DE19908528A1 - Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Wasserlos-Offsetdruckplatten - Google Patents
Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Wasserlos-OffsetdruckplattenInfo
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein IR-strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit einem Träger, einer Grundierschicht, einer IR-absorbierenden Schicht und einer Silikonschicht. Die Grundierschicht enthält eine Mischung aus einem nichtmodifizierten Epoxidharz, einem weiteren organischen Polymer, das funktionelle Gruppen aufweist und einem Vernetzer, der mit dem Epoxidharz und den funktionellen Gruppen des organischen Polymers reagiert. Bevorzugt enthält sie auch noch Pigmente, insbesondere anorganische Pigmente. Zur Herstellung einer Druckform für den wasserlosen Offsetdruck wird das Aufzeichnungsmaterial mit IR-Strahlung, insbesondere mit IR-Laserstrahlung, bildmäßig belichtet und anschließend mit Wasser oder einer wäßrigen Lösung von den ablatierten Schichtbestandteilen befreit. Die Grundierschicht bewirkt eine besonders gute Haftung der IR-absorbierenden Schicht auf dem Träger, ohne dabei die Entfernung der bestrahlten Bereiche der IR-absorbierenden Schicht beim Entwickeln zu behindern.
Description
Die Erfindung betrifft ein mit IR-Strahlung digital bebilderbares Aufzeichnungsma
terial mit - in dieser Reihenfolge - einem Aluminiumträger, einer Grundierschicht,
einer Infrarot-Strahlung absorbierenden Schicht und einer Silikonschicht.
Außerdem betrifft sie ein Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte für den
wasserlosen Offsetdruck aus dem Aufzeichnungsmaterial.
Aufzeichnungsmaterialien, aus denen sich Wasserlos-Offsetdruckplatten herstel
len fassen, sind bereits bekannt. So ist in der DE-B 25 12 038 (= CA 1 050 805)
ein negativ arbeitendes Material beschrieben mit einem Druckfarbe annehmen
den Träger, einer Schicht, die Laserenergie absorbierende Teilchen, Nitro
cellulose, ein vernetzbares Harz und ein Vernetzungsmittel enthält, sowie einer
Druckfarbe abstoßenden Silikonschicht. Bei der Laserbestrahlung wird die
absorbierende Schicht in den bestrahlten Bereichen zerstört, so daß die darüber
liegende Silikonschicht dort ihren Halt verliert und zusammen mit den Resten der
absorbierenden Schicht mit einem organischen Lösemittel entfernt werden kann.
Anschließend wird die entwickelte Platte auf etwa 200°C erhitzt, um das vernetz
bare Harz zu härten und auf diese Weise die Haftung der Silikonschicht in den
nicht bestrahlten Bereichen zu verbessern. In der DE-B ist auch eine Isolier
schicht aus einem oleophilen oder farbannehmenden Harz erwähnt, die zwischen
einem stark wärmeleitenden metallischen Träger und der IR-absorbierenden
Schicht angeordnet sein kann. Gemäß der DE-B ist die Art des Harzes nicht
wesentlich. Es können irgendwelche oleophilen Harze verwendet werden, die auf
dem Gebiet des Flachdrucks üblich sind. Erwähnt sind Phenol- und Cresol-
Formaldehyd-Harze, Vinylharze, Alkydharze, Polyesterharze, Polyamide, Poly
vinylacetat, Polyvinylchlorid (PVC), Polyvinylidenchlorid (PVDC), Polystyrol und
Polyethylen. Die Haltbarkeit der Platte beim Drucken ohne Feuchtmittel sowie die
damit erreichbare Druckauflage ist jedoch trotz der thermischen Härtung der IR
absorbierenden Schicht unzureichend.
In der EP-A 0 802 067 ist ein Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Wasser
los-Offsetdruckplatten beschrieben, das einen Träger, eine hitzeisolierende und
eine hitzeempfindliche Schicht sowie eine Druckfarbe abstoßende Deckschicht
umfaßt. Das Material zeichnet sich dadurch aus, daß die hitzeisolierende, die
hitzeempfindliche Schicht und das aus beiden Schichten gebildete Laminat
jeweils einen anfänglichen E-Modul von 5 bis 100 kgf/mm2 und eine 5% Zug
spannung (5% stress) von 0,05 bis 5 kgf/mm2 aufweisen (kgf = kg force = kp).
Als Träger wird beispielsweise eine entfettete 0,24 mm dicke Aluminiumfolie ver
wendet. Die hitzeisolierende Schicht kann hergestellt werden durch Auftragen
eines Gemisches aus Polyurethanharz, blockiertem Isocyanat, Epoxy-Phenol-
Harnstoff-Harz, Dibutylzinn-diacetat, Victoriapurpur BOH Naphthalinsulfonsäure
in Dimethylformamid auf den Träger und anschließendes Trocknen. Das Gewicht
der isolierenden Schicht liegt dann bei 5 g/m2. Auf die getrocknete Schicht kann
dann ein Gemisch aus Nitrocellulose, Ruß, Polyurethan, modifiziertem Epoxy
harz, Epoxy-acrylat und Diethylentriamin in Methyl-isobutyl-keton aufgetragen
und anschließend 1 min lang getrocknet (Schichtgewicht: 2 g/m2) werden. Die
Deckschicht besteht aus einem RTV-2 Silikonkautschuk vom Additionstyp.
In der EP-A 763 424 ist ein Verfahren zur Herstellung einer wasserlos drucken
den Offsetdruckplatte offenbart, bei dem ein Material verwendet wird, das einen
Träger, eine Schicht, die Laserstrahlen in Wärme umwandelt, und eine Schicht,
die Druckfarbe abstößt, umfaßt. Zwischen dem Träger und der Schicht, die
Laserstrahlen absorbiert, kann noch eine weitere Schicht angeordnet sein, die
beispielsweise eine verbesserte Annahme der Druckfarbe bewirkt. Diese Schicht
besteht insbesondere aus organischen Polymeren, insbesondere aus Acryl-,
Methacryl-, Styrol- oder Vinylester-Polymeren, aus Polyester oder Polyurethanen.
Das mit IR-Laserstrahlen digital bebilderbare Aufzeichnungsmaterial für Wasser
los-Offsetdruckplatten gemäß der EP-A 764 522 umfaßt einen Träger, eine IR
absorbierende Schicht und eine darüber liegende Silikonschicht. Zwischen Träger
und IR-absorbierender Schicht kann noch eine Grundierschicht vorhanden sein.
Sie enthält keine IR-absorbierenden Rußpartikel, sondern andere Pigmente oder
Farbstoffe, die das durch Laserbestrahlung erzeugte Bild deutlicher hervortreten
lassen. Darüber hinaus vermindert sie den Abfluß von Wärme aus der IR-absor
bierenden Schicht in den Träger.
Das in der EP-A 755 781 beschriebene Aufzeichnungsmaterial für Wasserlos-
Offsetdruckplatten umfaßt eine dünne Metallschicht, die IR-Laserstrahlen
absorbiert und dabei ablatiert wird.
In der WO 97/00175 ist ein Aufzeichnungsmaterial für wasserlos druckende
Offsetplatten offenbart, das einen oleophilen Träger, eine IR-Strahlung ab
sorbierende, vorzugsweise oleophile Schicht und eine vorzugsweise oleophobe
Deckschicht, die durch IR-Strahlung ablatiert wird, enthält.
