DE202004021666U1 - Anlage zum Entfernen von Ölen, Fetten oder dergleichen hydrophoben Bestandteilen von Oberflächen eines Substrates - Google Patents
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Abstract
Anlage zum Entfernen von Ölen, Fetten oder dergleichen hydrophoben Bestandteilen von Oberflächen eines Substrates (1), mit einer Bedüsungseinrichtung (2) zum Aufbringen eines Trockenpulvers vorgegebener Porosität, und mit einer Ablöseeinheit (4) zum Entfernen des die in den Poren adsorbierten hydrophoben Bestandteile aufweisenden Trockenpulvers.
Description
- Die Erfindung betrifft eine Anlage zum Entfernen von Ölen, Fetten oder dergleichen hydrophoben Bestandteilen von Oberflächen eines Substrates.
- Derartige Anlagen und zugehörige Reinigungsverfahren sind in vielfältiger Art und Weise bekannt und greifen in der Regel auf Lösungsmittel sowie beispielsweise Tenside entsprechend der
DE 44 21 141 A1 zurück. - Daneben kennt man beispielsweise durch die
US 2005/037937 A1 - Ungeachtet dessen nutzt man Fettsäuren oder Fettsäuregemische zum Lösen der hydrophoben Bestandteile. Im Anschluss daran wird eine basische wässrige Lösung zur Umwandlung der Fettsäure in ein Fettsäuresalz unter Bildung einer Emulsion mit die gelösten hydrophoben Bestandteile aufweisenden Tensiden in der Wasserphase zugegeben (vgl.
WO 99/11745 A1 - Ferner ist es beim Reinigen von Aluminium oder Aluminiumlegierungen bekannt, auf eine alkalische wässrige Lösung zurückzugreifen, wie sie beispielhaft in der
US-PS 5 614 027 beschrieben wird. - Eine Anlage zum Entfetten von metallischen Oberflächen mit Hilfe von kolloidalem Silikasol bzw. Kieselgel wird in der
US-PS 3 037 886 beschrieben. Zum Entfernen der Solbeschichtung wird die metallische Oberfläche mit einer Waschflüssigkeit abgespült. - Die bekannten Vorgehensweisen sind mit dem grundsätzlichen Problem behaftet, dass die von den Oberflächen des jeweiligen Substrates gelösten hydrophoben Bestandteile, in der Regel Öl und Fette, in Verbindung mit dem zugehörigen Lösungsmittel und/oder einer Waschflüssigkeit als Sondermüll behandelt werden müssen. Das zieht eine kostenträchtige Abfallentsorgung nach sich. Hier will die Erfindung insgesamt Abhilfe schaffen.
- Der Erfindung liegt das technische Problem zugrunde, eine Anlage zum Entfernen von Ölen, Fetten oder dergleichen hydrophoben Bestandteilen von Oberflächen eines Substrates anzugeben, welche verringerte Kosten bei der Aufbereitung nach sich zieht.
- Zur Lösung dieser technischen Problemstellung ist Gegenstand der Erfindung eine Anlage zum Entfernen von Ölen, Fetten oder dergleichen hydrophoben Bestandteilen von Oberflächen eines Substrates, mit einer Bedüsungseinrichtung zum Aufbringen eines Trockenpulvers vorgegebener Porosität, und mit einer Ablöseeinheit zum Entfernen des die in den Poren adsorbierten hydrophoben Bestandteile aufweisenden Trockenpulvers.
- Die beschriebene Anlage verfügt folglich über eine Bedüsungseinrichtung, welche das Trockenpulver unterstützt durch den Druck eines Mediums auf die zu reinigende Oberfläche des Substrates aufbringt. Bei dem genannten Medium kann es sich um Luft oder auch um ein anderes Gas handeln, welche(s) das Trockenpulver fluidisiert, d. h. ”fließfähig” macht. Dadurch wird bereits die erforderliche mechanische Energie aufgebracht, um die Adsorption der hydrophoben Bestandteile im Trockenpulver auf der Oberfläche des Substrates zu begünstigen. Zusätzlich zu dieser Bedüsungseinrichtung verfügt die beschriebene Anlage noch über eine Ablöseeinheit, welche zum Entfernen des mit in den Poren adsorbierten hydrophoben Bestandteile belasteten Trockenpulvers von dem Substrat dient. Im einfachsten Fall handelt es sich bei der Ablöseeinheit um eine Absaugeinrichtung, wenngleich natürlich auch andere Vorrichtungen an dieser Stelle denkbar sind.
