DE19902450B4 - Miniaturisiertes elektronisches System und zu dessen Herstellung geeignetes Verfahren - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 49
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 claims abstract description 22
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 35
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 21
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 claims description 12
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 4
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 claims description 3
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims description 2
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 claims description 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 claims description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 7
- 238000009530 blood pressure measurement Methods 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 101150107341 RERE gene Proteins 0.000 description 1
- 206010042209 Stress Diseases 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L19/00—Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
- G01L19/14—Housings
- G01L19/147—Details about the mounting of the sensor to support or covering means
-
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L19/00—Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
- G01L19/0007—Fluidic connecting means
- G01L19/0038—Fluidic connecting means being part of the housing
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the groups H01L21/18 - H01L21/326 or H10D48/04 - H10D48/07 e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
- H01L21/565—Moulds
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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Abstract
Verfahren
zur Herstellung miniaturisierter elektronischer Systeme wie Sensor-
und/oder Aktuatorsysteme, bei dem ein bondfähiger Halbleiter-Chip (15) mit
einem mindestens ein Loch (12, 12') aufweisenden metallisierten
Träger
(8) in einem Verfahrensschritt durch direktes Chip-Bonden in Flip-Chip-Technologie
zugleich elektrisch und mechanisch zu einer Funktionseinheit (16) verbunden
wird, wobei mindestens eine bondfähige Kontaktmetallisierung
(23) des Halbleiter-Chips (15) mit einem bondfähigen Kontakt-Pad (24) des
metallisierten Trägers (8)
kontaktiert wird, und bei dem zwischen dem metallisierten Träger (8)
und dem Halbleiter-Chip (15) eine mindestens ein Loch (12, 12')
des metallisierten Trägers
(8) umgrenzende druckdichte Verbindung hergestellt wird, dadurch
gekennzeichnet, daß die
Funktionseinheit (16) in einem sie umschließenden Gehäuse (35) untergebracht wird,
in dem mindestens ein zu mindestens einem Loch (12, 12') des metallisierten
Trägers
(8) führender
und über das
betreffende Loch (12, 12') mit dem Halbleiter-Chip (15) in druckdichter
Verbindung stehender Mediumkanal (36, 36') verläuft, wobei das Gehäuse (35)
durch unmittelbares Umspritzen der Funktionseinheit...
Description
- Die Erfindung betrifft ein miniaturisiertes elektronisches
- System, mit einer einen metallisierten Träger und einen mit diesem verbundenen Halbleiter-Chip enthaltenden Funktionseinheit, die in einem Gehäuse untergebracht ist, in dem mindestens ein zu der Funktionseinheit führender Mediumkanal verläuft. Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung miniaturisierter elektronischer Systeme, bei dem ein bondfähiger Halbleiter-Chip mit einem metallisierten Träger zu einer Funktionseinheit verbunden und diese Funktionseinheit in einem Gehäuse untergebracht wird, in dem mindestens ein zu der Funktionseinheit führender Mediumkanal verläuft. Die Merkmale der Oberbegriffe der undabhängigen Ansprüche sind aus der
DE 198 10 060 A1 bekannt. - Miniaturisierte elektronische Systeme der vorgenannten Art benötigen sowohl eine elektrische Kontaktierung als auch eine mediendichte Zuführung des bei seinem Betrieb einge setzten Mediums, bei dem es sich beispielsweise um ein Gas wie Luft handelt. Dabei ist es bekannt, in mehreren verschiedenen Verfahrensschritten die elektrische Kontaktierung herzustellen und die Montage des Systems vorzunehmen. Hierzu werden beispielsweise Klebeverfahren oder mechanische Dichtverfahren mit elektrischen Kontaktierungsverfahren, beispielsweise Mikrodrahtschweißen oder Löttechnologien, kombiniert angewendet. Um die druckdichte und bei Bedarf getrennte Zuführung eines oder mehrerer Medien zu der den Träger und den Halbleiter-Chip enthaltenden Funktionseinheit zu realisieren, wird die Funktionseinheit in der Regel in ein vorgefertigtes Gehäuse eingesetzt, das über mindestens einen geeignet verlaufenden Mediumkanal verfügt.
- Nachteilig für die elektronischen Systeme, beispielsweise Aktuator- oder Sensorsysteme, ist die ungünstige Anordnung von Materialien mit unterschiedlichen physikalischen und chemischen Eigenschaften auf engstem Raum. Dies kann zu mechanischen Streßerscheinungen führen, die die Eigenschaften der Systeme negativ beeinflussen und die Funktion gefährden. Ferner müssen unterschiedliche Technologien mit sich teilweise widersprechenden Anforderungen an die zu verwendenden Werkstoffe kombiniert werden, woraus ein höherer Material-, Zeit- und Arbeitsaufwand resultiert. Schließlich sind bei der Anwendung eines Mikrodrahtschweißverfahrens für Mikrosysteme spezielle Gehäuse zum Schutz der Mikrodrähte vor Umwelteinflüssen erforderlich. Bekannt ist beispielsweise die Montage von kapazitiven oder piezoresistiven Halbleiterdrucksensor-Chips mittels Epoxidharz auf aus Keramik oder Leiterplattenmaterial bestehende Träger. Die elektrische Kontaktierung erfolgt hier beispielsweise durch Ultraschall-Drahtbonden mit Aluminiumdraht. Die benötigten Medienkanäle werden durch ein vorgefertigtes, beispielsweise aus Kunststoff oder Metall bestehendes Gehäuse vorgegeben, dessen Bauform speziell an die vorhandene Funktionseinheit angepaßt werden muß und dessen Montage relativ aufwendig ist. Insgesamt verkörpern somit die bekannten Maßnahmen einen relativ hohen technologischen Aufwand, der zu kostenaufwendigen und zum Teil funktionell nachteiligen Produkten führt.