Es bestand daher die Aufgabe, ein digital mit IR-Strahlung bebilderbares
Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von Wasserlos-Offsetdruckplatten zur
Verfügung zu stellen, das gegenüber dem bekannten Material auch ohne
spezielle thermische Behandlung nach der Bestrahlung eine wesentlich
verbesserte Haltbarkeit aufweist und eine hohe Druckauflage zuläßt. Einerseits
sollen die nichtbestrahlten Bereiche der IR-strahlungsempfindlichen Schicht so
gut an dem Träger haften, daß sie auch bei einer mechanisch - z. B. durch
Bürsten - unterstützten Entwicklung nicht abgelöst werden. Andererseits sollen
die von der IR-Strahlung getroffenen Bereiche möglichst wenig an dem Träger
haften, damit sie leicht und schnell entfernt werden können. Zwischen diesen
beiden Forderungen muß ein Optimum gefunden werden. Die Empfindlichkeit des
Aufzeichnungsmaterials gegenüber Strahlung im IR-Bereich soll möglichst hoch
sein und es soll eine hohe Thermoisolation erreicht werden, damit möglichst
wenig von der bildmäßig einwirkenden IR-Strahlungsenergie an den Träger
abgegeben wird.
Die Aufgabe wurde gelöst, indem man für die Grundierschicht eine Mischung aus
einem nichtmodifizierten, Epoxidharz mit einem weiteren organischen Polymer
und einem Vernetzer verwendete.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist demgemäß ein mit IR-Strahlung digi
tal bebilderbares Aufzeichnungsmaterial mit - in dieser Reihenfolge - einem Trä
ger, einer Grundierschicht, einer IR-absorbierenden Schicht und einer Silikon
schicht, das dadurch gekennzeichnet ist, daß die Grundierschicht eine Mischung
enthält aus einem nichtmodifizierten, Epoxidharz, einem weiteren organischen
Polymer, das funktionelle Gruppen aufweist, und einem Vernetzer, der mit dem
nichtmodifizierten Epoxidharz und den funktionellen Gruppen des organischen
Polymers reagiert.
Das nichtmodifizierte Epoxidharz weist neben sekundären Hydroxygruppen und
restlichen Epoxidgruppen keine weiteren reaktiven Gruppen auf, insbesondere
keine Ester-, Acetal- oder Carboxy-Gruppen. In der Regel enthält es auch keine
Kohlenstoffketten mit mehr als drei aliphatischen Kohlenstoffatomen. Ein
besonders geeignetes nichtmodifiziertes Epoxidharz auf der Basis von Epi
chlorhydrin und Bisphenol-propan (= Bisphenol-A) ist beispielsweise unter der
Bezeichnung ®Beckopox von Vianova Resins GmbH & Co. KG erhältlich. Der Ge
samtanteil der nichtmodifizierten Epoxidharze beträgt allgemein 0,5 bis 95,0
Gew.-%, bevorzugt 2,0 bis 80,0 Gew.-%, besonders bevorzugt 5,0 bis 70,0 Gew.-
%, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestandteile der
Grundierschicht. Das Gewichtsverhältnis von nichtmodifizierten Epoxidharzen zu
den weiteren organischen Polymeren mit funktionellen Gruppen liegt vorteilhaft im
Bereich von 1 : 36 bis 89 : 1, insbesondere im Bereich von 1 : 8 bis 8 : 1.
Die funktionellen Gruppen des weiteren organischen Polymers sind bevorzugt
Hydroxy- und/oder Carboxygruppen. Dieses Polymer enthält, anders als das
nichtmodifizierte Epoxidharz, allgemein Ketten aus mehr als 3, insbesondere
mehr als 12, aliphatischen Kohlenstoffatomen. Es kann beispielsweise ein Vinyl-
Polymer mit einer Hauptkette aus vielen (d. h. 20 oder mehr) aliphatischen
Kohlenstoffatomen sein oder ein Polymer, das seiten- oder endständig
aliphatische Reste mit mehr als 8, insbesondere auch mehr als 12 Kohlenstoff
atomen in einer Kette enthält. Besonders geeignete funktionelle Gruppen aufwei
sende organische Polymere sind fettsäuremodifizierte, ofen- oder lufttrocknende
Epoxidharze, insbesondere Epoxidharze auf der Basis von Bisphenol-A, erhältlich
unter der Bezeichnung ®Duroxyn von Vianova Resins GmbH & Co. KG, acetali
sierte Polyvinylalkohole, speziell Polyvinylbutyrale (z. B. ®Mowital B der Clariant
GmbH), oder Hydroxygruppen enthaltende Acrylharze (z. B. ®Macrynal der
Vianova GmbH & Co. KG). Allgemein wird die Modifizierung der Epoxidharze
erreicht durch Veresterung mit einer langkettigen, gesättigten oder ungesättigten
(C12-C26)Fettsäure oder einem Gemisch solcher Fettsäuren. Der Anteil der Fett
säuremodifizierung beträgt allgemein 20 bis 80 Gew.-%, bevorzugt 30 bis 70
Gew.-%, besonders bevorzugt 40 bis 60 Gew.-%, jeweils bezogen auf das
Gesamtgewicht des fettsäuremodifizierten Epoxidharzes.
Der Träger besteht allgemein aus Metall oder einer Metall-Legierung. Ein
bevorzugter Träger dieser Art ist eine entfettete, walzblanke oder in einfachen
Verfahren (beispielsweise durch Beizen oder Naßbürsten) vorbehandelte Platte
oder Folie aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung. In aufwendigen
Verfahren elektrochemisch vorbehandelte Aluminiumträger sind für das
erfindungsgemäße Aufzeichnungsmaterial in keinem Fall erforderlich. Eine
chemische Vorbehandlung, beispielsweise mit Silan-Haftvermittlern, ist jedoch
möglich. Die Grundierschicht bewirkt nicht nur eine verbesserte Haftung, sondern
gleichzeitig auch eine besonders hohe Thermoisolation.
Die Grundierschicht bewirkt eine dauerhafte und feste Verankerung der darüber
liegenden IR-strahlungsempfindlichen Schicht auf dem metallischen Träger. In
einer bevorzugten Ausführungsform enthält die Grundierschicht ferner einen
Härter bzw. Vernetzer. Das sind allgemein polyfunktionelle, niedermolekulare
Verbindungen, die mit den reaktiven Gruppen, insbesondere den Hydroxy
gruppen, des nichtmodifizierten Epoxidharzes und des organischen Polymers
reagieren können. Besonders geeignet sind Formaldehyd-Addukte, die von
Harnstoff, Melamin oder Benzoguanamin abgeleitet sind, sowie vollständig oder
teilweise veretherte Formaldehyd-Amin-Addukte. Hierzu gehören insbesondere
teilweise oder vollständig mit Methanol, Ethanol, Propanol oder Butanol
veretherte Melamin-Formaldehyd-Addukte. Diese sind erhältlich unter der
Bezeichnung ®Maprenal von der Vianova Resins GmbH oder unter der
Bezeichnung ®Cymel von Cytec. Geeignet sind ferner Polyisocyanate sowie
aliphatische oder aromatische Polyamine. Der Anteil des Vernetzers beträgt
vorteilhaft 5 bis 35 Gew.-%, bevorzugt 10 bis 30 Gew.-%, jeweils bezogen auf
das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestandteile der Schicht. Der Härter bzw.
