DE19541115C2 - Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Vaginaldiaphragmas - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines VaginaldiaphragmasInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines
Vaginaldiaphragmas, das eine etwa kugelhaubenförmig
gewölbte Membran aus elastischem Material mit einem an
deren Rand vorgesehenem, von dem elastischen Material
ummanteltem ringförmigem Federelement umfaßt, sowie eine
Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens.
Bei derartigen Diaphragmen handelt es sich bekanntlich um
Empfängnisverhütungsmittel, die bei medizinischen, psycho
logischen und sozialen Vorbehalten gegenüber hormonaler
Kontrazeption und Intrauterinpessaren und einem nur
kleinen Eingriff in den weiblichen Organismus ein Maximum
an kontrazeptiver Kompetenz und Sicherheit bieten. Durch
die elastische Membran und den federvorgespannten Rand
wird der Uterus zuverlässig gegenüber der Vagina abgedich
tet. Zusätzlich werden spermizide Cremes und dgl. angewen
det, um die Samenfäden befruchtungsunfähig zu machen.
Obwohl das Diaphragmaverfahren zur Schwangerschafts
verhütung schon seit vielen Jahren bekannt ist, konnte es
sich bisher in der Praxis in dem seiner Bedeutung zukom
menden Rahmen nicht durchsetzen.
Die bisher bekannten Diaphragmen werden ausschließlich aus
Latex gefertigt. Das Latexdiaphragma weist einen geformten
Rand und eine Kappe auf. Die Herstellung erfolgt durch
Gießen oder Tauchen, und da sich Latex immer wieder
miteinander verbindet, muß ein Latexdiaphragma nicht in
einem Arbeitsgang hergestellt werden, so daß der vorge
spannte Rand mit den Federring in einem zweiten Verfah
rensschritt an die Kappe angeformt werden kann.
Latex weist jedoch bestimmte Eigenschaften auf, die seine
Anwendung zur Herstellung von Vaginaldiaphragmen weniger
geeignet erscheinen lassen. Es hat sich gezeigt, daß Latex
wegen seiner Polyisoprenstruktur durch Autooxidation
teilweise zerfällt, mit der Folge der Ausbildung von Poren
in der üblicherweise ein Diaphragma bildenden Folie. Der
Haltbarkeit der bekannten Diaphragmen sind bereits dadurch
Grenzen gesetzt. Zudem ist Latex nicht mit fett- oder
ölhaltigen Gleitmitteln, die das Gummimaterial auf Dauer
zersetzen, verträglich. Ferner wurde festgestellt, daß
einige der Stabilisatoren, Emulgatoren sowie der Neben
produkte beim Zerfall im Zusammenhang mit der Verwendung
von Latex potentielle zytotoxikologische Reagentien sind.
Ein weiterer Nachteil der bekannten, aus Latex herge
stellten Vaginaldiaphragmen besteht darin, daß einige
Personen auf dieses Diaphragmamaterial allergisch
reagieren. Schließlich kann es bei der Anwendung von
Latexdiaphragmen zu akuten oder chronisch rezidivierenden
Harnwegsinfekten oder Infektionen der Genitalorgane und
des kleinen Beckens kommen. Da Latex aufgrund seiner
geringen Temperaturbeständigkeit nicht gegen Pilze und
Viren sterilisierbar ist, wird die Nutzungsdauer der dar
aus hergestellten Diaphragmen weiter eingeschränkt bzw.
die Behandlung von Pilzerkrankungen und Infektionen er
schwert und deren Entstehung gefördert.