- Aus der
DE 198 10 060 A1 ist es bekannt, einen Halbleitersensor als Flip-Chip auf ein Substrat mit einer unterliegenden Öffnung als Medienkanal zu montieren und mit einem Unterfüller abzudichten und beim Unterfüllen den Halbleitersensor mit einer Gehäusekappe zu umgeben. - Die
DE 43 23 799 A1 lehrt einen Flip-Chip auf eine Leiterplatte durch eine rahmenförmige Elektrode mit einem Wandelement aus Lot zu verbinden, welche die weiteren elektrischen Kontakte dann schützend umgibt. - Die nachveröffentlichte
DE 198 26 426 A1 mit älterem Anmeldedatum lehrt einen Halbleitersensor als Flip-Chip auf einem Substrat mit Öffnungen als Medienkanäle zu montieren, wobei Halbleitersensor und Substrat um die Öffnung herum mit lötbaren Metallisierungen versehen werden, welche beim Herstellen der elektrischen Kontakte zudem und gleichzeitig eine hermetisch dichte Anbindung des Medienkanals ergibt. Zudem wird ein Unterfüller zwischen Substrat und Halbleitersensor gegeben. Es wird jedoch kein Hinweis auf eine Herstellung eines Gehäuses durch Umspritzen gegeben. - Es ist somit die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, sowohl ein Verfahren zur Herstellung miniaturisierter elektronischer Systeme als auch ein miniaturisiertes elektronisches System als solches zu schaffen, wobei eine vereinfachte Herstellung mit funktionellen Vorteilen verknüpft wird.
- Diese Aufgabe wird durch das Verfahren des Anspruchs 1 und durch das miniaturisierte elektronische System des Anspruchs 11 gelöst.
- Auf die erfindungsgemäße Weise ist es möglich, beispielsweise zu Sensor- und/oder Aktuatorzwecken einsetzbare elektronische Mikrosysteme zu schaffen, bei denen die Verbindung zwischen dem insbesondere unverkappten Halbleiter-Chip und dem zugehörigen Träger mittels eines direkten Lötverfahrens in Flip-Chip-Technologie erfolgt, was eine kombinierte elektrische und mechanische Verbindung in einem einzigen Verfahrensschritt gestattet und eine kostengünstige Herstellung bei gleichzeitig sicherer Fixierung der einzelnen Bauteile ermöglicht. Eine weitere wesentliche Kostenreduzierung resultiert aus der unmittelbaren Umspritzung der Funktionseinheit mit dem Gehäusematerial, so daß das Gehäuse direkt an die Funktionseinheit angeformt wird und unter Gewährleistung einer innigen Verbindung mit leichter Vorgabe der gewünschten Kanalverläufe zusätzliche Montagearbeiten entfallen.
- Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung gehen aus den Unteransprüchen hervor.
- Der oder die Mediumkanäle im Gehäuse können entweder unmittelbar vom Gehäuse definiert werden, so daß die Kanalwandungen vom Gehäusewerkstoff gebildet sind. In einer alternativen und ebenfalls vorteilhaften Bauform ist eine Kanalrealisierung aber auch dadurch möglich, daß wenigstens ein in den Gehäusewerkstoff eingebettetes zusätzliches Adaptionsteil vorgesehen ist, das den Kanalverlauf vorgibt. Das Adaptionsteil kann vor dem Umspritzen des Gehäuses am Träger befestigt werden, beispielsweise durch Kleben, Löten oder ein sonstiges Bondverfahren.
- Das Gehäuse des elektronischen Systems kann aus einer oder mehreren Werkstoffkomponenten aufgebaut sein. Somit ist es beispielsweise möglich, die Funktionseinheit in eine innere Schicht aus einem ersten Gehäusewerkstoff einzubetten, der gewisse stoßdämpfende Eigenschaften hat, während um diese erste Schicht eine weitere Schicht aus einem zweiten Gehäusewerkstoff herumgespritzt ist, die aus härterem Material besteht und dem gesamten Sensorsystem die erforderliche Festigkeit und Stoßunempfindlichkeit verleiht.
- Der Halbleiter-Chip kann beispielsweise ein Ventil-Chip sein, der mit einer miniaturisierten Ventileinheit beispielsweise in Gestalt eines Mikroventils oder eines Piezoventils ausgestattet ist. Eine weitere, besonders vorteilhafte Ausgestaltung ist diejenige als Sensorsystem, wobei als Halbleiter-Chip ein Drucksensor-Chip zum Einsatz gelangt, der über wenigstens eine Druckmembran verfügt, der das zu messende Medium über einen oder mehrere Mediumkanäle des Gehäuses zugeführt wird. Dabei kann der Drucksensor-Chip zur Vornahme von Absolutdruckmessungen mit nur einer Druckmembran ausgestattet sein. Wird die Druckmembran von entgegengesetzten Seiten her beaufschlagt, kann der Drucksensor-Chip auch zur Erfassung von Relativ- oder Differenzdrücken eingesetzt werden. Letzteres läßt sich auch dadurch gewährleisten, daß der Drucksensor-Chip mit wenigstens zwei Druckmembranen ausgestattet wird, die getrennt voneinander mit einem Medium beaufschlagbar sind.