- Um die mechanische Einwirkung des Trockenpulvers auf die zu reinigende Oberfläche ergänzend zu intensivieren, mag zusätzlich zu der Bedüsungseinrichtung eine Bürstenkolonne vorgesehen sein. Diese verfügt in der Regel über schräggestellte Bürsten, damit das aufgedüste Trockenpulver gleichmäßig über das Substrat verteilt wird. Eine solche Vorgehensweise empfiehlt sich besonders für den Fall, dass ein durchlaufendes Metallband oder dergleichen entfettet bzw. entölt werden soll.
- Dabei geht es insgesamt darum, hydrophobe Bestandteile von Oberflächen eines beliebigen Substrates zu entfernen. Tatsächlich kommen als Substrate sowohl Metall- als auch Nichtmetallgegenstände in Frage. Ebenso Kunststoff-, Holz- und Keramikgegenstände sowie andere Materialien, die mit mineralischen, synthetischen, tierischen, pflanzlichen Ölen und/oder Fetten kontaminiert sind. Solche Verunreinigungen treten in der Regel bei der Metallverarbeitung, beispielsweise beim Stanzen, Bohren, Umformen, bei der spangebenden Verformung, beim Ziehen, Tiefziehen etc. auf. Denn die vorgenannten Bearbeitungsschritte erfordern regelmäßig den zusätzlichen Einsatz von Bearbeitungsölen oder -fetten.
- Außerdem werden die betreffenden Substrate, beispielsweise Eisenmetalle und auch Nichteisenmetalle, zum Schutz gegen Korrosion mit Korrosionsschutzölen oder -fetten behandelt, die vor der jeweiligen Weiterverarbeitung entfernt werden müssen. Denn ansonsten lassen sich solche Substrate nicht lackieren bzw. mit einer gewünschten Beschichtung überziehen.
- Im Gegensatz zu den bekannten Vorgehensweisen zum Entfetten von Oberflächen mit beispielsweise wässrigen alkalischen Lösungen, die bei der Entsorgung als Sondermüll behandelt werden müssen, greift die Erfindung auf eine trockene Entfernung der hydrophoben Bestandteile zurück. Das heißt, die hydrophoben bzw. ”wasserscheuen” Substanzen bzw. Bestandteile werden lösungsmittelfrei (und damit natürlich auch wasserfrei) von dem Trockenpulver adsorbiert und dementsprechend in pulvriger Form von dem Substrat entfernt. Tatsächlich führt die Adsorption der hydrophoben Bestandteile dazu, dass sich in dem entfernten Trockenpulver Körner mit einer gegenüber dem unadsorbierten Zustand vergrößerten Korngröße bilden, die problemlos in einem nachfolgenden Schritt, beispielsweise beim Durchsieben, ausgesondert werden können.
- Das heißt, nach bevorzugter Ausführungsform wird das erfindungsgemäß eingesetzte Trockenpulver vorgegebener Porosität im Kreislauf geführt, wobei die jeweils mit den hydrophoben Bestandteilen gesättigten Pulverbestandteile ausgeschleust und durch unbehandeltes neues Pulver ersetzt werden.
- Tatsächlich liegt das eingesetzte Trockenpulver in der Regel mit einer Körnung mit Korngrößen unterhalb von 500 Mikrometer vor. Insbesondere empfiehlt die Erfindung eine Korngröße von weniger als 200 Mikrometer, vorzugsweise unterhalb von 150 Mikrometer. Ganz besonders bevorzugt ist ein Korngrößenbereich von weniger als 100 Mikrometer, um eine insgesamt große Oberfläche für die Adsorption bereitzustellen. Unter Berücksichtigung dieser Prämissen kann dann das jeweils mit den hydrophoben Bestandteilen gesättigte Trockenpulver unschwer ausgeschleust werden, indem mit entsprechender Siebung gearbeitet wird.