Bei der Herstellung von medizinischen Artikeln wird
bekanntermaßen auch Silikongummi, d. h. ein synthetischer
Kautschuk auf der Basis von Silikon-Sauerstoff-Ketten,
angewendet, der sich aufgrund seiner physiologischen
Unbedenklichkeit vielfach bewährt hat. Dennoch sind
Vaginaldiaphragmen aus Silikonkautschuk bisher nicht
bekannt. Anders als bei der Herstellung von Diaphragmen
aus Latex, die durch Aneinanderformen von Einzelteilen
gefertigt werden können, müssen Silikonteile für den
vorliegenden Anwendungsfall - mit der kugelhaubenförmigen
dünnschichtigen Membran und dem federvorgespannten Rand -
in einem Stück und zudem ohne Gratbildung hergestellt
werden. Das ist bisher jedoch nicht erfolgt, obwohl sich
Silikonkautschuk als Werkstoff anbietet, da dieses Mate
rial gegenüber dem bisher verwendeten Latex über eine
unbegrenzte Haltbarkeit verfügt, gegenüber fetthaltigen
Gleitmitteln und Zäpfchen sowie Spermiziden beständig ist,
nicht allergisch wirkt und sterilisierbar ist und auch im
Hinblick auf mechanische Einwirkungen widerstandsfähig
ist.
Aus der nachfolgend aufgeführten Fach- und Patentliteratur
[1] Kalte Nadelverschlüsse für heißes Silikon,
Plastverarbeiter 46 (1995) 9
[2] Spritzgießen von Flüssigsilikonkautschuk, Plaste und
Kautschuk 38 (1991) 7
[3] Spritzgießen von Flüssigsilikonkautschuk, Kunststoffe
77 (1987) 10
[4] Spritzgießen von Silikonkautschuk, 81 (1991) 7
[5] DE-GM 17 92 758
[6] DE 25 17 604 A1
[7] DE 43 30 323 41
[8] DE 195 06 159 A1
[9] Silikone, Chemie und Technologie, Vulkan-Verlag
Essen 1989, S. 65-79
ist das Spritzgießen auch kleinster dünnwandiger Teile aus
Flüssigsilikonkautschuk - auch im Bereich der
Lebensmittel- und Medizintechnik - bei unterschiedlichen
Drücken und Temperaturen, und zwar im wesentlichen in der
Größenordnung von 100 bis 300 bar und maximal bis 1200 bar
bzw. von 170 bis 240°C, bekannt. Gerade bei hohen
Verarbeitungsdrücken besteht aber eher die Gefahr der
Gratbildung, die bei Erzeugnissen der Medizintechnik,
insbesondere bei solchen, die in unmittelbarem Kontakt mit
dem menschlichen Körper stehen, vermieden werden muß.
Insbesondere aus den Druckschriften 5 bis 8 ist auch die
Positionierung von in ein Fertigerzeugnis einzubringenden
Einlegeteilen mit Haltestiften bekannt. Schwierigkeiten
bei der Fertigung kann jedoch die aus der hohen
Spritztemperatur und der Werkzeugbeheizung resultierende
hohe Werkzeugtemperatur und die damit verbundene
Verletzungsgefahr für eine Bedienungsperson bereiten.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein
Verfahren und eine Vorrichtung zur Herstellung eines
sterilisierbaren, nicht allergisch wirkenden Vaginaldia
phragmas der eingangs erwähnten Art zu entwickeln, das
auch bei chemischen und mechanischen Einflüssen über eine
lange Lebensdauer verfügt.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe mit einem Verfahren zur
Herstellung eines Vaginaldiaphragmas gemäß dem Oberbegriff
des Anspruchs 1 in der Weise gelöst, daß
Flüssigsilikonkautschuk mit zur gratfreien Ummantelung des
ringförmigen Federelements zum Ende des Spritzgießvorgangs
gegenüber dem Ausgangsdruck stark vermindertem Spritzdruck
zu einem Vaginaldiaphragma mit einer Wandstärke <0.5 mm
geformt wird.