Vernetzer kann gegebenenfalls auch mit dem funktionelle Gruppen aufweisenden
organischen Polymer reagieren. Die durch Vernetzung bewirkte Härtung erfolgt in
der Regel in Gegenwart von organischen Säuren, insbesondere von Phosphor
säure-Derivaten oder von para-Toluolsulfonsäure. Der Anteil der Säure beträgt
zweckmäßig 0,5 bis 4 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der nicht
flüchtigen Bestandteile der Primerschicht. Um die Grundierschicht gleichmäßiger
auftragen zu können, enthält sie vorzugsweise feinverteilt auch noch Pigmente,
insbesondere anorganische Pigmente, wie SiO2-, Al2O3-, ZrO2- oder TiO2-
Pigmente. Der mittlere Durchmesser der Pigmentpartikel beträgt allgemein
weniger als 10 µm, bevorzugt weniger als 1,0 µm. In einer besonders bevor
zugten Ausführungsform sind die Pigmentpartikel in dem fettsäuremodifizierten
Epoxidharz vordispergiert. Der Anteil der Pigmente schließlich beträgt allgemein
1 bis 40 Gew.-%, bevorzugt 5 bis 30 Gew.-%, jeweils bezogen auf das
Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestandteile der Grundierschicht. Die
Primerschicht kann schließlich noch die üblichen Additive enthalten, die eine
gleichmäßigeren Schichtverlauf bewirken (sogenannte Verlaufsmittel) oder dazu
beitragen, so daß sich die Schicht leichter auftragen läßt. Zu nennen sind
beispielsweise Silikonöle, die erhältlich sind unter der Bezeichnung ®Edaplan,
daneben oberflächenaktive Mittel und/oder Haftvermittler. Der Anteil der Additive
beträgt allgemein nicht mehr als 10 Gew.-%, bevorzugt nicht mehr als 5 Gew.-%,
jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestandteile der
Grundierschicht. Vernetzer, Pigmente und Additive haben in der Regel
zusammen einen Anteil von bis zu 50 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht
der Schicht. Das Gewicht der Grundierschicht beträgt allgemein 0,5 bis 10,0
g/m2, bevorzugt 1,0 bis 5,0 g/m2, besonders bevorzugt 2,0 bis 4,0 g/2.
Die in der IR-absorbierenden Schicht gegebenenfalls enthaltenen Pigmente oder
Farbstoffe absorbieren insbesondere Laserstrahlen mit einer Wellenlänge im
infraroten Bereich (speziell im Bereich von 700 bis 1200 nm). Zu den Pigmenten
soll hier auch Ruß gezählt werden. Geeignete IR-Absorber sind genannt bei J.
Fabian et al., Chem. Rev. 92 [1992] 1197. Geeignet sind ferner Pigmente, die
Metalle, Metalloxide, Metallsulfide, Metallcarbide oder ähnliche Metallverbindun
gen enthalten. Bevorzugt sind feinverteilte metallische Elemente der III. bis V.
Hauptgruppe sowie der I., II. und IV. bis VIII. Nebengruppe des Periodensystems,
wie Mg, Al, Bi, Sn, In, Zn, Ti, Cr, Mo, W, Co, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zr oder Te.
Geeignet als IR-absorbierende Komponente sind ferner Metall-Phthalocyanin-
Verbindungen, Anthrachinone, Polythiophene, Polyaniline, Polyacetylene, Poly
phenylene, Polyphenylensulfide und Polypyrrole. Um die Auflösung nicht unnötig
zu verschlechtern, sollten die absorbierenden Pigmentteilchen einen mittleren
Durchmesser von möglichst nicht mehr als 30 µm haben. Der Anteil der IR-
absorbierenden Komponente beträgt allgemein 2 bis 80 Gew.-%, bevorzugt 5 bis
57 Gew.-%, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestand
teile der Schicht. Die IR-absorbierende Schicht enthält ferner mindestens ein
polymeres, organisches Bindemittel. Besonders vorteilhaft sind Bindemittel, die
sich bei Einwirkung von Wärme von selbst zersetzen. Zu diesen selbstoxidieren
den Bindemitteln gehört insbesondere die Nitrocellulose. Daneben sind auch
nicht selbst-oxidierende Polymere verwendbar, die thermisch induziert indirekt
unter Bildung gasförmiger oder flüchtiger Spaltprodukte zerfallen. Beispiele hier
für sind Celluloseether und -ester (wie Ethylcellulose und Celluloseacetat),
(Meth)acrylat-Polymere und -Copolymere (wie Poly(methylmethacrylat), Poly-
(butylacrylat), Poly(2-hydroxy-ethyl-methacrylat), Laurylacrylat/Methacrylsäure-
Copolymere, Polystyrol, Poly(methyl-styrol), Vinylchlorid/Vinylacetat-Copolymere,
Vinylidenchlorid/Acrylnitril-Copolymere, Polyurethane, Polycarbonate, Polysul
fone, Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon. Die direkt oder indirekt thermisch
zersetzbaren Polymere sind nicht in jedem Fall erforderlich, so daß auch andere
filmbildende Polymere verwendet werden können. Dies gilt dann, wenn die IR-
absorbierende Komponente bei Bestrahlung bereits ausreichend flüchtige
Produkte bildet. Ruß beispielsweise verbrennt, wenn IR-Laserstrahlen darauf
auftreffen und liefert dementsprechend gasförmige Verbrennungsprodukte. Der
Einsatz erfolgt dabei entweder in Kombination mit den thermisch zersetzbaren
Materialien oder alleine. Der Anteil der Bindemittel beträgt allgemein etwa 10 bis
95 Gew.-%, bevorzugt 20 bis 80 Gew.-%, jeweils bezogen auf das Gesamt
gewicht der nichtflüchtigen Bestandteile der Schicht.
Zusätzlich kann die Schicht noch Verbindungen enthalten, die das Bindemittel
vernetzen. Die Art der Vernetzer richtet sich dabei nach der chemischen Funktio
nalität des Bindemittels (S. Paul, Crosslinking Chemistry of Surface Coatings in
Comprehensive Polymer Science Band 6, Kap. 6, Seite 149). Nitrocellulose läßt
sich beispielsweise mit einem Melamin oder einem Di-, Tri- oder Polyisocyanat
vernetzen und damit härten. Der Anteil des oder der Vernetzer beträgt allgemein
0 bis 30 Gew.-%, bevorzugt 3 bis 20 Gew.-%, besonders bevorzugt 5 bis 15
Gew.-%, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestandteile
der Schicht.
Die IR-absorbierende Schicht kann darüber hinaus noch Verbindungen ent
halten, die unter der Einwirkung von Wärme und/oder IR-Strahlen oder chemisch
induziert zerfallen und dabei chemisch aktive Spezies (insbesondere Säuren)
bilden, die wiederum eine Spaltung oder Zersetzung des polymeren, organischen
Bindemittels bewirken. Dabei entstehen wiederum flüchtige Spaltungs- oder
Zersetzungsprodukte. Bindemittel, die tert.-Butoxycarbonylgruppen enthalten,
liefern beispielsweise CO2 und Isobuten, wenn Säure darauf einwirkt. Ferner
kann die Schicht Verbindungen enthalten, die niedermolekulare, gasförmige oder
zumindest flüchtige Spaltprodukte bilden (Encycl. Polym. Sci. Eng., Vol. 2, Seite
434). Beispiele für solche Verbindungen sind Diazoniumsalze, Azide,
Bicarbonate, und Azobicarbonate. Die IR-absorbierende Schicht kann darüber
hinaus Stabilisatoren zur Erhöhung der Lagerfähigkeit, Weichmacher, Kataly
satoren zur Initiierung der Vernetzungsreaktion, Mattierungsmittel, zusätzliche
Farbstoffe, Tenside, Verlaufsmittel oder andere Hilfsstoffe zur Verbesserung von
Haltbarkeit, Verarbeitung oder reprographischer Qualität enthalten. Der Anteil
dieser Additive beträgt allgemein 0 bis 50 Gew.-%, bevorzugt 5 bis 30 Gew.-%,
jeweils bezogen auf das Gewicht der nichtflüchtigen Bestandteile der Schicht.