- Alle zur Druckerfassung eingesetzten Sensorsysteme haben den besonderen Vorteil, daß sie sowohl bei Absolutdruckanwendungen als auch bei Differenzdruckanwendungen über eine sehr gute Medienverträglichkeit verfügen und häufig auf spezielle Maßnahmen zur Medientrennung verzichtet werden kann.
- Zwischen dem Träger und dem Halbleiter-Chip kann bei Bedarf ein sogenannter Underfiller plaziert werden, der die Kompensation von mechanischem Streß verbessert.
- Nachfolgend wird die Erfindung anhand der beiliegenden Zeichnung näher erläutert. In dieser zeigen:
-
1 ein elektronisches System der erfindungsgemäßen Art in einer Ausgestaltung als Sensorsystem, das in einen vorzugsweise zur Relativdruckmessung eingesetzten Drucksensor integriert ist, wobei der Drucksensor im Bereich des Sensorsystems im Längsschnitt aufgebrochen ist, -
2 den Drucksensor aus1 im Querschnitt gemäß Schnittlinie II-II, -
3 das bei dem Drucksensor der1 eingesetzte Sensorsystem in einer vergrößerten ausschnittsweisen Längsschnittdarstellung, -
4 das Sensorsystem aus3 im Längsschnitt in einer um 90° verdrehten Schnittebene gemäß Pfeil IV-IV mit Blick auf den Träger, -
5 einen weiteren Längsschnitt der Anordnung aus3 , wiederum in einer mit Bezug zur3 um 90° verdrehten Schnittebene gemäß Schnittlinie V-V mit Blick auf den Halbleiter-Chip, -
6 eine Variante des elektronischen Systems in einer Ausgestaltung als Drucksensorsystem und in einer der3 entsprechenden Darstellungsweise, wobei die4 und5 wiederum Längsschnitte durch das System darstellen, und -
7 eine weitere Bauform des elektronischen Systems in einer vergrößerten Ausschnittsdarstellung, wobei eine sich zur Relativ- oder Differenzdruckmessung eignende Ausführungsform gezeigt ist. - In der Beschreibung sind die übereinstimmenden Bestandteile der verschiedenen Ausführungsformen des elektronischen Systems mit identischen Bezugszeichen versehen. Sofern im einzelnen nichts anderes gesagt, gilt die nachfolgende Beschreibung für alle Ausführungsbeispiele.
- Die
1 zeigt einen mit Bezugsziffer1 bezeichneten Drucksensor, der zur Erfassung bzw. Messung eines Relativdruckes eingesetzt werden kann. Er hat ein beispielsweise zylindrisches Sensorgehäuse2 , das mit einem Taster3 und einer Leuchtanzeige4 ausgestattet ist und das rückseitig über eine Anschlußeinrichtung5 verfügt, über die eine nicht näher dargestellte elektronische Auswerteeinheit angeschlossen werden kann. Im vorderen Bereich des Sensorgehäuses2 ist ein miniaturisiertes elektronisches System6 integriert, das beim Ausführungsbeispiel als Sensorsystem7 ausgeführt ist und vorzugsweise nach dem piezoresistiven Prinzip arbeitet. Der Aufbau des elektronischen Systems6 kann beispielsweise einer der in3 bis7 vergrößert dargestellten Ausführungsvarianten entsprechen, auf die nachstehend näher eingegangen wird. - Das elektronische System
6 enthält einen insbesondere plattenähnlichen metallisierten Träger8 , der rechtwinkelig zu seiner Plattenebene von einem ersten Loch12 und einem zweiten Loch12' durchsetzt ist. An seiner nachfolgend als Träger-Unterseite14 bezeichneten Unterseite trägt er einen Halbleiter-Chip15 , mit dem er mechanisch und elektrisch zu einer nachfolgend mit Bezugsziffer16 bezeichneten Funktionseinheit als Baueinheit zusammengefaßt ist. - Der metallisierbare Träger
8 kann beispielsweise aus Keramikmaterial oder aus glasfaserverstärktem Kunststoffmaterial bestehen, oder aus einem beliebigen anderen Material, das ein Aufbringen von Leiterbahnen oder lötfähigen Materialien gestattet. - Der Halbleiter-Chip
15 , der bei den Ausführungsbeispielen einen Drucksensor-Chip17 bildet, verfügt an seiner dem Träger8 zugewandten Chip-Oberseite22 über zwei erste ringförmige Metallisierungen18 ,18' und eine Mehrzahl insbesondere im Randbereich des Halbleiter-Chips15 plazierte bondfähige Kontaktmetallisierungen23 . Ferner ist der Drucksensor-Chip17 mit zwei nur schematisch angedeuteten Druckmembranen25 ,25' ausgestattet, die jeweils innerhalb einer der beiden ersten ringförmigen Metallisierungen18 ,18' plaziert sind. - Der Träger
8 verfügt an seiner aus4 ersichtlichen Träger-Unterseite14 über zwei bondfähige zweite ringförmige Metallisierungen19 ,19' und eine zweckmäßigerweise der Anzahl der Kontaktmetallisierungen23 entsprechende Anzahl bondfähiger Kontakt-Pads26 . - Vorzugsweise die am Träger
