

Die folgenden Beispiele erläutern typische teilchenfönaige Materialien, die in den angegebenen Konzentrationen verwendet werden können (ausgedrückt als Gew.-%).The following examples illustrate typical particle hairdryers Materials that can be used in the indicated concentrations (expressed as% by weight).

209809/U58209809 / U58

Kummer
der Dispersion
Grief
the dispersion

33 44th OO 55 coco OOOO
OO
66th
(O(O 77th tntn 88th CDCD 99

1111

Art des disper- Gew.-% gierten MaterialsType of dispersed weight% alloyed material

Polyvinylchlorid- 0,5 LatexPolyvinyl chloride 0.5 latex

Polyvinylacetat- 0,027 LatexPolyvinyl acetate 0.027 latex

Polyvinylacetat- 0,55 LatexPolyvinyl acetate-0.55 latex

Polyvinylacetat-Polyvinyl acetate

Latex 0,55Latex 0.55

Styrol/Butadien- 0,024Styrene / butadiene-0.024

Latexlatex

MoS2-Pulver 1,0MoS 2 powder 1.0

WS2-Pulver 1,0WS 2 powder 1.0

WSg-Pulver 1,0WSg powder 1.0

Talcum 0,8Talc 0.8

Talcum 0,8Talc 0.8

Talcum 0,8Talc 0.8

Graphit 1,0Graphite 1.0

Bezeichnung des dispergierten Materials und LieferantDesignation of the dispersed Materials and supplier

Dow 700Dow 700

Dow Chemical Co.Dow Chemical Co.

Plyannil 40-370;
Reichhold Chemical Inc.
Plyannil 40-370;
Reichhold Chemical Inc.

Gelva TS-30;Gelva TS-30;

Shawingan Plastics Corp.Shawingan Plastics Corp.

Gelva T8-30;Gelva T8-30;

Shawingan Plastics Corp.Shawingan Plastics Corp.

Pirestone PL-30;
Firestone Plastics Co.
Pirestone PL-30;
Firestone Plastics Co.

nominale Teilchengröße nominal particle size

0,16
0,5 -
0.16
0.5 -

0,5
0,5
0.5
0.5

0,20.2

Consolidated Astronautics Inc.Consolidated Astronautics Inc.

0,40.4

0,40.4

Submicron WS2;
Bemol, Inc.
SubmicroL·. WS2;
Bemol, Inc.
Submicron WS2;
Bemol, Inc.
SubmicroL ·. WS2;
Bemol, Inc.

Mistron 2SC;Mistron 2SC;

Sierra Talc & Chemical Co.Sierra Talc & Chemical Co.

Mistron ZSC;Mistron ZSC;

Sierra Talc & Chemical Co.Sierra Talc & Chemical Co.

Mistron ZSC;Mistron ZSC;

Sierra Talc & Chemical Co.Sierra Talc & Chemical Co.

Aquadag;Aquadag;

Acheson Colloids Company Acheson Colloids Company

0,4-6 maximal0.4-6 maximum

0,4—6 maximal 0,4-6 maximal0.4-6 maximum 0.4-6 maximum

4,2 maximal4.2 maximum

CO »J CO CDCO »J CO CD

Hummer der Dispersion Lobster of the dispersion

1313th

1414th

1515th

1616

209809/209809 / 1717th
1818th
*·»* · »
«π«Π
caapprox
1919th
2020th 2121st 2222nd 2525th

2424

Art des diaper- Gew.-% gierten MaterialsType of diaper wt% yawed material

Graphit 0,1Graphite 0.1

Graphit .. 0,4Graphite .. 0.4

Graphit 1,6 Chrom/Cobalt-Pigment 1,0Graphite 1.6 chromium / cobalt pigment 1.0

Cobalt/Aluminium- 1,0 PigmentCobalt / aluminum 1.0 pigment

WBp-Pulver + Cr/Co- 1,0 PigmentWBp powder + Cr / Co- 1.0 pigment

Talcum 0,15Talc 0.15

Talcum 0,15Talc 0.15

TalcumTalc

Talcum 0,4Talc 0.4

Kaliumcarbonat 0,2Potassium carbonate 0.2

kolloidaler Schwefel 0,05colloidal sulfur 0.05

pergierten Materialspergated material
und Lieferantand supplier
MillsMills TiOBi-J pn 1 et 1PnA "|, f»>^«^|—TiOBi-J pn 1 et 1 PnA "|, f»> ^ «^ | -
große (y&)large (y &)
dumber 5530;dumber 5530;
Asbury GraphiteAsbury Graphite
milsmils 2-5
Inc.
2-5
Inc.
JSuntoer 5530;JSuntoer 5530;
Asbury GraphiteAsbury Graphite
milsmils 2-5
Inc.
2-5
Inc.
Number 5530;Number 5530;
Asbury GraphiteAsbury Graphite
2-5
Inc.
2-5
Inc.
V-7687;V-7687;
Ferro Corp.Ferro Corp.
0,5 maximal0.5 maximum
V-3285;V-3285; 0,5 maximal0.5 maximum

; Ferror Corp.; Ferror Corp.

Submicron WS2 und V-7687; 0,4 (WS2) und Bemol, Inc. und Ferro Corp. 0,5 maximal (Cr/Go)Submicron WS2 and V-7687; 0.4 (WS 2 ) and Bemol, Inc. and Ferro Corp. 0.5 maximum (Cr / Go)

Nietron Monomix;Nietron Monomix; Sierra !CaIc * Chemicals Inc.Sierra! CaIc * Chemicals Inc. Mistron Monomix;Mistron Monomix; Sierra !CaIc & Chemicals Inc.Sierra! CaIc & Chemicals Inc.

0,15 matron Monomix;0.15 matron Monomix;

Sierra Talc & Chemicals Inc.Sierra Talc & Chemicals Inc.

