[go: up one dir, main page]

DE2105280C3 - Antireflexbelag - Google Patents

Antireflexbelag

Info

Publication number
DE2105280C3
DE2105280C3 DE2105280A DE2105280A DE2105280C3 DE 2105280 C3 DE2105280 C3 DE 2105280C3 DE 2105280 A DE2105280 A DE 2105280A DE 2105280 A DE2105280 A DE 2105280A DE 2105280 C3 DE2105280 C3 DE 2105280C3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
refractive index
inner layer
thickness
outer layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE2105280A
Other languages
English (en)
Other versions
DE2105280A1 (de
DE2105280B2 (de
Inventor
John Anthony Thrussington Fawcett
William Hugh Oadby Gray
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rank Organization Ltd
Original Assignee
Rank Organization Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rank Organization Ltd filed Critical Rank Organization Ltd
Publication of DE2105280A1 publication Critical patent/DE2105280A1/de
Publication of DE2105280B2 publication Critical patent/DE2105280B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2105280C3 publication Critical patent/DE2105280C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3417Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3429Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
    • C03C17/3447Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a halide
    • C03C17/3452Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a halide comprising a fluoride
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/113Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115Multilayers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Description

• "/-ο
ist
10
7. Antireflexbelag nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Schichten auf ein Substrat aufgebracht sind, welches einen Brechungsindex zwischen 1,40 und 2,00 aufweist
20
Die Erfindung betrifft einen Antireflexbelag nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Antireflexbeläge (Vergütungsbeläge), die z. B. auf transparente Teile optischer Systeme aufgebracht werden, sollen zur Reflexverminderung an der Oberfläche ihres Substrates für Licht einer bestimmten Wellenlänge oder gewöhnlich eines mehr oder weniger breiten Wellenlängenbandes dienen.
Es sind bereits Antireflexbeläge mit zwei oder drei Einzelschichten bekannt. Der bekannte zweischichtige Belag enthält Außen- und Innenschichten mit einer Dicke von λ/4 bzw. λ/2, wobei λ eine Wellenlänge ist, die innerhalb der Bandbreite liegt, über welche die Reflexverminderung erfolgen soll. Der dreischichtige Belag besitzt dagegen Schichten mit einer Dicke von λ/4, λ/2 bzw. 3A/4. Diese zwei- und dreischichtigen Beläge sind auer nur begrenzt brauchbar, weil eine niedrige Reflexionsamplitude nur über eine zu geringere Bandbreite erreicht wird. Im Falle des dreischichtigen Belages ist außerdem die Gesamtbelagdicke so groß, daß ein beträchtliches Risiko einer Lichtabsorption im Belag besteht.
Aus der US-PS 34 32 225 ist ein Antireflexbelag der eingangs genannten Art bekannt, der aus einer λ/4 dicken Außenschicht mit niedrigem Brechungsindex, einer λ/2 dicken Zwischenschicht mit durchgehend hohem Brechungsindex und einer wiederum λ/4 dicken Innenschichtanordnung besteht. Die Innenschichtanordnung besteht ihrerseits aus zwei dünnen Teilschichten, von denen die innere einen relativ hohen und die äußere einen relativ niedrigen Brechungsindex hat Dadurch wird im Vergleich mit anderen Dreischichtbelägen, bei denen eine direkte Beziehung zwischen den Indizes des Substrates und der Innenschicht eingehalten werden muß, eine gewisse Freizügigkeit bei der Wahl der Innenschicht erreicht.
Obwohl einige der bekannten mehrschichtigen Beläge bei senkrechtem Lichteinfall bei verschiedenen Wellenlängen theoretisch eine Reflexion der Größe Null aufweisen können, hat sich in der Praxis gezeigt, daß die Maxima und Minima der Reflexionsamplitude t>5 durch eine Mittelwertbildung eingeebnet werden. Dies geschieht in Folge der Integration der einen Bildpunkt bildenden verschiedenen 'i'rahlen mit verschiedenen Einfallwinkeln bei deren Durchlauf durch die verschiedenen vergüteten Oberflächen, wie sie gewöhnlich in einem optischen System vorhanden sind. Ferner besteht eine schwerwiegende Folge der beim Aufbringen von Vergütungsbelägen unvermeidbaren Fehler und Toleranzen darin, daß der Verlauf des resultierenden spektralen Reflexionsvermögens so verschoben werden kann, daß er etwas außerhalb des erforderlichen Spektralbereiches liegt Infolgedessen fallen stärkere Reflexionen des Belages in den Seitenbändern, die theoretisch außerhalb des Spektralbereiches liegen, für den der Belag vorgesehen ist, bis zu einem gewissen Grad in diesen Bereich, wo sie die spektrale Durchlässigkeit beeinträchtigen und als Folge der Reflexion vom Belag zu unerwünschten Reflex- oder Geisterbildern oder zu einer erhöhten Oberstrahlung und Verschleierung führen.