Das Wesen der Erfindung liegt somit zum einen darin, daß
Flüssigsilikonkautschuk zu einem Erzeugnis mit einer
Wandstärke unter 0.5 mm in einem Arbeitsgang spritzge
gossen wird und somit aufgrund der hier erreichten
geringen Wandstärke ein weichelastisches Diaphragma mit
angenehmen Nutzungseigenschaften und langer Lebensdauer
zur Verfügung gestellt werden kann, das zudem gegenüber
chemischen Einflüssen durch Spermizide und fett- oder
ölhaltige Gleitmittel oder mechanischen Einwirkungen
beständig ist. Da Silikongummi bei Temperaturen bis zu
240°C keinen Veränderungen unterliegt, sind derart
hergestellte Diaphragmen sterilisierbar, so daß auch die
Gefahr von Harnwegsinfekten und Pilzerkrankungen gegenüber
herkömmlichen Latexdiaphragmen wesentlich verringert wird.
Die Herstellung eines Silikon-Diaphragmas mit der vorge
schlagenen geringen Wandstärke von vorzugsweise 0.3 mm ist
erfindungsgemäß durch einen hohen Betriebsdruck beim
Spritzgießen von vorzugsweise 1800 bar bei bis zum Ende
des Spritzgießvorgangs konstanter Wärmeeinwirung von ca.
200°C auf den Silikonwerkstoff gekennzeichnet. Dadurch ist
es möglich, trotz der geringen Spaltweite im Hohlraum der
Spritzgießform ohne zwischenzeitliches Erhärten des
Silikonkautschuks dessen ausreichende Fließgeschwindigkeit
zum Ausfüllen der gesamten Form zu gewährleisten. Darüber
hinaus wird aber der Druck in der Endphase des Spritzgieß
vorgangs, wenn der Silikonkautschuk in den Gießraum zur
Ausbildung des beispielsweise mit einem Schraubenfederring
vorgespannten Randbereichs des Diaphragmas eintritt, stark
abgesenkt. Bei diesem verringerten Druck kann das Material
noch den Gießraum für den vorgespannten Rand ausfüllen,
ohne daß jedoch eine Gratbildung am Rand zu befürchten
ist.
In weiterer Ausbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens
erfolgt die Silikonkautschukzufuhr mittig zum Gießhohlraum
oder seitlich mit mittiger Entlüftung. Der beispielsweise
verwendete Federring in dem den Randbereich des
Gießhohlraums bildenden zweiten Gießraum wird bis kurz vor
Beendigung des Spritzgießvorgangs zentrisch in diesem
Gießraum gehalten, um die allseitige Ummantelung des
Federrings zu gewährleisten, wobei der Silikonkautschuk
zum Schluß auch in den Haltebereich fließen kann.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Durchführung des
Verfahrens, die aus einer einen Gießhohlraum bildenden
Spritzgießform mit einem Gießformober- und -unterteil,
einer an den Gießhohlraum angeschlossenen Kaltkanaldüse
sowie in der Spritzgießform vorgesehenen Heizelementen
besteht, ist dadurch gekennzeichnet, daß der einen ersten
und zweiten Gießraum bildende Gießhohlraum von einem
beheizten und nach außen wärmeisolierten
Heißzylinderabschnitts der Spritzgießform umgeben ist.
Die spezifische Ausbildung der Spritzgießform gewähr
leistet bei sparsamem Energieverbrauch eine gleichbleibend
hohe Temperatur in einer begrenzten Umgebung des Gießhohl
raums, so daß der Silikonwerkstoff während des Formge
bungsprozesses gleichmäßig erwärmt wird und auch bei der
geringen Spaltbreite von 0.3 mm im ersten Gießraum zur
Ausbildung der Membran in der Lage ist, den Gießhohlraum
vollständig auszufüllen. Die Erhitzung der Form lediglich
in ihrem Innern konzentriert nicht nur die Wärmezufuhr auf
einen bestimmten Bereich, sondern vermindert auch die
Gefahr von Verletzungen der das Werkzeug bedienenden Per
sonen durch Verbrennungen.