1,0—6 maximal1.0-6 maximum

1,0—6 maximal1.0-6 maximum

1,0-6 maximal 1,0—6 maximal1.0-6 maximum 1.0-6 maximum

Mistron Monomix;Mistron Monomix; Sierra Haie & Chemicals Inc.Sierra Sharks & Chemicals Inc. Camel-White; 10 maximalCamel white; 10 maximum Harry T. Campbell Sons Corp.Harry T. Campbell Sons Corp.

hergestellt durch Eingießen einer heißen gesättigten Lösung von Schwefel in Alkohol — in Wassermade by pouring a hot saturated solution of sulfur in alcohol - in water

Ziir Herstellung der obigen Tauchdispersion kaim entweder Wasser oder der Nickel» oder Cobaltelektrolyt verwendet werden· In jedem Fall erhält der mit Cobalt bedeckte Gegenstand, der die haftenden Teilchen aufweist, eine dünne Schicht aus Nickel aus ein oder mehreren der hie? beschriebenen nickelhaltigen Bäder. Sie nic^elhaltigen Bäder werden weitgehend frei von den !Teilchen gehalten, die in der üauchdispersion anwesend sind.Either one can prepare the above immersion dispersion Water or the nickel or cobalt electrolyte used In any case, the object covered with cobalt, which has the adhering particles, a thin layer of nickel from one or more of the hie? described nickel-containing baths. The baths containing nicotine are kept largely free of the particles that are in the üauchdispersion are present.

Die Gegenstände mit den drei Schichten, welche eine dünne Schicht aus einer Nickelmatrix mit einer Dicke von 2 - Λ2// aufweisen, können dann weiter mit einem dekorativen Chrombelag versehen werden· Die Verchromung kann bei Temperaturen von 30 - 600C, beispielsweise 43°C und b@i Strom-The objects with the three layers a thin layer of a nickel matrix having a thickness of 2 - have Λ2 // can then be further provided with a decorative chrome coating ·, the chromium plating can be at temperatures of 30 - 60 0C, for example, 43 ° C and b @ i current

' .ρ ο'.ρ ο

dichten von 5-50 A/dm, beispieleweise 10 k/ßm , während 0,5 - 15 min, beispielsweise 5 min, ausgeführt wtrden* wobei Bäder verwendet werden, di© 100 - 500 g/l, beispielsweise 250 g/l Chromsäure und 1- 5 g/l« beispielsweise 2,5 g/l Sulfationen, die sich typischerweise von Natriumsulfat ableiten, enthalten. In den Yerchroarangsbädern kijmvan noch weitere Komponenten anwesend sein, wie as. B. andere 7er-Chromungskatalysatoren, beispielsweise Fluoride Silicofluorid, oder andere komplexe Fluoride, selbstregulierende strontiumhaltige Zusammensetzungen, Stoffe, welche die Bildung von Dämpfen unterdrücken usw.densities of 5-50 A / dm, for example 10 k / ßm , for 0.5-15 min, for example 5 min, carried out * using baths, ie 100-500 g / l, for example 250 g / l chromic acid and 1-5 g / l «for example 2.5 g / l sulphate ions, which are typically derived from sodium sulphate. In the yerchroarang baths, other components may also be present, such as other 7-chromium catalysts, for example fluoride silicofluoride, or other complex fluorides, self-regulating strontium-containing compositions, substances that suppress the formation of vapors, etc.

Die durch das erfindungsgemäSe Verfahren hergestellte Chromschicht kann eine Dicke von mindestens ungefähr 0,02/£(dekorative Dicken betragen weniger als ungefähr 1/0 hergestellt werden. Sie zeichnen sich besonders durch @in glänzendes dekoratives Aussehen, eine hohe Korrosionsbeständigkeit und ©iae mikrorissige und mikroporöse Struktur aus. DieThe chrome layer produced by the method according to the invention can be at least about 0.02 / £ (decorative Thicknesses are less than about 1/0 made will. They are particularly characterized by @in shiny decorative appearance, high corrosion resistance and © iae micro-cracked and microporous structure. the

BAD ORIGINAL 209809/1AS8BATH ORIGINAL 209809 / 1AS8

Chromseliicht, welche vorzugsweise auf der Teilchen enthaltenden Nickelmatrixschicht aufgebracht wird, wobei die Teilchen teilweise über die Oberfläche der nickelhaltigen Matrixschicht vorspringen, können eine Mikrorissigkeit und Mikroporosität Über im wesentlichen der gesamten Oberfläche aufweisen.Chromium light, which is preferably contained on the particles Nickel matrix layer is applied, the particles partially over the surface of the nickel-containing matrix layer protruding can exhibit microcracking and microporosity over substantially the entire surface.

Die mikrorissige Oberfläche der Chromschicht, die beim erfindungege mäßen Verfahren unter Verwendung der oben beschriebenen Matrix hergestellt wird, besitzt mindestens 100 Κΐίετο-risse je linearen Zentimeter in einem Abstand von 40 mm vom Ende hoher Stromdichte einer in einer Standard-Eull-Zelle mit 10 A während 5 min bei 43°C beschichteten Platte, wogegen die gleiche Chromschicht bei einer typischen bekannten Uickelunterläge nur 2-4 Mikrorisse je linearen Zentimeter aufweist« Diese unerwartet hohe Mikrorissigkeit reicht aus mikrorissige Bereiche durch die gesamte Dicke des abgeschiedenen Chroms in der Gegend der hohen Stromdichte und der mittleren Stromdichte au erzielen. Die hohe Mikrorissigkeit erstreckt sich weitgehend über die Oberfläche der Chromschicht und geht nahtlos in die mikroporösen Bereiche über, die für die Bereiche niedriger Stromdichte bei der erfindungsgemäßen Plattierung der Matrixoberfläche charakteristisch sind.The micro-cracked surface of the chrome layer, which is produced in the process according to the invention using the matrix described above, has at least 100 cracks per linear centimeter at a distance of 40 mm from the end of high current density in a standard Eull cell with 10 A. Plate coated for 5 min at 43 ° C, whereas the same chromium layer in a typical known Uickel base has only 2-4 microcracks per linear centimeter and the mean current density au. The high microcracking extends largely over the surface of the chrome layer and merges seamlessly into the microporous areas which are characteristic of the areas of low current density in the plating of the matrix surface according to the invention.