Es ist ferner bereits bekannt, daß man inhomogene Schichten mit sich kontinuierlich änderndem Brechungsindex erzeugen kann, z. B. unter Verwendung einer Aufdampfungsquelle, die ein Gemisch aus zwei Stoffen enthält deren Mischungsverhältnis geändert wird (Journ. Opt Soc Am. 53, Juli 1963, S. 880), oder unter Verwendung von zwei verschiedenen Aufdampfungsquellen. In beiden Fällen kann man die Anfangsund Endindices einfach und zuverlässig durch die Aufdampfungsbedingungen einstellen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Antireflexbelag anzugeben, bei dem die Reflexion über einen weiteren Spektralbereich als bisher, nämlich von 380 bis 720 nm, auf den für die Praxis erforderlichen kleinen Werten gehalten wird, insbesondere unter 2%.
Diese Aufgabe wird durch die kennzeichnenden Merkmale der Ansprüche 1,2 bzw. 4 gelöst.
Durch den hier beschriebenen Antireflexbelag wird eine befriedigende Reflexverminderung über ein relativ breites Wellenlängenband erreicht an oder nahe bei dessen Mitte in der Regel die Referenzwellenlänge liegt Die Erfindung hat daher den Vorteil, daß die unvermeidbaren Einflüsse von Herstellungsfehiern weit weniger schwerwiegend sind als bei den bekannten Belägen. Dies ist auch von Vorteil bei Spektralverschiebungen infolge von Änderungen der Gleichmäßigkeit des Belages an stark gekrümmten oder großflächigen Oberflächen und — unabhängig von der Gleichmäßigkeit des Belages — bei wesentlichen Schwankungen des Einfallwinkels.
Da die Beschränkungen hinsichtlich der Brechungsindizes der Schichten nicht so schwerwiegend sind, erlaubt der hier beschriebene Antireflexbelag eine größere Flexibilität beim Entwurf als bekannte Vergütungsbeläge. Ferner kann ein bereits vorliegender Belag der beschriebenen Art in Verbindung mit einem Substrat eines beliebigen Brechungsindex verwendet weiden, wie es in Systemen vorkommen kann, die im Bereich des sichtbaren Lichtes arbeiten. Hierfür muß lediglich der Brechungsindex der unmittelbar an das Substrat angrenzenden Schicht geändert werden. Es wurde auch gefunden, daß sowohl die Brechungsindizes als auch die Dicken 'Jer Schichten vom Optimalwert in relativ großem Maße variieren können. Im Zusammenhang mit der größeren Bandbreite ergibt dies Beläge, die nicht nur eine größere Hersteüu'igstoleranz erlauben, sondern auch unter sich ändernden Bedingungen arbeiten können. Da die Gesamtdicke des Belages auf eine Wellenlänge reduziert ist, ist schließlich auch das Absorptionsrisiko gering.
Von den NZwischenschichten, die ausgehend von der
unmittelbar an die Außenschicht Ln angren/.cndcri schicht bzw. die innerste Zwischenschicht Brechungsin äußersten Zwischenschicht L, mit Li, L1 ... Ln dizes /7/, bzw. n,„ welche folgenden Beziehunger bezeichnet sind, haben also die äußerste Zwischen- genügen:
3.5(l.2n,.n- I.Ol f 0.02/V > η,.N> 2.8(l.2ii,.o 1.0) f 0.02/V (D
wenn 5 > N > 2
oder
3.33(1.24/1,.,,-· 1.00) > n,.N> 2.72 (1.24«,.„- 1.(X)) C)
wenn /V ■ 5;
3.5(I.2h,.o- 1.0) - 0.02.V > /ιΛ| > 2.K(l.2/i,n 1.0) 0.02/V (3)
wenn 5 > /V > 2
oder
-)cc/ii/. .. I /un ^ .. -^ 1nn/[ IA., IfUU ι.Ii
wenn N > 5;
wenn 5 > /V > 2
oder
0.30 > (/i,.v - /ι,.,) > O.05 16)
wenn N > 5
Die Brechungsindizes der Zwischenschichten haben Zwischenschichten nicht gleichmäßig sein, und ebensovorzugsweise solche Nominalwerte, daß die Differenz wenig müssen die entsprechenden Dicken T). v bis zwischen den Brechungsindizes von jeweils zwei r> einschließlich Γ,., gleich sein, falls die Bedingung benachbarten Zwischenschichten im wesentlichen überall die gleiche ist. ii,_v > /!,.jy., > ·■ > η,.,
Wenn die optische Dicke jeder Schicht Ti., ist. so gilt
gemäß obiger Definition: eingehalten ist. Besonders wesentlich ist die Indexdiffe-
*> renz
Vt- N \