8 vorgesehenen zweiten ringförmigen Metallisierungen19 ,19' sind zweckmäßigerweise als Lotringe ausgeführt. Ferner verfügt der Träger8 über mehrere zur Außenkontaktierung dienende elektrische Anschlüsse27 , die über geeignete Leiterzüge28 mit den Kontakt-Pads26 verbunden sind. - Die in
7 gezeigte Ausführungsform unterscheidet sich von denjenigen der3 bis6 dahingehend, daß der Drucksensor-Chip17 mit nur einer Druckmembran25 ausgestattet ist. Dementsprechend enthält er auch nur eine ringförmige Metallisierung, und der Träger8 ist mit nur einer zugeordneten zweiten ringförmigen Metallisierung ausgestattet, die dem ersten Loch12 zugeordnet ist. Die Wirkungsweise des gleichwohl vorhandenen zweiten Loches12' wird später noch erläutert. - Der vorzugsweise unverkappte Halbleiter-Chip
15 ist mit dem Träger8 in einem einzigen Verfahrensschritt durch direktes Chip-Bonden in Flip-Chip-Technologie zugleich elektrisch und mechanisch verbunden. Die Verbindung wäre beispielsweise als Leitklebung oder als andere leitfähige Bondung realisierbar, ist beim Ausführungsbeispiel aber als Lötverbindung ausgeführt. Beim Bonden werden der Träger8 und der Halbleiter-Chip5 einander derart zugeordnet, daß sich zum einen die ersten und zweiten ringförmigen Metallisierungen18 ,19 ,18' ,19' und zum anderen die Kontaktmetallisierungen23 und Kontakt-Pads26 paarweise gegenüberliegen. Bei dem anschließenden direkten Lötverfahren, der sogenannten Flip-Chip-Technologie, resultieren aus den Paaren von Kontaktmetallisierungen23 und Kontakt-Pads26 mehrere Kontakt-Bumps32 , die die elektrische Verknüpfung des Halbleiter-Chips15 mit dem Träger8 bewirken. über an die elektrischen Anschlüsse27 angelötete, weiterführende elektrische Leiter33 ist somit die elektrische Verbindung des Halbleiter-Chips mit einer Auswerteelektronik möglich. - Gleichzeitig mit der Herstellung der Kontakt-Bumps
32 vereinigen sich die Paare von ersten und zweiten ring förmigen Metallisierungen18 ,19 ;18' ,19' zu ringförmigen Bond-Dichtungen34 ,34' , die beim Ausführungsbeispiel von ringförmigen Lotdichtungen gebildet sind und eine druckdichte Verbindung zwischen dem Halbleiter-Chip15 und dem Träger8 hervorrufen. Dabei werden beim Ausführungsbeispiel der3 bis6 die ersten und zweiten Löcher12 ,12' von jeweils einer der ringförmigen Bond-Dichtungen34 ,34' umgrenzt, und es liegt eine druckdichte Verbindung vom Halbleiter-Chip15 bzw. der in diesem vorgesehenen Druckmembran25 ,25' zum betreffenden Loch12 ,12' vor. Beim Ausführungsbeispiel der7 ergibt sich diese Verbindung nur zwischen dem ersten Loch12 und der dieser zugeordneten ersten Druckmembran25 . - Nachdem die Funktionseinheit
16 hergestellt wurde, wird sie unmittelbar mit mindestens einem spritzgießfähigen Gehäusewerkstoff umspritzt, der das Gehäuse35 des elektronischen Systems6 bildet. In diesem Gehäuse35 verlaufen ein oder mehrere, beim Ausführungsbeispiel ein erster und ein zweiter Mediumkanal36 ,36' , die zu der Funktionseinheit16 und dabei insbesondere zu deren Träger8 führen, wobei sie einenends mit jeweils einem der Löcher12 ,12' kommunizieren und andernends insbesondere zur Außenfläche des Gehäuses35 ausmünden. Auf diese Weise liegt schließlich eine medium- bzw. druckdichte Verbindung vom Halbleiter-Chip15 über den von der zugeordneten ring förmigen Bond-Dichtung34 ,34' umschlossenen Zwischenraum37 ,37' und dem jeweils zugeordneten Loch12 ,12' zum betreffenden Mediumkanal36 ,36' vor. Da die Funktionseinheit16 vom spritzgießfähigen Gehäusewerkstoff des Gehäuses35 innig umschlossen wird, liegt eine feste und zugleich druckdichte Kapselung vor, die eine betriebssichere Fixierung der Funktionseinheit16 bewirkt. Außerdem erübrigen sich aufwendige Montageschritte für ein separat gefertigtes und anschließend an die Funktionseinheit16 angebautes Gehäuse. Der Gehäusewerkstoff kann die Funktionseinheit formschlüssig umschließen, so daß auf zusätzliche aufwendige mechanische Befestigungsmaßnahmen verzichtet werden kann. Dabei besteht auch die Möglichkeit, das Gehäuse35 in Ein-Komponenten- oder in Mehrkomponenten-Bauweise auszuführen. Während die3 bis7 eine Bauform zeigen, bei der nur ein insbesondere von geeignetem Kunststoffmaterial gebildeter Gehäusewerkstoff verwendet wird, zeigt die1 eine Variante, bei der eine die Funktionseinheit16 unmittelbar umschließende innere Schicht42 aus einem ersten Gehäusewerkstoff und eine die innere Schicht42 außen umschließende äußere Schicht43 aus einem zweiten Gehäusewerkstoff vorgesehen ist. - Durch die separate Ausgestaltung der beiden Mediumkanäle