Die in den zweiten Gießraum ragenden Halteelemente
fixieren den Federring solange in einer mittigen Lage, bis
auch dieser Raum im wesentlichen mit Silikonkautschuk
gefüllt ist. Anschließend werden die Halteelemente mit
ihren Stirnflächen bis an die Innenfläche des zweiten
Gießraums zurückgezogen, so daß noch Silikonkautschuk in
den von den Halteelementen freigegebenen Raum nachfließen
kann.
In weiterer Ausbildung der Erfindung wird der Heißzylin
derabschnitt durch einen jeweils im Gießformober- und -
unterteil vorgesehenen Ringhohlraum mit an dessen zum
Gießhohlraum gerichteter Innenseite angeordnetem Heizband
sowie einer in dem verbleibenden Teil des Ringhohlraums
angeordneten Isoliermatte gebildet. Oberhalb und unterhalb
des Heißzylinderabschnitts ist eine vorzugsweise über die
gesamte Breite der Spritzgußform reichende Isolierplatte
angebracht.
In vorteilhafter Ausgestaltung der Erfindung sind die
Halteelemente senkrecht zur Trennebene der beiden Gieß
formhälften geführte und in den Gießraum zur Ausbildung
des Membranrandes ragende, bewegliche Haltestifte, deren
Stirnflächen entsprechend der Wölbung der Innenwand dieses
zweiten Geißraums konkav gerundet und bis an diese Innen
wand zurückziehbar sind. Die im Gießformoberteil geführten
Haltestifte sind über die Position zur Fixierung des
Schraubenfederringes hinaus bewegbar, um bei geöffneter
Spritzgießform gleichzeitig als Ausstoßer für das fertig
geformte Vaginaldiaphragma zu dienen.
Das erfindungsgemäß im Spritzgußverfahren hergestellte
Vaginaldiaphragma besteht somit aus Silikonkautschuk mit
einer Membranwandstärke von <0.5 mm, vorzugsweise 0.3 mm.
Weitere Merkmale und vorteilhafte Ausgestaltungen der
Erfindung sind in den Unteransprüchen aufgeführt.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird im folgenden
näher erläutert. In der zugehörigen Zeichnung zeigen:
Fig. 1 eine perspektivische Ansicht eines Vaginaldia
phragmas;
Fig. 2 eine Schnittansicht eines Vaginaldiaphragmas;
Fig. 3 eine Schnittansicht einer Spritzgießform zur
Herstellung eines erfindungsgemäßen Vaginal
diaphragmas; und
Fig. 4 eine vergrößerte Ansicht des zweiten Gießraums
mit den in diesen ragenden Haltestiften entspre
chend dem Detail "A" in Fig. 3.
Gemäß Fig. 1 und 2 besteht das Vaginaldiaphragma 1 aus
einer dünnwandigen elastischen Membran 2 mit an deren
Kante einstückig angeformtem federvorgespanntem Rand 3.
Der Rand 3 ist als Hohlkörper ausgebildet, in dem ein
Schraubenfederring 4 angeordnet und dicht von dem als
Diaphragmamaterial verwendeten Silikonkautschuk umschlos
sen ist. Die Materialstärke des Diaphragmamaterials liegt
bei 0.3 mm. Die Membran 2 ist auch als Ganzes elastisch,
so daß sie immer bestrebt ist, ihre kugelhaubenförmige
Gestalt anzunehmen und das milchig durchscheinende und im
übrigen auch beliebig einfärbbare Diaphragma somit auch in
nicht benutztem Zustand ästhetischen Anforderungen gerecht
wird. Der federvorgespannte Rand 3 kann während des
Einführens mühelos zusammengedrückt werden, um sich in der
Gebrauchslage des Diaphragmas eng an die Vaginalwände
anzulegen und für eine sichere Abdichtung zum Uterus zu
sorgen.