Venn man dieses Produkt unter einem Mikroslcop untersucht, dann stellt man fest, daß es im Bereich niedriger Stromdichte der Standard-Hull-Zelle eine mikroporöse Oberfläche aufweist« Typischerweise enthält das Produkt des Verfahrens eine Vielzahl von Poren, typischerweise ungefähr hundert bis zwei oder drei Millionen (bei einer Chromdicke von weniger als ungefähr 0,5>C6> wobei die Poren mehr oder weniger gleichförmig über die Oberfläche des Metalls verteilt sind. Ein auf dl® dritte dünne Nickelschient abgeschiedenes Chrom enthält also mikroporöse Bereiche und mikrorissige BereicheWhen examining this product under a microscope, then it is found that there is a microporous surface in the low current density region of the standard Hull cell Typically, the product of the process will contain a multiplicity of pores, typically about a hundred to two or three million (with a chrome thickness of less than about 0.5> C6> the pores being more or less uniformly distributed over the surface of the metal. A chrome deposited on dl® third thin nickel bar thus contains microporous areas and micro-cracked areas

209809/USS209809 / USS

über die gesamte Oberfläche verteilt» Be wird angenommen, daß die Anwesenheit von mikroporösen Bereichen (d.h. eatwe er der mikroporösen Bereiche oder mikrorissigen Bereiche) auf der gesamten Oberfläche der Ghromschicht in Verbindung mit den darunter liegenden Kupfer-, Cobalt- und Nickelschichten die neuen vorteilhaften Ergebnisse der Erfindung ermöglicht.Distributed over the entire surface » Be it is believed that the presence of microporous areas (i.e. eatwe er the microporous areas or microcracked areas) on the entire surface of the chromium layer in conjunction with the underlying copper, cobalt and nickel layers produce the new beneficial results the invention allows.

Venn eine Chromschicht auf das Kupfer/Cobalt/Hiekelmatrix-Schichtsystem aufgebracht wird, wie sie hier beschrieben wurde5, dann werden unerwartete Vorteile erzielt. Wenn alfe anderen Faktoren konstant sind, dann hängt die Eissigkeit der Chromschicht von ihrer Dicke ab. Solche Faktoren wie die Konzentration der Chromsäure, die Konzentration der Katalysatormaterialien, die Abscheidungstemperatur usw. besitzen alle einen Einfluß. Es ist ein charaiteristisches Merkmal bei den bekannten Vsrchromungsverfahren, daß eine Rißbildung während der ersten Stufe der Abscheidung bis zu ungefähr 0,5/t nicht auftritt. Wenn die Dicke zunimmt, beispielsweise im Bereich von O?5 - 1,O^ , dann entstehen in unerwünschter Weise starke Risse. In der ebenfalls ungünstigen dritten Stufe von beispielsweise ungefähr 1,0 1,5/έtritt eine flitterartige Rißbildung auf* d.h. MLkrorisse sind in dicke Risse eingestreut. Nur in der vierten Stufe alleine entwickelt sich die Mikrorissigkeit. Die unerwünschten Zwischenstufen , d.h. die Stufen zwei und drei, haben ein ungünstiges Aussehen. Dies gilt insbesondere, nachdem durch die Korrosion die Risse stärker hervortreten. Die Mikroporen und die Mikrorisse können wegen ihrer feinen Struktur nicht vom bloßen Auge wahrgenommen werden. Die Anwesenheit dieser MLkrorisse auf der gesamten Schicht ergibt eine außergewöhnliche Korrosionsbeständigkeit.When a chromium layer is applied to the copper / cobalt / knitted matrix layer system as described here5, unexpected advantages are achieved. If all of the other factors are constant, then the iciness of the chrome layer depends on its thickness. Such factors as the concentration of chromic acid, the concentration of the catalyst materials, the deposition temperature, etc. all have an influence. It is a characteristic of the known chromium plating processes that cracking does not occur during the first stage of the deposition up to about 0.5 / t. If the thickness increases, for example in the range of O ? 5 - 1, O ^, then undesirably strong cracks occur. In the likewise unfavorable third level of approximately 1.0 1.5 / έ, for example, a tinsel-like crack formation occurs * that is, M-cracks are interspersed in thick cracks. Only in the fourth stage alone does microcracking develop. The undesirable intermediate stages, ie stages two and three, have an unfavorable appearance. This is especially true after the cracks become more prominent due to the corrosion. The micro-pores and micro-cracks cannot be perceived by the naked eye because of their fine structure. The presence of these M cracks over the entire layer gives an exceptional resistance to corrosion.

BAD OBlGSNALBATHROOM OBlGSNAL

209809/H58209809 / H58

In unerwarteter Weise wurde festgestellt, daß beim erfindungsgemäßen Verfahren eine Mikroporosität bereits in der Stufe eins erzeugt wird und daß die Bildung von Mlkrorissen erleichtert wird, so daß in den Stufen zwei und drei die starken Hisse bzw* die flitterartigen Bisse nicht in Erscheinung treten« Die fertige Verchromung besitzt im niedrigen Stromdichtebereich eine Mikroporosität und im höheren Stromdichtebereich eine Mikrorissigkeit, wobei keinerlei große Einzelrisse und flitterartige Bißbildung vorliegen·It was unexpectedly found that the invention Process a microporosity is already generated in stage one and that facilitates the formation of microcracks so that in stages two and three the strong hoes or the tinsel-like bites do not appear step «The finished chrome plating has a low current density range microporosity and, in the higher current density range, micro-cracks, with no large individual cracks whatsoever and tinsel-like bite formation are present

Die bevorzugte Dicke der dekorativen glänzenden Verchromung kann 0,02 - 5*0^» beispielsweise 0,5/#» betragen. Der Grad der Mikrorissigkeit (der bei Dicken von mehr als ungefähr 0,5/^erzielt wird) über einer typischen Kupfer/Cobalt/ Nickelmatrix-Schicht kann mindestens 100 Mikrorisse je linearem Zentimeter betragen.The preferred thickness of the decorative shiny chrome plating can be 0.02 - 5 * 0 ^ »for example 0.5 / #». Of the Degree of microcracking (achieved at thicknesses greater than approximately 0.5 / ^) above a typical copper / cobalt / Nickel matrix layer can have at least 100 microcracks each linear centimeter.