—i I I - f. .
' » Noch auf ein weiteres vorteilhaftes Merkmal se
hingewiesen. Sollte ein Material mit dem richtigen Wen
Ji von /7/.,V+I nicht verfügbar sein, so ist es möglich, ein
Die optische Dicke der Außen- und Innenschichten, Material zu verwenden, dessen Index um wenige
also Tt0 bzw. Ti.s+ 1, ist nominell jeweils gleich λ/4, und Prozent höher oder niedriger liegt, falls der Bereich /7,.Λ
diejenige der jeweiligen Zwischenschichten T)., ... T, v bis /7t, angehoben und ausgedehnt bzw. gesenkt und
beträgt nominell jeweils λ/2Ν. verkürzt wird. Das Ausmaß wird empirisch ermittelt
Die Werte für die Brechungsindizes in einem Belag "> <> Die Leistungsfähigkeit bleibt erhalten,
gemäß der Erfindung sind nicht so kritisch, wie es sich Die folgenden Gleichungen, in denen Werte '<ir die
bei bekannten Belägen als notwendig erwiesen hat. bevorzugten Brechungsindizes für die innersten und
Beispielsweise muß der wirkliche zahlenmäßige Ab- äußersten Zwischenschichten angegeben werden, wur-
stand der Indizes nLs bis einschließlich nL, der den durch theoretische Studien hergeleitet:
H,._v= 3.75On,.o- 3.125 + '^lll^jL^l"-^- (D
ti,., = 3.75On,.o-3.125 - -N ('7 ~ N) '"'1^ ÖD
h,.v= 3.750/It0- 3.025 (HD
/ι,., = 3.75O/i,.o- 3.225
Theoretisch könnte jeder Wert von N>2 bis zu einer Grenze gewählt werden, welche die Annäherung der Schichtdicken an die Molekularabmessungen setzt (W= 250). Für Λ'> 5 wird jedoch ein Plateauzustand erreicht, wie aus den Gleichungen (III) und (IV) ersichtlich ist, die unabhängig von N sind. Wie jeder Fachmann weiß, werden die praktischen Probleme mit zunehmendem N immer schwerwiegender. Wenn die Indexarderung von einer Schicht zur nächsten abnimmt, können die verschiedenen diskreten Schichten aber als eine einzige inhomogene Schicht angesehen werden, deren Index sich noch gemäß den oben dargelegten Bedingungen mit der Dicke ändert; statt einer Zunahme des praktischen Aufwandes für große Werte von N bietet sich also hier eine vorteilhafte Möglichkeit zur Realisierung der Erfindung. Beispielsweise können einige Materialien, wie etwa TiO, so unter variierenden Bedingungen aufgedampft werden, daß der Brechungsindex den gewünschten kontinuierlich abgestuften Verlauf hat. Statt dessen kann auch ein Verfahren der gemeinsamen Aufdampfung durch zwei Quellen angewandt werden, bei welchem die Aufbringungsraten der beiden Quellen so variiert werden, daß sich die erforderliche Abstufung ergibt.
Die folgenden Beispiele zeigen die spektrale Leistungsfähigkeit typischer Beläge gemäß der Erfindung. Diese Beläge sind für die Unterdrückung von Reflexionen über den Wellenlängenbereich 380 bis 720 Millimikron (n. m.) bestimmt und geeignet. Dieser Spektralbereich wird in der gewünschten zulässigen Weise in optischen Systemen ausgenutzt, die beispielsweise im sichtbaren Wellenlängenbereich von 400 bis 700 nm. arbeiten.
Beispiel 1 Brechungsindex Optische Dicke
Mögliches Schicht-Material
Superstrat (Luft)
Schicht L1, (außen)
L: L-, L, L,
/.„
L-
Substrat
1.0
1,38
1,95
1,97
1,99
2,01
2,03
2,05
2,07
2,09
2,11
2,13
2,15
1,45 Massiv
0,25 /
0.0455 λ
0.0455 *
0,0455 λ
0.0455 /
0,0455 λ
0,0455 Λ
0.0455 λ
0,0455 λ
0,0455 λ
0,0455 λ
0,0455 λ
η 25 λ
Massiv
;. - 495 nm
MgF,
TiO
(aufgedampft unter variierenden Bedingungen)
Substrat Beispiel 2 0,25 /
Wie Beispiel 1, jedoch: Massiv
Ln (innen) 1,86 /. = 495 nm
1,81
Nd, O.,
Beispiel 3
Brechungsindex Optische Dicke
Mögliches Schichtmaterial
Superstrat (Luft) 1,0
Schicht L0 (außen) 1,38
Massiv
0,25 ;.
MgF2
Fortsel/uim
10
Substrat Substrat Substrat Brechungsindex Optische Dicke 0,0385 λ Mögliches Schicht
0,0385 λ material
L1 2,08 0,0385 λ
L: Superstrat (Luft) Superstrat (Luft) 2,10 0,0385 λ
/., Schicht L0 (außen) Schicht U (außen) 2,12 0,0385 λ
L1 Li L, 2,14 0,0385 λ
/.< L; L2 2,16 0,0385 λ
/·,. L, Li 2,18 0,0385 λ TiO
L- L, L, 2,20 0.0385 λ (aufgedampft unter
variierenden Bedin
Ls L, 2,22 0,0385 λ gungen)
/.., 2.24 0,0385 λ
L„ 2,26 0,0385 ;.
L;; L1 2..2K 0,0385 λ
Li: L* 2,30
Ln I 2,32
/Μ (innen) /-in (innen) 1,75 MgO
1,52
1,0
1,38 MgF.,
1,97
1,98
1,99
2,00 ZrO,
2,01 (aufgedampft unter
0,25 λ variierenden
2,02 Massiv Bedingungen)
2,03 λ = 495 nm
2,04 Beispiel 4
ι rK Massiv
1,66 0.25 A AI2O.;
1.52 0,0556 ;.
0,0556 A
0,0556 /
1,0 0,0556 λ
1,38 0,0556 λ MgF,
1,98 CeO2
2,05 0,0556 ;. ZrO2
2,12 0,0556 ;. TiO
1,75 0,0556 λ MgO