- Für die Erfindung von besonderer Bedeutung ist der Umstand, dass das eingesetzte Trockenpulver über eine vorgegebene Porosität verfügt, mithin eine große innere (und gegebenenfalls äußere) Oberfläche aufweist, die als Adsorptionsoberfläche für die hieran anzulagernden hydrophoben Bestandteile fungiert. Tatsächlich beträgt die innere Oberfläche des eingesetzten Trockenpulvers in der Regel mehr als 10 m2/g, wobei üblicherweise sogar mehr als 50 m2/g für die spezifische Oberfläche beobachtet werden. Solche Werte für die spezifische Oberfläche werden üblicherweise von Tonen bzw. Tonmineralen problemlos erreicht und sind die eigentlichen Träger der speziellen Toneigenschaften. Die vorgenannte spezifische Oberfläche lässt sich wie allgemein bekannt durch eine vollständige Belegung aller Oberflächen mit polaren organischen Molekülen ermitteln und umfasst dabei Komponenten mit innerkristaliner Quellfähigkeit und zwar sowohl äußere wie innere Oberflächen. Dabei liegt der Anteil der inneren Oberflächen an der gesamten spezifischen Oberfläche größtenteils zwischen 80% und 90%.
- Es hat sich bewährt, als Trockenpulver ein solches einzusetzen, welches auf ein Silikatpulver mit einem Anteil von bis zu 90 Gew.-%, vorzugsweise bis zu 80 Gew.-% zurückgreift. Darüber hinaus mögen diesem Silikatpulver noch weitere Adsorbentien hinzugefügt werden, wie zum Beispiel Aktivkohle, Talkum usw. sowie andere Mineralien.
- Insgesamt hat es sich als günstig erwiesen, das Silikatpulver als Bestandteil des Trockenpulvers als Mischung aus einem Tektosilikat und einem Schichtsilikat auszubilden. Bei dem Schichtsilikat handelt es sich regelmäßig um ein quellfähiges Tonmineral mit Schichtgitterstruktur der Smektitgruppe, welches in Gestalt von Bentonit vorliegen mag. Natürlich können auch vergleichbare Tonminerale wie zum Beispiel Kaolinit, Polygorskit, Illit, Chlorit, Pyrophyllit, Imogolit etc. oder Montmorillonite zum Einsatz kommen. Das betreffende Tonmineral bzw. Schichtsilikat kann mit Calcium, Magnesium oder Natrium belegt sein.
- Darüber hinaus greift das Silikatpulver auf ein Tektosilikat bzw. Gerüstsilikat zurück. Solche Gerüstsilikate zeichnen sich durch einen sehr lockeren und weitmaschigen Aufbau mit kanalartigen Hohlräumen aus. Tatsächlich eröffnen die Hohlräume die Möglichkeit der Einlagerung von Stoffen, und zwar ohne wesentliche Veränderung des Gitteraufbaus. Das unterscheidet sie von den Schichtsilikaten, die bei der Einlagerung der hydrophoben Bestandteile in der Regel ihren Schichtabstand ändern, folglich quellen.
- Als Gerüstsilikate können natürliche Mineralgemenge mit dem Bestandteil Clinoptilolith oder auch Zeolith sowie Chabasit zum Einsatz kommen. Außerdem empfiehlt die Erfindung, das jeweilige Silikatpulver hinsichtlich seiner inneren Oberfläche und/oder der Porenverteilung an die zu entfernenden hydrophoben Bestandteile anzupassen. Das heißt, je nach ”Länge” der Kohlenwasserstoffketten der hydrophoben Bestandteile wird man die Porenstruktur entsprechend einstellen und vorgeben, damit sich diese Kettenbestandteile in den Hohlräumen einlagern können. Diese Anpassung kann durch die Behandlung mit Säuren, wie zum Beispiel Schwefelsäuren, Salzsäure oder auch unter Rückgriff auf eine organische Säure vorgenommen werden. Dadurch lässt sich nicht nur die Porenverteilung und/oder deren Beschaffenheit vorgeben, sondern auch die Oberflächencharakteristik der Hohlräume steuern. Denkbar ist es hier, für einen organophilen (das heißt organische Bestandteile bevorzugenden) und/oder hydrophilen (das heißt Wasser anziehenden) Charakter zu sorgen.