36 ,36' liegen zwei voneinander getrennte Verbindungen bzw. Anschlüsse44 ,44' zu den beim Ausführungsbeispiel der3 bis6 zwei Druckmembranen25 ,25' vor, was in vorteilhafter Weise die Erfassung von Relativ- und/oder Differenzdrücken gestattet. So kann beispielsweise über den ersten Anschluß44 ein beispielsweise gasförmiges Meßmedium und über den zweiten Anschluß44' ein zweites Meßmedium oder beispielsweise das Umgebungsmedium an den Drucksensor-Chip17 herangeführt werden, um den anstehenden Differenzdruck oder Relativdruck zu messen. Die1 zeigt in diesem Zusammenhang, daß es möglich ist, den Anschlüssen44 ,44' nach Bedarf eine Filtereinrichtung45 zuzuordnen, die man zweckmäßigerweise in den betreffenden Mediumkanal44 ,44' integriert. - Die
3 und6 machen deutlich, daß zur Kompensation von mechanischem Streß bei Bedarf zwischen dem Halbleiter-Chip15 und dem Träger8 ein Underfiller46 appliziert werden kann. Ferner ist aus3 ersichtlich, daß bei Bedarf auf der Oberfläche des Halbleiter-Chips15 , insbesondere an dessen Träger-Oberseite47 , ein oder mehrere zusätzliche elektronische Bauelemente48 plaziert werden können. - Die
7 zeigt die Ausführungsform eines relativ- oder differenzdruckfähigen Systems mit nur einer Druckmembran25 . Hier verfügt der Drucksensor-Chip17 auf der der Bond-Dichtung34 entgegengesetzten Seite der Druckmembran25 über einen zur Chip-Unterseite52 offenen Druchbruch53 , und es ist die Funktionseinheit16 durch einen beispielsweise kastenähnlichen Abdeckkörper54 ergänzt, der derart an der Träger-Unterseite14 insbesondere durch Bonden fixiert ist, daß er den Drucksensor-Chip17 unter Belassung einer Mediumkammer55 umschließt. Der Drucksensor-Chip17 ist somit von der Kombination aus Träger8 und Abdeckkörper54 komplett umhüllt, wobei der Abdeckkörper54 einen festen Bestandteil der Funktionseinheit16 darstellt, der nach der Flip-Chip-Verbindung von Halbleiter-Chip15 und Träger8 an letzterem befestigt wird, bevor das Gehäuse35 angeformt wird. - Der Abdeckkörper
54 ist so ausgebildet und angeordnet, daß die von ihm begrenzte Mediumkammer55 zum einen mit dem Durchbruch53 und zum andern mit dem zweiten Loch12' des Trägers8 kommuniziert. Auf diese Weise läßt sich die einzige Druckmembran25 auf ihrer Oberseite über den ersten Mediumkanal36 mit einem ersten Medium und auf ihrer entgegengesetzten Unterseite über den zweiten Mediumkanal36' mit einem zweiten Medium beaufschlagen, was eine unmittelbare Erfassung eines Differenz- oder Relativdruckes gestattet. Gleichwohl ist auch hier die vorteilhafte Möglichkeit gegeben, das Gehäuse35 in Gießtechnik unmittelbar durch Anformen an die Funktionseinheit16 herzustellen. - Es versteht sich, daß der Drucksensor-Chip
17 auch so ausgeführt werden kann, daß eine Absolutdruckmessung möglich ist, in welchem Falle wiederum eine einzige Druckmembran ausreicht. - Bei den Ausführungsformen der
6 und7 ist vorgesehen, daß die Mediumkanäle36 ,36' unmittelbar beim Spritzgießen des Gehäuses35 ausgebildet werden, so daß die Kanalwände unmittelbar vom Gehäusewerkstoff gebildet sind. Bei den Ausführungsbeispielen der1 bis5 ist hingegen nur ein Mediumkanal36' auf diese Weise gefertigt, während der andere, vorliegend der erste Mediumkanal36 , von einem separaten Adaptionsteil56 definiert wird, das beim Anspritzen des Gehäuses35 in den Gehäusewerkstoff eingebettet und von diesem umspritzt wurde. Die Verwendung eines solchen Adaptionsteils56 hat den Vorteil, daß man die Kanalverläufe vorab durch geeignete Fertigung des betreffenden Adaptionsteils vorgeben kann und hernach nurmehr die Integration in das Gehäuse35 notwendig ist. Im Vergleich dazu hat die unmittelbar in den Gehäusewerkstoff integrierte Bauform der Mediumkanäle den Vorteil einer Reduzierung separater Herstellungsvorgänge. - Das Adaptionsteil
56 wird zweckmäßigerweise vor dem Anformen des Gehäuses35 an dem Träger8 befestigt, und zwar derart, daß die innere Mündung des in ihm verlaufenden Mediumkanals36 mit dem zugeordneten Loch12 des Trägers8 fluchtet. Das Adaptionsteil56 kann während des Umspritzens des Gehäuses35 durch geeignete externe Haltevorrichtungen fixiert werden, doch ist es auch möglich, das Adaptionsteil56 vor dem nachfolgenden Gießverfahren am Träger8 festzulegen, beispielsweise durch Kleben, Löten oder ein sonstiges Bondverfahren. - Es versteht sich, daß bei Bedarf sämtliche Mediumkanäle in einem Adaptionsteil vorgesehen werden können, wobei mehrere Mediumkanäle in getrennten Adaptionsteilen oder in einem gemeinsamen Adaptionsteil ausgebildet sein können.