In Fig. 3 ist eine Vorrichtung zur Herstellung eines aus
Silikongummi bestehenden Vaginaldiaphragmas 1 mit einer
Membranwandstärke von 0.3 mm dargestellt. Die eigentliche
Gießvorrichtung umfaßt ein Gießformoberteil 5 und ein
Gießformunterteil 6. Zwischen beiden Formhälften ist ein
Gießhohlraum 7 gebildet, der aus einem etwa halbkugel
förmig gewölbten, kappenartigen ersten Gießraum 7a und,
wie besser aus Fig. 4 ersichtlich ist, aus einem sich
daran anschließenden ringförmigen zweiten Gießraum 7b
besteht. In den zweiten Gießraum 7b münden sowohl vom
Gießformoberteil 5 als auch vom Gießformunterteil 6 her
jeweils obere und untere Haltestifte 8a, 8b, um einen vor
dem Gießvorgang bei geöffneter Gußform in den zweiten
Gießraum 7b eingelegten Schraubenfederring 4 mittig in dem
zweiten Gießraum 7b zu fixieren. Die Haltestifte 8a, 8b
sind hydraulisch bewegbar, um aus dem ringförmigen zweiten
Gießraum 7b exakt bis an dessen Innenfläche zurückgezogen
werden zu können. Die zum Schraubenfederring 4 weisende
Stirnseite der Haltestifte 8a, 8b ist mit einem Radius
entsprechend dem des Querschnitts des zweiten Gießraums
konkav gewölbt, so daß die Stirnflächen 8a', 8b' in
zurückgezogenem Zustand der Haltestifte 8a, 8b eine
gemeinsame durchgehende Fläche mit der Innenfläche des
zweiten Gießraums bilden. Die oberen Haltestifte 8a dienen
bei geöffneter Gußform, d. h. wenn das Gießformoberteil 5
und das Gießformunterteil 6 nach beendetem Spritzgieß
vorgang voneinander getrennt sind, als Auswerfer für das
fertige Diaphragma.
Die Zufuhr des Flüssigsilikonkautschuks in den Gieß
hohlraum 7 erfolgt über eine Kühlkanaldüse 9 und eine
mittig im Gießformoberteil 5 vorgesehene Öffnung 9a. Der
dem Gießhohlraum 7 benachbarte Bereich bildet einen
Heißzylinderabschnitt 15, der von je einem oberen und
unteren Heizband 10a, 10b umschlossen ist. Das heißt, es
wird in unmittelbarer Nähe des Gießhohlraums 7 eine
begrenzte Zone hoher Werkzeugtemperatur von etwa 200°C
geschaffen, um insbesondere in dem extrem schmalen Bereich
des ersten Gießraums 7a eine gute Vernetzung des über die
Kaltkanaldüse 9 bei ca. 20°C zugeführten Flüssigsilikon
kautschuks und ein vollständiges Ausfüllen des Gießhohl
raums 7 zu erzielen. Um die für eine ausreichende
Erwärmung des Silikonkautschuk erforderliche lokalisierte
Energiezufuhr zur Gießform zu ermöglichen, die
gleichzeitig den Energieverbrauch vermindert und der
Gefahr von Verbrennungen des Bedienpersonals durch die
heiße Außenseite der Form entgegenwirkt, ist einem in
einem oberen Ringhohlraum 13a und einem in einem unteren
Ringhohlraum 13b des Gießformober- bzw. -unterteils 5, 6
angeordneten oberen bzw. unteren Heizband 10a, 10b an der
zur Außenfläche der Gießform gerichteten Seite eine obere
bzw. untere Isolierstoffmatte 11a, 11b zugeordnet. Außer
dem sind oberhalb des Gießformoberteils 5 und unterhalb
des Gießformunterteils 6 obere und untere Isolierplatten
12a, 12b angebracht.
