DE19755479A1 - Miniaturisiertes PCR-System zur Genanalyse - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft eine mikrosystemtechnische Vorrichtung zur DNA-Amplifi
zierung mit Hilfe der Polymerase-Kettenreaktion (PCR), mit einem ersten Wafer und
einem mit dem ersten Wafer sandwichartig verbundenen zweiten Wafer, einer
Reaktionskammer zwischen den Wafern, mindestens einem in die Reaktionskam
mer mündenden, eintragenden Kanal und einem von der Reaktionskammer abge
henden, austragenden Kanal, und einer Heizvorrichtung zum Aufheizen und einer
Kühlvorrichtung zum Abkühlen der Reaktionskammer.
Derartige Vorrichtungen zur Vervielfältigung eines spezifischen DNA-Abschnitts
zwischen zwei definierten Nukleotid-Paaren eines Gens mit Hilfe der Polymerase-
Kettenreaktion (polymerase chain reaction, PCR) sind bekannt. Die PCR wird seit
Mitte der 80er Jahre zunehmend eingesetzt bei der Erkennung von genetisch
bedingten Krankheiten, zu Forschungszwecken oder zur Identifizierung von Mi
kroorganismen. Hierzu wird bekanntermaßen die in wässriger Lösung vorliegende
Ausgangs-DNA mit dem zu vervielfältigenden DNA-Abschnitt in eine Reaktionskam
mer eingebracht. Durch Erhitzen der Probenlösung in der Reaktionskammer auf ca.
95°C spaltet sich die doppelstrangige DNA-Helix in zwei Einzelstränge auf. Nach
diesem sog. Denaturieren kann an einem Ende des zu amplifizierenden DNA-Ab
schnitts des einen Einzelstrangs ein künstlich synthetisiertes und der wässrigen
Lösung in hinreichender Menge zugesetztes, spezifisches DNA-Stück geringer
Basenanzahl (sog. Primer) binden. An dem anderen Ende des zu amplifizierenden
DNA-Abschnitts des komplementären Einzelstrangs bindet ein anderer spezifischer
Primer. Der Ort der Bindung der beiden Primer begrenzt den zu amplifizierenden
DNA-Abschnitt. Diese sog. Hybridisierung läuft optimal bei Temperaturen von
ungefähr 45°C ab, d. h., daß das Probenvolumen nach Auftrennen des DNA-
Stoppelstranges abkühlen muß. An den nun vorliegenden beiden Einzelsträngen mit
ihren jeweiligen gebundenen Primern werden mit Hilfe eines anfänglich zugesetz
ten, hitzestabilen Enzyms, der sog. Taq-Polymerase, nacheinander - beginnend bei
den einander zugewandten Primer-Enden - gleichfalls zu Beginn zugegebene Nu
kleotide angefügt. Dieser als Synthese bezeichnete Vorgang läuft am schnellsten
bei etwa 72°C ab, weshalb das Probenvolumen in der Reaktionskammer nach der
Hybridisierung der Primer wieder erwärmt werden muß. Am Ende dieses Zyklus'
erhält man somit zwei doppelstrangige DNA-Moleküle, welche beide den zu ver
vielfältigenden DNA-Abschnitt aufweisen. Wird der aus Denaturieren, Hybridisieren
und Synthetisieren bestehende und den DNA-Abschnitt jeweils verdoppelnde
Zyklus mehrmals hintereinander ausgeführt, erhält man bei einer standardmäßigen
Zyklauszahl von 30 eine annähernd milliardenfache Kopienzahl des zu amplifizieren
den DNA-Abschnitts. Diese reicht aus, um anschließend bekannte Analysever
fahren anwenden zu können. Während einige dieser Analysereaktionen in wenigen
Minuten ablaufen und ausgewertet werden können, dauert die in den meisten be
kannten Vorrichtungen durchgeführte PCR einige Stunden und limitiert zeitlich den
Durchsatz durch die Vorrichtungen.
Aufgrund der Vielseitigkeit der PCR - zu nennen sind hier insbesondere die Multi
plex-PCR und insbesondere das sog. Fingerprinting-Verfahren - sind in letzter Zeit
Versuche bekannt geworden, mit Hilfe mikrosystemtechnischer Vorrichtungen die
Zykluszeiten auf wenige Minuten zu reduzieren, um hierdurch schnelle Gen-Analy
sen, beispielsweise während Operationen, zu ermöglichen. Besonderes Augenmerk
gilt bekanntermaßen mikrosystemtechnischen Vorrichtungen und hierbei insbeson
dere der Reduzierung des Probenkammervolumens, da dann die Aufheiz- und
Abkühlzeiten der Probenlösung nur noch wenige Sekunden betragen müssen. Dies
ist ausreichend, damit die drei verschiedenen Reaktionen innerhalb eines PCR-
Zyklus' ablaufen, So ist beispielsweise eine Vorrichtung bekannt, bei der zwei
Wafer übereinander angeordnet sind, zwischen denen eine Reaktionskammer durch
eine Aussparung auf der Innenseite eines aus einem Halbleitermaterial bestehenden
Wafers ausgebildet ist. Der andere, die Aussparung abdeckende Wafer umfaßt bei
dieser bekannten Vorrichtung einen Heizelement.
Nachteilig bei dieser bekannten Vorrichtung sind insbesondere deren verhältnsimä
ßig ungünstigen thermischen Eigenschaften. Da nämlich zur Reduzierung der
Zyklenzeiten das Volumen der Reaktionskammer möglichst klein gewählt ist, ist die
Tiefe der Aussparung im Vergleich zu der üblicherweise standardisierten Gesamt
dicke des Wafers verhältnismäßig gering. Dies wiederum bedeutet, daß über die
raumgreifenden Umgebungsabschnitte der Reaktionskammer Wärme abfließt,
welche nicht zur Erwärmung/Abkühlung der Probenlösung zur Verfügung steht. Die
verhältnismäßig große thermische Masse der Umgebungsabschnitte der Reaktions
kammer resultiert somit in ungünstig langen Aufheiz- und Abkühlzeiten des Proben
volumens.
Weiterhin ist bei dieser bekannten Vorrichtung nachteilig, daß die anschließende
Analyse der amplifizierten DNA nicht in allen Fällen sofort durchgeführt werden
kann, da je nach Analyseverfahren die in der Reaktionskammer amplifizierte DNA
gegebenenfalls von den restlichen Substanzen (u. a. Puffer, überschüssigen Primer
und Nukleotide, Taq-Polymerase, Aktivatoren) getrennt werden muß. Beispiels
weise erfordert die bekannte Matrix-unterstützte Flugzeitmassenspektrometrie
(MALDI-TOF-MS: matrix assisted laser desorption time of flight mass spectrometry)
eine relativ hoch konzentrierte DNA-Lösung. Der Zwischenschritt der Aufreinigung
ist wegen des Transportes der DNA-Moleküle von der Reaktionskammer zur
Reinigungsvorrichtung jedoch relativ schwierig durchzuführen.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, die mikrosystemtechnische
Vorrichtung der eingangs genannten Art derart weiterzubilden, daß auf einfache
Weise der Zeitraum vom Beginn einer PCR bis zur DNA-Analyse reduziert werden
kann.
