DE2116289A1 - Elektronenmikroskop - Google Patents
ElektronenmikroskopInfo
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 65
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 30
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 6
- 101100390736 Danio rerio fign gene Proteins 0.000 claims 2
- 101100390738 Mus musculus Fign gene Proteins 0.000 claims 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims 2
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 claims 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 3
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
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Description
Patentanwalt Dipl.-Phys. Gerhard Liedl 8 München 22 Steinsdorfstr. 21-22 Tel. 29 84
B 5031
NIHON DENSHI KABUSHIKI KAISHA
1418 Nakagami-cho, Äkishima-shi, Tokyo, JAPAN
1418 Nakagami-cho, Äkishima-shi, Tokyo, JAPAN
Elektronenmikroskop
Sie Erfindung betrifft ein mit Strahlabtastung arbeitendes
Elektronenmikroskop, bei dem die von dem zu untersuchenden Objekt emittierten Sekundärelektronen aufgefangen werden·
Bei derartigen Elektronenmikroskopen werden die Sekundärelektronen
im allgemeinen dadurch von der Objektoberfläche
WEH/Hie 109846/1187
ausgelöst, daß das Objekt mit einem von einer Ablenkspule
abgelenkten Elektronenstrahl "beschossen11 wird. Die Sekundär·
elektronen werden dann von einem Detektor aufgefangen, der zwischen der letzten Sammellinse und dem Objekt angeordnet
ist. Wenn jedoch allein die in einer Richtung ausgelösten Elektronen aufgefangen werden, ist eine zufriedenstellende
Bilderzeugung nicht möglich·
In den letzten Jähren wurden Versuche angestellt, ein Sekundär
el ektronenbild mit Hilfe eines Durehstrahlungs-Elektronenmikroskops
zu erzeugen. Da jedoch bei einem derartigen Elektronenmikroskop das Objekt innerhalb der Objektivlinse
in einem begrenzten inneren Teil des Polstticks sitzt, ist nicht genügend Platz vorhanden, um den Sekundärelektronen-Detektor
in diesem begrenzten Raum aufzunehmen. Es ist daher noch kein Elektronenmikroskop bekannt, mit dem sich sowohl
ein Durchstrahlungs-Bild wie auch ein Sekundärelektronen-Bild
beobachten läßt.'
Durch die Erfindung soll ein Elektronenmikroskop zur Erzeugung eines Sekundärelektronen-Bildes geschaffen werden, das
die Nachteile der oben erwähnten Elektronenmikroskope vermeidet. Insbesondere soll die Fähigkeit des Elektronenmikroskope
s, die vom Objekt emittierten Sekundärelektronen zu erfassen und wahrzunehmen, verbessert werden. Dies wird
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durch, die im Anspruch 1 angegebenen Merkmale erreicht· Vorteilhafte
Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben.
Bei dem erfindungsgemäßen Elektronenmikroskop sitzt das
Objekt in einem Magnetfeld, das vorzugsweise von einer Elektronenlinse hoher Erregung erzeugt wird. Der auftreffende
Elektronenstrahl wird mit Hilfe des Torfeldes fokusiert, ehe er auf das Objekt auftrifft. Auf diese Weise werden Sekundärelektronen
von dem Objekt ausgelöst. Da die Energie der Sekundärelektronen gering ist, werden die Sekundärelektronen
von dem magnetischen Vorfeld spiralförmig um die optische Achse fokusiert und dann aus der optischen Achse "herausgenommen"
· Auf diese Weise lassen sich die Sekundärelektronen mit hohem Wirkungsgrad auffangen.
Bei einem Aus'führungsbeispiel der Erfindung ist das Objekt
innerhalb einer Objektivlinse hoher Erregung angeordnet. Das Vorfeld fokusiert in diesem Pail den auftreffenden Strahl .
und sammelt die von dem Objekt emittierten Sekundärelektronen, während das magnetische Nachfeld (d.h.der unterhalb des Ob-
den Strahl
jekts befindliche Teil des Magnetfeldes)/fokusiert und vergrößert,
der das Objekt durchdringt. Auf diese Weise kann mit dem gleichen Elektronenmikroskop sowohl ein Sekundärelektronen-Bild
als auch ein normales Durchstrahlungs-Bild erzeugt werden«
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• - 4 - ■ ■
Mit Hilfe des erfindungsgemäßen Elektronenmikroskops läßt
eich das Objekt über einem großen Sichtbereich beobachten.