Zur Herstellung eines Vaginaldiaphragmas 1 wird bei
geöffneter Spritzgießform zunächst ein Schraubenfederring
4 in eine Hälfte des ringförmigen zweiten Gießraums 7b
eingelegt und, nachdem der zweite Gießraum 7b geschlossen
ist, zentrisch in diesem durch die Haltstifte 8a, 8b
gehalten. Anschließend wird bei einem Druck von ≦1800 bar
Flüssigsilikonkautschuk über die Kaltkanaldüse 9 und die
Öffnung 9a zentrisch in den kappenförmigen ersten Gießraum
7a eingetragen. Aufgrund des hohen Druckes und einer auf
den Bereich des ersten und zweiten Gießraums begrenzten
hohen Erwärmung kann das zu formende Material, ohne
vorzeitig zu erhärten und damit den Fließvorgang zu
unterbrechen, durch den engen Spalt im ersten bzw. zweiten
Gießraum 7a, 7b fließen. Gegen Ende des Gießvorgangs, d. h.
etwa zum Zeitpunkt des Erreichens des zweiten Gießraums,
wird der Einspritzdruck drastisch, beispielsweise auf 100
bar, abgesenkt. Der nachfließende Flüssigsilikonkautschuk
kann dann gerade noch den zweiten Gießraum 7b ausfüllen,
ohne daß es zu einer Gratbildung kommt. Kurz vor dem Ende
des Spritzgießvorgangs, nachdem der Schraubenfederring 4
bereits von Silikonkautschuk ummantelt und dadurch im
zweiten Gießraum 7b fixiert ist, werden die Haltestifte
8a, 8b mit ihrer konkav gewölbten Stirnfläche 8a', 8b' bis
an die Innenfläche des im Querschnitt kreisförmigen
zweiten Gießraums 7b zurückgezogen, so daß auch der
dadurch freiwerdende Raum mit Silikonkautschuk ausgefüllt
werden kann.
Nach Beendigung des Spritzgießvorgangs wird die Gießform
durch Wegschwenken des Gießformunterteil vom
Gießformoberteil geöffnet, so daß das fertige Erzeugnis
von den oberen Haltestiften 8a, die gleichzeitig als
Auswerfer wirken, ausgestoßen werden kann. Anschließend
wird ein neuer Schraubenfederring 4 eingelegt und die
Gießform geschlossen.
1
Vaginaldiaphragma
2
Membran
3
Rand
4
Schraubenfederring
5
Gießformoberteil
6
Gießformunterteil
7
Gießhohlraum
7
a erster Gießraum
7
b zweiter Gießraum
8
a obere Haltestifte
8
b untere Haltestifte
9
Kaltkanaldüse
9
a Öffnung zur Materialzuführ
10
a oberes Heizband
10
b unteres Heizband
11
a obere Isoliermatte
11
b untere Isoliermatte
12
a obere Isolierplatte
12
b untere Isolierplatte
13
a oberer Ringhohlraum
13
b unterer Ringhohlraum
14
Trennebene
15
Heißzylinderabschnitt
Claims (12)
1. Verfahren zur Herstellung eines Vaginaldiaphragmas, das
eine kugelhaubenförmige Membran aus elastischem Material
mit an deren Rand vorgesehenem, von dem elastischen
Material ummanteltem, ringförmigem Federelement umfaßt,
dadurch gekennzeichnet, daß Flüssigsilikonkautschuk mit
zur gratfreien Ummantelung des ringförmigen Federele
ments zum Ende des Spritzgießvorgangs gegenüber dem
Ausgangsdruck stark vermindertem Spritzdruck zu einem
Vaginaldiaphragma mit einer Wandstärke < 0.5 mm geformt
wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
der Spritzdruck zu Beginn des Gießvorgangs vorzugsweise
bei ≦1800 bar und zum Zeitpunkt der Ausbildung des
Randes (3) der Membran (2) bei etwa 100 bar liegt.
3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Innentemperatur der Gießform während des
Spritzgießens etwa 200°C beträgt und nur ein zentraler,
den Gießhohlraum (7) umgebender Heißzylinderabschnitt
der Gießform erwärmt wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die Silikonkautschukzufuhr mittig
zum Gießhohlraum vorgenommen wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die Silikonkautschukzufuhr bei
mittiger Entlüftung von der Seite des Gießhohlraums
(7) erfolgt.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß ein in den Rand des Vaginaldia
phragmas eingebetteter Schraubenfederring (4) bis kurz
vor Beendigung des Spritzvorgangs in dem entsprechenden
Gießraum (7b) mechanisch mittig gehalten wird.
7. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach
Anspruch 1, bestehend aus einer einen Gießhohlraum
bildenden Spritzgießform mit einem Gießformober- und
-unterteil, einer an den Gießhohlraum angeschlossenen
Kaltkanaldüse sowie in der Spritzgießform vorgesehenen
Heizelementen, dadurch gekennzeichnet, daß der einen
ersten und einen zweiten Gießraum (7a, 7b) bildende
Gießhohlraum (7) von einem beheizten und nach außen
wärmeisolierten Heißzylinderabschnitt (15) der
Spritzgießform umgeben ist.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß
zur Ausbildung des Heißzylinderabschnitts (15) im
Gießformober- und -unterteil (5, 6) ein oberer und ein
unterer Ringhohlraum (13a, 13b) vorgesehen ist, in dem
an der nach innen gerichteten Wand jeweils ein Heizband
(19a, 10b) und in dem verbleibenden Raum jeweils eine
Isolierstoffmatte (11a, 11b) angeordnet sind, wobei
oberhalb und unterhalb des Heißzylinderabschnitts (15)
jeweils eine vorzugsweise über die gesamte Breite der
Spritzgießform reichende Isolierplatte (12a, 12b)
angeordnet ist.
9. Vorrichtung nach Anspruch 7 und 8, dadurch gekennzeich
net, daß zur mittigen Fixierung des Schraubenfederrings
(4) im zweiten Gießraum (7b) jeweils einander gegenüber
liegende, im Gießformoberteil (5) bzw. im Gießformunter
teil (6) senkrecht zu deren Trennebene (14) geführte,
in den zweiten Geißraum (7b) bewegbare Haltestifte (8a,
8b) vorgesehen sind, deren freie Stirnflächen (8a', 8b')
in einem Radius entsprechend dem des Kreisquerschnitts
des zweiten Gießraums (7b) gewölbt sind, wobei die
Stirnflächen bis auf die Höhe der Wandung des zweiten
Gießraums (7b) zurückziehbar sind.
10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet,
daß die unteren Haltestifte (8b) bis zur Höhe der
Außenfläche des mittig zu fixierenden Schraubenfeder
ringes (4) verschiebbar sind und die oberen Haltestifte
(8a), um als Auswerfer für das fertige Vaginaldia
phragma zu dienen, noch weiter ausfahrbar sind.
11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 10, dadurch
gekennzeichnet, daß eine Steuereinheit zur Steuerung
des Druckes des zugeführten Flüssigsilikonkautschuks,
der Temperatur des Heißzylinderabschnitts (15) und der
Bewegung der Halteelemente (8a, 8b) vorgesehen ist.
12. Vaginaldiaphragma mit einer vorzugsweise etwa kugel
haubenförmig gewölbten elastischen Membran und einem an
deren Rand angeformten, von dem elastischen Material
ummantelten ringförmigen Federelement, dadurch gekenn
zeichnet, daß es aus Silikonkautschuk besteht und eine
Membranwandstärke <0,5 mm, vorzugsweise 0,3 mm,
aufweist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE1995141115 DE19541115C2 (de) | 1995-10-26 | 1995-10-26 | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Vaginaldiaphragmas |
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DE10314032A1 (de) * | 2003-03-28 | 2004-10-21 | Braun Formenbau Gmbh | Werkzeugsystem sowie Verfahren zum Mehrkomponentenspritzgießen, insbesondere Zweikomponentenspritzgießen, von Kunststoffkörpern |
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- 1995-10-26 DE DE1995141115 patent/DE19541115C2/de not_active Expired - Fee Related
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DE19541115A1 (de) | 1997-04-30 |
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