- Mit dem erfindungsgemäßen elektronischen System und dem zu seiner Herstellung geeigneten Verfahren lassen sich beispielsweise miniaturisierte Relativdruck-Sensoren mit piezoresistiven oder kapazitiven Drucksensor-Chips herstellen. Allgemein lassen sich auch sonstige Drucksensoren, Gassensoren oder Flußsensoren auf diese Weise realisieren. Dabei ist zu betonen, daß keine Beschränkung auf Sensorsysteme vorliegt, da sich auch Aktuatorsysteme beispielsweise in Gestalt miniaturisierter Pumpsysteme oder Ventilsysteme realisieren lassen.
- Weitere Vorteile des erläuterten Verfahrens und der daraus resultierenden elektronischen Systeme bestehen darin, daß verfahrensseitig die Kontaktierung und Montage kostengünstig in einem Prozeßschritt erfolgen kann und erzeugnismäßig eine hohe funktionelle Zuverlässigkeit und ein einfacher Schutz der elektrischen Anschlüsse erreicht werden kann, wobei sich Schutzmaßnahmen für Drahtbondanschlüsse erübrigen.
- Die Bondverbindung zwischen Halbleiter-Chip
15 und Träger8 könnte anstelle einer Lötverbindung auch als andere leitfähige Verbindung ausgeführt werden, beispielsweise unter Verwendung eines leitfähigen Klebers (Leitkleber). - Ist das elektronische System aus mehreren Werkstoffkomponenten aufgebaut, kann die die Funktionseinheit enthaltende Schicht bei Bedarf auch lichtleitende Eigenschaften haben, um eine LED-Anzeige zu ermöglichen.
Claims (22)
- Verfahren zur Herstellung miniaturisierter elektronischer Systeme wie Sensor- und/oder Aktuatorsysteme, bei dem ein bondfähiger Halbleiter-Chip (
15 ) mit einem mindestens ein Loch (12 ,12' ) aufweisenden metallisierten Träger (8 ) in einem Verfahrensschritt durch direktes Chip-Bonden in Flip-Chip-Technologie zugleich elektrisch und mechanisch zu einer Funktionseinheit (16 ) verbunden wird, wobei mindestens eine bondfähige Kontaktmetallisierung (23 ) des Halbleiter-Chips (15 ) mit einem bondfähigen Kontakt-Pad (24 ) des metallisierten Trägers (8 ) kontaktiert wird, und bei dem zwischen dem metallisierten Träger (8 ) und dem Halbleiter-Chip (15 ) eine mindestens ein Loch (12 ,12' ) des metallisierten Trägers (8 ) umgrenzende druckdichte Verbindung hergestellt wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Funktionseinheit (16 ) in einem sie umschließenden Gehäuse (35 ) untergebracht wird, in dem mindestens ein zu mindestens einem Loch (12 ,12' ) des metallisierten Trägers (8 ) führender und über das betreffende Loch (12 ,12' ) mit dem Halbleiter-Chip (15 ) in druckdichter Verbindung stehender Mediumkanal (36 ,36' ) verläuft, wobei das Gehäuse (35 ) durch unmittelbares Umspritzen der Funktionseinheit (16 ) mit mindestens einem spritzgießfähigen Gehäusewerkstoff her gestellt wird, und daß für die Funktionseinheit (16 ) ein mit mindestens einer bondfähigen ersten ringförmigen Metallisierung (18 ) versehener Halbleiter-Chip (15 ) und ein mindestens eine bondfähige zweite ringförmige Metallisierung (19 ) aufweisender metallisierter Träger (8 ) verwendet wird, derart, daß bei dem elektrisch-mechanischen Verbindungsschritt die mindestens einem Loch (12 ,12' ) zugeordnete druckdichte Verbindung zwischen dem metallisierten Träger (8 ) und dem Halbleiter-Chip (15 ) durch mindestens eine bei der Bondung eines Paares einander zugeordneter erster und zweiter ringförmiger Metallisierungen (18 ,19 ) entstehenden ringförmigen Bond-Dichtung (34 ,34' ) gebildet wird. - Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens ein Mediumkanal (
36 ,36' ) unmittelbar beim Anspritzen des Gehäuses (35 ) an die Funktionseinheit (16 ) ausgebildet wird, so daß er vom Gehäusewerkstoff definiert wird. - Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß beim Anspritzen des Gehäuses (
35 ) an die Funktionseinheit (16 ) mindestens ein wenigstens einen Mediumkanal (36 ) definierendes Adaptionsteil (56 ) in den Gehäusewerkstoff eingebettet wird. - Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Adaptionsteil (
56 ) vor dem Anformen des Gehäuses (35 ) an dem Träger (8 ) befestigt wird, beispielsweise durch Kleben, Löten oder ein sonstiges Bondverfahren. - Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Gehäuse (
35 ) in Zwei-Komponenten-Bauweise aus zwei Gehäusewerkstoffen hergestellt wird. - Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen dem Träger (