Ein weiterer "Vorteil der Erfindung besteht darin, daß ein Sekundärelektronen-Bild hoher Auflösung erzeugt werden kann·
Anhand der Zeichnungen werden bevorzugte Ausfuhrungsbeispiele
der Erfindung näher erläutert. Es zeigen:
Figur 1 ein Elektronenmikroskop, bei dem das zu untersuchende Objekt in einem von einer Elektronenlinse
erzeugten magnetischen PeId angeordnet ist,
Figur 2 eine Darstellung der Optik eines abgewandelten Ausführungsbeispiels des in Fig.1 gezeigten
Elektronenmikroskops,
Figur 3 ein Elektronenmikroskop, bei dem das zu untersuchende Objekt in einer Objektivlinse angeordnet
ist,
Figur 4- eine Darstellung der Optik des in Fig.5 gezeigten
Elektronenmikroskops, '
Figuren abgewandelte Ausführungsformen des in Fig.3
5, 6, 7
gezeigten Elektronenmikroskops,
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Figur 8 die Magnetfeldverteilung der in Pig·? verwendeten
Objektivlinse,
Figuren weitere Ausftihrungsbeispiele'der Erfindung.
9 und 10
Bei dem in Fig,1 gezeigten Ausftihrungsbeispiel wird von einer
Elektronenquelle 1 ein Elektronenstrahl erzeugt, der durch eine Sammellinse 2 verläuft. Eine in der Sammellinse 2 an- .
geordnete Spule 3 wird von einer Energiequelle 4 mit Erregerstrom versorgt, wodurch der Elektronenstrahl von dem von der
Sammellinse 2 erzeugten Magnetfeld fokusiert werden kann·
Der fokusierte Elektronenstrahl wird dann von einem Magnetfeld, das von einer Ablenkeinrichtung 5 erzeugt wird, abgelenkt
und einem Objekt 6 zugeführt. Das Objekt 6 befindet
sich in einem Magnetfeld, das von einer Elektronenlinse 7 hoher Erregung erzeugt wird· Ein Abtastsignal wird von einem
Signalgenerator 13 an die Ablenkeinrichtung 5 abgegeben, so daß der auftreffende Elektronenstrahl die Oberfläche des
Objekte 6 abtastet.
Durch den "Beschüß» des auftreffenden Elektronenstrahls werden
Sekundärelektronen von dem Objekt ausgelöst. Da sich
ferner das Vorfeld der Elektronenlinse 7 bis zum oberen Seil der Ablenkeinrichtung 5 erstreckt, werden die Sekundärelektronen
spiralförmig um die elektronenoptische Achse nach oben fokusiert. Die Sekundärelektronen werden schließlich
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▼on einem Detektor 8 aufgefangen und an eine .Anzeigevorrichtung 12 abgegeben. Um sicherzustellen, daß die Sekundärelektronen vom Detektor aufgefangen werden, muß an den Detektor
eine positive Spannung angelegt werden.
Gleichzeitig werden die Elektronen, die das Objekt durchdringen, von einem Detektor 9, etwa in Form eines Faraday-Käfigs, aufgefangen. Von den Ausgangssignalen der beiden
Detektoren 8 und 9 wird mit Hilfe eines Schalters 10 jeweils
eines ausgewählt, wobei das gewählte Signal über einen Verstärker 11 der Anzeigevorrichtung 12 zugeführt wird. Das vom
Signalgenerator 15 erzeugte Abtastsigi&aL wird einer Ablenkeinrichtung 14 zugeführt, die Teil der Anzeigevorrichtung 12
bildet. Venn das vom Detektor 8 erzeugte Signal an die Anzeigevorrichtung abgegeben wird, wird somit das Sekundärelektronen-Bild erzeugt. Wenn dagegen das vom Detektor 9 erzeugte
Signal an die Anzeigevorrichtung 12 abgegeben wird, wird das Durohstrahlungpelektronen-Bild erzeugt*
Da bei dieser Anordnung das Objekt 6 in der Elektronenlinse 7 angeordnet ist, wird der auftreffende Elektronenstrahl nicht
von elektrischen und magnetischen Störungen beeinflußt* Da ferner eine Magnetlinse hoher Erregung verwendet wird, werden
sowohl die chromatischen wie auch sphärischen Aberrationsfehler beträchtlich verringert. Der Strahlfleck des auf-
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treffenden Elektronenstrahls ist somit sehr fein, und es
wird ein Elektronenbild hoher Auflösung erzeugt.