1,60
0.25 λ
Massiv
λ = 495 nm
Beispiel 5
Massiv
0,25 /
0,1-4 λ
0,18 λ
0,18 λ
0,25 ;.
Massiv
;. = 495 nm
Im Beispiel 1 ist die Zahl der Zwischenschichten groß (N=H). Im Effekt bilden die Zwischenschichten eine einzige inhomogene Schicht
Der Brechungsindex Pl0 der äußersten ScNcht L0 beträgt 1,38 und derjenige für das Substrat beträgt 1,45.
Der Brechungsindex der Innenschicht (N+1) ergibt sich aus der Beziehung:
■-V+I
Somit isi
"'-,V* I = "'12 " K452 ' '-1K = '·66'
Dieser Wert liegt im Bereich zwischen
IJ /I,.,," /1,2
0.9
Die Brcchungsindiz.es der Zwischenschichten ergeben sich aus den Gleichungen (III) und (IV):
»i;.v= 3.75 · 1.38 - 3.025 ---. 2.15
/>,., = 3.75 ■ 1.38 - 3.225 = 1.95.
aber höher ist als der durch die Gleichungen (III) und (IV) vorgeschriebene Bereich, wird die Methode angewandt, den Wert von /7/.,v+1 über den durch die Gleichung (V) vorgeschriebenen Wert hinaus geeignet zu erhöhen.
Der Wert /7/.l4 = 1,70 gemäß Gleichung (V) wird in Wirklichkeit auf theoretisch 1,75 erhöh'..
Der Wert von/7;., j = 2,15gemäO Gleichung (III) wird in Wirklichkeit auf den für praktische Zwecke geeigneten Wert 2,32 erhöht, und
der Wert /i/., = 1,95 gemäß Gleichung (IV) wird in Wirklichkeit entsprechend praktischer Zweckmäßigkeit auf 2,08 erhöht.
Ebenso wird Bereich Πι.Ν—ηιΛ von 0,20 auf 0,24 ausgedehnt.
Beispiel 4 zeigt den umgekehrten Fall wie Beispiel 3, wobei der Bereich abgestufter Brechungsindizes erniecrigt und verkürzt und π;,ν+ ι geeignet verringert worden
L-MC3 CII 13[JI ItIK UCII WHgH-H-IIUlIg
Bei diesem Beispiel ist A = 495nm, welcher Wert innerhalb der äetriebsbandbreite von 380 bis 720 nm liegt.
Die Zwischenschichten können als eine Anzahl diskreter Schichten mit sich zunehmend änderndem Brechungsindex, beispielsweise gemäß der Aufstellung in Beispiel 1 angesehen werden. Statt dessen können die Zwischenschichten auch als eine einzige inhomogene Schicht angesehen werden, deren kontinuierlich abgestufter Brechungsindex einen GesTntbereich
um einen zentralen Brechungsindex überspannt.
Im Beispiel 1 können also die Zwischenschichten als eine einzige inhomogene Schicht mit einem Brechungsindexbereich 2,05 ± 0,10 ausgedrückt werden.
Es kann gezeigt werden, daß irgendeine gegebene Belagstruktur für alle Substratbrechungsindizes im Bereich von 2,00 > ng > 1,40, wofür lediglich der Index /7(.;V+1 gemäß der Gleichung (V) geändert wird, ohne daß die Leistungsfähigkeit herabgesetzt wird. Dies geht aus Rfiisniel 2 hervor, bei welchem die Grundstruktur des Beispiels 1 für ein Substrat mit sehr viel höherem Brechungsindex (1,81) angewandt wird. Aus Gleichung (V) ergibt sich, daß der neue Wert für /?l3 gleich 1,86 ist.
Beispiel 3 erläutert ein weiteres Merkmal der Erfindung. Um einen abgestuften Brechungsindexbereich auszunutzen, der in der Praxis zur Verfügung steht.
nllnr, Coil \e< Aar Oe
0,20 auf 0,08 verringert worden, ein Maß, das größer ist als die Gesanitsenkung des Bereiches, dessen Zentrum von 2,05 auf 2,01 gesenkt wurde, so daß der tatsächliche Wert π/., in Wirklichkeit etwas erhöht worden ist. Alle Werte fallen jedoch in die durch die Ungleichungen (2), (4), (6) angegebenen Bereiche.
Beispiel 5 zeigt einen Anwendungsfall mit N—3, bei welchem die Zwischenschichten individuelle gesonderte Schichten sind. Es ist auch ersichtlich, daß die Dicken dieser Zwischenschichten, die nominell gleich sind, von diesem Nominalwert abweichen können, ohne daß die Leistungsfähigkeit mehr als vernachlässigbar beeinträchtigt wird.
Ähnlich kann auch die Indexgleichmäßigkeit ohne Beeinträchtigung der Leistungsfähigkeit schwanken.
Die den oben angegebenen Beispielen 1 bis 5 zu entnehmenden günstigen Spektraleigenschaften eines Vergütungsbelages gemäß der Erfindung sind entsprechend in den Fig. 1 bis 5 der Zeichnung zusammen mit den integrierten Reflexionrwerten für diese Beispiele dargestellt. Zum Vergleich sind auch die äquivalenten Kurven des Reflexionsvermögens R für optimale achromatische Beläge eingetragen (unterbrochene Linien): Diese letztgenannten Beläge weisen Schichten der Dicke Λ/4, λ/2 und 3 A/4 auf. Man wird feststellen, daß es im zweiten Beispiel (F i g. 2) keine realisierbare achromatische Lösung gibt, weil die Brechungsindizes der zweiten Schicht zu hoch sind, um praktisch verfügbar zu sein.
Hierzu 5 Blatt Zeichnungen