Das Gewicht der IR-absorbierenden Schicht insgesamt beträgt allgemein 0,1 bis
4,0 g/m2, bevorzugt 0,2 bis 3,0 g/m2, besonders bevorzugt 0,5 bis 1,5 g/m2.
Für die auf der IR-absorbierenden Schicht befindliche Silikonschicht eignet sich
grundsätzlich jeder Silikonkautschuk, der ausreichend farbabweisend ist, um ein
Drucken ohne Feuchtwasser zu erlauben. Unter der Bezeichnung "Silikonkaut
schuk" soll hier entsprechend der Definition von Noll, "Chemie und Technologie
der Silikone", Verlag Chemie, 1968, Seite 332, ein hochmolekulares, im wesent
lichen lineares Diorganopolysiloxan verstanden werden. Für die vernetzten oder
vulkanisierten Produkte wird dagegen die Bezeichnung "Silikongummi" verwen
det. In jedem Fall wird eine Silikonkautschuklösung auf die strahlungsempfind
liche Schicht aufgebracht, getrocknet und dabei vernetzt. Als Lösemittel eignen
sich beispielsweise Isoparaffin-Gemische (z. B. ®Isopar von Exxon) oder Ketone,
wie Butanon.
Die Silikonkautschuke können Ein- oder Mehrkomponentenkautschuke sein.
Beispiele dafür sind in den DE-A 23 50 211, 23 57 871 und 23 59 102 zu finden.
Bevorzugt sind Kondensations-Silikonkautschuke, beispielsweise Einkompo
nenten-Silikonkautschuke (RTV-1). Sie basieren üblicherweise auf Polydimethyl
siloxanen, die an den Enden Wasserstoffatome, Acetyl-, Oxim-, Alkoxy- oder
Aminogruppen oder andere funktionelle Gruppen tragen. Die Methylgruppen in
der Kette können durch andere Alkylgruppen, Halogenalkylgruppen oder
unsubstituierte bzw. substituierte Arylgruppen ersetzt sein. Die endständigen
funktionellen Gruppen sind leicht hydrolysierbar und härten in Gegenwart von
Feuchtigkeit in einer Zeitspanne von einigen Minuten bis zu wenigen Stunden
aus.
Die Mehrkomponenten-Silikonkautschuke sind durch Addition oder Kondensation
vernetzbar. Die additionsvernetzbaren Typen enthalten im allgemeinen zwei ver
schiedene Polysiloxane. Das eine Polysiloxan ist in einem Anteil von 70 bis 99
Gew.-% vorhanden und besitzt Alkylengruppen (speziell: Vinylgruppen), die an
Siliciumatome der Hauptkette gebunden sind. Das andere ist in einem Anteil von
1 bis 10 Gew.-% vorhanden. Darin sind Wasserstoffatome direkt an Silicium
atome gebunden. Die Additionsreaktion erfolgt dann in Gegenwart von etwa
0,0005 bis 0,002 Gew.-% eines Platinkatalysators bei Temperaturen von mehr als
50°C. Mehrkomponenten-Silikonkautschuke haben den Vorteil, daß sie bei höhe
rer Temperatur (etwa 100°C) sehr schnell vernetzen. Die Zeit, in denen sie sich
verarbeiten lassen, die sogenannte "Topfzeit", ist dagegen häufig relativ kurz.
Die durch Kondensation vernetzbaren Gemische enthalten Diorganopolysiloxane
mit reaktionsfähigen Endgruppen, wie Hydroxy- oder Acetoxygruppen. Diese
werden mit Silanen oder Oligosiloxanen in Gegenwart von Katalysatoren vernetzt.
Die Vernetzer haben einen Anteil von 2 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamt
gewicht der Silikonschicht. Die Katalysatoren haben einen Anteil von 0,01 bis 6
Gew.-%, wiederum bezogen auf das Gesamtgewicht der Silikonschicht. Auch
diese Kombinationen reagieren relativ schnell und haben daher nur eine
begrenzte Topfzeit.
Die Silikonschicht kann noch weitere Komponenten enthalten. Diese können zu
einer zusätzlichen Vernetzung, einer besseren Haftung, einer mechanischen Ver
stärkung oder zur Einfärbung dienen. Die weiteren Komponenten haben einen
Anteil von nicht mehr als 10 Gew.-%, bevorzugt nicht mehr als 5 Gew.-%, jeweils
bezogen auf das Gesamtgewicht der Silikonschicht.
Ein bevorzugtes Gemisch besteht aus hydroxyterminierten Polydimethylsiloxa
nen, einer Silan-Vernetzungskomponente (insbesondere einem tetra- oder trifunk
tionellen Alkoxy-, Acetoxy-, Amido-, Amino-, Aminoxy-, Ketoxim- oder Enoxy
silan), einem Vernetzungskatalysator (insbesondere einer Organozinn- oder einer
Organotitan-Verbindung) und gegebenenfalls weiteren Komponenten (insbeson
dere Organopolysiloxanverbindungen mit Si-H-Bindungen, Silane mit haft
verbessernden Eigenschaften, Reaktionsverzögerer, Füllstoffe und/oder Farb
stoffe). Die genannten Silan-Vernetzungskomponenten und die bei der
Vernetzung auftretenden Reaktionen sind von J. J. Lebrun und H. Porte in
"Comprehensive Polymer Science", Vol. 5 [1989] 593-609, beschrieben.
Die Silikonkautschuke werden nach dem Aufbringen als Schicht in bekannter
Weise durch Feuchtigkeitseinwirkung oder aus sich heraus bei Raumtemperatur
oder bei erhöhter Temperatur zu einem in organischen Lösemitteln im wesent
lichen unlöslichen Silikongummi vernetzt. Das Gewicht der fertigen Silikonschicht
beträgt im allgemeinen 1,0 bis 5,0, bevorzugt von 1, 2 bis 3,5, besonders
bevorzugt 1,5 bis 3,0 g/m2.
Um das Aufzeichnungsmaterial während der Lagerung vor mechanischen
und/oder chemischen Einflüssen zu schützen, kann eine Kunststoffolie auf die
Silikonschicht aufkaschiert sein. Besonders geeignet sind Polyethylenfolien. Vor
dem bildmäßigen Bestrahlen wird die Folie wieder abgezogen.