Diese Aufgabe wird bei der mikrosystemtechnischen Vorrichtung der eingangs
genannten Art erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß der erste und/oder der zweite
Wafer im Bereich der Reaktionskammer eine Aussparung auf seiner Außenseite
aufweist.
Desweiteren wird die Erfindung bei der mikrosystemtechnischen Vorrichtung der
eingangs genannten Art gelöst durch eine Reinigungskammer zwischen den beiden
Wafern zur Aufreinigung der amplifizierten DNA-Moleküle, mindestens einen in die
Reinigungskammer mündenden, eintragenden Kanal, der mit einem austragenden
Kanal der Reaktionskammer verbunden ist, und mindestens einen von der Reini
gungskammer abgehenden, austragenden Kanal.
Die Vorteile der erfindungsgemäßen Reaktionskammer liegen insbesondere darin,
daß einer oder beide Wafer eine Aussparung auf der Außenseite aufweisen, die im
Bereich der Reaktionskammer angeordnet ist. Die Tiefe der Aussparung auf der
Außenseite des oder der Wafer bestimmt die Waferdicke zwischen der Reaktions
kammer und der äußeren Aussparung. Bei einer erwünschtermaßen kleinvolumigen
und dementsprechend flachen Reaktionskammer kann die Aussparung auf der
Waferaußenseite derart tief ausgebildet sein, daß der bzw. die Wafer im Bereich
der Reaktionskammer eine sehr geringe Dicke aufweisen. Hierdurch wird die
thermische Masse dieser Waferabschnitte sehr klein, da nur über schmale Raum
brücken Kontakt mit den entfernteren Waferabschnitten besteht und somit wäh
rend der Aufheiz- und Abkühlphasen nur geringfügig Wärme an diese abgeleitet
wird. Die Wärmekapazität der der Reaktionskammer benachbarten Waferabschnitte
wird somit erfindungsgemäß reduziert und es resultieren schnellere Temperatur
anstiege sowie -abfälfe in der Reaktionskammer, wenn die Reaktionskammer
aufgeheizt oder abgekühlt wird. Hierdurch lassen sich PCR-Zykluszeiten von
weniger als fünf Sekunden bei einem Kammervolumen von ungefähr 1 µl realisie
ren, so daß eine PCR mit 30 Zyklen in weniger als drei Minuten durchgeführt
werden kann.
Die Vorteile der zusammen mit der Reaktionskammer zwischen zwei Wafern
integrierten Reinigungskammer sind insbesondere darin zu sehen, daß die am
plifizierten DNA-Moleküle direkt im Anschluß an die PCR über einen Verbindungs
kanal zur Reinigungskammer geleitet werden kann, in welcher die amplifizierte DNA
aufgereinigt wird. Am Ausgang der Reinigungskammer wird somit aufgereinigte
DNA erhalten, die lediglich noch in einer Analysevorrichtung eingebracht werden
muß. Insbesondere bei der Multiplex-PCR, bei der gleichzeitig verschiedene Primer
paare zur Amplifizierung verschiedener DNA-Abschnitte der Reaktionslösung
zugegeben werden, beschleunigt die erfindungsgemäße Integration von Reaktions
kammer und Reinigungskammer zwischen zwei Wafern die massenspektometrische
Analyse mit bspw. dem MALDI-Verfahren, die - im Gegensatz zu einer Gelelek
trophorese - den Vorteil besitzt, daß DNA-Fragmente sehr unterschiedlicher Größe
gleichzeitig bestimmbar sind.
Zur Herstellung der erfindungsgemäßen Vorrichtung sind herkömmliche naß- und
trockenchemische Ätzverfahren sowie bekannte photolithographische Methoden
einsetzbar. Desweiteren besteht die vorteilhafte Möglichkeit, das sog. Batchver
fahren anzuwenden, bei dem die Strukturen des ersten und des zweiten Wafers
jeweils gleichzeitig in hoher Anzahl auf großen Waferscheiben hergestellt werden
können. Die anschließend aneinandergefügten großen Waferscheiben brauchen
dann nur noch geringfügig bearbeitet zu werden, um zahlreiche erfindungsgemäße
Vorrichtungen zu erhalten.
Besonders bevorzugt ist der Hohlraum der erfindungsgemäßen Reaktionskammer
durch innenseitige Aussparungen in dem ersten und/oder zweiten Wafer gebildet.
In ähnlicher Weise sind innenseitige Aussparungen in dem ersten und/oder zweiten
Wafer zur Bildung von zur Reaktionskammer hinführenden und ggf. von der Reak
tionskammer fortführenden Kanälen vorgesehen.
Um eine möglichst gleichmäßige Erwärmung bzw. Abkühlung des Probenvolumens
in der Reaktionskammer zu erhalten, erstreckt sich in einer besonders bevorzugten
Ausführungsform die äußere Aussparung im wesentlichen über die gesamte zur
Außenseite projizierte Fläche der Reaktionskammer.
Besonders bevorzugt weist die Reaktionskammer eine im wesentlichen längliche
Form auf, um ein Vermischen der PCR-Produkte beim Herausspülen mit einer
Spüllösung, wie beispielsweise Wasser, zu vermeiden. Die PCR-Produkte werden
hierbei von der nachfließenden Spüllösung aus der Reaktionskammer gepreßt und
liegen demnach an deren Ausgang im wesentlichen in unverdünnter Form vor.
Bevorzugt umfaßt die zur Aufheizung des Probenvolumens benötigte Heizvor
richtung mindestens einen elektrisch isolierten Heizleiter in der Reaktionskammer.
Beispielsweise ist der Heizleiter über die gesamte zur Außenseite projizierten Fläche
der Reaktionskammer in Form eines Mäanders angeordnet, um die Lösung in der
Reaktionskammer möglichst gleichmäßig und schnell zu erwärmen. Bei dieser
Ausführungsform befindet sich die zu erwärmende Lösung vorteilhafterweise - im
Vergleich zu einer auf der Waferaußenseite angeordneten Heizvorrichtung - in
unmittelbarer Nähe des Heizleiters. Hierdurch wird eine zeitaufwendige indirekte
Erwärmung der Probenlösung aufgrund einer zuvor notwendigen Erwärmung des
Wafers vermieden.
Wenn der dem Heizleiter benachbarte Wafer aus einem Halbleitermaterial herge
stellt ist, ist der Heizleiter zur Vermeidung von Kurzschlüssen bevorzugt in eine
elektrisch isolierenden Schicht in der Reaktionskammer eingebettet, um auf diese
Weise den Heizleiter gegen das Halbleitermaterial und die leitfähige PCR-Lösung zu
isolieren. Zur Realisierung kann auf bekannte Mikrostrukturverfahren zurückgegrif
fen werden.
