DE19755534A1 - Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Verteilung von Magnetfeldern - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Verteilung von MagnetfeldernInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur
Bestimmung der Verteilung von Magnetfeldern im
mehrdimensionalen Raum. Speziell betrifft die Erfindung die
Messung solcher Felder bei Schreib-/Leseköpfen für
magnetische Speichermedien. Die Erfindung betrifft außerdem
eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens.
Mit der ständig zunehmenden Aufzeichnungsdichte und der
stetigen Qualitätsverbesserung bei der Entwicklung von
Magnetköpfen in der letzten Zeit wird es immer wichtiger,
die mehrdimensionale räumliche Verteilung eines
Magnetfeldes möglichst genau messen zu können, da diese
Verteilung in der Nähe des Spalts eines Magnetkopfes einen
Faktor darstellt, der die Aufnahme- bzw.
Wiedergabeeigenschaften stark beeinflußt.
Wird ein Magnetkopf über ein magnetisches
Aufzeichnungsmedium, bspw. eine Magnetplatte, die eine
magnetische Dünnfilmschicht beinhaltet, geführt, so
entsteht in den magnetischen Schichten der Platte eine
Magnetisierung, die im Mikrometer- bzw.
Submikrometerbereich liegt. Durch die zunehmende
Schreibdichte auf der Platte werden die Abstände zwischen
benachbarten Spuren immer geringer. Es ist daher wichtig,
daß die Magnetisierung immer scharf umrissen bleibt und
bspw. nicht in benachbarte Spuren hineinreicht, was zu
Schreib- bzw. Lesefehlern führen kann.
Es ist daher von Interesse, die Verteilung des Magnetfeldes
möglichst genau analysieren bzw. vermessen zu können, um
solchen Schreib- bzw. Lesefehlern vorzubeugen. Dazu ist es
besonders vorteilhaft, wenn eine solche Charakterisierung
bereits im Vorfeld, d. h., bei der Herstellung des
Magnetkopfes, geschehen kann und nicht erst nach
Fertigstellung in besonderen Tests durchgeführt werden muß.
J.H.J. Fluitman, "Recording Head Field Measurement with a
Magnetoresistive Transducer", Transactions on Magnetics,
Vol. 4, Nr. 5, September 1978, Seiten 433-435, beschreibt
die Messung von Feldverteilungen von Magnetköpfen mit einem
magnetoresistiven (MR) Element in Form eines
eindimensionalen Rastervorgangs des MR-Elements in der
Richtung seiner kurzen Achse und anschließende Berechnung
des MR-Signal-Outputs.
Als eine Methode zur Messung der magnetischen
Feldverteilung im Mikrometerbereich ist kürzlich die
sogenannte Elektronenstrahltomographie vorgeschlagen
worden, bei der die Feldverteilung dreidimensional durch
die Tomographiemethode (Tomographie steht für die
Bestimmung eines Schnittbilds mittels algebraischer
Rekonstruktion ausgehend von Meßwerten, die Material- oder
Raumeigenschaften, aufintegriert entlang eines Meßstrahls,
repräsentieren) rekonstruiert wird, wobei von der Größe der
Abweichung eines Elektronenstrahls aufgrund der Einwirkung
der Lorentzkraft des magnetischen Feldes auf den
Elektronenstrahl nach dem Durchtritt durch das magnetische
Feld ausgegangen wird. Eine Anwendung einer
Computersimulation führt dann zu einem einfachen Modell der
Magnetfeldverteilung (vgl. "Evaluation of Three-Dimensional
Micromagnetic Stray Fields by Means of Electron-Beam
Tomography", IEEE Trans. Magn., MAG-21, 5, Seiten 1593,
1594 (1985)).
J.P.J. Groenland et al., "Measurement System for Two-
Dimensional Magnetic Field Distributions, Applied to the
Investigation of Recording Head Fields", J. Phys. E: Sci.
Instrum., Vol. 14, 1981, S. 503 ff, beschreiben die Messung
der magnetischen Feldverteilung eines Magnetkopfes mit
Hilfe eines magnetoresistiven Sensors. Hier wird jedoch
nicht versucht, die Feldverteilung aus den erhaltenen
Meßwerten direkt zu bestimmen, sondern es werden
Simulationen gerechnet, mit deren Hilfe die Messungen dann
interpretiert werden.