Hergestellt wird das erfindungsgemäße Aufzeichnungsmaterial nach üblichen und
dem Fachmann an sich bekannten Verfahren. Die Bestandteile der Primerschicht
werden dabei allgemein in einem organischen Lösemittel oder Lösemittelgemisch
gelöst oder dispergiert und auf den gegebenenfalls vorbehandelten Träger
aufgebracht. Geeignete organische Lösemittel sind Ketone, wie Butanon (=
Methylethylketon) oder Cyclohexanon, Ether, wie Tetrahydrofuran, (Poly-)Glykol
ether und Glykolether-ester, wie Ethylenglykol-monomethylether oder -mono
ethylether, Propylenglykol-monomethylether oder -monoethylether, Propylen
glykol-monomethylether-acetat, Diethylenglykol-monoethylether oder Triethylen
glykolmonomethylether, oder Ester, wie Ethyllactat oder Butyllactat, aber auch
Kohlenwasserstoffe, wie Xylol oder Solvent-Naphtha. Das Beschichten selbst
kann durch Aufgießen, Aufschleudern oder nach ähnlichen bekannten Verfahren
erfolgen. Anschließend wird das Lösemittel durch Trocknen entfernt. Dazu wird
das Material zweckmäßig für 1 bis 3 min auf eine Temperatur im Bereich von 80
bis 130°C erhitzt. Durch das Erhitzen wird gleichzeitig die Vernetzungsreaktion
beschleunigt.
In analoger Weise werden die Bestandteile der IR-strahlungsempfindlichen
Schicht in einem organischen Lösemittel oder Lösemittelgemisch gelöst oder
dispergiert. Die Lösung oder Dispersion wird dann auf die Primerschicht aufge
bracht und getrocknet. Die Trocknungsbedingungen können wie bei der Herstel
lung der Primerschicht gewählt werden.
Auf die IR-strahlungsempfindliche Schicht wird dann, wie bereits beschrieben, die
Silikonkautschukschicht aufgebracht, getrocknet und dabei vernetzt. Geeignete
Trocknungsbedingungen sind beispielsweise 1 min bei 120°C.
Die bildmäßige Bestrahlung des Aufzeichnungsmaterials erfolgt in der Regel
durch Bestrahlen mit Strahlung einer Wellenlänge von etwa 700 bis 1100 nm,
also mit IR-Strahlung. Die Bebilderung erfolgt allgemein digital, d. h. ohne Film
vorlage, in einer geeigneten Bestrahlungsvorrichtung. Die Vorrichtung ist
beispielsweise ein Innen- oder Außentrommelbelichter oder ein Flachbett
belichter. Als Strahlungsquellen dienen IR-Laserdioden, YAG-Laser, insbeson
dere Nd-YAG-Laser, oder ähnliche. In den belichteten Bereichen wird die
strahlungsempfindliche Schicht zersetzt (in der Regel unter Bildung von
gasförmigen Zersetzungsprodukten), so daß die darüber liegende Silikonschicht
dort nicht mehr fest verankert ist. Die Silikonschicht selbst absorbiert praktisch
keine IR-Strahlung und ist daher als solche nicht durch IR-Strahlung ablatierbar.
Anschließend wird das bestrahlte Aufzeichnungsmaterial in einer für Wasserlos-
Druckplatten üblichen und bekannten Vorrichtung mit Wasser oder einer
wäßrigen Lösung behandelt. Zweckmäßigerweise wird dieser Vorgang durch
Bürsten oder auf andere Weise mechanisch unterstützt. Dabei wird die
Silikonschicht in den von der IR-Strahlung getroffenen Bereichen entfernt. Auf
das Vorquellen des bestrahlten Aufzeichnungsmaterials kann gegebenenfalls
verzichtet werden. Die beim Entwickeln abgelösten Bestandteile der
Silikonschicht lassen sich durch Filtration abtrennen. Es stellt sich also nicht das
Problem der Entsorgung von mit Chemikalien belasteten, verbrauchten
Entwicklerlösungen.
Die aus dem erfindungsgemäßen, negativ arbeitenden Aufzeichnungsmaterial
hergestellten Druckformen für den wasserlosen Offsetdruck zeigen eine hohe
Auflösung und erlauben gleichzeitig eine hohe Druckauflage.
Die nachfolgenden Beispiele dienen zur Erläuterung der Erfindung. Darin steht
"Gt" für "Gewichtsteil(e)". Prozente sind Gewichtsprozente, soweit nicht anders
angegeben.
Auf eine entfettete walzblanke Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,3 mm
wurden die in Tabelle 1 (die Zahlenangaben darin sind Gt) beschriebenen
Gemische aufgeschleudert. Die so aufgebrachte Beschichtung wurde dann 2 min
im Umluftschrank bei 120°C getrocknet.
Im Vergleichsbeispiel und in den Beispielen 1 bis 4 wurde auf die getrocknete
Grundierschicht eine Mischung aus
56,7 g ®EFWEKO NC 11812 der Degussa AG (Gemisch aus 18% High
Color Channel (HCC-)Ruß, 56% Collodiumwolle (Dinitrocellulose),
22% Weichmacher und 4% Additiv); 20%ige Dispersion in
Ethylenglykol-monomethylether,
6,0 g modifiziertes Siloxan/Glykol-Copolymer (®Edaplan LA 411 der Münzing Chemie GmbH, Heilbronn), 1%ige Lösung in Butanon,
3,0 g Polyisocyanat-Vernetzer (etwa 31% NCO-Gruppen; ®Desmodur VKS 20 F der Bayer AG), 20%ige Lösung in Butanon,
164,26 g Butanon und
69,84 g Ethylenglykol-monomethylether (®Dowanol PMA von Dow Chemical)
6,0 g modifiziertes Siloxan/Glykol-Copolymer (®Edaplan LA 411 der Münzing Chemie GmbH, Heilbronn), 1%ige Lösung in Butanon,
3,0 g Polyisocyanat-Vernetzer (etwa 31% NCO-Gruppen; ®Desmodur VKS 20 F der Bayer AG), 20%ige Lösung in Butanon,
164,26 g Butanon und
69,84 g Ethylenglykol-monomethylether (®Dowanol PMA von Dow Chemical)
aufgebracht und 2 min bei 120°C im Umluftschrank getrocknet. Die IR
strahlungsempfindliche Schicht hatte danach ein Gewicht von 0,92 g/m2.
In den Beispielen 5 bis 8 wurde auf die Grundierschicht ein Gemisch aus
4,97 g Nitrocellulose (enthält 18% Dibutylphthalat als Weichmacher;
Walsroder NC-Chips E 950 von Wolff Walsrode AG),
4,13 g Polyisocyanat-Vernetzer (etwa 31% NCO-Gruppen; ®Desmodur VKS 20F der Bayer AG), 20%ige Lösung in Butanon,
64,22 g einer Dispersion aus 7,51 g LCF(Low Color Furnace)-Ruß (Spezial schwarz 100 von Degussa), 3,22 g Nitrocellulose (Walsroder NC- Chips E 950) und 53,4 g Ethylenglykol-monomethylether (®Dowanol PMA),
8,25 g modifiziertes Siloxan/Glykol-Copolymer (®Edaplan LA 411 der Münzing Chemie GmbH, Heilbronn), 1%ige Lösung in Butanon,
201,93 g Butanon und
266,60 g Ethylenglykol-monomethylether
4,13 g Polyisocyanat-Vernetzer (etwa 31% NCO-Gruppen; ®Desmodur VKS 20F der Bayer AG), 20%ige Lösung in Butanon,
64,22 g einer Dispersion aus 7,51 g LCF(Low Color Furnace)-Ruß (Spezial schwarz 100 von Degussa), 3,22 g Nitrocellulose (Walsroder NC- Chips E 950) und 53,4 g Ethylenglykol-monomethylether (®Dowanol PMA),
8,25 g modifiziertes Siloxan/Glykol-Copolymer (®Edaplan LA 411 der Münzing Chemie GmbH, Heilbronn), 1%ige Lösung in Butanon,
201,93 g Butanon und
266,60 g Ethylenglykol-monomethylether
aufgetragen und wie beschrieben getrocknet. Das Gewicht der getrockneten IR-
strahlungsempfindlichen Schicht betrug 0,96 g/m2. Die auf diese Schicht aufge
brachte Silikonschicht war identisch mit der im Vergleichsbeispiel und in den Bei
spielen 1 bis 4.