Eine schnelle Abkühlung der Probenlösung in der Reaktionskammer kann erzielt
werden, wenn die Kühlvorrichtung mindestens eine Düse umfaßt, welche auf die
äußere Waferoberfläche im Bereich der Aussparung gerichtet ist, um über Kon
vektion Wärme abzutransportieren. Vorteilhafterweise ist eine Düse auf den dem
Heizleiter benachbarten Waferabschnitt gerichtet, damit nach Unterbrechen des
Heizstroms die Restwärme des Heizleiters schnell abgeführt werden kann.
In einer bevorzugten Weiterbildung der Erfindung sind Kühlrippen in der bzw. den
Aussparungen auf den Waferaußenseiten angeordnet, welche eine verhältnismäßig
große Fläche zur Unterstützung der Konvektionskühlung aufweisen.
Besonders bevorzugt sind stromaufwärts der Reaktionskammer mehrere Kanäle
zwischen den beiden Wafern angeordnet, die der Zuführung von DNA-Lösungen,
Reaktionslösungen und/oder Spüllösungen dienen. Hierdurch können die Konzen
trationen sowie die zeitliche Abfolge der Zufuhr der einzelnen Lösungen eingestellt
werden.
Vorteilhafterweise werden die von mindestens zwei Kanälen zugeführten Reak
tionslösungen vor Eintritt in die Reaktionskammer durch eine Mischvorrichtung
geleitet, damit die Reaktion der Moleküle der verschiedenen Flüssigkeiten in der
Reaktionskammer beschleunigt wird.
Besonders bevorzugt sind pneumatisch betriebene Ventile und/oder Pumpen in der
Anordnung der beiden Wafer integriert, die zur Durchlaßregulierung der Kanäle
dienen. Die Integration der vorzugsweise einzeln ansteuerbaren Ventile in die
Waferanordnung trägt bei gleichzeitig einfacher Handhabbarkeit zur Miniaturisie
rung der erfindungsgemäßen Vorrichtung bei.
Eine besonders bevorzugte Ausführungsform sieht vor, daß die inneren Ober
flächen der Reaktionskammer sowie ggf. der Kanäle zur Vermeidung von Wechsel
wirkungen mit in den Lösungen suspendierten Molekülen chemisch inertisiert sind.
Auf diese Weise wird gewährleistet, daß die PCR nicht durch Reaktionen an den
inneren Oberflächen der Reaktionskammer gestört wird. Beispielsweise sind die
Kammeroberflächen mit an sich bekannten Beschichtungen - beispielsweise organi
schen Molekülen - versehen.
Der Hohlraum der erfindungsgemäß gemeinsam mit der Reaktionskammer zwischen
zwei Wafern integrierten Reinigungskammer ist bevorzugt durch innenseitige Aus
sparungen in dem ersten und/oder zweiten Wafer gebildet. In ähnlicher Weise sind
innenseitige Aussparungen in dem ersten und/oder zweiten Wafer zur Bildung von
zur Reinigungskammer hinführenden und ggf. von der Reinigungskammer fort
führenden Kanälen vorgesehen.
Die in der Reaktionskammer amplifizierten DNA-Moleküle sind nach Transport zur
Reinigungskammer mittels einer an sich bekannten Separationstechnik aufreinigbar.
Es bietet sich z. B. an, an die bei der PCR eingesetzten Primer-Moleküle vorweg
jeweils ein Biotin- oder Avidin-Molekül anzulagern, so daß am Ende der PCR jedes
amplifizierte DNA-Molekül eine Biotin- bzw. Avidin-Gruppe aufweist. Bei Einsatz
dieses Verfahrens weist die erfindungsgemäße Vorrichtung vorzugsweise einen
stromaufwärts der Reinigungskammer angeordneten Kanal zur Zuführung einer
Suspension magnetischer Partikel auf, an welche jeweils mindestens eine Strepta
vidin-Gruppe angelagert ist. In der Reinigungskammer können dann die Streptavi
din-Gruppen der magnetischen Partikel an die Biotin- oder Avidin-Gruppen der
Primersequenzen der DNA-Moleküle unter Bildung eines verhältnismäßig großen,
magnetischen Komplexes binden.
Zur Separation von den übrigen, während der PCR benötigten Molekülen ist minde
stens ein Magnet im Bereich der Reinigungskammer vorgesehen, welcher die
magnetischen Komplexe aufgrund magnetischer Anziehung in der Reinigungs
kammer immobilisiert, während die übrigen Moleküle mit der Lösung aus der Reini
gungskammer ausgetragen werden.
In einer alternativen Ausführungsform zur Abtrennung bzw. Aufreinigung der
amplifizierten DNA-Moleküle sind die Oberflächen der Reinigungskammer mit
Streptavidin-Gruppen belegt, an welche die Biotin- oder Avidin-Gruppen der Primer
sequenzen der amplifizierten DNA-Moleküle binden. In diesem Fall werden die DNA-
Moleküle von den übrigen Molekülen in der Lösung auf rein chemischem Wege -
ohne Verwendung von extern angelegten äußeren Feldern - getrennt.
Um die an den Streptavidin-Gruppen der magnetischen Partikel bzw. den Ober
flächen der Reinigungskammer anhaftenden DNA-Moleküle abzutrennen, ist strom
aufwärts der Reinigungskammer ein Kanal zur Zuführung einer Elutionslösung-
bzw. -puffer vorgesehen, in der sich die immobilisierten DNA-Moleküle - ggf. nach Ab
schaltung des magnetischen Feldes - lösen, um anschließend aus der Reinigungs
kammer ausgetragen zu werden.
Besonders bevorzugt weist eine Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vor
richtung eine Heizvorrichtung in der Reinigungskammer auf, welche vorteilhafter
weise im wesentlichen denselben Aufbau wie die oben beschriebene Heizvor
richtung der Reaktionskammer besitzt. Die Heizvorrichtung sorgt für eine optimale
Temperatur in der Reinigungskammer, bei welcher die magnetischen Partikel mit
erhöhter Reaktionsgeschewindigkeit bevorzugt an den DNA-Molekülen binden und
gleichzeitig die Zahl unspezifischer Bindungen reduziert wird. Auch kann eine
Kühlvorrichtung im Bereich der Reinigungskammer vorgesehen sein, welche im
wesentlichen der oben beschriebenen Kühlvorrichtung für die Reaktionskammer
entspricht. Zur Durchlaßregulierung der Kanäle bietet es sich weiterhin an, pneuma
tisch betriebene Ventile und/oder Pumpen zur Zuführung bzw. Ableitung von
Lösungen zur bzw. aus der Reinigungskammer zu verwenden.