Bei einer abgewandelten Ausftihrungsform dee in Fig.1 gezeigten
Elektronenmikroskops wird eine veränderliche Energiequelle 16 verwendet, um die Spule 15 der Elektronenlinse 7
mit Erregeretrom zu versorgen;· Pig.2 zeigt eine Darstellung
der Optik dieses Ausführungsbeispiele. Der auftreffende Elektronenstrahl SB wird von der Sammellinse 2 f okusiert und
von der Ablenkeinrichtung 5 angelenkt. Der abgelenkte Elektronenstrahl wird von der Elektronenlinse 7 fokusiert und
abgelenkt und trifft auf das Objekt 6 auf. Wenn nun der
Strom, der von der Energiequelle 16 an die Spule 15 abgegeben
wird, klein ist, wird der auf treffend* !Elektronenstrahl in
der bei EB1 dargestellten Weise abgelenkt· Das bedeutet, daß
der auftreffende Elektronenstrahl das Objekt über einem großen Bereich abtastet· Wenn der Erregerstrom vergrößert
wird, nimmt der Abtastbereich ab, wie bei EB2 und EB* gezeigt·
Fig« 3 zeigt ein Elektronenmikroskop, mit dem sieh sich sowohl
ein übliches Durchstrahltmgselektronen-Blld als auch
ein Sekundärelektronen-Bild erzeugen läßt. Das in dieser
FIgVLT- gezeigte Elektronenmikroskop weißt eine Objektivlinse
30 auf. Mn «sa» einem Polstück 31, einem Joch 32 und einer
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Spule (nicht gezeigt) besteht. Das Polstück 31 weist drei ferromagnetische Pole 33,34,35 auf, die durch einen nichtmagnetischen Abstandhalter 36 verbunden sind. Die Pole 33
und 34 bilden einen ersten Spalt, und die Pole 34 und 35 einen zweiten Spalt. Aufgrund dieser Unordnung kann durch
Anlegen eines hohen Erregerstroms an die Spule in jedem der beiden Spalte ein starkes Magnetfeld erzeugt werden, das als
linse wirkt. Ein Objekt 37 ist zwischen den beiden Spalten, vorzugsweise in der Objektebene der Objektivlinse, angeordnet·
Das Feld im ersten Spalt fokusiert den parallelen Elektronenstrahl,
wobei der Elektronenstrahl ein verkleinertes Bild eines Einschntirungspunktes auf dem Objekt 37 bildet·
Ein Vorteil dieser Anordnung besteht darin, daß, da das Magnetfeld im ersten Feld stark ist, das verkleinerte Bild
und seine zugehörige sphärische Aberration sehr klein sind. Ein weiterer Vorteil dieser Anordnung besteht darin, daß
das Objekt 37 von äußeren elektrischen und magnetischen Störungen nicht beeinflußt wird.
Die von dem Objekt 37 ausgelösten Sekundärelektronen werden von dem Vorfeld "zusammengehalten11 und von einer Elektrode
39, der von einer Energiequelle 38 eine positive Spannung', zugeführt wird, nach oben beschleunigt. Auf diese Weise werden
die Sekundärelektronen in dem Vorfeld spiralförmig längs der Elektronenstrahlachse beschleunigt, da die Energie der
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Sekundärelektronen schwach und das magnetische Vorfeld stark ist.
Die Elektronen, die durch die öffnung der Elektrode 39 durchtreten,
werden von einem Magnetfeld 40 (das gegebenenfalls auch weggelassen werden kann) abgelenkt und einem Detektor
41 zugeführt, der mit Abstand zu der Elektronenstrahlach.se angeordnet ist. Der Detektor 41 besteht aus einem geerdeten
Gehäuse 42, einem Photovervielfacher 43, einer Lichtröhre 44, einer Elektrode 45» an die von der Energiequelle 38 eine positive
Spannung angelegt wird, und einem fluoreszierenden Schirm 46. Die Sekundärelektronen treffen auf dem fluoreszierenden
Schirm 46 auf und werden in Lichtsignale umgewandelt. Diese Signale durchlaufen die Lichtröhre 44 und
werden von dem Photovervielfacher 43 aufgefangen. Das Ausgangssignal des Detektors 41 wird einer Anzeigevorrichtung
4-7, etwa in Form einer Kathodenstrahlröhre, zugeführt.