Auf die IR-strahlungsempfindliche Schicht wurde dann ein Gemisch aus
23,79 g eines hydroxy-terminierten Polydimethylsiloxans mit einer Viskosität
von etwa 5.000 mP.s,
2,54 g Tris-(methyl-ethyl-ketoximo)-vinyl-silan (H2C=CH-Si[-O-N=C(CH3)- C2H5]3),
13,50 g einer 1%igen Lösung von Dibutylzinnacetat in einem isoparaffi nischen Kohlenwasserstoff-Gemisch mit einem Siedebereich von 117 bis 134°C (Katalysator C80 der Wacker Chemie GmbH),
0,54 g 3-(2-Amino-ethyl)-amino-propyl-trimethoxy-silan,
177,74 g eines isoparaffinischen Kohlenwasserstoff-Gemisches mit einem Siedebereich von 117 bis 134°C (®Isopar E von Exxon) und
81,90 g Butanon
2,54 g Tris-(methyl-ethyl-ketoximo)-vinyl-silan (H2C=CH-Si[-O-N=C(CH3)- C2H5]3),
13,50 g einer 1%igen Lösung von Dibutylzinnacetat in einem isoparaffi nischen Kohlenwasserstoff-Gemisch mit einem Siedebereich von 117 bis 134°C (Katalysator C80 der Wacker Chemie GmbH),
0,54 g 3-(2-Amino-ethyl)-amino-propyl-trimethoxy-silan,
177,74 g eines isoparaffinischen Kohlenwasserstoff-Gemisches mit einem Siedebereich von 117 bis 134°C (®Isopar E von Exxon) und
81,90 g Butanon
aufgeschleudert. Die so erzeugte Schicht wurde 2 min lang bei 120°C getrock
net. Das Gewicht der getrockneten Silikonschicht betrug danach 3,1 g/m2, die
Dicke der Schicht dementsprechend etwa 3 µm.
Das auf diese Weise hergestellte Aufzeichnungsmaterial wurde anschließend auf
die Walze eines Außentrommelbelichters aufgezogen und mit der IR-Strahlung
eines Nd-YAG-Laser, der mit einer Leistung von 100 mW Strahlung einer Wellen
länge von 1064 nm emittierte und dessen Spotgröße 20 µm betrug, belichtet.
Dabei wurde durch Drehen der Trommel die auf der Platte ankommende Energie
auf 350 mJ/cm2 eingestellt. Gleichzeitig wurde der Laser bewegt, so daß Linien
in das Material geschrieben wurden. Das in dieser Weise digital bebilderte
Material wurde dann in einer für die Entwicklung von Wasserlos-Druckplatten
gebräuchlichen Anlage mit Wasser bei Raumtemperatur behandelt und dabei
gebürstet, um in den von der Strahlung getroffenen Bereichen die IR-
strahlungsempfindliche Schicht und die darüber liegenden Bereiche der
Silikonschicht zu entfernen. Aus der Breite der in dem Material erzeugten Linien
wurde auf die Empfindlichkeit geschlossen. Je näher die Linienbreite dem
Durchmesser des zur Belichtung verwendeten Laserstrahls (20 µm) kommt, um
so höher ist die Empfindlichkeit.
Die aus dem erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterial erhaltene Druckform
zeigte eine hohe Auflösung sowie eine hohe Stabilität beim Drucken, so daß auch
höhere Druckauflagen möglich waren.
®Duroxyn EF 900: Epoxidharz auf der Basis von Epichlorhydrin und Bisphenol-
A, verestert mit Ricinenfettsäure, 58% Epoxidharzanteil und
42% Fettsäuremodifizierung; dynamische Viskosität (DIN 53
015; 23°C): 650 bis 950 mPa s; eingesetzt wurde eine 60%ige
Lösung in Xylol
®Macrynal SM 540: Acrylharz mit Einheiten aus (2-Hydroxy-ethyl)-acrylat oder -methacrylat, einer Hydroxylzahl (DIN 53 240) von 40 bis 50, einem Hydroxylgruppengehalt (bezogen auf Feststoff) von etwa 1,4% und einer dynamischen Viskosität (auf 50% mit Xylol verdünnt; DIN 53 018/ISO 3219; 23°C) von 300 bis 550 mPa.s; eingesetzt wurde eine 60%ige Lösung in Xylol/Butylacetat (Mischungsverhältnis: 9 Gt zu 1 Gt) eingesetzt
®Mowital B 30 H: Polyvinylbutyral mit 75 bis 78% Vinylacetal-, 1 bis 4 Vinylacetat- und 18 bis 21% Vinylalkohol-Einheiten
®Carboset 526 thermoplastisches Polyacrylat (Molekulargewicht Mw
®Macrynal SM 540: Acrylharz mit Einheiten aus (2-Hydroxy-ethyl)-acrylat oder -methacrylat, einer Hydroxylzahl (DIN 53 240) von 40 bis 50, einem Hydroxylgruppengehalt (bezogen auf Feststoff) von etwa 1,4% und einer dynamischen Viskosität (auf 50% mit Xylol verdünnt; DIN 53 018/ISO 3219; 23°C) von 300 bis 550 mPa.s; eingesetzt wurde eine 60%ige Lösung in Xylol/Butylacetat (Mischungsverhältnis: 9 Gt zu 1 Gt) eingesetzt
®Mowital B 30 H: Polyvinylbutyral mit 75 bis 78% Vinylacetal-, 1 bis 4 Vinylacetat- und 18 bis 21% Vinylalkohol-Einheiten
®Carboset 526 thermoplastisches Polyacrylat (Molekulargewicht Mw
etwa
200.000; Säurezahl etwa 100; Glas-Übergangstemperatur Tg
etwa 70°C; Hersteller: B. F. Goodrich)
®Cymel 303 Hexamethoxymethyl-melamin
®Beckopox EP 301 nichtmodifiziertes Epoxidharz aus Epichlorhydrin und Bisphenol-A
®Kronos 2059 TiO2
®Cymel 303 Hexamethoxymethyl-melamin
®Beckopox EP 301 nichtmodifiziertes Epoxidharz aus Epichlorhydrin und Bisphenol-A
®Kronos 2059 TiO2
-Pigment (eingesetzt wurde eine 50%ige Dispersion
von ®Duroxyn EF 900 und Kronos 2059 (1 : 1) in ®Dowanol
PMA)
pTsOH para-Toluolsulfonsäure
MEK Methylethylketon (= Butanon)
pTsOH para-Toluolsulfonsäure
MEK Methylethylketon (= Butanon)
Auf eine entfettete walzblanke Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,3 mm
wurden die in Tabelle 2 (die Zahlenangaben darin sind Gt) beschriebenen
Gemische aufgeschleudert. Die so aufgebrachte Beschichtung wurde wiederum
für 2 min im Umluftschrank bei 120°C getrocknet.