In den folgenden Beispielen wurden, sofern nichts anderes angegeben, Grundmetallplatten mit einer glänzenden Kupferschicht in einem Standardglanzkupferbad versehen. Die mit glänzendem Kupfer versehenen Platten wurden dann gespült, worauf auf ihnen eine Schicht von 0,25 - 6/£ glänzendes Cobalt (wie in den Tabellen XI und XII angegeben) abgeschieden wurde« Hierauf wurden (sofern angegeben) die Platten in ein Dispersionsbad eingetaucht, welches die in der !Tabelle XII angegebenen suspendierten Teilchen enthielt. Die Metallplatte, welche die dünne Cobalt schicht aufwies, wurde ungefähr 30 eek in dieses Bad gehalten, um darauf eine Lage aus Teilchen herzustellen. Hierauf wurde die Platte entnommen und in ein Matrixbad überführt, in dem eine leitende dritte nickelhaltige Schicht abgeschieden wurde· Das Bad für die Abscheidung der nickelhaltigen SchichtIn the following examples, unless otherwise specified, base metal plates were provided with a shiny copper layer in a standard bright copper bath. The shiny copper plates were then rinsed, whereupon a layer of .25 to £ 6 shining on them Cobalt (as indicated in Tables XI and XII) was deposited Plates immersed in a dispersion bath containing the suspended particles listed in Table XII contained. The metal plate that layers the thin cobalt was held in this bath to about 30 eek then to make a layer of particles. The plate was then removed and transferred to a matrix bath, in a conductive third nickel-containing layer has been deposited · The bath for the deposition of the nickel-containing layer

BAD ORIGINALBATH ORIGINAL

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(von. Zeit zu Zeit wurde es mit Aktivkohle behandelt und filtriert, um die Lösung £rei von Verunreinigungen und unlöslichen Stoffen au halten) enthielt 300 @ Nickelsulfat-heptahydrat, 60 g Uickelchlorid-hexahydrat „ 4-5 g Borsäure und Wasser bis zu 1 1. Der pH betrug 4-,O. In der Tabelle XI sind solche Beispiele enthalten, bei denen die Nickelschicht keine Teilchen enthielt. Die Tabelle XII enthält die Beispiele, bei denen eine Ifickelmatrix vorliegt.(from time to time it was treated with activated charcoal and filtered, to solve the problem of impurities and insolubles Contain substances) contains 300 @ nickel sulfate heptahydrate, 60 g of nickel chloride hexahydrate, 4-5 g of boric acid and water up to to 1 1. The pH was 4-.0. Such examples are given in Table XI in which the nickel layer did not contain any particles. Table XII contains the examples where an Ifickel matrix is present.

Nach der Abscheidung der Niekeischieht wurde die Platte mit Wasser gespültt und dann in einem Bad verchromt5 welches 250 g/l Chromsäure und 2,5 g/l Sulfat (als Hatriumsulfat zugegeben) enthielt und welches eine Temperatur von 450C aufwies.After deposition of the Niekeischieht the plate was rinsed with water and then t plated in a bath 5 containing 250 g / l chromic acid and 2.5 g / l sulfate (added as Hatriumsulfat) contained and which had a temperature of 45 0 C.

In den Tabellen XI, XII, XIII und XIV aind die GASS-Ein~ stufungen in Fora van Zahlenpaaren angegeben, wobei die erste ; Zahl den Grad der Grundaetallkorrosion und die zweite Zahl das Aussehen angibt* DIs Einstufungen reichen von 0-1O. Die höheren Zahlen zeigen eine bessere Einstufung· Vierte von mehr als 7-6 sind annehmbar.In Tables XI, XII, XIII and XIV the GASS-Ein ~ gradations are given in Fora van pairs of numbers, with the first ; Number the degree of base metal corrosion and the second number indicates the appearance * DIs ratings range from 0-1O. The higher numbers indicate a better ranking Fourths out of 7-6 are acceptable.

Jedes Beispiel wurde doppelt mit einer Stahlplatte ausgeführt. Alle Platten erhielten abschließend 0,25/t Chrom, bevor die Prüfung für die OASS-Einstufung gemacht wurde,Each example was done in duplicate with a steel plate. All plates finally received 0.25 / t Chrome done before testing for OASS classification became,

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I.KupferI. copper Tabelle XITable XI Schichtlayer OASS-EinstufungOASS classification 44 Stunden44 hours Dicke (jt&) derThickness (jt &) the .Nickel.Nickel 22 Stunden22 hours Beiat 2525th 2.glänzen- 32. shine - 3 10/1010/10 spiel
Nr.
game
No.
2525th des Cobaltof the cobalt VJlVJl 10/1010/10 10/1010/10
11 2525th 11 55 10/1010/10 0/00/0 22 2525th 11 66th 0/00/0 0/00/0 33 2525th 0"0 " 66th 0/00/0 10/610/6 44th 2525th 00 00 10/810/8 10/610/6 55 OO 66th 00 .10/8.10 / 8 0/00/0 66th OO 66th 55 3/23/2 0/00/0 77th 1 '1 ' 55 8/78/7 88th 11

Bei den Beispielen 3 und 4, "bei denen eine Schicht aus Hickel anst®li@ τοη 1y££Cobalt und 5/CHickel verwendet wurde (im Gegensatz su den Beispielen 1 und 2, welche die Erfindung erläutern) waren die ClSS-Einstufungen vollständig unzufriedenstellsad (0/0) und zwar sowohl nach 22 st als auch nach 44 st. In den Beispielen 7 raid 8 wurde die erste Schicht aus Kupfer weggelassen. Es i3t ersichtlich» daß die OASS-Einstufung hei 22 st wesentlich schleehter war als bei den Beispielen 1 md 2e Bei MA- st waren die ÖABS-Einstufungen der Beispiele 7 und 8 vollständig imsufriedenstellend.In Examples 3 and 4, "in which a layer of Hickel anst®li @ τοη 1y ££ cobalt and 5 / CHickel was used (in contrast to Examples 1 and 2, which explain the invention), the ClSS ratings were complete unsatisfactory (0/0), both after 22 hours and after 44 hours. The first layer of copper was omitted in Examples 7 and 8. It can be seen that the OASS classification was significantly worse than in the case of the 22 st Examples 1 md 2 e ÖABS the classifications of Examples st In MA 7 and 8 completely imsufriedenstellend.