In US-A-5,075,623 wird ein Verfahren zur hochpräzisen
Messung der dreidimensionalen räumlichen Verteilung von
Magnetfeldern beschrieben, das die Ablenkung eines
Elektronenstrahls im magnetischen Feld (Lorentz-Kraft) mit
der Methode der algebraischen Rekonstruktion verbindet. Das
Verfahren ist dadurch charakterisiert, daß (a) eine
Referenzachse, in der die magnetische Feldverteilung
gemessen werden soll und mehrere dazu senkrechte Ebenen
ausgewählt werden, (b) ein Elektronenstrahl in jeder dieser
zu vermessenden Ebenen mit vorbestimmten Einfallswinkeln
gescannt wird und sukkzessive die Größe der Abweichung des
Elektronenstrahls aufgrund der Lorentzkraft gemessen wird,
(c) eine algebraische Rekonstruktion der
Magnetfeldverteilung in jeder der Ebenen auf der Grundlage
der entsprechend gemessenen Abweichung durchgeführt wird,
(d) die Flugbahn des Elektronenstrahls berechnet wird, um
eine Abweichungsgröße zu erhalten, die jeder der
sukkzessiven gemessenen Abweichungen entspricht, (e) die
Differenzen der berechneten Abweichungen des
Elektronenstrahls und der entsprechenden gemessenen
Abweichung berechnet werden, und (f) das rekonstruierte
Magnetfeld auf der Basis dieser Differenz korrigiert wird,
bis die Differenz unter einem vorbestimmten Wert liegt.
Nachteilig bei den Verfahren des Standes der Technik ist
die Tatsache, daß sie zum Teil keine Bestimmung der
mehrdimensionalen Verteilung des Magnetfelds gestatten und
zum anderen sehr aufwendig und teuer sind. So verlangt
bspw. die Elektronenstrahlmethode die Verwendung einer
Vakuumkammer, was zu einem hohen apparativen Aufwand und
stark erhöhten Kosten führt. Desweiteren ist die
Charakterisierung bspw. von Magnetköpfen recht schwierig,
da mit den genannten Apparaturen aufgrund der
Notwendigkeit, die zu vermessenden Teile in die
Vakuumkammer einschleusen und auch wieder ausschleusen zu
müssen, kein hoher Durchsatz erreicht werden kann. Zudem
liegt bei dieser Methode die zu vermessende Probe stets
zwischen einem Sender und einem Empfänger, wobei die
Abstände im cm-Bereich liegen, was vor allem bei einer
ausgeprägten Topographie der Probe nachteilig ist, da
häufig der Elektronenstrahl aufgrund Abschirmung durch die
Probe selbst vom Empfänger nicht detektiert werden kann.
Es ist daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein
Verfahren zur Bestimmung der mehrdimensionalen Verteilung
eines Magnetfeldes bereitzustellen, das ohne großen
apparativen Aufwand auf kostengünstige Art und Weise eine
Bestimmung der Verteilung eines Magnetfeldes erlaubt.
Eine weitere Aufgabe liegt darin, ein Verfahren der
genannten Art bereitzustellen, mit dem auch bei
ausgeprägter Topographie der zu vermessenden Probe ein
zufriedenstellendes Ergebnis erreicht werden kann.
Diese und weitere Aufgaben werden durch ein Verfahren zur
Bestimmung der mehrdimensionalen Verteilung eines
Magnetfeldes gemäß Anspruch 1 und die Vorrichtung gemäß
Anspruch 10 gelöst.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen
Verfahrens und der Vorrichtung sind in den Unteransprüchen
dargelegt.
Obwohl die vorliegende Erfindung überall dort anwendbar
ist, wo sich Magnetfelder über mikroskopische Dimensionen
(d. h., im Bereich von Millimetern bis hinunter zum
Nanometerbereich) erstrecken, bspw. bei Schaltkreisen mit
geringen Leiterbahnabständen, soll sie im folgenden anhand
der Bestimmung der Verteilung des Magnetfeldes bei Schreib-/Lese
köpfen näher erläutert werden.
Das erfindungsgemäße Verfahren erlaubt eine kostengünstige,
einfache Bestimmung der mehrdimensionalen Verteilung von
Magnetfeldern, insbesondere bei Magnetköpfen. Die
Bestimmung kann ohne aufwendige apparative Vorkehrungen
durchgeführt werden und bietet die Möglichkeit, bereits im
Vorfeld eine Charakterisierung der Magnetfelder zu
ermöglichen, wodurch frühzeitige Voraussagen der späteren
Performance ermöglicht werden. Aufgrund der Einfachheit der
Anordnung kann ein großer Durchsatz erreicht werden und
auch aufgrund einer komplizierten Topographie schwierig zu
charakterisierende Proben liefern ein exaktes Ergebnis.