Auf die getrocknete Grundierschicht wurde anschließend eine Mischung aus
1,57 g Nitrocellulose (enthält 18% Dibutylphthalat als Weichmacher;
Walsroder NC-Chips E 950 von Wolff Walsrode AG),
2,75 g Polyisocyanat-Vernetzer (etwa 31% NCO-Gruppen; ®Desmodur VKS 20F der Bayer AG), 20%ige Lösung in Butanon,
59,03 g einer Dispersion aus 6,20 g LCF(Low Color Furnace)-Ruß (Spezialschwarz 250 von Degussa), 2,66 g Nitrocellulose (Wals roder NC-Chips E 950) und 50,18 g Ethylenglykol-monomethylether (®Dowanol PMA),
5,50 g modifiziertes Siloxan/Glykol-Copolymer (®Edaplan LA 411 der Münzing Chemie GmbH, Heilbronn), 1%ige Lösung in Butanon,
207,96 g Butanon und
273,22 g Ethylenglykol-monomethylether
2,75 g Polyisocyanat-Vernetzer (etwa 31% NCO-Gruppen; ®Desmodur VKS 20F der Bayer AG), 20%ige Lösung in Butanon,
59,03 g einer Dispersion aus 6,20 g LCF(Low Color Furnace)-Ruß (Spezialschwarz 250 von Degussa), 2,66 g Nitrocellulose (Wals roder NC-Chips E 950) und 50,18 g Ethylenglykol-monomethylether (®Dowanol PMA),
5,50 g modifiziertes Siloxan/Glykol-Copolymer (®Edaplan LA 411 der Münzing Chemie GmbH, Heilbronn), 1%ige Lösung in Butanon,
207,96 g Butanon und
273,22 g Ethylenglykol-monomethylether
aufgebracht und 2 min bei 120°C im Umluftschrank getrocknet. Die IR-
strahlungsempfindliche Schicht hatte danach ein Gewicht von 0,50 g/m2.
Auf die IR-strahlungsempfindliche Schicht wurde dann ein Gemisch aus
36,44 g eines hydroxy-terminierten Polydimethylsiloxans mit einer Viskosität
von etwa 6.000 mP.s (CDS 6T der Wacker Chemie GmbH),
2,56 g Tris-(methyl-ethyl-ketoximo)-vinyl-silan (H2C=CH-Si[-O-N=C(CH3)- C2H5]3),
20,00 g einer 1%igen Lösung von Dibutylzinnacetat in einem isoparaffi nischen Kohlenwasserstoff-Gemisch mit einem Siedebereich von 117 bis 134°C (®Isopar E von Exxon),
0,80 g 3-(2-Amino-ethyl)-amino-propyl-trimethoxy-silan,
302,20 g eines isoparaffinischen Kohlenwasserstoff-Gemisches mit einem Siedebereich von 117 bis 134°C (®Isopar E von Exxon) und
138,00 g Butanon
2,56 g Tris-(methyl-ethyl-ketoximo)-vinyl-silan (H2C=CH-Si[-O-N=C(CH3)- C2H5]3),
20,00 g einer 1%igen Lösung von Dibutylzinnacetat in einem isoparaffi nischen Kohlenwasserstoff-Gemisch mit einem Siedebereich von 117 bis 134°C (®Isopar E von Exxon),
0,80 g 3-(2-Amino-ethyl)-amino-propyl-trimethoxy-silan,
302,20 g eines isoparaffinischen Kohlenwasserstoff-Gemisches mit einem Siedebereich von 117 bis 134°C (®Isopar E von Exxon) und
138,00 g Butanon
aufgeschleudert. Die so erzeugte Schicht wurde 1 min lang bei 120°C
getrocknet. Das Gewicht der getrockneten Silikonschicht betrug 2,2 g/m2.
Alcoa P 8071808 Al2
O3
-Pigment der Alcoa Chemie GmbH
Tosoh TZ-O/TZ-3Y/TZ-8Y ZrO2
Tosoh TZ-O/TZ-3Y/TZ-8Y ZrO2
-Pigment der Tosoh Corporation/Japan
®Aerosil R 972 SiO2
®Aerosil R 972 SiO2
-Pigment der Degussa AG
Auf eine entfettete walzblanke Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,3 mm
wurden eine Mischung aus
666,00 g ®Beckopox EP 301 (75%ig in Xylol),
810,00 g ®Beckopox EP 301,
270,00 g ®Cymel 303,
270,00 g para-Toluolsulfonsäure (10%ig in Ethylenglykol-monomethylether)
2160,00 g TiO2-Pigment (®Kronos 2310; 50%ig in Ethylenglykol-monomethyl ether),
135,00 g modifiziertes Siloxan/Glykol-Copolymer (®Edaplan LA 411; 10%ig in Ethylenglykol-monomethylether),
9180,00 g Butanon und
4509,00 g Ethylenglykol-monomethylether
810,00 g ®Beckopox EP 301,
270,00 g ®Cymel 303,
270,00 g para-Toluolsulfonsäure (10%ig in Ethylenglykol-monomethylether)
2160,00 g TiO2-Pigment (®Kronos 2310; 50%ig in Ethylenglykol-monomethyl ether),
135,00 g modifiziertes Siloxan/Glykol-Copolymer (®Edaplan LA 411; 10%ig in Ethylenglykol-monomethylether),
9180,00 g Butanon und
4509,00 g Ethylenglykol-monomethylether
aufgeschleudert. Die so aufgebrachte Beschichtung wurde 2 min lang im
Umluftschrank bei 120°C getrocknet. Die Schicht hatte danach ein Gewicht von
3,16 g/m2.
Auf die so hergestellte Grundierschicht wurde anschließend eine Mischung aus
3,31 g Nitrocellulose (enthält 18% Dibutylphthalat als Weichmacher;
Walsroder NC-Chips E 950 von Wolff Walsrode AG),
1,13 g Hexamethoxymethyl-melamin (®Cymel 301; 20%ige Lösung in Butanon),
0,45 g para-Toluolsulfonsäure (10%ig in Butanon),
0,90 g eines IR-absorbierenden Farbstoffs mit einem Absorptionsmaxi mum bei etwa 820 nm (®PRO-JET 830 von Zeneca Specialist Colours),
2,25 g modifiziertes Siloxan/Glykol-Copolymer (®Edaplan LA 411 der Münzing Chemie GmbH, Heilbronn), 1%ige Lösung in Butanon,
83,77 g Butanon und
58,20 g Ethylenglykol-monomethylether
1,13 g Hexamethoxymethyl-melamin (®Cymel 301; 20%ige Lösung in Butanon),
0,45 g para-Toluolsulfonsäure (10%ig in Butanon),
0,90 g eines IR-absorbierenden Farbstoffs mit einem Absorptionsmaxi mum bei etwa 820 nm (®PRO-JET 830 von Zeneca Specialist Colours),
2,25 g modifiziertes Siloxan/Glykol-Copolymer (®Edaplan LA 411 der Münzing Chemie GmbH, Heilbronn), 1%ige Lösung in Butanon,
83,77 g Butanon und
58,20 g Ethylenglykol-monomethylether
aufgebracht und 2 min bei 120°C im Umluftschrank getrocknet. Die IR-strah
lungsempfindliche Schicht hatte danach ein Gewicht von 1,01 g/m2.