8 ) und dem Halbleiter-Chip (15 ) ein Underfiller (46 ) plaziert wird. - Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß als Halbleiter-Chip (
15 ) ein Drucksensor-Chip (17 ) verwendet wird, der wenigstens eine Druckmembran (25 ,25' ) aufweist, die sich nach dem elektrisch-mechanischen Verbindungsschritt in dem von einer ringförmigen Bond-Dichtung (34 ,34' ) umgrenzten Bereich befindet. - Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß zur Schaffung eines zur Erfassung von Relativ- und/oder Differenzdrücken geeigneten Sensorsystems ein Drucksensor-Chip (
17 ) mit zwei Druckmembranen (25 ,25' ) verwendet wird, denen jeweils ein Loch (12 ,12' ) im Träger (8 ) und ein im Gehäuse (35 ) verlaufender Mediumkanal (36 ,36' ) zugeordnet wird. - Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß zur Schaffung eines zur Erfassung von Relativ- oder Differenzdrücken geeigneten Systems ein nur eine Druckmembran (
25 ) aufweisender Drucksensor-Chip (17 ) verwendet wird, der auf der der ersten ringförmigen Metallisierung (18 ) entgegengesetzten Seite der Druckmembran (25 ) einen zu seiner Unter seite offenen Durchbruch (53 ) aufweist, wobei die Funktionseinheit (16 ) vor dem Anspritzen des Gehäuses (35 ) durch einen den Drucksensor-Chip (17 ) mit Abstand druckdicht umschließenden Abdeckkörper (54 ) ergänzt wird, den man durch Bonden so an der Träger-Unterseite (14 ) festlegt, daß zwischen ihm und dem Drucksensor-Chip (17 ) eine Mediumkammer (55 ) definiert wird, die sowohl mit dem Durchbruch (53 ) des Drucksensor-Chips (17 ) als auch mit einem mit einem Mediumkanal (36' ) des Gehäuses (35 ) kommunizierenden weiteren Loch (12' ) des Trägers (8 ) kommuniziert. - Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß man die Bondverbindung zwischen Halbleiter-Chip (
15 ) und Träger (8 ) als Lötverbindung ausführt, so daß sich als ringförmige Bond-Dichtung (34 ,34' ) eine Lotdichtung ergibt, oder mittels eines Leitklebers oder als andere leitfähige Verbindung. - Miniaturisiertes elektronisches System, insbesondere Sensor- und/oder Aktuatorsystem, mit einer Funktionseinheit (
16 ), die einen mindestens ein Loch (12 ,12' ) aufweisenden metallisierten Träger (8 ) und einen Halbleiter-Chip (15 ) enthält, die durch direktes Chip-Bonden in Flip-Chip-Technologie über mindestens einen Kontakt-Bump (32 ) sowohl mechanisch als auch elektrisch verbunden sind, wobei der Kontakt-Bump (32 ) aus einer bondfähigen Kontaktmetallisierung (23 ) des Halbleiter Chips (15 ) und einem bondfähigen Kontakt-Pad (26 ) des Trägers (8 ) gebildet ist, und mit einer mindestens ein Loch (12 ,12' ) des metallisierten Trägers (8 ) umgrenzenden druck dichten Verbindung zwischen dem metallisierten Träger (8 ) und dem Halbleiter-Chip (15 ), dadurch gekennzeichnet, daß die Funktionseinheit (16 ) in einem sie umschließenden Gehäuse (35 ) untergebracht ist, in dem mindestens ein zu mindestens einem Loch (12 ,12' ) des metallisierten Trägers (8 ) führender und über das betreffende Loch (12 ,12' ) mit dem Halbleiter-Chip (15 ) in druckdichter Verbindung stehender Mediumkanal (36 ,36' ) verläuft, wobei das Gehäuse (35 ) aus unmittelbar an die Funktionseinheit (16 ) angespritztem Gehäusewerkstoff besteht, und daß die ein Loch (12 ,12' ) umgrenzende druckdichte Verbindung zwischen dem metallisierten Träger (8 ) und dem Halbleiter-Chip (15 ) von mindestens einer beim direkten Chip-Bonden hergestellten ringförmigen Bond-Dichtung (34 ,34' ) aus einer am Halbleiter-Chip (15 ) vorgesehenen ersten ringförmigen Metallisierung (18 ) und einer am metallisierten Träger (8 ) vorgesehenen, das betreffende Loch (12 ,12' ) umgebenden zweiten ringförmigen Metallisierung (19 ) gebildet ist. - Miniaturisiertes elektronisches System nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens ein Mediumkanal (
36 ,36' ) unmittelbar im Gehäusewerkstoff des angespritzten Gehäuses (35 ) ausgebildet ist. - Miniaturisiertes elektronisches System nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens ein Mediumkanal (
36 ) in einem in den Gehäusewerkstoff des Gehäuses (35 ) eingebetteten Adaptionsteil (56 ) ausgebildet ist, das zweckmäßigerweise durch Bonden am Träger (8 ) fixiert ist. - Miniaturisiertes elektronisches System nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß das Gehäuse (