Die vorliegende Erfindung verbindet das Prinzip des
magnetoresistiven Effekts mit der Methode der algebraischen
Rekonstruktion, um eine Messung der mehrdimensionalen
Verteilung des Magnetfeldes zu erlauben. Unter
magnetoresistivem (MR)-Effekt versteht man die Änderung des
elektrischen Widerstands aufgrund einer Penetrierung durch
ein Magnetfeld. Moderne MR-Sensoren werden durch eine
optimierte Mehrlagen-Dünnfilmtechnologie realisiert. Eine
Weiterentwicklung des MR-Effekts ist der Giant
Magnetoresistive (GMR)-Effekt, der eine mehrfach stärkere
Änderung der Leitfähigkeit hervorruft und damit noch
empfindlichere Magnetfeldmessungen erlaubt.
Zur Messung der Feldverteilung gemäß der vorliegenden
Erfindung wird ein magnetoresistiver Sensor (MR-Element)
verwendet. Der magnetoresistive Sensor besteht aus einem
Dünnfilm mit einer Kante als Magnetfeld-Eintrittsfenster.
Aus diesem Grunde integriert der Sensor das Magnetfeld
entlang seiner x,y-Dimensionen der Eintrittsfläche. Für die
Messung kann bevorzugt ein Dünnfilm verwendet werden,
ähnlich oder aus praktischen Gründen auch identisch dem bei
der Herstellung des Leseelements verwendeten
Mehrlagenfilms. Die Erfindung ist jedoch nicht auf diese
Ausführungsform beschränkt, sondern es können beliebige
magnetoresistive Dünnfilme verwendet werden. Die Ausdehnung
der verwendeten Filme liegt bevorzugt im Bereich von 1-100
µm. Dadurch ist die Möglichkeit gegeben, bei extremen
Topographien ein "Eintauchen" der Meßstrecke, d. h., des MR-Sensors,
zu ermöglichen. Somit besteht die Möglichkeit,
auch Feldverteilungen über konvexen Probengeometrien zu
vermessen.
Zur Messung der Feldverteilung wird zunächst ein Abstand
vom magnetfelderzeugenden Objekt festgelegt, in dem die
Messung durchgeführt werden soll (z-Achse). Es wird hier
also eine bestimmte x,y-Ebene ausgewählt, in der die
Messung stattfindet. Dies ist wichtig, da die Größe des
magnetischen Feldes nichtlinear mit dem Abstand vom
magnetfelderzeugenden Element abfällt. Eine Möglichkeit
besteht bspw. darin, in Kontakt mit der Probe zu messen.
Dies hat den Vorteil, daß der Abstand 0 meist wohldefiniert
ist, und das austretende Feld hier sein Maximum hat. Bei
der Messung der Feldverteilung eines Magnetkopfes ist es
z. B. sinnvoll, die Messung in der späteren Flughöhe des
Kopfes über der Magnetplatte durchzuführen, um genau das
Feld zu messen, das später am Ort der Plattenoberfläche,
d. h., dort, wo die magnetisierbaren Schichten liegen,
herrscht, während es bei Anwendung der Erfindung auf
elektrische Schaltkreise vernünftig erscheint, den Abstand
zwischen benachbarten Leiterbahnen zu wählen.
Anschließend wird der MR-Sensor (Dünnfilm) in einer
Richtung über das Meßgebiet geführt, wobei die
Rasterrichtung senkrecht zur Längsachse des Sensors
erfolgt, um eine Überdeckung des Meßfeldes mit Meßstrahlen
zu erzielen. Während des Rasterns werden dabei die
entsprechenden Signale registriert und aufgezeichnet. Die
Rasterung kann je nach gewünschter Auflösung in
entsprechend großen Schritten erfolgen.
Danach erfolgt ein Rastern des Meßgebiets unter einem
vorgegebenen Winkel zur ersten Rasterrichtung, gleichfalls
unter Registrierung und Aufzeichnung der jeweiligen
Signale. In einer besonderen Ausführungsform der Erfindung
kann dieser zweite Rastervorgang mit Hilfe eines zweiten,
im gewünschten Winkel zum ersten Sensor angeordneten
Dünnfilms erfolgen. Werden zwei getrennte Sensoren
verwendet, können diese bspw. in einem Winkel von 90°
angeordnet sein. In diesem Falle kann man bspw. zwei in
Epoxy eingebettete MR-Leseköpfe verwenden, die eine
polierte glatte Oberfläche aufweisen, auf der der zu
analysierende Magnetkopf in zwei Richtungen gleiten kann.