Claims (4)

  1. Patentansprüche:
    I, Antireflexbelag mit einer auf ein transparentes Substrat aufgebrachten Innenschicht der Dicke λ/4 und einer zwischen der Innenschicht und einer ι Außenschicht der Dicke A/4 befindlichen Zwischenschichtanordnung, wobei die optische Gesamtdicke des Belages im wesentlichen λ beträgt und λ eine ReferenzwellenJänge ist, die innerhalb eines Wellenlängenbandes liegt, Ober welche die Reflexverminde- ι ο rung erfolgen soll, dadurch gekennzeichnet, daß die Zwischenschichtanordnung eine Anzahl A/>3 Zwischenschichten enthält, deren Brechungsindex von der Innenschicht zur Außenschicht hin fortschreitend kleiner wird; 1<s daß der Brechungsindex B10 der Außenschicht zwischen 1,25 und 1,45 beträgt;
    daß der Brechungsindex der Innenschichi im Bereich zwischen
    und 0,9 n,J · «t0 1,1 V -n,.a
    liegt, wobei n^der Brechungsindex des Substrates ist; und daß die unmittelbar an die Außenschicht angrenzende äußerste Zwischenschicht L\ und die innerste Zwischenschicht Ln Brechungsindizes nt, bzw. 77/Ln haben, welche 5>/V>2 folgenden Beziehungen genügen:
    3,5 (1,2/It0- 1,0) + 0,Q2N > nLff> 2,8 (l,2/i,.o- 1,0) + 0,02JV; 3,5 (1,2/Itn - 1.0) -0,02N > /ιΛ| > 2,8 (l,2n,.o- 1,0) - 0,02N;
    N (17- N)
    N[IT-N)
    3000
  2. 2. Antireflexbelag mit einer auf ein transparentes Substrat aufgebrachten Innenschicht der Dicke A/4 und einer zwischen der Innenschicht und einer Außenschicht der Dicke λ/4 befindlichen Zwischenschichtanordnungv wobei die optische Gesamtdicke des Belages im wesentlichen λ beträgt und λ eine Referenzwellenlänge ist. die innerhalb eines Wellenlängenbandes liegt, über welche die Reflexverminderung erfolgen soll, dadurch gekennzeichnet, daß die Zwischenschichtanordnunt eine Anzahl 30>/V>5 Zwischenschichten enthält, derer Brechungsindex von der Innenschicht zur Außenschicht hin fortschreitend kleiner wird; daß der Brechnungsindex ^t0 der Außenschicht zwischen 1,25 und 1,45 beträgt;
    daß der Brechungsindex der Innenschicht im Bereich
    und 0,9/i9
    1,1
    liegt, wobei /J^der Brechungsindex des Substrates ist; und daß die unmittelbar an die Außenschicht angrenzende äußerste Zwischenschicht L\ und die innerste Zwischenschicht Ln Brechungsindizes /7/., bzw. /7In haben, weiche folgenden Beziehungen genügen:
    3,33O,24/i,.o- 1,00) > n,.N> 2,72 0,24n,.o- 1,00); 3,55 il,i6n,.o— 1,00 > η,., > 2,900,16/i,.o- 1.00); 0,30 > in,.N- //,,,) > 0,05 .
  3. 3. Antireflexbelag nach Anspruch 1 oder 2, zwischen dadurch gekennzeichnet, daß die Außenschicht aus Magnesiumfluorid (MgF2) mit einem Brechungsindex (rtij von 1,38 besteht. ,o und
  4. 4. Antireflexbelag mit einer auf ein transparentes Substrat aufgebrachten Innenschicht der Dicke λ/4 und einer zwischen der Innenschicht und einer Außenschicht der Dicke λ/4 befindlichen Zwischenschichtanordnung, wobei die optische Gesamtdicke v> des Belages im wesentlichen λ beträgt und λ eine Referenzwellenlänge ist, die innerhalb eines Wellenlängenbandes liegt, über welche die Reflexverminderung erfolgen soll, dadurch gekennzeichnet, daß der Brechungsindex n/o der AuDenschicht zwischen 1,25 bo und 1,45 beträgt;
    daß der Brechungsindex der Innenschicht im Bereich 0,9/i,2 ··
    I.I ",2 · η,,ο
    liegt, wobei π,der Brechungsindex des Substrates ist; und daß die Zwischenschichtanordnung durch einen einzigen Niederschlag einer inhomogenen Zusammensetzung mit kontinuierlich kleiner werdendem Brechungsindex gebildet ist, wobei der Brechungsindex pln der Zwischenschichtanordnung an der Grenzfläche zur Innenschicht und der Brechungsindex /7/., dieser Zwischenschichtanordnung an der Grenzfläche zur Außenschicht folgende Beziehungen erfüllt:
    3,33(l,24/i/o- 1.(K)) > n, > 2.72 (1,24/i,.n- 1,00): 3.55 (1.16/>,.„- 1,00) > »,., > 2,90O,lfi/(,.o- 1.(K)): 0,30 > Ι«/.«- "/.,) > 0.05 .
    5, Antireflexbelag nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Differenz zwischen den Brechungsindizes von jeweils zwei benachbarten Zwischenschichten im wesentlichen gleich ist
    6, Antireflexbelag nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Brechungsindex der Innenschicht ungefähr gleich
DE2105280A 1970-02-04 1971-02-04 Antireflexbelag Expired DE2105280C3 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB5397/70A GB1292717A (en) 1970-02-04 1970-02-04 Improvements relating to anti-reflection coatings