Vorteilhafterweise weist der erste und/oder der zweite Wafer im Bereich der
Reinigungskammer eine Aussparung auf seiner Außenseite auf, da hierdurch - wie
im Falle der Aussparung(en) im Bereich der Reaktionskammer - eine schnelle Ruf
heizung der Probenlösung in der Reinigungskammer begünstigt wird. Die Ausspa
rung im Bereich der Reinigungskammer reduziert hierbei ebenfalls den Wärmeabfluß
in entferntere Waferabschnitte.
Besonders bevorzugt ist eine piezoelektrische Pumpe in einem austragenden Kanal
der Reinigungskammer angeordnet, mit welcher genau definierte Tropfen der in der
Elutionslösung gelösten amplifizierten DNA-Moleküle in konzentrierter Form auf
eine verhältnismäßig kleine Fläche auftragbar sind. Dies ist besonders bei einer
Analyse der amplifizierten DNA - ggf. mit den an den DNA-Molekülen noch gebun
denen magnetischen Partikeln - mittels des MALDI-Verfahrens vorteilhaft, da
hierfür eine kleine, möglichst gleichmäßig mit zu analysierenden Probenmolekülen
bedeckte Schicht vorteilhaft ist. Demnach kann mit Hilfe der piezoelektrischen
Pumpe das zur Massenspektrometrie benötigte Probenvolumen und damit ggf. die
Menge an benötigter Ausgangs-DNA bzw. die Anzahl der durchzuführenden
PCR-Zyklen reduziert werden.
Laufen zwei Kanäle zusammen, welche nacheinander verschiedene Lösungen in
einen gemeinsamen Kanal leiten, ist es wünschenswert, daß möglichst geringe
Totvolumina in den Kanalarmen entstehen, welche zu Kontaminationen aufgrund
von beispielsweise Ablagerungen führen könnten. Insbesondere soll eine in dieser
Hinsicht kritische Flüssigkeit, welche über einen ersten Kanal zugeführt wird,
effektiv von einer anschließend über einen zweiten Kanal zugeführten Spüllösung
möglichst vollständig mitgenommen werden, ohne daß Teile der kritischen Flüssig
keit im Kanalsystem zurückbleiben. Zu diesem Zweck wird eine mikrosystem
technische Vorrichtung mit einem ersten Wafer und einem mit dem ersten Wafer
sandwichartig verbundenen zweiten Wafer, sowie mit innenseitigen Aussparungen
in dem ersten und/oder zweiten Wafer zur Bildung von Kanälen zwischen den
beiden Wafern vorgeschlagen. Erfindungsgemäß ist mindestens ein Ventil im
Bereich des Zusammenlaufs eines ersten Kanals und eines zweiten Kanals zu einem
dritten Kanal vorgesehen. Das Ventil enthält eine als flexible Schicht des ersten
oder zweiten Wafers ausgebildete Membran, die einen flexiblen Umfangsabschnitt
der Wandung des ersten Kanals bildet, wobei sich der flexible Umfangsabschnitt
in Schließstellung des Ventils gegen einen gegenüberliegenden festen Umfangs
abschnitt der Wandung des ersten Kanals anlegt und sich in Offenstellung des
Ventils von dem festen Umfangsabschnitt abhebt.
Wird Flüssigkeit durch den ersten Kanal zum offenen Ventil geleitet, strömt diese
zwischen der einen flexiblen Umfangsabschnitt des ersten Kanals bildenden Mem
bran und dem festen Umfangsabschnitt in den dritten Kanal und damit auch in den
zweiten Kanal, der in unmittelbarer Nähe zum Ventil in den dritten Kanal mündet.
Bei Schließen des Ventils legt sich die flexible Membran dichtend an den festen
Umfangsabschnitt des ersten Kanals an und unterbindet den Flüssigkeitsstrom.
Wird nach Schließen des Ventils Spüllösung über den zweiten Kanal zugeführt,
nimmt die Spüllösung Flüssigkeit in den dritten Kanal mit, welche zuvor bei offe
nem Ventil in den zweiten Kanal geströmt ist bzw. sich noch im Bereich des nun
geschlossenen Ventils aufhält. Mittels dieser Anordnung entstehen während des
Spülvorgangs keine toten Arme für die Flüssigkeit und es wird auf einfache Weise
ein Ablagern von kritischen Flüssigkeitsbestandteilen vermieden.
Besonders bevorzugt weist der feste Umfangsabschnitt eine Erhebung des ersten
oder zweiten Wafers zwischen den Aussparungen für den ersten Kanal einerseits
und für den zweiten und dritten Kanal andererseits auf, an welcher die Membran
in Schließstellung des Ventils dichtend zur Anlage kommt. Eine solche Erhebung
kann in einfacher Weise durch Aufbringen entsprechender Masken während der
Ätzprozeßschritte erhalten werden.
Vorteilhafterweise ist ein Druckraum auf der kanalabgewandten Seite der Membran
vorgesehen. Wird der Druckraum mit positivem Druck beaufschlagt, legt sich die
Membran an den festen Umfangsabschnitt. Wenn hingegen ein Unterdruck im
Druckraum erzeugt wird, hebt sich die Membran vom festen Umfangsabschnitt ab
und gibt den Fluß vom ersten Kanal in den dritten und auch in den zweiten Kanal
frei.
Bevorzugt deckt eine Deckfolie den Druckraum auf der der Membran gegenüber
liegenden Seite ab. Die Deckfolie weist vorteilhafterweise eine Öffnung zum An
schluß einer Saug- und/oder Druckpumpe auf. Alternativ ist der Druckraum mit
einer durchgehenden elastischen Folie abgedeckt und kann mittels eines externen -
beispielsweise mechanischem - Druckstoßes auf die elastische Folie mit Druck
beaufschlagt werden.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind durch die Merkmale der Unter
ansprüche gekennzeichnet.
Im folgenden wird eine Ausführungsform der Erfindung anhand der Zeichnungen
näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Darstellung einer mikrosystemtechnischen Vorrich
tung mit einer Reaktionskammer und einer Reinigungskammer sowie
verschiedenen Kanälen;
Fig. 2 eine Aufsicht auf eine Ausführungsform der Vorrichtung gemäß dem
Schema der Fig. 1 mit erweitertem Kanalsystem;
Fig. 3 einen Querschnitt entlang der Linie A-A durch die Waferanordnung der
Fig. 2;
Fig. 4 eine vergrößerte Darstellung des Ventils der Fig. 3 in Schließstellung;
Fig. 5 eine vergrößerte Darstellung des Ventils der Fig. 3 in Offenstellung;
Fig. 6 ein Ventil im Bereich zweier zulaufender Kanäle und eines ablaufenden
Kanals in Schließstellung; und
Fig. 7 das Ventil gemäß der Fig. 6 in Offenstellung.