Dabei muß darauf geachtet werden, daß eine korrekte
Überlappung der Rasterpositionen für die beiden MR-Sensoren
erhalten wird. Damit wird sichergestellt, daß die "Zeilen
und Spalten" dieses Rastervorgangs bei der Rekonstruktion
objektgetreu übereinandergebracht werden können.
Eine solche Vorrichtung ist in Fig. 1 schematisch
dargestellt. Das magnetfelderzeugende Element 1, im
vorliegenden Fall ein an einer Suspension 4 aufgehängter
Magnetkopf, befindet sich in Kontakt mit einer Meßplatte 2,
in die zwei MR-Sensoren 3 eingebettet sind. Die Sensoren
sind ortsfest angeordnet und bilden einen rechten Winkel
zueinander. Die Meßplatte kann nun in x,y-Richtung bewegt
werden, wodurch der Magnetkopf "abgerastert" wird.
Natürlich kann der Magnetkopf auch, wie bereits weiter oben
erwähnt, in einem bestimmten Abstand über der Platte
angeordnet sein.
Selbstverständlich können auch mehr als zwei Sensoren
verwendet werden, die dann in einem vorgegebenen Winkel
zueinander angeordnet sind. Der damit einhergehende
zusätzliche technologische Aufwand für das System könnte
bspw. bei Anwendungen mit hohen Anforderungen an die
Bildqualität gerechtfertigt sein.
Ein weiterer bedeutender Vorteil des Verfahrens liegt in
der möglichen Kombination mit anderen Methoden, wie bspw.
rastersondenmikroskopische Verfahren
(Rasterkraftmikroskop), wenn man die zueinander
orthogonalen Sensoren auf einem micro beam realisiert. Auf
diese Weise können die Meßergebnisse sinnvoll ergänzt
werden.
Eine solche Anordnung ist schematisch in Fig. 2
dargestellt. Eine mikromechanische Ausführung einer
säulenförmigen Struktur 5 mit glatten Kantenflächen 6
(micro beam) trägt auf diesen Kantenflächen
magnetoresistive Schichten 7, die als Sensoren in x- bzw.
y-Richtung dienen. Die säulenförmige Struktur, die bspw.
aus lithographisch strukturiertem Silizium bestehen kann,
kann nun in x- und y-Richtung bewegt werden, wodurch
wiederum der Magnetkopf abgerastert wird. Auf der zum zu
untersuchenden Magnetkopf zeigenden Frontfläche 8 der Säule
kann u. U. eine Spitze 9 angebracht werden, die als
Rastersondenspitze dienen kann.
Eine weitere Ausführungsform der Erfindung umfaßt das
Rastern des Meßfeldes mit nur einem Sensor, der vor jedem
separaten Rastervorgang in einem entsprechenden Winkel
ausgerichtet wird.
Der nächste Schritt des erfindungsgemäßen Verfahrens
besteht nun in der algebraischen Rekonstruktion des
Meßfeldes.
Die Dimension in y-Richtung ist normalerweise um einige
Größenordnungen weiter als die Dimension in x-Richtung
(Filmdicke). Aus diesem Grunde kann die Bestimmung der
Feldverteilung analog der Bildrekonstruktion in der
Röntgencomputertomographie gesehen werden, bei der die
Signalintegration entlang des Röntgenstrahls zwischen der
Röntgenquelle und dem Detektor abläuft. Um ein
zweidimensionales Röntgenbild erhalten zu können, wird
dabei die Quelle-Detektor-Achse gedreht und das Signal als
eine Funktion des Drehwinkels (0-360°) gemessen.
Das Feld wird nun in N×N Pixel P_uv (P_uv stellt den
Punkt des Schnittbilds dar, der sich in der Spalte u und
der Zeile v befindet) aufgeteilt:
Dadurch kann das Meßsignal S, das ein Linienintegral
entlang der langen Achse des Sensors darstellt, als
endliche Summe dargestellt werden. Die Rekonstruktion der
Feldverteilung ist dann gleichbedeutend mit dem Problem der
Lösung eines Systems mit 2N Gleichungen:
S_u = SUM_v (P_uv); v = 1. . .N
S_v = SUM_u (P_uv); u = 1. . .N,
wobei S_u den Signal-Output des MR-Elements mit der langen
Achse in x-Richtung darstellt. Entsprechend bezeichnet S_v
den Signal-Output in y-Richtung. Eine solche Berechnung
kann sehr einfach mit Hilfe eines PCs als iterative
Näherung durchgeführt werden. Man erhält auf diese Weise
eine zweidimensionale Verteilung des Magnetfelds.