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2105280A1 DE2105280A1 (de) 1971-08-19
DE2105280B2 DE2105280B2 (de) 1980-01-24
DE2105280C3 true DE2105280C3 (de) 1980-09-18

Family

ID=9795385

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2105280A Expired DE2105280C3 (de) 1970-02-04 1971-02-04 Antireflexbelag

Country Status (9)

Country Link
US (1) US3706485A (de)
JP (1) JPS5618921B1 (de)
AU (1) AU2495771A (de)
CA (1) CA931031A (de)
DE (1) DE2105280C3 (de)
FR (1) FR2079243B1 (de)
GB (1) GB1292717A (de)
NL (1) NL7101449A (de)
SU (1) SU409448A3 (de)

Families Citing this family (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3958042A (en) * 1971-04-05 1976-05-18 Agency Of Industrial Science & Technology Method for manufacture of reflection-proof film
US3804491A (en) * 1971-08-16 1974-04-16 Olympus Optical Co Multilayer reflection proof film
DE2334875C2 (de) * 1972-07-10 1982-03-25 Minolta Camera K.K., Osaka Vierschichtiger Antireflex-Belag für ein optisches Glassubstrat
US3809459A (en) * 1972-10-13 1974-05-07 Asahi Optical Co Ltd Antireflection coating for an inner surface of cemented lenses
US3984581A (en) * 1973-02-28 1976-10-05 Carl Zeiss-Stiftung Method for the production of anti-reflection coatings on optical elements made of transparent organic polymers
US4308316A (en) * 1977-04-04 1981-12-29 Gordon Roy G Non-iridescent glass structures
US4187336A (en) * 1977-04-04 1980-02-05 Gordon Roy G Non-iridescent glass structures
FR2439167A1 (fr) * 1978-10-20 1980-05-16 Gordon Roy Gerald Verres couches non irises
NL191759C (nl) * 1978-10-20 1996-07-02 Gordon Roy Gerald Niet-iriserende glasconstructie.
NL8301824A (nl) * 1983-05-24 1984-12-17 Philips Nv Optisch element bestaande uit een doorzichtig substraat en een antireflectieve bekleding voor het golflengtegebied in het nabije infrarood.
US4966437A (en) * 1988-04-19 1990-10-30 Litton Systems, Inc. Fault-tolerant anti-reflective coatings
US5173368A (en) * 1988-09-14 1992-12-22 Pilkington Visioncare Holdings, Inc. Solution-applied antireflective coatings
DE69008242T2 (de) * 1989-06-06 1994-11-03 Nippon Sheet Glass Co Ltd Wärmeabsorbierendes Glas.
US5104692A (en) * 1990-04-20 1992-04-14 Pilkington Visioncare Holdings, Inc. Two-layer antireflective coating applied in solution
JP2991554B2 (ja) * 1990-11-09 1999-12-20 旭光学工業株式会社 広波長域ゴースト防止光学系
US5662395A (en) * 1995-06-07 1997-09-02 Nova Solutions, Inc. Underdesk computer desk structure with antireflecting viewing window
WO1997012266A1 (en) * 1995-09-26 1997-04-03 Mcdonnell Douglas Anti-reflective coating
US5751466A (en) * 1996-01-11 1998-05-12 University Of Alabama At Huntsville Photonic bandgap apparatus and method for delaying photonic signals
US6428894B1 (en) * 1997-06-04 2002-08-06 International Business Machines Corporation Tunable and removable plasma deposited antireflective coatings
US6262830B1 (en) 1997-09-16 2001-07-17 Michael Scalora Transparent metallo-dielectric photonic band gap structure
US5907427A (en) 1997-10-24 1999-05-25 Time Domain Corporation Photonic band gap device and method using a periodicity defect region to increase photonic signal delay
US6028693A (en) * 1998-01-14 2000-02-22 University Of Alabama In Huntsville Microresonator and associated method for producing and controlling photonic signals with a photonic bandgap delay apparatus