In Fig. 1 ist schematisch eine mikrosystemtechnische Vorrichtung 1 mit einer Reak
tionskammer 6 zur Durchführung einer PCR und einer Reinigungskammer 8 zur
Aufreinigung der während der PCR amplifizierten DNA-Molekülen dargestellt. Wie
aus Fig. 3 hervorgeht, sind die beiden Kammern 6, 8 zwischen einem ersten Wafer
2 und einem zweiten Wafer 4 angordnet, die mittels bekannter Klebe- oder
Schweißverfahren, wie z. B. dem sog. Waferbonding, flächig miteinander verbun
den sind. Die beiden Wafer 2, 4 sind aus einem Halbleitermaterial wie beispiels
weise Silizium gefertigt. Alternativ können z. B. auch Glas oder Polymererkunst
stoffe oder sonstige geeignete Kunststoffe verwendet werden.
Wie weiterhin der Fig. 1 zu entnehmen ist, führt ein eintragender Kanal 40 zur
Reaktionskammer 6. Stromaufwärts münden zwei weitere Kanäle 46, 49 in den
Kanal 40, die jeweils Einlaßöffnungen 56, 59 zur Zuführung von Ausgangs-DNA,
anderer zur PCR notwendiger Reagenzien sowie Spüllösungen aufweisen. Am
Knoten der Kanäle 46, 49 und 40 ist ein Ventil 50 zur Durchlaßregulierung an
geordnet.
Von der Reaktionskammer 6 geht ein austragender Kanal 42 ab, der über ein Ventil
60 mit einem in die Reingigungskammer 8 mündenden, eintragenden Kanal 70
verbunden ist. In der Reinigungskammer 8 werden die in der Reaktionskammer 6
amplifizierten, noch in der Reaktionslösung suspendierten DNA-Moleküle von den
übrigen Molekülen der Reaktionslösung getrennt. Hierzu mündet ein weiterer ein
tragender Kanal 71 in die Reinigungskammer 8, in welchen stromaufwärts zwei
weitere, über ein Ventil 80 kontrollierte Kanäle 76, 77 münden, denen über Einlaß
öffnungen Reinigungs-, Elutions- sowie ggf. Spüllösungen zuführbar sind. Ein
austragender, ventilkontrollierter Kanal 72 führt von der Reinigungskammer 8 zu
einer Auslaßöffnung 99 der Vorrichtung 1.
Die Hohlräume der länglichen, paarweise parallele Innenwände aufweisenden Reak
tionskammer 6 sowie der im wesentlichen in der Aufsicht rechteckförmigen Rei
nigungskammer 8 sind durch Aussparungen auf der Innenseite des oberen, ersten
Wafers 2 und des unteren, zweiten Wafers 4 (jeweils bezogen auf Fig. 3) gebildet.
Die Hohlräume der eintragenden bzw. austragenden Kanäle 40, 42, 70, 72 - sowie
der übrigen Kanäle - sind in der dargestellten Ausführungsform durch innenseitige
Aussparungen in dem zweiten Wafer 4 gebildet (s. Fig. 3).
Wie insbesondere aus der Fig. 3 hervorgeht, ist auf der Außenseite der beiden
Wafer 2, 4 im Bereich der Reaktionskammer 6 jeweils eine Aussparung 10, 12 vor
gesehen, welche zueinander spiegelsymmetrisch zu einer im wesentlichen durch
die Grenzfläche beider Wafer 2, 4 verlaufenden Ebene ausgebildet sind. Die beiden
äußeren Aussparungen 10, 12 verjüngen sich sowohl längsseitig als auch stirnsei
tig zur Reaktionskammer 6 hin und erstrecken sich im Bereich der Reaktionskam
mer 6 über deren gesamte zur Außenseite projizierte Fläche. Die Waferdicke in
diesem Bereich ist im Vergleich zu den benachbarten Waferabschnitten sehr gering,
um den Wärmeabfluß zu diesen Abschnitten klein zu halten. Das Profil der Reak
tionskammer 6 kann je nach verwendeter Ätztechnik alternativ auch andere
Formen aufweisen.
Im oberen Bereich der Reaktionskammer 6 (bezogen Fig. 3) ist ein Heizleiter 23 aus
beispielsweise Aluminium in einer elektrisch isolierenden Schicht 20 aus beispiels
weise Siliziumdioxid eingebettet. Der Heizleiter 23 verläuft mäanderförmig von
einer Stirnseite der Reaktionskammer 6 zur anderen und ist an seinen beiden freien
Enden jeweils über z. B. auf den Wafer aufgedampfte Verbindungsleitungen 25 zu
Anschlußkontakten 24 geführt (Fig. 2).
Eine Düse 36 im Bereich der Aussparung 10 des ersten Wafers 2 ist auf die
Waferoberfläche im Bereich der Reaktionskammer 6 gerichtet und dient zur Kon
vektionskühlung einer in der Reaktionskammer 6 befindlichen Probenlösung. In der
Aussparung 10 sind hintereinander konstant beabstandete Kühlrippen 37 über die
gesamte Länge der Reaktionskammer 6 zur Unterstützung des Konvektionspro
zesses angeordnet.
Am linken Bildrand der Fig. 3 ist die Einlaßöffnung 56 des in den Kanal 40 münden
den Kanals 46 dargestellt. Die Einlaßöffnung 56 - wie ggf. auch die übrigen Ein
laßöffnungen - ist beispielsweise als pyramidenförmige Durchbrechung im ersten
Wafer 2 ausgebildet, deren zulaufendes Ende rechtwinklig auf den Kanal 46 trifft.
Die Außenseite der Durchbrechung ist mit einer Deckfolie 94 aus beispielsweise
Kunststoff abgedeckt, welche eine Öffnung 96 zum Anschließen eines Versor
gungsschlauches (nicht dargestellt) aufweist.
Das in Fig. 3 und in Vergrößerung in den Fig. 4 und 5 dargestellte Ventil 60 regelt
den Fluß von der Reaktionskammer 6 über die Kanäle 42, 70 zur Reinigungskam
mer 8. Das Ventil 60 weist einen Druckraum 93 mit sich zur Grenzfläche der
beiden Wafer 2, 4 verjüngendem Querschnitt auf. Der Druckraum 93 wird außen
seitig von einer auf der Außenseite des ersten Wafers 2 aufliegenden Deckfolie 94
begrenzt, welche beispielsweise auch die Einlaßöffnung 56 (Fig. 3) und die übrigen
Einlaßöffnungen bedeckt. Die Deckfolie 94 weist eine Öffnung 96 auf, an welcher
beispielsweise eine Saug- und/oder Druckpumpe (nicht dargestellt) anschließbar ist,
um den Druck im Druckraum 93 zu erhöhen bzw. zu erniedrigen. Der Deckfolie
94 gegenüber ist ein Waferabschnitt angeordnet, welcher als dünne Membran 95
ausgebildet ist und einen flexiblen Umfangsabschnitt der Kanäle 40, 72 darstellt.