Zwei Ablenkspulen 48, denen ein Abtastsignal von einem Signalgenerator 47 zugeführt wird, sind im oberen Teil des
Magnetfeldes 40 angeordnet, so daß der auftreffende Elektronenstrahl
das Objekt 37 in zwei Richtungen abtastet. Das Abtastsignal wird außerdem einer Ablenkeinrichtung 47a der
Anzeigevorrichtung 47 zugeführt. Somit wird der auftreffende
Elektronenstrahl EB in der durch EB^, EBc und EBg gezeigten
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- ίο -
Weise (Pig.4) abgetastet. Das Magnetfeld, das τοη dem ersten
Spalt (dargestellt durch die erste Linse OL1 in Pig.4) der
Objektivlinse 30 erzeugt wird, dient sowohl zur Pokusierung wie auch Ablenkung des auftreffenden Elektronenstrahls.
Bei dem oben beschriebenen Ausftihrungsbeispiel ist der
Detektor 41 in ©isiar Ebene oberhalb des Objekts angeordnet,
um die Sekundärelektronen aufzufangen. Es ist jedoch auch InUgIiGh9 den Detektor in einer Ebene unterhalb des Objekts
anzuordnen, um ein Durchstrahlungselektronen-Bild zu erzeugen. Bei Erzeugung eines Durehstraltlungselektronen-Bildes
muß jedoch die Ablenkeinrichtung 48 entregt und die Sammellinse (nicht gezeigt) derart eingestellt werden, daß der
auftreffende Elektronenstrahl in der Tor-deren Brennebene der ersten Linse GL-j fokusiert wird» Dies ist erforderlich, um
einen parallelen Elektronenstrahl auf des Objekt 37 auftreffen zu lassen. Der Elektronenstrahls der das Objekt
durchdringt, wird in der Ebene P fokusiert* und zwar mit
Hilfe des Magnetfeldes, das τοη dem zweiten Spalt erzeugt
wird (dargestellt in Pig»4 duroh die spalte Linse OL2)·
Das auf diese Weise erhaltene Bild i*/i^d tcx stner oder
mehreren Vergrößerungslinse?! Tergr6£©E--fe vmu. mi£ '.-'^,©n fluoreszierenden
Schirm projiziert·
Pig. 5 zeigt ein abgewandeltes lasfSlinisgsiselspiel des in
Pig·3 gezeigten Elektronenmikroskops» Bei äXesem Äügftüirungs-»
B 5031 109846/118? BAD ORIGINAL
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"belspiel ist das in Pig·3 gezeigte Magnetfeld 40 durch eine
zweite Elektrode 50 ersetzt worden· Die Elektrode 50 liegt an Masse oder negativem Potential an, so daß die Geschwindigkeit
der von der ersten Elektrode 39 "beschleunigten Sekundärelektronen
verringert wird." Die Elektronen werden von dem elektrischen Feld, das von der Elektrode 50 erzeugt wird,
dem Detektor 4-1 zugeführt,
Fig.6 zeigt ebenfalls ein abgewandeltes Ausftihrungsbeispiel
des in Fig·3 gezeigten Elektronenmikroskops, In diesem Fall
besteht die Objektivlinse 51 aus zwei Magnetpolen 52,53»
einem Joch 54· und einer Spule 55· Ein Dauermagnet 56 ist im oberen Teil der Objektivlinse angeordnet. Eine Jochplatte 57,.