US6304366B1 (en) 1998-04-02 2001-10-16 Michael Scalora Photonic signal frequency conversion using a photonic band gap structure
US6396617B1 (en) 1999-05-17 2002-05-28 Michael Scalora Photonic band gap device and method using a periodicity defect region doped with a gain medium to increase photonic signal delay
WO2001023948A1 (en) 1999-09-30 2001-04-05 Aguanno Giuseppe D Efficient non-linear phase shifting using a photonic band gap structure
US6414780B1 (en) 1999-12-23 2002-07-02 D'aguanno Giuseppe Photonic signal reflectivity and transmissivity control using a photonic band gap structure
US6339493B1 (en) 1999-12-23 2002-01-15 Michael Scalora Apparatus and method for controlling optics propagation based on a transparent metal stack
US6497957B1 (en) 2000-10-04 2002-12-24 Eastman Kodak Company Antireflection article of manufacture
CN1717776A (zh) * 2002-12-10 2006-01-04 株式会社尼康 光学元件及使用该光学元件的投影曝光装置
TWI471705B (zh) * 2003-08-26 2015-02-01 尼康股份有限公司 Optical components and exposure devices
US8149381B2 (en) 2003-08-26 2012-04-03 Nikon Corporation Optical element and exposure apparatus
US6954256B2 (en) * 2003-08-29 2005-10-11 Asml Netherlands B.V. Gradient immersion lithography
US7924397B2 (en) * 2003-11-06 2011-04-12 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Anti-corrosion layer on objective lens for liquid immersion lithography applications
US7460206B2 (en) * 2003-12-19 2008-12-02 Carl Zeiss Smt Ag Projection objective for immersion lithography
JP2006073053A (ja) * 2004-08-31 2006-03-16 Tdk Corp 光記録媒体
JP2007326357A (ja) * 2006-05-10 2007-12-20 Fujifilm Corp 積層フィルム及び画像表示装置
US7561250B2 (en) * 2007-06-19 2009-07-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus having parts with a coated film adhered thereto
US20150077646A1 (en) * 2013-09-17 2015-03-19 Apple Inc. Touch Sensitive Display With Graded Index Layer
US20150116576A1 (en) * 2013-10-30 2015-04-30 Blackberry Limited Image capture assembly, digital camera and a mobile device having an improved construction
KR20160013485A (ko) * 2014-07-25 2016-02-04 삼성디스플레이 주식회사 터치 패널 및 그 제조방법
US9841616B1 (en) 2014-08-22 2017-12-12 Sunlight Photonics Inc. Mobile system incorporating flexible and tunable anti-reflective skin and method of use
US11042047B1 (en) 2014-08-22 2021-06-22 Sunlight Aerospace Inc. Mobile system incorporating flexible and tunable optically reflective skin and method of use
US9391700B1 (en) 2015-06-16 2016-07-12 Sunlight Photonics Inc. Integrated optical receiver skin
US9983423B2 (en) * 2015-09-22 2018-05-29 Apple Inc. Touch sensitive display with graded index layer
CN111580697A (zh) * 2020-05-09 2020-08-25 上海天马微电子有限公司 一种复合膜、触控板及显示装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2478385A (en) * 1946-12-07 1949-08-09 Libbey Owens Ford Glass Co Multilayer low light reflecting film
FR1110967A (fr) * 1953-10-31 1956-02-20 Procédé de préparation de systèmes laminairement dispersés et ayant une structure primaire fibreuse ou totalement dispersée
US3185020A (en) * 1961-09-07 1965-05-25 Optical Coating Laboratory Inc Three layer anti-reflection coating
US3432225A (en) * 1964-05-04 1969-03-11 Optical Coating Laboratory Inc Antireflection coating and assembly having synthesized layer of index of refraction
US3463574A (en) * 1967-06-26 1969-08-26 Perkin Elmer Corp Multilayer antireflection coating for low index materials