Auf die IR-strahlungsempfindliche Schicht wurde dann ein Gemisch aus
27,75 g eines hydroxy-terminierten Polydimethylsiloxans mit einer Viskosität
von etwa 5.000 mP.s,
2,96 g Tris-(methyl-ethyl-ketoximo)-vinyl-silan,
15,75 g einer 1%igen Lösung von Dibutylzinnacetat in einem isoparaffi nischen Kohlenwasserstoff-Gemisch mit einem Siedebereich von 117 bis 134°C (Katalysator C 80 der Wacker Chemie GmbH),
0,63 g 3-(2-Amino-ethyl)-amino-propyl-trimethoxy-silan,
277,36 g eines isoparaffinischen Kohlenwasserstoff-Gemisches mit einem Siedebereich von 117 bis 134°C (®Isopar E von Exxon) und
125,55 g Butanon
2,96 g Tris-(methyl-ethyl-ketoximo)-vinyl-silan,
15,75 g einer 1%igen Lösung von Dibutylzinnacetat in einem isoparaffi nischen Kohlenwasserstoff-Gemisch mit einem Siedebereich von 117 bis 134°C (Katalysator C 80 der Wacker Chemie GmbH),
0,63 g 3-(2-Amino-ethyl)-amino-propyl-trimethoxy-silan,
277,36 g eines isoparaffinischen Kohlenwasserstoff-Gemisches mit einem Siedebereich von 117 bis 134°C (®Isopar E von Exxon) und
125,55 g Butanon
aufgeschleudert. Die auf diese Weise erzeugte Schicht wurde dann 1 min lang
bei 120°C getrocknet. Das Gewicht der getrockneten Silikonschicht betrug 2,51
g/m2.
Das in dieser Weise hergestellte Aufzeichnungsmaterial wurde auf einem Außen
trommelbelichter (40 Umdrehungen pro Minute) der Strahlung von IR-
Laserdioden (830 nm; Leistung von 10 Watt) ausgesetzt und ergab nach
wasserunterstützter mechanischer Entfernung der ablatierten Schichtreste ein
scharfes Bild hoher Auflösung.
Claims (16)
1. IR-strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit, in der Reihenfolge
wie angegeben, einem Träger, einer Grundierschicht, einer IR-absorbie
renden Schicht und einer Silikonschicht, dadurch gekennzeichnet, daß die
Grundierschicht eine Mischung enthält aus einem nichtmodifizierten
Epoxidharz, einem weiteren organischen Polymer, das funktionelle Grup
pen aufweist, und einem Vernetzer, der mit dem nichtmodifizierten Epoxid
harz und den funktionellen Gruppen des organischen Polymers reagiert.
2. Aufzeichnungsmaterial gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis
3, dadurch gekennzeichnet, daß die funktionellen Gruppen des organi
schen Polymers Hydroxy- und/oder Carboxygruppen sind.
3. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeich
net, daß das funktionelle Gruppen aufweisende organische Polymer ein
fettsäuremodifiziertes, ofen- oder lufttrocknendes Epoxidharz, ein teilweise
acetalisierter Polyvinylalkohol oder ein Hydroxygruppen enthaltendes
Acrylharz ist.
4. Aufzeichnungsmaterial gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis
3, dadurch gekennzeichnet, daß der Anteil des nichtmodifizierten Epoxid
harzes 2,0% bis 94,0 Gew.-%, bevorzugt 2, 5 bis 80,0 Gew.-%, besonders
bevorzugt 2, 5 bis 49,0 Gew.-%, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht
der nichtflüchtigen Bestandteile der Grundierschicht, beträgt.
5. Aufzeichnungsmaterial gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis
4, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewichtsverhältnis von nichtmodifi
ziertem Epoxidharz zu dem weiteren organischen Polymer mit funktionel
len Gruppen im Bereich von 1 : 36 bis 89 : 1, bevorzugt im Bereich von
1 : 8 bis 8 : 1, liegt.
6. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
der Anteil des Vernetzers 5 bis 35 Gew.-%, bevorzugt 10 bis 30 Gew.-%,
jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen Bestandteile
der Grundierschicht, beträgt.
7. Aufzeichnungsmaterial gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis
6, dadurch gekennzeichnet, daß die Grundierschicht feinverteilt Pigmente,
bevorzugt anorganische Pigmente, enthält.
8. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß
die anorganischen Pigmente SiO2-, Al2O3-, ZrO2- oder TiO2- Pig
mente sind.
9. Aufzeichnungsmaterial gemäß Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeich
net, daß der Anteil der Pigmente 1 bis 40 Gew.-%, bevorzugt 5 bis 30
Gew.-%, jeweils bezogen auf das Gesamtgewicht der nichtflüchtigen
Bestandteile der Grundierschicht, beträgt.
10. Aufzeichnungsmaterial gemäß einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch
gekennzeichnet, daß der Träger eine entfettete, walzblanke oder in ein
fachen Verfahren vorbehandelte Platte oder Folie aus Aluminium oder
einer Aluminiumlegierung ist.
11. Aufzeichnungsmaterial gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis
6, dadurch gekennzeichnet, daß die IR-absorbierende Schicht a) eine
Komponente, die IR-Strahlungsenergie in Wärme umwandelt, b) ein poly
meres Bindemittel, das unter der Einwirkung der aus der IR-Strahlung
umgewandelten Wärme thermisch abgebaut oder zersetzt wird, und c) ein
vernetzbares Harz und/oder ein Vernetzungsmittel, enthält.
12. Aufzeichnungsmaterial gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis
11, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewicht der IR-strahlungs
empfindlichen Schicht bei 0,1 bis 4,0 g/m2, bevorzugt 0,2 bis 3,0 g/m2,
besonders bevorzugt 0,5 bis 1,5 g/m2, beträgt.
13. Aufzeichnungsmaterial gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis
12, dadurch gekennzeichnet, daß die Silikonschicht einen Konden
sations-Silikonkautschuk umfaßt.
14. Aufzeichnungsmaterial gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis
13, dadurch gekennzeichnet, daß das Gewicht der Silikonschicht 1,0 bis
5,0 g/m2, bevorzugt von 1, 2 bis 3,5 g/m2, besonders bevorzugt 1, 5 bis 3,0
g/m2, beträgt.
15. Aufzeichnungsmaterial gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis
14, dadurch gekennzeichnet, daß sich auf der Silikonschicht eine Kunst
stoffolie, bevorzugt eine Polyethylenfolie, befindet.
16. Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den wasserlosen Offset
druck, dadurch gekennzeichnet, daß ein Aufzeichnungsmaterial gemäß
einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 16 mit IR-Strahlung, bevorzugt
mit IR-Laserstrahlung, bildmäßig bestrahlt und anschließend mit Wasser
oder einer wäßrigen Lösung von den ablatierten Schichtbestandteilen
befreit wird.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19908528A DE19908528A1 (de) | 1999-02-26 | 1999-02-26 | Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Wasserlos-Offsetdruckplatten |
US09/504,952 US6576399B1 (en) | 1999-02-26 | 2000-02-16 | Radiation-sensitive recording material for the production of waterless offset printing plates |
DE50006200T DE50006200D1 (de) | 1999-02-26 | 2000-02-22 | Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Wasserlos-Offsetdruckplatten |
EP00103354A EP1031413B1 (de) | 1999-02-26 | 2000-02-22 | Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Wasserlos-Offsetdruckplatten |
JP2000051888A JP2000250202A (ja) | 1999-02-26 | 2000-02-28 | 乾式オフセット印刷板製造用の放射線感応性記録材料 |
Applications Claiming Priority (1)
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