- Insgesamt hat es sich bewährt, wenn die beiden Mischungskomponenten Tektosilikat und Schichtsilikat des Silikatpulvers in einem bestimmten Mischungsverhältnis vorliegen, welches von 0 bis 100 Gew.-% sowohl für das Tektosilikat als auch das Schichtsilikat reichen kann. Das heißt, das Silikatpulver kann vollständig aus dem Tektosilikat oder aber auch vollständig aus dem Schichtsilikat bestehen, wobei selbstverständlich auch Zwischenstufen denkbar sind und umfasst werden. So empfiehlt die Erfindung bevorzugt den Rückgriff auf 30 Gew.-% bis 70 Gew.-% Tektosilikat, wobei besonders bevorzugt ein Bereich von 40 Gew.-% bis 60 Gew.-% Tektosilikat ist. Demgegenüber wird das Schichtsilikat in der Regel zu 20 Gew.-% bis 50 Gew.-% eingesetzt, wobei ein besonders bevorzugter Bereich zwischen 30 Gew.-% und 40 Gew.-% des Schichtsilikates liegt.
- Insgesamt macht das Silikatpulver bzw. die vorgenannte Mischung – wie bereits beschrieben – größtenteils bis zu 90 Gew.-% des Trockenpulvers aus, wobei das Trockenpulver selbstverständlich auch aus 100 Gew.-% Silikatpulver bestehen kann, wenn auf die bereits angesprochenen Zusätze, wie zum Beispiel Aktivkohle, Glimmer, Talkum etc. verzichtet wird.
- Im Ergebnis wird eine Anlage beschrieben, welche die trockene Entfernung hydrophober Bestandteile von den Oberflächen des Substrates präferiert. Dadurch besteht die Möglichkeit, das Trockenpulver im Kreislauf zu führen, wobei nur und ausschließlich mit den hydrophoben Bestandteilen gesättigte Pulverkörner ausgeschleust werden. Dadurch muss je nach Umlauf nur ein geringer Teil des Trockenpulvers durch Neupulver ersetzt werden, so dass die Kosten gering werden.
- Von besonderer Bedeutung ist zusätzlich noch der Umstand, dass das ausgeschleuste Trockenpulver problemlos entsorgt werden kann und im Vergleich zu konventionellen Vorgehensweisen viel geringere Abfallraten zu erwarten sind, weil lösungsmittelfrei gearbeitet wird.
- Außerdem lässt sich das Verfahren unter Rückgriff auf einfach aufgebaute Anlagen realisieren, die zudem die Möglichkeit eröffnen, eine dezentrale Reinigung vornehmen zu können. Das heißt, jeder einzelne Metallbearbeitungsschritt kann mit seiner eigenen Reinigungsanlage flankiert werden.
- Außerdem besteht die Option, das erfindungsgemäße Trockenpulver in Verbindung mit einem Handreinigungsmittel einzusetzen. Hierbei mag es sich um ein Tuch, eine Bürste, einen Pinsel etc. handeln, welcher mit dem betreffenden Trockenpulver imprägniert ist und für die Handreinigung der Substrate eingesetzt wird.
- Durch den Rückgriff des Silikatpulvers auf die Mischung aus dem Tektosilikat und dem Schichtsilikat wird ein durch das Mischungsverhältnis einstellbares Größenspektrum an Poren zur Adsorption der hydrophoben Bestandteile zur Verfügung gestellt. Tatsächlich sind die Schichtsilikate bzw. quellfähigen Dreischicht-Silikate durch eine ausgeprägte Mikro-/Mesoporosität gekennzeichnet. Durch ihre aufweitbaren Zwischenschichträume können sie wässrige Bestandteile sowie polare Verbindungen fest adsorbieren. Außerdem kann durch geeignete und eingangs bereits beschriebene Behandlungsverfahren (Aktivierung mit beispielsweise Säure) die Porosität, die chemische Charakteristik sowie die Beschaffenheit der Oberflächen auf den jeweiligen Einsatzzweck, sprich die zu adsorbierenden Kohlenwasserstoffketten, abgestimmt werden. Infolge der Adsorption weiten sich die Zwischenschichträume auf, so dass die einzelnen Körner quellen und durch Sieben ausgeschleust werden können.