Also Published As

Publication number Publication date
DE2105280A1 (de) 1971-08-19
AU2495771A (en) 1972-08-10
FR2079243A1 (de) 1971-11-12
FR2079243B1 (de) 1975-01-17
JPS5618921B1 (de) 1981-05-02
US3706485A (en) 1972-12-19
SU409448A3 (de) 1973-11-30
GB1292717A (en) 1972-10-11
CA931031A (en) 1973-07-31
NL7101449A (de) 1971-08-06
DE2105280B2 (de) 1980-01-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2105280C3 (de) Antireflexbelag
DE2927856C2 (de) Mehrschichten-Antireflexbelag
DE69605116T2 (de) Mehrschichtiges dünnschichtbandpassfilter
DE3009533C2 (de) Belag mit mittlerem Brechwert, Verfahren zu dessen Herstellung und Verwendung des Belages
DE2341359B2 (de) Aus einer Mehrzahl von einfachen oder zusammengesetzten lambda/4-Schichten bestehender reflexionsvermindemder Belag
DE2728127A1 (de) Antireflexbelag fuer ein kunststoffsubstrat
DE102014113077B4 (de) Dielektrischer Spiegel für Hochleistungs-Laserpulse
DE10101017A1 (de) Reflexionsminderungsbeschichtung für Ultraviolettlicht
DE2338019C3 (de) Verfahren zur Herstellung nur der aus einem zu Inhomogenitäten neigenden Material bestehenden Lambda-Halbe-Schicht eines Anticeflexionsfilms
DE2457474C3 (de) Verfahren zur Herstellung von reflexmindernden Mehrfachschichten und durch das Verfahren hergestellter optischer Körper
DE1913901C3 (de) Kaltlichtspiegel mit teilweise aus Silizium bestehenden Schichten, der einen Reflexionskoeffizienten von über 90% aufweist
DE2240302C3 (de) Optischer mehrschichtiger Antireflexbelag
CH714955B1 (de)
DE1923645C3 (de) Verfahren zum Aufdampfen mehrschichtiger Überzüge im Vakuum auf optische Glasgegenstände
DE102016110192A1 (de) Omnidirektionale rote strukturelle Farbe hoher Chroma mit Halbleiterabsorberschicht
DE4100831A1 (de) Breitband-entspiegelungsschichtbelag
DE112016000959T5 (de) Antireflexfilm und Verfahren zu dessen Herstellung und optisches Bauelement
EP1364433B1 (de) Dispersiver mehrschicht-spiegel
DE4100820C2 (de) Vielschicht-Entspieglungsbelag
EP0231478B1 (de) Teildurchlässiges optisches Filter und Verfahren zu seiner Herstellung
AT300401B (de) Entspiegelungsbelag
DE2154030B2 (de) Dreischichtiger Antireflexbelag mit unterschiedlichen Brechungsindices der einzelnen Schichten auf einem optischen - insbesondere hochbrechenden - Element
WO1980002749A1 (en) Antireflection coating on a surface with high reflecting power and manufacturing process thereof
DE2853004A1 (de) Optisches system fuer ein kopiergeraet
DE2248271C3 (de) Reflexionsvermindernde aus mehreren Teilschichten aufgebaute Mehrfachschicht

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
8339 Ceased/non-payment of the annual fee