an die ein Magnetpol 58 angepaßt ist, ist am oberen Ende des Dauermagnets 56 befestigt. Das von den Magnetpolen 58 und 52
erzeugte Magnetfeld wirkt somit als die erste Linse, und das von den Magnetpolen 52 und 53 erzeugte Magnetfeld als die
zweite Linse. Der Dauermagnet 56 kann auch durch eine magnetische Erregerspule ersetzt werden·
Fig«7 zeigt ein weiteres abgewandeltes Ausftihrungsbeispiel
des in Fig.3 dargestellten Elektronenmikroskops· In diesem Fall weist ein in einer Objektivlinse 60 angeordnetes Polstück
61 zwei Magnetpole 62 und 63 auf· Die Linsenstärke o>
der Objektivlinse läßt sich wie folgt ausdrücken:
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eB0 2d2
Hierin "bedeuten e die elektrische Ladung, B0 den maximalen
Wert des axialen Magnetfeldes, d die Halbwerfbreite des axialen Magnetfeldes, mQ die Masse des Elektrons und V die
Beschleunigungsspannung. 7 Bei diesem Ausführungsbeispiel ist
W gleich 2 oder mehr. Fig.8 zeigt die Magnetfeldverteilung,
die von der Objektivlinse 60 bei starker Erregung erzeugt
wird. Das Objekt 37 wird im Bereich der maximalen Feldstärke angeordnet. Ein Magnetfeld H^, das vor dem Objekt 37 erzeugt
wird, wirkt als die erste Linse, und ein Magnetfeld ^* das
hinter dem Objekt angeordnet ist, wirkt als die zweite Linse« Auf diese Weise läßt sich wie bei dem Ausführungsbeispiel
gemäß Fig.3 sowohl ein Sekundärelektronen-Bild wie auch ein
Durchstrahlungselektronen-Bild erzeugen. Wenn das Durchstrahlungselektronen-Bild
beobachtet wird, ist es wünschenswert, den an die Ob^ektivlinse abgegebenen Erregerstrom zur verstellen,
so daß der auf das Objekt auftreffende Elektronenstrahl
defokusiert und somit über einen großen Sichtbereich zerstreut wird«,
Bei dem in Fig.9 gezeigten Ausführungsbeispiel befindet sich
der Detektor 41 oberhalb der Ablenkeinrichtung. Da sich jedoch
das magnetische Vorfeld bis zum oberen Teil der Ablenk-
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■Ο Λ 1 ι"* O O Π
einrichtung 48 erstreckt, werden die Elektronen von dem PeId
längs der optischen Achse erneut fokusiert und von dem Detektor 41 aufgefangen, selbst wenn die Sekundärelektronen abgelenkt
werden. Der Vorteil dieser Anordnung besteht darin, daß die Ablenkeinrichtung.näher bei der Objektivlinse angeordnet
werden kann, wodurch die durch die Ablenkung erzeugte Aberration des Elektronenstrahls auf ein Minimum beschränkt
und eine hohe Auflösung erzielt werden können. Perner ist es möglich, den Beobachtungsbereich des Objekts zu vergrößern
und ohne Schwierigkeiten Befestigungseinrichtungen (beispielsweise für Heiz- und Kühlvorrichtungen für das Objekt)
vorzusehen.
Pig.10 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel der Erfindung
in vollständigerer Darstellung. Hier ist die Ablenkvorrichtung 48 zum Ablenken des auftreffenden Elektronenstrahls am
oberen Teil des Magnetpols 62 der Objektivlinse 60 befestigt. Ein bewegbares Bauteil 65, das einen Objekthalter 66 trägt,
ist mittels Kugeln 64 auf der Objektivlinse gelagert. Der Detektor 41, der in der Objektkammer 67 angeordnet ist,
fängt die aus dem Objekthalter 66 austretenden Sekundärelektronen auf. Die Sammellinse 68 ist an der Oberseite der
Objektkammer 67 angebracht.
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Claims (11)
1.!Elektronenmikroskop mit einer Elektronenquelle, einer
Ablenkeinrichtung zum Ablenken des von der Elektronenquelle erzeugten Elektronenstrahls, der somit das zu untersuchende
Objekt abtastet, einem Detektor zum Auffangen der vom Objekt emittierten Sekundärelektronen und einer am Detektor angeschlossenen,
mit der Ablenkeinrichtung synchronisierten Anzeigevorrichtung zum Darstellen des abgetasteten Elektronenbildes,
dadurch gekennzeichnet, daß das Objekt (6j37) in einem Magnetfeld angeordnet ist, dessen magnetisches Vorfeld
die vom Objekt emittierten Sekuadärelektronen foktzsiert oder
sammelt·
2 β Elektronenmikroskop nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß zum Erzeugen des Magnetfeldes eine Linse (7) hoher Erregung vorgesehen ist, wobei das Vorfeld des Magnetfeldes
die vom Objekt emittierten Sekundärelektronen fokusiert, und daß eine Sammellinse (2) vorgesehen ist, lie lmn von der
Elektronenquelle (1) erzeugten He^troEienatrauA fokusiert
(Tlg.1).