- Demgegenüber besitzen die Tektosilikate ein engmaschiges, definiertes Porensystem und verfügen hierdurch über die notwendigen Hohlräume zur Adsorption. Wie im Falle der Dreischicht-Silikate überwiegen in den Hohlräumen die negativen Ladungen, so dass besonders polare hydrophobe Bestandteile elektrostatisch adsorbiert werden. Im Gegensatz zu den Schichtsilikaten verbleiben die Gerüstsilikate bzw. Tektosilikate bei der Adsorption größenstabil, neigen also nicht zum Quellen. Wie die Schichtsilikate lassen sich auch die Tektosilikate durch eine geeignete Oberflächenbehandlung (mit beispielsweise Säuren) für den jeweiligen Einsatzzweck optimieren.
- Durch die erfindungsgemäße Trockenentfettung bzw. -entölung kann die Oberflächenbehandlungszeit im Vergleich zu konventionellen Vorgehensweisen deutlich reduziert werden, so dass beispielsweise bei der Entfettung von Metallbändern die Takt- und Durchlaufzeiten drastisch verringert sind. Darüber hinaus verfügt die für die Entfettung eingesetzte Anlage über einen im Vergleich zu bisherigen Vorrichtungen deutlich geringeren Platzbedarf, wodurch die Investitionskosten niedriger sind und die bereits beschriebene dezentrale Reinigung überhaupt erst ermöglicht wird. Gleichzeitig lassen sich der Wasser- und Stromverbrauch und damit die Energiekosten mindern und der Einsatz von gesundheitsgefährdenden Lösemitteln und deren Sondermüllentsorgung entfällt. Gleichzeitig wird nach der Behandlung eine Oberflächenenergie zwischen 35 und 40 bis 50 mN/m beobachtet, welche das anschließend problemlose Aufbringen von Farbe, Klebstoff, Kunststoff, Metall oder anderen Beschichtungen auf dem Substrat erlaubt. Darin sind die wesentlichen Vorteile zu sehen.
- Im Folgenden wird die Erfindung anhand einer lediglich ein Ausführungsbeispiel darstellenden Zeichnung näher erläutert; es zeigen:
-
1 eine erfindungsgemäße Anlage zum Entfernen von Ölen, Fetten oder dergleichen; -
2 eine abgewandelte Ausführungsform. - In den Figuren ist eine Anlage zum Entfernen von Ölen, Fetten oder dergleichen hydrophoben Bestandteilen von Oberflächen eines Substrates
1 dargestellt. Bei dem Substrat1 handelt es sich im Rahmen der1 um ein durchlaufendes Metallband1 , während die2 ein zu entfettendes Maschinenelement1 in Gestalt eines Zahnrades1 zeigt. Es sollte betont werden, dass insofern nur Beispiele dargestellt sind, die keineswegs einschränkend wirken. So könnte es sich bei den Substraten nach2 auch um Messer oder Gabeln in der Besteckindustrie handeln. - In beiden Fällen verfügt die gezeigte Anlage über eine Bedüsungseinrichtung
2 , die in eine Bürstenkolonne3 nach1 integriert ist. Dagegen greift die2 ausschließlich auf die Bedüsungseinrichtung2 zurück ohne zusätzlich noch mit einer Bürstenkolonne3 ausgerüstet zu sein. Im Rahmen der Darstellung nach1 ist die Bedüsungseinrichtung2 in hohlgebohrten Achsen4 der Bürstenkolonne3 realisiert, wobei die hohlgebohrten Achsen4 über Austrittsöffnungen verfügen, durch welche das eingangs bereits beschriebene Trockenpulver in Verbindung mit der das Trockenpulver fördernden Luft die Bedüsungseinrichtung2 verlässt. Alternativ hierzu kann auch mit neben den einzelnen Bürsten5 platzierten Bedüsungseinrichtungen2 gearbeitet werden, wie dies der vergrößerte Ausschnitt in der1 deutlich macht. - Von der Bedüsungseinrichtung