In den folgendes, Beispiele» wurde eine niokelhaltige Matrix als nickelhaltig© Schicht verwendet* Die Teilchen bestanden aus Talcum (0,,1% Salcum - Astron Honomir in Wasser/. ?or der Ermittlung der GASS-Sinstufuagen wurde eine Schicht von 0,127/X aus Clirom aufgebracht.In the following "examples" a niokeliferous matrix was used used as a nickel-containing layer * The particles passed from talc (0.1% Salcum - Astron Honomir in water /. ? Before the determination of the GASS Sinstufuagen was a shift of 0.127 / X applied from Clirom.

209809/U58209809 / U58

CASS^Einstu^ungCASS ^ classification

Bei- 1. Kupfer 2. glänsesi- 3» Nickel- 22 st 44 stWith- 1. Copper 2. Glänsesi- 3 »Nickel- 22 st 44 st

spiel des Cobalt Matrixgame of the Cobalt Matrix

9
(Ver
gleich)
9
(Ver
same)
1818th 00 ,625, 625 , 7*6
(Glans-
nickel)
, 7 * 6
(Glans-
nickel)
10/910/9 10/610/6
1010 1818th 00 *25* 25 1,81.8 10/1010/10 10/1010/10 1111 1818th 11 »5.»5. 1*81 * 8 10/1010/10 10/1010/10 1212th 1818th 22 fOfO 1,81.8 10/1010/10 10/1010/10 1313th 1818th 55 1,81.8 10/1010/10 10/1010/10

Wie aus Tabelle XII ersichtlich ist kann ein© geringer© nickelstärke verwendet werden, wenn eine Uiokelmatrix zuT Anwendung gelangt, und außerdem kann die Gesamtdicke der Schicht aus Cobalt und iliekel verringert i^erden, wobei sian trotsdem außergewöhnliche CASS-Einstufungen erhält.As can be seen from Table XII, a low nickel strength can be used when a oil matrix is used, and the overall thickness of the cobalt and oil layer can also be reduced while still receiving exceptional CASS ratings.

Im Vergleichsbeispiel 9 wurde eine 7»6^tstarks (Jlanssniekel schicht ansfee Lie der Cohaltschicht und der Nickelmatrixschicht verv;eadeb. Die GlSö-Einstufungen waren sowohl bei 22 st als auch bei 44- st geringer.In comparative example 9, a 7 »6 ^ tstarks (Jlanssniekel layer on the lie of the carbon layer and the nickel matrix layer verv; eadeb. The GlSö ratings were both at 22 st and 44 st lower.

In den folgenden Beispielen wurden Vergleiche ausgeführt, um den Effekt ?,u zeigen^ der entsteht, wenn man anstelle der ersten KupferscEicht, wi-3 sie gemäß der Erfindung verwendet wird, fiiri.e ersbe Schicht aus Nickel (aus zwei ver-Ni^V.:elbäd@rn) siasetat.In the following examples, comparisons were made in order to show the effect that arises when , instead of the first copper layer, as used in accordance with the invention, a first layer of nickel (made of two different layers of nickel) is used V.:elbäd@rn) siasetat.

Das Trfässrige jrlanükuprerbac«. war das gleiche wie in Beispiel 1 und eathlelt 240 g/l CuSO4.5H3O, 60 g/l HThe watery jrlanükuprerbac «. was the same as in Example 1 and eats 240 g / l CuSO 4 .5H 3 O, 60 g / l H

BADBATH

209809/U58209809 / U58

0,06 g/l Chloridionen, 1^0 g/l Polyäther und ungefähr 0,020 g/l sulfoniertes Disulfid.0.06 g / l chloride ion, 1 ^ 0 g / l polyether and about 0.020 g / l sulfonated disulfide.

Das erste wässrige Nickelbad, das für die in der Tabelle XIII angegebenen Versuche verwendet wurde (bezeichnet mit Glanznickelbad 1) enthielt JOO g/l NiSO,,. ?Ho0, 60 g/l NiCl0.6Ho0, 35 g/l Η,ΒΟ,, 0,05 g/l primär' 'Glänzer (hauptsächlich Butindiol), 5*0 g/l sekundären Glänzer (Saccharin) und 0,125 g/l Netzmittel (Natrium-di-n-hexyl-sulfosuccinat)The first aqueous nickel bath which was used for the experiments given in Table XIII (designated bright nickel bath 1) contained JOO g / l NiSO ,,. ? H o 0.60 g / l NiCl 0 .6H o 0.35 g / l Η, ΒΟ ,, 0.05 g / l primary '' gloss (mainly butynediol), 5 * 0 g / l secondary gloss (saccharin ) and 0.125 g / l wetting agent (sodium di-n-hexyl sulfosuccinate)

Das zweite wässrige Nickerbad, das für die in der folgenden Tabelle XIII angegebenen Versuche verwendet wurde (bezeichnet Glanznickelbad 2) enthielt 300 g/l NiSO^.?H20, 60 g/l NiOl2.6H2O, 35 g/l H5BO5, 0,02 g/l primärer Glänzer (hauptsächlich acetylenisches Diol) und 0,125 g/l Netzmittel (Natriumdi-n-hexyl-sulfosuccinat). The second aqueous nickel bath which was used for the experiments given in Table XIII below (referred to as bright nickel bath 2) contained 300 g / l NiSO ^.? H 2 0.60 g / l NiOl 2 .6H 2 O, 35 g / l H 5 BO 5 , 0.02 g / l primary gloss (mainly acetylenic diol) and 0.125 g / l wetting agent (sodium di-n-hexyl sulfosuccinate).