Bei Druckbeaufschlagung des Druckraums 93 oder bei Umgebungsluftdruck legt
sich die Membran an eine Erhebung 97 an, welche die Aussparungen für die beiden
Kanäle 42, 70 trennt. Bei Druckerniedrigung oder Unterdruck im Druckraum 93
hebt sich die Membran 95 (Fig. 5) und gibt die Verbindung zwischen den Kanälen
42, 70 frei.
Der erste Wafer 2 hat im Bereich der Reinigungskammer 8 eine äußere Aussparung
14, deren Form im wesentlichen der Aussparung 10 im Bereich der Reaktions
kammer 6 gleicht. Die Reinigungskammer 8 weist ebenfalls - analog zu den ent
sprechenden Elementen des Reaktionskammer 6 - einen in einer elektrischen
Isolierschicht 26 eingebetteten Heizleiter 27 und entsprechende Verbindungs
leitungen 29 zu Anschlußkontakten 28 auf dem ersten Wafer 2 auf.
Auf der Außenseite des zweiten Wafers 4 ist im Bereich der Reinigungskammer 8
eine Elektromagnetspule 98 angeordnet, welche beispielsweise in einem ober
flächenmontiertem Bauteil (surface mounted device) integriert ist und an nicht
dargestellten Zuleitungen angeschlossen ist. Bei Stromfluß durch die Magnetspule
98 wird ein inhomogenes magnetisches Feld in der Reinigungskammer 8 erzeugt.
Die in Fig. 2 dargestellte Ausführungsform weist - in Erweiterung der schemati
schen Darstellung der Fig. 1 - ein erweitertes, zwischen den beiden Wafern 2, 4
angeordnetes Kanalsystem stromaufwärts der Reaktionskammer 6 auf. Zusätzlich
zu der Einlaßöffnung 56 für die Ausgangs-DNA und der Einlaßöffnung 59 für eine
Spüllösung, wie beispielsweise Wasser oder einem Glycin/HCl-Puffer, ist eine
separate Einlaßöffnung 58 für die zur PCR notwenigen Reagenzien vorgesehen.
Vorzugsweise sind computergesteuerte Ventile 50-52 zur Durchlaßregulierung der
einzelnen Lösungen in den zum Kanal 40 hinführenden Kanälen 46-49 angeord
net. Eine ansteuerbare Mischvorrichtung 45 in dem eintragenden Kanal 40 zwi
schen der Reaktionskammer 6 und dem stromaufwärts nächstliegenden Ventil 50
dient zur optionalen Durchmischung von Lösungen, welche gleichzeitig oder
nacheinander mittels der Kanäle 46-49 zugeführt werden. Zwischen der Misch
vorrichtung 45 und der Reaktionskammer 6 kann zusätzlich ein nicht dargestelltes
Ventil vorgesehen sein, das gegebenenfalls nur durchmischte Lösungen zur Reak
tionskammer 6 passieren läßt.
In ähnlicher Weise ist der Reinigungskammer 8 ein erweitertes Kanalsystem mit
mehreren - in der Ausführungsform gemäß der Fig. 2 drei - separaten Einlaßöff
nungen 84-86 vorgeschaltet. Durch die Einlaßöffnung 84 ist beispielsweise eine
Suspension magnetischer Partikel über die Kanäle 74, 77, 71 der Reinigungs
kammer 8 zuführbar. An den magnetischen Partikeln sind vorzugsweise Streptavi
din-Gruppen angelagert, welche in der Reinigungskammer an Biotion- oder Avidin-
Gruppen binden, die an den Primersequenzen der amplifizierten DNA-Moleküle
angelagert sind. Wird die die Reaktionskammer 6 verlassende Lösung, welche die
amplifizierten DNA-Moleküle sowie die restlichen, die PCR unterstützenden Reagen
zien sowie Puffer- und Aktivatormoleküle enthält, bei gleichzeitig angeschaltetem
Magnetfeld der Magnetspule 98 durch die Reinigungskammer 8 geleitet, werden
die magnetischen Partikel mit den an diesen gebundenen DNA-Molekülen in der
Reinigungskammer 8 zurückgehalten, während die anderen, nichtmagnetischen
Moleküle ausgespült werden. Nachfolgend kann durch die Einlaßöffnung 86 des
Kanals 76 und über den Kanal 71 eine Elutionslösung in die Reinigungskammer 8
geleitet werden, welche - bei nun vorzugsweise abgeschaltetem Magnetfeld - eine
vorgegebene Zeit in der Reinigungskammer 8 verbleibt und die magnetischen
Partikel und die daran haftenden DNA-Moleküle voneinander löst. Vorzugsweise
wird das Magnetfeld lediglich zur Separation der DNA-Moleküle von den magneti
schen Partikeln abgeschaltet. Vor Ausleiten der DNA-Abschnitte wird das Magnet
feld wieder aktiviert, damit die magnetischen Partikel möglichst nicht mit den
DNA-Abschnitten herausgepült werden. Eine dritte Einlaßöffnung 85 zur Zuführung einer
Spüllösung, wie beispielsweise Wasser oder einem Glycin/HCl-Puffer, ist über die
Kanäle 75, 77, 71 ebenfalls mit der Reinigungskammer 8 verbunden. Der Zufluß
durch die verschieden Kanäle zur Reinigungskammer 8 wird von steuerbaren Venti
len 80-82 geregelt.
Das in den Fig. 6 und 7 dargestellte Ventil 80 - ebenso wie die Ventile 50, 51, 82 -
unterscheidet sich von dem in den Fig. 4 und 5 gezeigten Ventil 60 im wesentli
chen darin, daß zwei zulaufende Kanäle 76, 77 in unmittelbarer Nähe des Ventils
80 in einen ablaufenden Kanal 71 münden. Der Kanal 77, der in den Fig. 6 und 7
senkrecht zur Zeichenebene verläuft, ist permanent mit dem Kanal 71 verbunden
und nicht mittels des Ventils 80 regelbar. Hingegen ist im Kanal 76 unmittelbar
stromaufwärts der Mündung in den Kanal 71 eine Erhebung 97 angeordnet, welche
in dem zweiten Wafer 4 ausgebildet ist und einen festen Umfangsabschnitt des
Kanals 76 bildet. In Schließstellung des Ventils 80 liegt - analog dem Ventil 60 der
Fig. 4 und 5 - eine flexible Membran 95 auf der Erhebung 97, welche als dünne
Schicht des zweiten Wafers 2 ausgebildet ist und einen flexiblen Umfangsabschnitt
des Kanals 76 und ebenfalls der Kanäle 77, 71 bildet. In Offenstellung hebt sich
die Membran 95 von der Erhebung 97 ab und läßt durch den Kanal 76 zugeführte
Elutionslösung in den Kanal 71 und auch in den Kanal 77 strömen. Zur Ventilbetäti
gung dient, ähnlich dem Ventil 60, ein mit Druck beaufschlagbarer Druckraum 93
oberhalb der Membran 95 (bezogen auf die Fig. 6 und 7). Elutionslösung, die bei
geschlossenen Ventilen 81, 82 in den Kanal 77 strömt, ist unschädlich, da - nach
Schließen des Ventils 80 - über den Einlaß 85 zugegebene Spüllösung diese
geringen Mengen mitführt und über den Kanal 71 zur Reinigungskammer 8 und von
dort aus weiterleitet. Auf diese Weise wird die Elutionslösung mittels der Spüllö
sung vollständig aus der Vorrichtung 1 ausgetragen. Rückstände der Elutionslösung
können sich nicht ablagern. Auf gleiche Weise wird z. B. mittels des Ventils 50
gewährleistet, daß über den Kanal 46 zugeführte Ausgangs-DNA vollständig in die
Reaktionskammer 6 gelangt.