2 gelangt das durch Luft in den fluiden Zustand überführte Trockenpulver direkt auf das Substrat1 . Durch diesen Vorgang verteilt sich das Trockenpulver gleichmäßig auf dem Substrat1 und kommt es zu einem innigen Kontakt zwischen dem aufgebrachten Trockenpulver und einer Öl- oder Fettschicht auf dem Substrat1 . Darüber hinaus eröffnet dieser fluide Zustand des Trockenpulvers die Möglichkeit, dieses elektrostatisch aufzuladen. Außerdem kann das fluidisierte Trockenpulver mit Hilfe bekannter Maschinen und Anlagen verarbeitet werden, wie sie beispielsweise aus der elektrostatischen Pulverbeschichtung bekannt sind. Das Gleiche gilt für dort bereits eingesetzte Rückgewinnungsanlagen, die vorteilhaft zum Rückgewinnen des erfindungsgemäßen Trockenpulvers im dargestellten Zusammenhang eingesetzt werden können. - Darüber hinaus eröffnet die elektrostatische Aufladung des fluidisierten Trockenpulvers die Möglichkeit, dieses nicht unbedingt flächendeckend auf das zu reinigende Substrat
1 aufbringen zu müssen. Tatsächlich reicht es aus, wenn beispielsweise das Substrat1 positiv aufgeladen wird und demgegenüber auf eine negativ aufgeladene Wolke des fluidisierten Trockenpulvers trifft. Selbstverständlich kann auch mit umgekehrten Polaritäten gearbeitet werden. Jedenfalls sorgt die umgekehrte Polung von einerseits Substrat1 und andererseits Trockenpulver dafür, dass sich dieses flächendeckend und gleichmäßig auf dem Substrat1 niederschlägt, wodurch der gewünschte Reinigungsvorgang bei minimalem Einsatz an Trockenpulver begünstigt wird. - In jedem Fall sorgt die durch die Luftbestäubung und/oder elektrostatische Aufladung des fluidisierten Trockenpulvers realisierte Einwirkung mechanischer Energie dafür, dass die Öl- bzw. Fettoberfläche auf dem Substrat
1 teilweise aufgebrochen wird. In die gleiche Richtung zielen die Bürsten5 . – Selbstverständlich können auch andere Einrichtungen flankierend oder alternativ eingesetzt werden, um die notwendige Einwirkung mechanischer Energie darzustellen. Denkbar ist hier beispielsweise der Einsatz von Ultraschall. - Zusätzlich zu der Bedüsungseinrichtung
2 ist noch eine Ablöseeinheit6 vorgesehen, bei welcher es sich im Rahmen der Darstellung um eine Absaugeinheit6 handelt. Diese saugt das gesamte auf das Substrat1 aufgebrachte Trockenpulver ab und führt dieses einer Rückgewinnungsstation7 über Leitungen8 zu. In der Rückgewinnungsstation7 wird das Trockenpulver im Wesentlichen gesiebt, wobei größtenteils mit dem Öl oder Fett gesättigte Körner ausgeschleust werden. Je nach dem, wie groß der Anteil des ausgeschleusten Trockenpulvers bemessen ist, sorgt eine Steuereinrichtung9 mit nachgeschalteter Zugabevorrichtung dafür, dass dieser Anteil durch Neupulver wieder ausgeglichen wird und die Pulvermenge erhalten bleibt. - Das solchermaßen aufbereitete bzw. rückgewonnene Trockenpulver wird anschließend über eine Rückführleitung
10 und einen Vorratsbehälter11 der erneuten Behandlung des Substrates1 wieder zugeführt. - Man erkennt, dass die Anlage nach
1 in zwei Stationen unterteilt ist, und zwar eine Station12 zur Reinigung mit dem Trockenpulver und eine Station13 zur Endreinigung, die lediglich mit Absaugeinheiten6 ausgerüstet ist, ohne zusätzlich Trockenpulver aufzubringen. Im Gegensatz zu den Bürsten5 , die aus Kunststoff, Rosshaar (zum Verhindern einer statischen Aufladung des Substrates1 ) oder einem sonst geeigneten Material gefertigt sind, handelt es sich bei den in der Station13 eingesetzten Bürsten14 um solche aus beispielsweise Straußenfedern, was jedoch nicht zwingend ist. - Beide Stationen