Das wässrige Glanzco'baltbad, welches zur Herstellung der Glanzcobaltschicht für die in Tabelle XIII angegebenen Versuche verwendet wurde t enthielt 300 g/l CoSO^.7H2O, 60 g/l CoCl2.6H2O, 45 g/l H5BO5, 5,0 g/l Saccharin, primären Glänzer (hauptsächlich Butindiol) und Netzmittel (Natrium-di-n-hexyl-sulfosuccinat)·The aqueous Glanzco'baltbad, which was used for the preparation of the gloss layer for the cobalt set forth in Table XIII testing t containing 300 g / l CoSO ^ · 7H 2 O, 60 g / l CoCl 2 .6H 2 O, 45 g / l H 5 BO 5 , 5.0 g / l saccharin, primary gloss (mainly butynediol) and wetting agent (sodium di-n-hexyl sulfosuccinate)

Identische Stahlplatten wurden galvanisch mit den obigen Bädern behandelt. Hierauf wurde eine 0,25/Cdicke äußere Chromschicht galvanisch aufgebracht, wobei das Chrombad von Beispiel 1 und die gleichen Äbscheidungsbedingungen verwendet wurden. Die ßesultate sind in Tabelle XIII zusammengefaßt.Identical steel plates were electroplated with the above baths. A 0.25 / C thickness was then added Chromium layer applied by electroplating, the chromium bath of Example 1 and the same deposition conditions were used. The results are in Table XIII summarized.

BAD ORlGiRALBAD ORlGiRAL

209809/U58209809 / U58

!Tabelle Uli
Dicke Cfc) der abgeschiedenen Schicht CASS-Eiastufung
! Table Uli
Thickness Cfc) of the deposited layer CASS grading

Bei- 1. erste Schicht 2. Glanz- Glanz- 22 stWith- 1. first layer 2. gloss- 3 » gloss- 22 st

spiel cobalt nickel 1game cobalt nickel 1

44 3t44 3t

13 18 (Glanzkupfer) 2,513 18 (bright copper) 2.5

14 18 (Glanzkupfer) 2,514 18 (bright copper) 2.5

15 18 (Glanznickel 1) 2,515 18 (bright nickel 1) 2.5

16 18 (Glanznickel 2) 29516 18 (bright nickel 2) 2 9 5

1,8 1*81.8 1 * 8

10/1010/10

10/10 10/10 10/9 10/710/10 10/10 10/9 10/7

Aus der Tabelle XIII ist ersichtlich, ersten Nickelschicht mit der gleichen Kupferschicht OASS-Einstufungesi @rgibts ringsr sind.From Table XIII, the first nickel layer can be seen with the same copper layer OASS-Einstufungesi s @rgibt ringsr are.

di® ?erw©ßdung einer wiedi®? mentions a how

et ge·et ge

In den folgenden Beispielen (di® in Tabelle XI? faft sind) wurden die gleiches, Stahlplatte wie ia d©n Tersuchen der Tabellen XI - Uli v@s?^®M©to Di© ©sut© Kx _ schicht wurde aus einem wässrigen Glaasknpf©röi,d9 tji© @S3 für Tabelle XIII beschrieben ist«, unter ¥erw©a.etasg mm ifientisehen Abscheidungsbedingungen abgeschiedene Di© Diek® d©§ Kupfers war die gleich®. Die aweit© Cob&ltsehieht mräe in Ssalieher Weise auf der ersten Kupfersehioht ame @ia@a wässrigsa Glanscobaltbad abgeschieden, wie ©s ia Tabelle HII aag@g©b©a. ist, wob©i identische Abscheidungsbgdiagiisgeii Terwendet %ns?denv um eine zweite Glanzcobaltscliioht mit ©iner Siek© ir©a 2, hersuetellen^ wie es in Tabelle HT angegeben ist« Mae dritte nickelhaltige Söhicht mit d@r ia Tabelle217 aagegebeaen Dicke wurde unter Yesw®nü.wo.s ©ia©s Hiek®l/C©"&alt-Bads hergestellt, welches 240 g/l HiSO45 60 g/l CoSO1^. 60 g/l MCl0ο6H0O Und 45 g/l H^BO^ enthielt.In the following examples (there are five in Table XI), the same steel plate as in Tersuchen of Tables XI - Uli v @ s? ^ ®M © to Di © sut © Kx _ was made of a layer aqueous glass button © röi, d 9 tji © @ S3 for Table XIII is described «, under ¥ a.etasg mm ifientisehen deposition conditions the deposited Di © Diek® d © § copper was the same®. The aweit © Cob & ltseh sees mräe deposited in Ssalieher manner on the first copper layer ame @ ia @ a aqueous Glanscobaltbad, as © s ia table HII aag @ g © b © a. is, with identical deposition diagiisgeii applied% ns? the v to a second glossy cobalt cliioht with © iner Siek © ir © a 2, produced as it is given in Table HT "Mae third nickel-containing layer with the thickness given in Table 217 under Yesw®nü.wo.s © ia © s Hiek®l / C © "& alt-Bads produced, which 240 g / l HiSO 45 60 g / l CoSO 1 ^. 60 g / l MCl 0 ο6H 0 O and 45 g / l H ^ BO ^ contained.

et elet el ΐ? ·?ΐ? ·?

legisrte Anoaen aus 80 Gewe-fö Micke 1 uad 20legisrte Anoaen of 80 wt e -fö Micke 1 uad 20

BAD ORIGINALBATH ORIGINAL

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Die 0,25 /έ dicke Chromschicht wurde in der gleichen Weise und aus dem gleichen Bad aufgebracht, wie es in Beispiel 1 beschrieben ist.The 0.25 / έ thick chrome layer was made in the same way and applied from the same bath as described in Example 1 is.

