DE2050285B2

DE2050285B2 - Verfahren zum herstellen von siebdruckschablonen aus metall

Info

Publication number: DE2050285B2
Application number: DE19702050285
Authority: DE
Inventors: Joachim 8033 Planegg Salier Helmut 8000 München Hopfner
Original assignee: Siemens AG
Current assignee: Siemens AG
Priority date: 1970-10-13
Filing date: 1970-10-13
Publication date: 1973-08-16
Also published as: DE2050285C3; DE2050285A1

Description

blonen werden hergestellt, indem eine dünne Metall- F i g. 1 zeigt eine Trägerplatte 1 aus Edelstahl, de-

folie von der einen Seite her das Siebraster, von der ren Oberfläche geläppt und gut gereinigt ist. Diese anderen Seite die gewünschte Druckkonfiguration ge- 60 Oberfläche der Edelstahlplatte 1 wird mit einer Fotoätzt wird. Ein Nachteil dieser Verfahren besteht polymerfolie 2 auflaminiert, mit dem Druckstrukturdarin, daß wegen der sich beim Ätzen des Musters negativ belichtet und anschließend entwickelt. Auf ergebenden ungleichmäßigen Ätztiefe verschieden die freigelegten Teile der Trägerplatte 1 wird antiefe Öffnungen des Druckmusters entstehen, wo- schließend eine erste Nickelschicht 3 bis zur Höhe durch auch beim Druckvorgang unterschiedlich dicke 65 der Fotopolymerfolie 2 auf galvanisiert. Für die wei-Schichten entstehen. tere Plattierung muß über die Fotopolymerfolie 2

In einer älteren Patentanmeldung ist ein Verfahren eine leitende Schicht 4 vorzugsweise wieder aus Nikzur Herstellung von metallischen Siebdruckschablo- kel aufgebracht werden. Hierzu wird die Oberfläche

der Fotopolymerfolie2 durch Bürsten aufgerauht Über die stromlos abgeschiedene Schicht 4 wird eine zweite Fotopolymerfolie S lerniniert, mit dem Lochraster 6 beuchtet und entwickelt Diesen Zustand zeigt Fig. 2. Nach einer zweiten Nickelabscheidung7 wird die Metallmaske von der Tiägerplattel mechanisch abgehoben. Die belichteten Fotopolymere 2, S werden mit geeigneten Lösungsmitteln herausgelöst; dabei wird die dünne, stromlos abgeschiedene Metallschicht 4 im Bereich durchgehender öff-

T™i7S£A in einer Gegenein ätztechnisch (Fig. 4) und ein gal-

tSSh (Fig. 5) ^rtteSfSSucT-Schnitt Es ist leicht einzusehen, daß eine Siebdruck maskTmit einer großen Konturenscharfe wie in FifS gegenüber Weniger exakten Masken Vortede besitzt.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims

2 050^85 . 3

1 "" 2

,. . nen vorgeschlagen, bei dem auf eine Seite,.eines me-

Patentansprüche: ^; tallisclieri Trägerblechs durch galvädiscie'Matallab-

scheidung unter Verwendung einer auf photpgrafi-

L Verfahren zum Herstellen von Siebdruck*- schem Wege hergestellten Maske des Druckmusters schablonen aus Metall mittels Galvanoplastik, 3 hergestellt wird, während nachfolgend auf der andedadurch gekennzeichnet, daß auf eine ren Seite, ebenfalls unter Verwendung einer Photoglatte, gut gereinigte Trägerplatte eine Fotopo- maske, ätztechnisch das Siebmuster hergestellt wird, lymerfolie laminiert, mit dem Negativ der Sieb- Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein druckkonfiguration belichtet und entwickelt wird, Verfahren zum Herstellen von Siebdruckschablonen daß dann Metall auf die freigelegte Oberfläche io aus Metall mittels Galvanoplastik anzugeben, bei deder Trägerplatte bis zur Höhe der Fqtopplymer- , nen das Öffnungsverhältnis des Siebrasters sehr groß folie auf galvanisiert wird, daß anschließend eine '' ■ ■■■ und über die gesamte Höhe konstant ist. ^;
dünne Metallschicht stromlos auf Metali und Fo- Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß auf eine topolymerfolie aufgebracht wird, daß auf diese glatte, gut gereinigte Trägerplatte eine Fotopolymerdünne Metallschicht eine weitere Fotopolymerfo- 15 folie laminiert, mit dem Negativ der Siebdruekkonfi-He laminiert, mit dem Negativ des Siebrasters be- guration belichtet und entwickelt wird, daß dann Melichtet und entwickelt wird, daß dann wiederum tall auf die freigelegte Oberfläche der Trägerplatte Metall bis zur Höhe der zweiten Fotopolymerfo- bis zur Höhe der Fotopolymerfolie aufgalvanisiert lie aufgalvanisiert wird, daß die Siebdruckscha- wird, daß anschließend eine dünne Metallschicht blone von der Trägerplatte abgelöst wird und daß ao stromlos auf Metall und Fotopolymerfolie aufgezum Schluß die Fotopolymerfolien mit einem ge- bracht wird, daß auf diese dünne Metallschicht eine eigneten Lösungsmittel herausgelöst werden, wo- weitere Fotopolymerfolie laminiert, mit dem Negativ bei auch die dünne, stromlos abgeschiedene Me- des Siebrasters belichtet und entwickelt wird, daß tallschicht im Bereich durchgehender Öffnungen dann wiederum Metall bis zur Höhe der weiteren Fomit herausgespült wird. 25 topolymerfolie aufgalvanisiert wird, daß die Sieb-
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch ge- druckschablone von der Trägerplatte abgelöst wird kennzeichnet, daß die Oberfläche der ersten Fo- und daß zum Schluß die Reste der Fotopolymere mit topolymerfolie vor dem stromlosen Metallisieren einem geeigneten Lösungsmittel herausgelöst werden, aufgerauht wird. wobei auch die dünne, stromlos abgeschiedene Me-
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch ge- 30 tallschicht im Bereich durchgehender Öffnungen mit kennzeichnet, daß die Oberfläche durch Bürsten herausgespült wird.

aufgerauht wird. Damit ergeben sich die Vorteile, daß die ge-
4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch wünschten Druckkonfigurationen genau eingehalten gekennzeichnet, daß als Trägerplatte eine Edel- werden, daß die danach hergestellte Druckmaske mestahlplatte verwendet wird. 35 chanisch und chemisch beständig ist und daß die Un-
5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch terseite der Druckmaske, die auf das zu bedruckende gekennzeichnet, daß als galvanisch und stromlos Substrat aufgelegt wird, die Ebenheit der Trägerabzuscheidendes Metall Nickel verwendet wird. platte besitzt und scharfkantig ist, so daß beim

Druckvorgang keine Druckfarbe seitlich hinausge-40 preßt werden kann, was zu einer Verschlechterung

der Konturenschärfe führen würde.

Vor dem stromlosen Aufbiingen der Metallzwischenschicht wird die Oberfläche der ersten Fotopo-

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstel- lymerfolie vorteilhaft aufgerauht, vorzugsweise durch len von Siebdruckschablonen aus Metall mittels GaI- 45 Bürsten. Hierdurch wird die stromlose Metallisierung vanoplastik. wesentlich erleichtert.

Zur Herstellung von Dickfilmschaltungen werden Als Trägerplatte wird vorteilhaft eine Edelstahl-

konturenscharfe Siebdruckschablonen benötigt, die platte verwendet, da die meisten galvanisch abgedas Drucken feinster Details zulassen. Dabei wird ge-, schiedenen Metalle während des Herstellungsprozesfordert, daß sich Konfigurationen bis zu 50 μΐη Breite 50 ses einerseits ausreichend gut am Edelstahl haften, und weniger einwandfrei drucken lassen. Die be- sich aber andererseits nach Fertigstellung der Siebkannten Kunststoffsiebdruckschablonen besitzen druckschablone einfach abheben lassen,
zwar eine hohe Auflösung, jedoch nur eine geringe Als galvanisch und stromlos abzuscheidendes Me-

Konturenschräfe, geringe Standzeit und chemische , tall eignet sich Nickel, da es leicht abzuscheiden ist Beständigkeit. Zum Drucken chemisch aggressiver" 55' und eine gute mechanische Festigkeit besitzt.
Pasten werden daher Siebdruckschablonen aus Me- An Hand der Figuren soll die Erfindung näher er-

tall verwendet. Die bekannten Metallsiebdruckscha- läutert werden.