35 ) einen Zwei-Komponenten-Aufbau hat, wobei es eine die Funktionseinheit (16 ) unmittelbar umschließende innere Schicht (42 ) aus einem ersten Gehäusewerkstoff und eine die innere Schicht (42 ) umschließende äußere Schicht (43 ) aus einem zweiten Gehäusewerkstoff aufweist. - Miniaturisiertes elektronisches System nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen dem Halbleiter-Chip (
15 ) und dem Träger (8 ) ein Underfiller (46 ) angeordnet ist. - Miniaturisiertes elektronisches System nach einem der Ansprüche 11 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß der Halbleiter-Chip (
15 ) ein Drucksensor-Chip (17 ) ist, der mindestens eine in dem von einer ringförmigen Bond-Dichtung (34 ,34' ) umgrenzten Bereich angeordnete Druckmembran (25 ,25' ) aufweist, die über das zugeordnete Loch (12 ,12' ) mit einem Mediumkanal (36 ,36' ) des Gehäuses (35 ) in Verbindung steht. - Miniaturisiertes elektronisches System nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß der Drucksensor-Chip (
17 ) zwei separate, jeweils einer Bond-Dichtung (34 ,34' ) und einem Loch (12 ,12' ) des Trägers (8 ) zugeordnete Druckmembranen (25 ,25' ) aufweist, die mit getrennten ersten und zweiten Mediumkanälen (36 ,36' ) des Gehäuses (35 ) in Verbindung stehen. - Miniaturisiertes elektronisches System nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß der Drucksensor-Chip (
17 ) eine Druckmembran (25 ) enthält, auf deren der Bond-Dichtung (34 ) entgegengesetzten Seite er einen zu seiner Unterseite offenen Durchbruch (53 ) aufweist, wobei die Funktionseinheit (16 ) einen den Drucksensor-Chip (17 ) unter Bildung einer mit dem Durchbruch (53 ) kommunizierenden Mediumkammer (55 ) umschließenden und am Träger (8 ) festgelegten Abdeckkörper (54 ) aufweist und wobei die der Bond-Dichtung (34 ) zugewandte Seite der Druckmembran (25 ) mit einem ersten Mediumkanal (36 ) des Gehäuses (35 ) und die Mediumkammer (55 ) über ein weiteres Loch (12' ) des Trägers (8 ) mit einem separaten zweiten Mediumkanal (36' ) des Gehäuses (35 ) in Verbindung steht. - Miniaturisiertes elektronisches System nach Anspruch 17 oder 18, dadurch gekennzeichnet, daß der eine Mediumkanal (
36 ) zur Zuführung eines Meßmediums und der zweite Mediumkanal (36' ) zur Zuführung eines Umgebungsmediums und/oder eines zweiten Meßmediums vorgesehen ist. - Miniaturisiertes elektronisches System nach einem der Ansprüche 11 bis 19, gekennzeichnet durch auf dem Träger (
8 ) angeordnete elektrische Anschlüsse (27 ) mit Leiterzügen (28 ) zu den Kontakt-Bumps (32 ). - Miniaturisiertes elektronisches System nach einem der Ansprüche 11 bis 20, dadurch gekennzeichnet, daß der metalli sierte Träger (
8 ) aus Keramikmaterial oder aus glasfaserverstärktem Kunststoffmaterial besteht. - Miniaturisiertes elektronisches System nach einem der Ansprüche 11 bis 21, gekennzeichnet durch seine Verwendung als Aktuatorsystem, beispielsweise in Gestalt eines Ventil- oder Miniaturpumpsystems, oder durch seine Verwendung als Sensorsystem, beispielsweise als Druck-, Gas- oder Flußsensorsystem.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1999102450 DE19902450B4 (de) | 1999-01-22 | 1999-01-22 | Miniaturisiertes elektronisches System und zu dessen Herstellung geeignetes Verfahren |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1999102450 DE19902450B4 (de) | 1999-01-22 | 1999-01-22 | Miniaturisiertes elektronisches System und zu dessen Herstellung geeignetes Verfahren |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19902450A1 DE19902450A1 (de) | 2000-08-03 |
DE19902450B4 true DE19902450B4 (de) | 2006-04-20 |
Family
ID=7895061
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1999102450 Expired - Fee Related DE19902450B4 (de) | 1999-01-22 | 1999-01-22 | Miniaturisiertes elektronisches System und zu dessen Herstellung geeignetes Verfahren |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19902450B4 (de) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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- 1999-01-22 DE DE1999102450 patent/DE19902450B4/de not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE19902450A1 (de) | 2000-08-03 |
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