Der Vergleich (Beispiel 18) war in jeder Hinsicht mit Beispiel 17 identisch, wobei lediglich eine Schicht aus halbglänzendem Nickel mit einer Dicke von 3/4, anstelle der
2,3JUdicken Glänze obalt schicht (Schicht2) von Beispiel 17 verwendet wurde* Die halbglänaende Nickelschicht wurde unter Verwendung eines Bads hergestellt, wie es in der US-Patentschrift 3 486 989 beschrieben ist und welches 300 g/l
NiSO447H2O, 45 g/l NiCl2.6H2O, 45 g/l H5BO3 und 0,15 g/l
Fiperonal enthielt. Es wurde ein elektrometrisch gemessener pH von 3,8 - 4,0 verwendet. Die Resultate sind in Tabelle
XIV angegeben.
The comparison (Example 18) was identical in all respects to Example 17, with only a layer of semi-bright nickel with a thickness of 3/4 instead of the
2,3JU thick luster if the layer (layer 2) of Example 17 was used * The semi-glossy nickel layer was produced using a bath as described in US Pat. No. 3,486,989 and which is 300 g / l
NiSO 44 7H 2 O, 45 g / l NiCl 2 .6H 2 O, 45 g / l H 5 BO 3 and 0.15 g / l
Fiperonal contained. An electrometrically measured pH of 3.8-4.0 was used. The results are in the table
XIV stated.

209809/ 1 458209809/1 458

Beispiel
Kummer
example
Grief

tabelle XIVtable XIV

Dicke (/4) der abgeschiedenen Schicht 1. erste Schicht 2. zweite Schicht Thickness (/ 4) of the deposited layer 1. first layer 2. second layer

CASS-EinstufungCASS classification

3«glänzende Legierung aus Nickel 22 st 44 st
und Cobalt '
3 «shiny alloy of nickel 22 st 44 st
and cobalt '

18 (Glanzkupfer) 2,5 (Glanzcobalt) 1.818 (bright copper) 2.5 (bright cobalt) 1.8

10/10 10/910/10 10/9

18 18 (Glanzkupfer) 3,0 (halbglänzendes 1,8 (Vergleich) Nickel)18 18 (bright copper) 3.0 (semi-bright 1.8 (comparison) nickel)

10/910/9

10/610/6

--J OO O--J OO O

Wie aus Tabelle SIV ersichtlich ist, waren die CASS-Einstufungen für Beispiel 17 (erfindungsgema$ besser als die Einstufungen, die mit dem Vergleich erhalten wurden, und sswar sowohl bei 22 st als auch bei 44 st.As can be seen from Table SIV, the CASS ratings were for example 17 (according to the invention better than the classifications, obtained with the comparison, and ssw was at both 22 st and 44 st.

Es wird angenommen, daß die verbesserten Eigenschaften (insbesondere die verbesserte Korrosionsbeständigkeit), die gemäß der Erfindung erhalten wird, ihren Grund in der Aufrechterhaltung einer richtigen Balance zwischen den elektrochemischen Aktivitäten in den verschiedenen Einzelschichten hat. Es wird angenommen, daß wegen der Tatsache, daß Cobalt rascher korrodiert als Nickel oder Kupfer, eine beträchtliche Korrosion der Cobaltschioht entsteht, wenn die Korrosionswege diese Oobaltschicht erreichen. Offensichtlich ist die Aktivität der Cobaltschicht nicht ganz so empfindlich auf den Schwefelgehalt, wie es bei einer Nickelschicht der Fall ist, weshalb die Cobaltschicht zu einer bevorzugten Korrosion neigt» Die relativen Aktivitäten der Metallschichten des zusammengesetzten Überzugs können dadurch erhalten werden, daß man die !Potentiale dieser Netalle gegen die Standard-Calomelelektrode in einer mit Luft gesättigten 3%igen (Gewicht) wässrigen Natriumchloridlösung mißt. Es wurde festgestellt, daß die Einverleibung von Cobalt in einen glänzenden schwefelhaltigen Nickelbelag bis zu ungefähr 50 Gew.-% nur eine schwache Wirkung auf dieses Potential besitzt. Wenn jedoch der Oobaltgehalt über 50 Gew.-# steigt, dann ändert sich das Potential rascher in der aktiveren Richtung. Auf der Grundlage dieser Überlegungen kann angenommen werden, daß Cobalt das Nickel und das Chrom in einer ähnlichen Weise schützt, wie Zink Stahl schützt. Biese Hypothese wird durch Mikrophotographien des Querschnitts von korrodierten Niederschlägen gestützt, welche zeigen, daß Korrosionsporen, die sich in die Cobaltschicht erstrecken, sich auch seitlich erstrecken, so daß die Cobaltschicht bevorzugt korrodiert, wogegen die KupferschichtIt is believed that the improved properties (especially the improved corrosion resistance) obtained according to the invention is due to the maintenance has a correct balance between the electrochemical activities in the various individual layers. It will believed that due to the fact that cobalt corrodes more rapidly than nickel or copper, there is considerable corrosion the cobalt layer arises when the corrosion paths reach this oobalt layer. Obviously the activity of the cobalt layer is not quite as sensitive to the Sulfur content, as is the case with a nickel layer, which is why the cobalt layer is a preferred corrosion tends »The relative activities of the metal layers of the composite coating can be obtained by that one compares the! potentials of these netalles with the standard calomel electrode in a 3% strength (by weight) aqueous sodium chloride solution saturated with air. It was found that the incorporation of cobalt into a shiny, sulphurous nickel coating was up to about 50 wt% has only a weak effect on this potential. However, if the oobalt content rises above 50 wt .- #, then the potential changes more rapidly in the more active direction. On the basis of these considerations it can be assumed It is suggested that cobalt protects the nickel and chromium in a similar way that zinc protects steel. This hypothesis is supported by photomicrographs of the cross-section of corroded precipitates, which show that corrosion pores, which are in the cobalt layer extend, also extend laterally, so that the cobalt layer preferentially corrodes, whereas the copper layer

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weitgehend intakt bleibt. So ist es also besonders überraschend, daß extrem dünne Cobalt schichten verwendet werden können, um eine wirksame Korrosionsverbesserung zu erzielen»remains largely intact. So it is particularly surprising that extremely thin layers of cobalt can be used to to achieve effective corrosion improvement »

Es wird angenommen, daß die dünnen Cobaltschichten deshalb wirksam sind, weil der Widerstand des Wegs des elektrischen Stroms durch die verhältnismäßig dünnen physikalischen Ab-DBsstangen erhöht wird, weshalb der Korrosionsstrom zwischen dem Cobalt und dem Chrom verringert wird, obwohl ein solcher Strom ausreichend groß ist, um eine Korrosion des Nickels zu verhindern.It is believed that the cobalt thin layers are therefore are effective because of the resistance to the path of electrical current through the relatively thin physical Ab-DBsstangen is increased, therefore the corrosion current between the cobalt and the chromium is decreased, although one Current is sufficiently large to prevent corrosion of the nickel.