Zur Festlegung der dreidimensionalen Verteilung des
Magnetfeldes kann nun eine neue Ebene für die Messung
festgelegt (Schritt a)) und die Schritte b) bis d) erneut
durchlaufen werden. Auf diese Weise kann die gesamte
dreidimensionale Verteilung ermittelt werden.
Für die Bestimmung der Magnetfeldverteilung bei
magnetischen Schreibköpfen ist u. U. eine zweidimensionale
Messung auf der Ebene der Magnetplatte, d. h., im Abstand
der Flughöhe, ausreichend. In diesem Falle reicht also eine
einzige Messung für die Bestimmung der Verteilung aus.
Mit Hilfe der vorliegenden Erfindung lassen sich also
sowohl zwei- als auch dreidimensionale Verteilungen von
Magnetfeldern auf einfache Art und Weise messen. Die
Messergebnisse werden direkt, d. h., ohne weitere
zusätzliche Korrekturen (wie bspw. für eine aus der
Ablenkung eines Elektronenstrahls resultierende Verbiegung
des Meßstrahls im Falle der Elektronenstrahltomographie)
erhalten. So kann schnell und ohne zusätzliche
Näherungsverfahren eine Feldverteilung eindeutig
rekonstruiert werden.
Claims (16)
1. Verfahren zur Bestimmung der mehrdimensionalen
Verteilung von Magnetfeldern eines
magnetfelderzeugenden Elements mit Hilfe mindestens
eines magnetoresistiven Sensors, gekennzeichnet durch
folgende Schritte
- a) Festlegen eines Abstandes von dem magnetfelderzeugenden Element zur Abgrenzung des Meßgebiets, in dem die Messung durchgeführt werden soll;
- b) Rasterung des Meßgebiets in einer Richtung, wobei die Rasterrichtung senkrecht zur Längsachse des mindestens einen Sensors liegt, und Aufnahme der entsprechenden Signale;
- c) Rastern des Meßgebiets unter einem vorgegebenen Winkel zur ersten Rasterungsrichtung und Aufnahme der entsprechenden Signale; und
- d) algebraische Rekonstruktion der Magnetfeldverteilung aufgrund der aufgenommenen Signale.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
es als zusätzlichen Schritt enthält
- e) Festlegen eines weiteren Abstandes von dem magnetfelderzeugenden Element, in dem eine zweite Messung durchgeführt werden soll; und
- f) Wiederholen der Schritte b) bis d).
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
das magnetfelderzeugende Element ein Schreib-/Lese
element ist.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
das magnetfelderzeugende Element ein
stromdurchflossener Leiter ist.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß der magnetoresistive Sensor als
Dünnfilmstruktur realisiert ist.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
der verwendete Dünnfilm identisch ist mit dem bei der
Herstellung eines Schreib-/Leseelements verwendeten.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand so gewählt
wird, daß die Messung in Kontakt mit dem
magnetfelderzeugenden Element durchgeführt wird.
8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß zwei magnetoresistive
Sensoren verwendet werden, die in einem Winkel von 90°
zueinander ortsfest angeordnet sind.
9. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
bei Verwendung nur eines magnetoresistiven Sensors der
Sensor vor der Durchführung des Schritts c) durch
Drehung unter den vorbestimmten Winkel gebracht wird.
10. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem
oder mehreren der Ansprüche 1 bis 9, dadurch
gekennzeichnet, daß zwei MR-Sensoren (3) orthogonal
zueinander ortsfest angeordnet sind.
11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet,
daß die Sensoren in einer Meßplatte (2) angeordnet
sind.
12. Vorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet,
daß die Meßplatte in x,y-Richtung beweglich angeordnet
ist.
13. Vorrichtung nach Anspruch 11 oder 12, dadurch
gekennzeichnet, daß die Meßplatte aus Epoxymaterial
besteht.
14. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet,
daß die zwei MR-Sensoren als magnetoresistive
Schichten (7) ausgebildet sind, die auf den
Kantenflächen (6) einer säulenförmigen Struktur (5)
aufgebracht sind.
15. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet,
daß die säulenförmige Struktur aus lithographisch
strukturiertem Silizium besteht.
16. Vorrichtung nach Anspruch 14 oder 15, dadurch
gekennzeichnet, daß die säulenförmige Struktur auf der
dem magnetfelderzeugenden Element zugewandten Seite
eine Rastersondenspitze trägt.
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