Gegebenenfalls weisen die Ventile 50, 51, 80, 82 eine zusätzliche Membran sowie
einen zusätzlichen, separat beaufschlagbaren Druckraum zur Regelung auch des
anderen zulaufenden Kanals auf (nicht dargestellt).
In der in Fig. 2 dargestellten Ausführungsform sind zwei die Reinigungskammer 8
verlassende Kanäle 72, 73 vorgesehen, die jeweils über ein Ventil 88, 89 kon
trollierbar sind. Der eine austragende Kanal 73 mündet in einen Abfallauslaß 87,
durch welche eine durch die Reinigungskammer 8 und ggf. durch die Reaktions
kammer 6 geleitete Spüllösung abgeführt wird. Dem anderen, zur Austragung der
amplifizierten DNA-Moleküle dienenden Kanal 72 ist eine piezoelektrische Pumpe
90 zwischengeschaltet, welche die in der Elutionslösung gelösten DNA-Moleküle
durch den Auslaß 99 konzentriert beispielsweise auf eine dünne Schicht 100
aufträgt, welche bei einer anschließenden massenspektrometrischen DNA-Bestim
mung durch Ionisierung mit matrixunterstützter Laserdesorption in einem Flugzeit
massenspektrometer in bekannter Weise verwendbar ist.
Claims (25)
1. Mikrosystemtechnische Vorrichtung (1) zur DNA-Amplifizierung mit Hilfe der
Polymerase-Kettenreaktion (PCR), mit
einem ersten Wafer (2) und einem mit dem ersten Wafer (2) sandwichartig ver bundenen zweiten Wafer (4),
einer Reaktionskammer (6) zwischen den Wafern (2, 4),
mindestens einem in die Reaktionskammer (6) mündenden, eintragenden Kanal (40)
und einem von der Reaktionskammer (6) abgehenden, austragenden Kanal (42), und
einer Heizvorrichtung (23, 24, 25) zum Aufheizen und einer Kühlvorrichtung (36, 37) zum Abkühlen der Reaktionskammer (6),
dadurch gekennzeichnet, daß der erste und/oder der zweite Wafer (2, 4) im Bereich der Reaktionskammer (6) eine Aussparung (10, 12) auf seiner Außenseite auf weist.
einem ersten Wafer (2) und einem mit dem ersten Wafer (2) sandwichartig ver bundenen zweiten Wafer (4),
einer Reaktionskammer (6) zwischen den Wafern (2, 4),
mindestens einem in die Reaktionskammer (6) mündenden, eintragenden Kanal (40)
und einem von der Reaktionskammer (6) abgehenden, austragenden Kanal (42), und
einer Heizvorrichtung (23, 24, 25) zum Aufheizen und einer Kühlvorrichtung (36, 37) zum Abkühlen der Reaktionskammer (6),
dadurch gekennzeichnet, daß der erste und/oder der zweite Wafer (2, 4) im Bereich der Reaktionskammer (6) eine Aussparung (10, 12) auf seiner Außenseite auf weist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß innenseitige Aussparungen in dem ersten und/oder
zweiten Wafer (2, 4) den Hohlraum der Reaktionskammer (6) bilden.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
gekennzeichnet durch innenseitige Aussparungen in dem ersten und/oder zweiten
Wafer (2, 4) zur Bildung von zur Reaktionskammer (6) hinführenden und ggf. von
der Reaktionskammer (6) fortführenden Kanälen (40, 42, 46-48).
4. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß sich die außenseitigen Aussparung(en) (10, 12) im
wesentlichen über die gesamte zur Außenseite projizierten Fläche der Reaktions
kammer (6) erstreckt.
5. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die Heizvorrichtung (23, 24, 25) mindestens einen
Heizleiter (23) umfaßt, welcher in der Reaktionskammer (6) angeordnet ist.
6. Vorrichtung nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß der Heizleiter (23) in einer elektrisch isolierenden
Schicht (20) in der Reaktionskammer (6) eingebettet ist.
7. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die Kühlvorrichtung (36, 37) eine oder mehrere
Düsen (36) im Bereich der außenseitigen Aussparung(en) (10, 12) zur Konvektions
kühlung der Waferoberfläche umfaßt.
8. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die Kühlvorrichtung (36, 37) Kühlrippen (37) in
der/den außenseitigen Aussparung(en) (10, 12) umfaßt.
9. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
gekennzeichnet durch stromaufwärts der Reaktionskammer (6) angeordnete Kanäle
(46-49) zur Zuführung von DNA-Lösungen, Reaktionslösungen und/oder Spüllö
sungen.
10. Vorrichtung nach Anspruch 9,
dadurch gekennzeichnet, daß eine Mischvorrichtung (45) in einem eintragenden Ka
nal (40) angeordnet ist, in welchen stromaufwärts der Mischvorrichtung (45)
mindestens zwei Kanäle (46-49) münden.
11. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß pneumatisch betriebene Ventile (50, 51, 52) und/oder
Pumpen zur Durchlaßregulierung der Kanäle (40, 42, 46-49) in die Anord
nung der Wafer (2, 4) integriert sind.
12. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die inneren Oberflächen der Reaktionskammer (6)
sowie ggf. der Kanäle (40, 42, 46-49) zur Vermeidung von Wechselwirkungen
mit in den Lösungen suspendierten Molekülen inertisiert sind.
13. Mikrosystemtechnische Vorrichtung, insbesondere nach einem der Ansprü
che 1 bis 12, welche zwei sandwichartig verbundene erste und zweite Wafer (2,
4) und eine Reaktionskammer (6) zur DNA-Amplifizierung mittels einer PCR-Reak
tion zwischen den Wafern (2, 4) umfaßt,
gekennzeichnet durch eine Reinigungskammer (8) zwischen den beiden Wafern (2,
4) zur Aufreinigung der amplifizierten DNA-Moleküle,
mindestens einen in die Reinigungskammer (8) mündenden, eintragenden Kanal
(70), der mit einem austragenden Kanal (42) der Reaktionskammer (6) verbunden
ist, und
mindestens einen von der Reinigungskammer (8) abgehenden, austragenden Kanal
(72, 73).