209809/U58209809 / U58

Claims (4)

PatentansprücheClaims (λ7) Verfahren zur Herstellung eines gl&BSt&den dekorativen zusammengesetzten Chrombelags, dadurch gekennselehnet, daß man (λ7) Process for the production of a gl & BSt & the decorative composite chrome coating, thereby gekennselehnet that one (1) auf einem Grundmetall eine erste Schicht aus Kupfer abscheidet;(1) deposits a first layer of copper on a base metal; (2) auf dem Kupfer eine zweite dünne Schicht aus Cobalt abscheidet;(2) deposits a second thin layer of cobalt on the copper; (5) auf der Cobaltschicht eine dritte dünne nickelhaltige Schicht mit einer Dicke von 2 - 12/έ abscheidet; und(5) on the cobalt layer a third thin nickel-containing layer with a thickness of 2 - 12 / έ separates; and (4) galvanisch auf der dritten Nickel schicht eine vierte Schicht aus glänzendem dekorativen Chrom abscheidet« (4) Electroplating a fourth layer of shiny decorative chrome on the third nickel layer « 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ©kennzeichnet, daß die zweite dünne Cobaltschicht in einer Dicke von 0,25 - 5*0^/6 abgeschieden wird.2. The method according to claim 1, characterized © indicates that the second thin cobalt layer with a thickness of 0.25 - 5 * 0 ^ / 6 is deposited. 3· Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die dritte nickelhaltige Schicht einen Schwefelgehalt von weniger als 0*1 Gew.-% aufweist.3. The method according to claim 1, characterized in that the third nickel-containing layer has a sulfur content of less as 0 * 1 wt .-%. 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die dritte dünne nickelhaltige Schicht dadurch hergestellt wird, daß man auf der zweiten dünnen Cobaltschicht eine Lage aus Teilchen befestigt, die eine Größe von 0,05 aufweisen und die in einer Dichte von ungefähr 100 bis 5.000,000 Teilchen/cm vorliegen, und daß man in diese Lage aus Teilchen eine Leitende dünne nickelhaltige Schicht mit einer effektiven Dicke von 0,25 - 5,0^ abscheidet, die weniger dick als die maximale Dicke der Lage aus Teilchen ist,4. The method according to claim 3, characterized in that the third thin nickel-containing layer is thereby produced is to attach a layer of particles 0.05 in size to the second thin cobalt layer and which are present in a density of about 100 to 5,000,000 particles / cm, and that one is in this position a conductive thin nickel-containing layer with an effective thickness of 0.25 - 5.0 ^ deposited from particles, which is less than the maximum thickness of the particle layer, 209809/U58209809 / U58 Of - Of - wodurch eine Matrix gebildet wird, in welcher die Teilchen auf der Cobaltoberfläche in der leitenden dünnen nickelhaltigen Schicht festgehalten werden, wobei mindestens'einige der Teilchen durch die Oberfläche der genannten leitenden dünnen nickelhaltigen Schicht hindurchschauen.whereby a matrix is formed in which the particles the cobalt surface are retained in the conductive thin nickel-containing layer, with at least some of the particles look through the surface of said conductive thin nickel-containing layer. 5« Verfahren nach Anspruch 4-, dadurch gekennzeichnet5 daß die Dichte der Teilchen auf der dünnen Cobaltschicht 5.000 bis 2.000.000 Teilchen/cm2 beträgt,5 «Method according to claim 4, characterized in 5 that the density of the particles on the thin cobalt layer 5000 to 2,000,000 particles / cm 2, 6» Verfahren zur Herstellung eines glänzenden t dekorativen zusammengesetzten Chrombelags, dadurch gekennzeichnet, daß man6 »A process for producing a shiny t decorative composite chromium coating, characterized in that (1) auf einem Grundmetall ein© erste Schicht aus Kupfer mit einer Dicke von 5*0 - 50/£ abscheidet;(1) a © first layer on a base metal made of copper with a thickness of 5 * 0 - 50 / £ separates; (2) auf der Kupferschicht eine zweite dünne öobaltschicht mit einer Dicke von 0,25 - 5 abscheidet 5(2) a second thin layer on top of the copper layer A layer of cobalt with a thickness of 0.25-5 is deposited 5 (5) auf der dünnen Cobaltschicht eine Lage aus Teilchen abscheidet, die eine Teilchengröße von ungefähr 0,05 - 6, O^ aufweisen und in(5) A layer of particles having a particle size is deposited on the thin cobalt layer from about 0.05 - 6, O ^ and in eina?Dichte von ungefähr 100 bis 5.000.000/cm vorliegen;a density of about 100 to 5,000,000 / cm exist; in diese Lage aus Teilchen eine leitende dünne Metallschicht mit einer effektiven Dicke von 0,25 - 5»0/£abscheidet, die dünner als die maximale Dicke der Lage aus Teilchen ist, um eine dritte dünne Shicht aus einer nickelhaltigen Matrix mit einer Dicke von .0,25 - 5,0^ herzustellen; und (5) euf der dritten dünnen Schicht aus einer nickelhaltigen Matrix eine vierte Schicht aus glänzendem dekorativen Chrom abscheidet.in this layer of particles a conductive thin metal layer with an effective Deposits a thickness of 0.25-5 »0 / £, the thinner than the maximum thickness of the layer of particles is to form a third thin layer of a to produce a nickel-containing matrix with a thickness of .0.25 - 5.0 ^; and (5) on the third thin layer of one nickel-containing matrix deposits a fourth layer of shiny decorative chrome. BAD 209809/U58BATH 209809 / U58 7» Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die vierte Schicht aus glänzendem dekorativen Chrom eine Dicke von mindestens ungefähr Q%Q>2ßA> aufweist.7. The method according to claim 6, characterized in that the fourth layer of shiny decorative chrome has a thickness of at least approximately Q % Q>2βA> . 209809/U58209809 / U58
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