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OfSGiNAL INSPECTED
ι i
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3. Elektronenmikroskop nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das von der Linse (7) hoher Erregung erzeugte
Magnetfeld veränderlich ist.
4· Elektronenmikroskop nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß zum Erzeugen des Magnetfeldes eine Objektivlinse (30) hoher Erregung vorgesehen ist, in der das Objekt
angeordnet ist, wobei das magnetische Vorfeld der Objektivlinse die vom Objekt (37) emittierten Sekundärelektronen
sammelt und das magnetische Nachfeld den durch das Objekt hindurchtretenden Elektronenstrahl fokusiert (Fign.3-10).
5. Elektronenmikroskop nach Anspruch 4-, dadurch gekennzeichnet,
daß die Objektivlinse (30) drei Magnetpole (33, 34,35), ein Joch (22) und eine Erregerspule aufweist, wobei
der erste und zweite Magnetpol (33,34) das magnetische Vorfeld und der zweite und dritte Magnetpol (34,35) das magnetische
Nachfeld erzeugen (Fig.3).
6. Elektronenmikroskop nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Objektivlinse (30) zwei Magnetpole (52,
53), ein Joch (54) und eine Erregerspule (55) aufweist, wobei das Objekt im Bereich maximaler Feldstärke des von
den beiden Magnetpolen erzeugten Magnetfeldes angeordnet ist (Fign.6,7,8).
109846/1 187
■ ά ί ; ' i £ β y
- 16 -
7· Elektronenmikroskop nach, einem der Ansprüche 4 bis 6,
dadurch gekennzeichnet, daß der Detektor (41) im oberen Teil der Ablenkeinrichtung (48) angeordnet ist (Pig.9).
8. Elektronenmikroskop nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß zum Erzeugen des Magnetfeldes eine Objektivlinse hoher Erregung vorgesehen ist, in der das Objekt angeordnet
ist, wobei das magnetische Vorfeld der Objektivlinse die vom Objekt emittierten Sekundärelektronen fokusiert und
das magnetische Nachfeld den das Objekt durchdringenden Elektronenstrahl fokusiert, und daß eine Umlenkeinrichtung
(40;50) vorgesehen ist, die die Sekundärelektronen von der optischen Achse in Richtung auf den Detektor ablenkt.
9. Elektronenmikroskop nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Umlenkeinrichtung ein in der optischen
Achse erzeugtes Magnetfeld (40) aufweist (Fign.3,4).
10. Elektronenmikroskop nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet,
daß die Umlenkeinrichtung eine oberhalb der Objektivlinse angeordnete Elektrode (50) aufweist (Fign.5-7).
11. Elektronenmikroskop nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zum Erzeugen des Magnetfeldes drei Magnetpole
(33,34,35) längs der optischen Achse (EB) angeordnet sind,
109846/118
INSPECTED
ι. : ί
■*> *~i γ* ο
· j 2 8 9
- 17 -
τοπ denen der erste und zweite Magnetpol (33»34) einen
ersten Spalt und der zweite und dritte Magnetpol (34,35)
einen zweiten Spalt zwischen sich bilden, wobei das zu untersuchende
Objekt (37) zwischen den beiden Spalten angeordnet ist, und daß in jedem der beiden Spalte ein Magnetfeld erzeugbar
ist, von denen das eine die Sekundärelektronen und
das andere den das Objekt durchdringenden Elektronenstrahl fokusiert, und daß der Detektor (41) oberhalb des ersten
Magnetpols (33) angeordnet ist.
12· Elektronenmikroskop nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß zwei Ablenkeinrichtungen (48) vorgesehen sind, daß die Einrichtung zum Erzeugen des Magnetfeldes, in dem
das Objekt angeordnet ist, derart ausgebildet ist, daß das magnetische Vorfeld den auftreffenden' Elektronenstrahl fokusiert
und ablenkt und die vom Objekt emittierten Sekundär-
und
elektronen fokusiert,/daß der Detektor oberhalb des magnetischen Vorfeldes angeordnet ist.
109846/1187 ORIGINAL INSPECTED
Applications Claiming Priority (1)
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ID=12382218
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