14. Vorrichtung nach Anspruch 13,
dadurch gekennzeichnet, daß innenseitige Aussparungen in dem ersten und/oder
zweiten Wafer (2, 4) den Hohlraum der Reinigungskammer (8) bilden.
15. Vorrichtung nach Anspruch 13 oder 14,
gekennzeichnet durch innenseitige Aussparungen in dem ersten und/oder zweiten
Wafer (2, 4) zur Bildung von zur Reinigungskammer (8) hinführenden bzw. von der
Reinigungskammer (8) fortführenden Kanälen (70-77).
16. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 13 bis 15,
gekennzeichnet durch einen stromaufwärts der Reinigungskammer (8) angeord
neten Kanal (74) zur Zuführung einer Suspension magnetischer Partikel, welche
angelagerte Streptavidin-Gruppen zur Bindung an Biotin- oder Avidin-Gruppen
aufweisen, welche an Primersequenzen eines amplifizierten DNA-Moleküls angela
gert sind.
17. Vorrichtung nach Anspruch 16,
gekennzeichnet durch mindestens einen Magneten (98) im Bereich der Reinigungs
kammer (8) zur Immobilisierung der an den magnetischen Partikeln haftenden
DNA-Moleküle.
18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 13 bis 17,
dadurch gekennzeichnet, daß die Oberflächen der Reinigungskammer (8) weit
gehend dauerhaft mit Streptavidin-Gruppen belegt sind, an welche jeweils an
Primersequenzen eines amplifizierten DNA-Moleküls angelagerte Biotin- oder
Avidin-Gruppen binden.
19. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 13 bis 18,
gekennzeichnet durch stromaufwärts der Reinigungskammer (8) angeordnete Ka
näle (71, 75-77) zur Zuführung von Elutionslösungen zur Trennung der
DNA-Moleküle von den die Streptavidin-Gruppen aufweisenden Partikeln bzw. Kammer
oberflächen und/oder zur Zuführung von Spüllösungen zur Spülung der Reini
gungskammer (8).
20. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 13 bis 19,
gekennzeichnet durch eine Heizvorrichtung (27, 28, 29), insbesondere wie in den
Ansprüchen 5 und 6 beschrieben, und/oder eine Kühlvorrichtung, insbesondere wie
in den Ansprüchen 7 und 8 beschrieben, im Bereich der Reinigungskammer (8)
sowie pneumatisch betriebene Ventile, insbesondere wie in Anspruch 12 beschrie
ben, und/oder Pumpen zur Durchlaßregulierung der Kanäle (70-77).
21. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 13 bis 20,
dadurch gekennzeichnet, daß der erste und/oder der zweite Wafer (2, 4) im Bereich
der Reinigungskammer (8) eine Aussparung (14) auf seiner Außenseite aufweist.
22. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 13 bis 21,
gekennzeichnet durch eine piezoelektrische Pumpe (90) in einem austragenden
Kanal (72) der Reinigungskammer (8).
23. Mikrosystemtechnische Vorrichtung (1), insbesondere nach einem der An
sprüche 1 bis 22, mit
einem ersten Wafer (2) und einem mit dem ersten Wafer (2) sandwichartig ver bundenen zweiten Wafer (4), und
mit innenseitigen Aussparungen in dem ersten und/oder zweiten Wafer (2, 4) zur Bildung von Kanälen (40, 42, 46-49, 70-77) zwischen den beiden Wafern (2, 4), gekennzeichnet durch mindestens ein Ventil (50; 51; 80; 82) im Bereich des Zusammenlaufs eines ersten Kanals (46; 48; 76; 74) und eines zweiten Kanals (47; 49; 77; 75) zu einem dritten Kanal (40; 47; 71; 77), und durch eine als flexible Schicht des ersten oder zweiten Wafers (2, 4) ausgebildete Membran (95), die einen flexiblen Umfangsabschnitt der Wandung des ersten Kanals (46; 48; 76; 74) bildet, wobei sich der flexible Umfangsabschnitt in Schließstellung des Ventils (50; 51; 80; 82) gegen einen gegenüberliegenden festen Umfangsabschnitt der Wandung des ersten Kanals (46; 48; 76; 74) anlegt und sich in Offenstellung des Ventils (50; 51; 80; 82) von dem festen Umfangsab schnitt (97) abhebt.
einem ersten Wafer (2) und einem mit dem ersten Wafer (2) sandwichartig ver bundenen zweiten Wafer (4), und
mit innenseitigen Aussparungen in dem ersten und/oder zweiten Wafer (2, 4) zur Bildung von Kanälen (40, 42, 46-49, 70-77) zwischen den beiden Wafern (2, 4), gekennzeichnet durch mindestens ein Ventil (50; 51; 80; 82) im Bereich des Zusammenlaufs eines ersten Kanals (46; 48; 76; 74) und eines zweiten Kanals (47; 49; 77; 75) zu einem dritten Kanal (40; 47; 71; 77), und durch eine als flexible Schicht des ersten oder zweiten Wafers (2, 4) ausgebildete Membran (95), die einen flexiblen Umfangsabschnitt der Wandung des ersten Kanals (46; 48; 76; 74) bildet, wobei sich der flexible Umfangsabschnitt in Schließstellung des Ventils (50; 51; 80; 82) gegen einen gegenüberliegenden festen Umfangsabschnitt der Wandung des ersten Kanals (46; 48; 76; 74) anlegt und sich in Offenstellung des Ventils (50; 51; 80; 82) von dem festen Umfangsab schnitt (97) abhebt.
24. Vorrichtung nach Anspruch 23,
dadurch gekennzeichnet, daß der feste Umfangsabschnitt eine Erhebung (97) des
ersten oder zweiten Wafers (2, 4) zwischen den Aussparungen für den ersten
Kanal (46; 48; 76; 74) einerseits und für den zweiten (47; 49; 77; 75) und dritten
Kanal (40; 47; 71; 77) andererseits aufweist, an welcher die Membran (95) in
Schließstellung des Ventils (50; 51; 80; 82) dichtend zur Anlage kommt.
25. Vorrichtung nach Anspruch 23 oder 24,
gekennzeichnet durch einen Druckraum (93) auf der kanalabgewandten Seite der
Membran (95), wobei sich die Membran (95) bei Beaufschlagung des Druckraums
(93) mit einem Überdruck an dem festen Umfangsabschnitt anlegt und bei Anlegen
eines Unterdrucks in dem Druckraum (93) von dem festen Umfangsabschnitt
abhebt.
26. Vorrichtung nach Anspruch 25,
gekennzeichnet durch eine den Druckraum (93) abdeckende Deckfolie (94), welche
eine Öffnung (96) zum Anschluß einer Saug- und/oder Druckpumpe aufweist.
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