12 ,13 sind durch eine Trennwand15 voneinander separiert. Nach außen hin sorgen durch Bürsten verschlossene Schlitze16 dafür, dass das Substrat1 bzw. Metallband nicht unnötigerweise Schmutz in die beiden Stationen12 ,13 hereinträgt bzw. Schmutzpartikel in die Anlage hineingeraten. - Bei der Anlage nach
2 werden die einzelnen Substrate1 bzw. Maschinenelemente1 in einer Revolveraufnahme aufgenommen, die sich während des Bedüsungsvorganges mit der Bedüsungseinrichtung2 um eine Achse wie angedeutet drehen mag. Gleichzeitig oder nach dem Bedüsen kann der revolverartige Behälter zu Rüttelbewegungen veranlasst werden, was durch zusätzliche Pfeile angedeutet ist. Durch diese Rüttelbewegungen wirkt mechanische Energie ein und sorgt für die Einarbeitung des in den einzelnen Schächten des Revolvers vorhandenen Pulvers in die Oberfläche des Substrates1 . Nach der Adsorption der hydrophoben Bestandteile in dem Trockenpulver wird das Trockenpulver mit Hilfe einer angedeuteten Ablöseeinheit bzw. Absaugeinheit6 entfernt und wie zuvor beschrieben aufbereitet und im Kreislauf wieder zugeführt. - ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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- Zitierte Patentliteratur
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- - WO 99/11745 A1 [0004]
- - US 5614027 [0005]
- - US 3037886 [0006]
Claims (10)
- Anlage zum Entfernen von Ölen, Fetten oder dergleichen hydrophoben Bestandteilen von Oberflächen eines Substrates (
1 ), mit einer Bedüsungseinrichtung (2 ) zum Aufbringen eines Trockenpulvers vorgegebener Porosität, und mit einer Ablöseeinheit (4 ) zum Entfernen des die in den Poren adsorbierten hydrophoben Bestandteile aufweisenden Trockenpulvers. - Anlage nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass zusätzlich zu der Bedüsungseinrichtung (
2 ) eine Bürstenkolonne (3 ) vorgesehen ist. - Anlage nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Bedüsungseinrichtung (
2 ) in die Bürstenkolonne (3 ) integriert ist. - Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Ablöseeinheit (
6 ) als Absaugeinheit (6 ) ausgebildet ist und das gesamte auf das Substrat (1 ) aufgebrachte Trockenpulver absaugt sowie einer Rückgewinnungsstation (7 ) über Leitungen (8 ) zuführt. - Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Trockenpulver im Kreislauf geführt wird.
- Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass das Trockenpulver eine Körnung mit Korngrößen unterhalb von 500 μm, insbesondere weniger als 200 μm, vorzugsweise unterhalb von 150 μm und besonders bevorzugt von weniger als 100 μm aufweist.
- Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Trockenpulver ein Silikatpulver mit einem Anteil von bis zu 90 Gew.-%, insbesondere bis zu 80 Gew.-%, aufweist.
- Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass dem Trockenpulver neben dem Silikatpulver weitere Adsorptionsmaterialien wie Aktivkohle, amorphe Silikatbestandteile und Minerale zugesetzt sind.
- Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass das in der Bedüsungseinrichtung (
2 ) fluidisierte Trockenpulver elektrostatisch aufgeladen ist. - Anlage nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass das Trockenpulver in der Rückgewinnungsstation (
7 ) im Wesentlichen gesiebt wird, wobei größtenteils mit den hydrophoben Bestandteilen gesättigte Körper ausgeschleust werden.
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