DE19537092C1 - Elektronenstrahl-Bedampfungsanlage im Durchlaufbetrieb für thermisch hoch belastete Substrate - Google Patents
Elektronenstrahl-Bedampfungsanlage im Durchlaufbetrieb für thermisch hoch belastete SubstrateInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Elektronenstrahl-Bedampfungsanlage zum Beschichten von Bautei
len aus hochwarmfesten Legierungen (super alloys), insbesondere Turbinenschaufeln, mit
Thermo-Barriereschichten, sogenannten thermal barrier coatings (TBC). Die Schutzschichten
erlauben höhere Arbeitstemperaturen bei gleichen oder verlängerten Standzeiten der Bauteile.
Höhere Arbeitstemperaturen ergeben bei Wärmekraftmaschinen einen besseren thermischen
Wirkungsgrad. Die Anlagenkonstruktion erlaubt die produktive Beschichtung der Substrate im
Durchlaufbetrieb.
Bekannte Einrichtungen zum Aufbringen von TBC arbeiten im Chargenbetrieb und bestehen
im wesentlichen aus Ladekammer, Heizkammer, Bedampfungskammer mit linear angeordneten
Verdampfertiegeln, Substrattransporteinrichtung, Elektronenkanone, zugehöriger Evakuie
rungseinrichtung sowie den erforderlichen peripheren Baugruppen. Zur Erzielung der erforder
lichen Haftfestigkeit der Schichten werden die Bauteile auf Temperaturen über 1000°C vor
gewärmt. Außerdem müssen die Bauteile während der Bedampfung über der Dampfquelle
bewegt werden, um allseitig eine möglichst gleichmäßige Schichtdicke zu erzielen. Die Kam
mern sind wegen der hohen Prozeßtemperaturen wassergekühlt und durch ebenfalls wasserge
kühlte Ventile trennbar. Hierdurch kann das Belüften der Heiz- und Bedampfungskammer beim
Wechsel der Substrate vermieden werden. Während das Ventil zwischen Lade- und Heiz
kammer dazu unbedingt erforderlich ist, wird das Ventil zwischen Heiz- und Bedampfungs
kammer nur benötigt, wenn die Bedampfungskammer zur Wartung oder zum Ersatz des Ver
dampfungsmaterials geöffnet werden muß, bzw. wenn beim reaktiven Beschichten der Zutritt
von Sauerstoff in die Heizkammer zeitlich begrenzt werden soll.
Zum Transport der Substrate durch die Kammern wird ein Wagen mit einer Chargierstange
entsprechender Länge benutzt. Die Chargierstange enthält die Mechanik für einen, am anla
genseitigen Ende befestigten Substrathalter, welcher auch das Drehen und Schwenken des
Substrates ermöglicht sowie den Anbau eventueller Kühlwasser- und Sensorleitungen. Durch
auswechselbare Substrathalter kann auch die gleichzeitige Beschichtung mehrerer kleiner
Substrate ermöglicht werden. Das andere Ende der Chargierstange ist in der Regel drehbar in
einem Wagen gelagert. Die lange, thermisch belastbare oder wassergekühlte Chargierstange
ermöglicht den Transport der Substrate in oder durch die heißen Zonen, ohne daß der Wagen
mit seinen Antrieben den extrem hohen Temperaturen ausgesetzt ist.
Bei kleineren Anlagen befindet sich dieser Wagen meist an Atmosphäre und die wasserge
kühlte Chargierstange ragt durch eine Dreh- und Schiebedurchführung in die Anlage. Das er
möglicht zwar eine kurze Ladekammer und ein kleineres Volumen der Anlage, der Aufwand für
die kalibrierte Stange und die Schiebe-Drehdurchführung ist aber hoch.
Bei großen Anlagen läuft dagegen der Wagen meist in der evakuierbaren Ladekammer. Das
hat den Vorteil, daß an die Oberflächenbeschaffenheit der Chargierstange keine besonderen
Ansprüche gestellt werden müssen. Anstelle der aufwendigen Dreh- und Schiebedurchführung
sind nur Drehdurchführungen für innenliegende Spindeln erforderlich. Diese verfahren den
Wagen und übertragen die Dreh- und Schwenkbewegungen auf ihn. Der Horizontalantrieb
braucht bei dieser Lösung nicht die großen, durch den Luftdruck bedingten Kräfte auf die
Chargierstange aufzunehmen.
Die Nachteile beider Ausführungen der geschilderten Bauform mit Chargierstange bestehen
in ihrer mangelnden Flexibilität. Wird im Rahmen der technologischen Weiterentwicklung der
Einbau weiterer Prozeßkammern bzw. Arbeitsstationen erforderlich, dann müßte die Chargier
stange entsprechend verlängert werden. Dieser Verlängerung sind jedoch durch die abneh
mende Steifigkeit der Stange bei gegebenem Querschnitt Grenzen gesetzt. Hinzu kommt, daß
jede Verlängerung der Kammern die doppelte Verlängerung der Anlage nach sich zieht. Aber
selbst ohne diesen Aspekt besitzen die bisher bekannten Bauformen Nachteile durch ihren
großen Bauaufwand, ihre große Baulänge, den entsprechend großen Platzbedarf der Anlage
und die damit verbundenen Kosten.
Es besteht auch die Möglichkeit, die Einrichtung zur Substrataufnahme ohne Verwendung
einer Chargierstange direkt an dem Transportwagen zu befestigen. Der Transportwagen wird
dann mittels eines gekühlten Rollensystems innerhalb der Kammern verfahren. Diese Lösung
besitzt den Nachteil, daß zur thermischen Abschirmung des Wagens eine zusätzliche Zwi
schenkammer zwischen Heizerkammer und Beschichtungskammer erforderlich ist, in der sich
der Transportwagen während der Beschichtung befindet.
Gemeinsame Nachteile der geschilderten Ausführungen liegen darin, daß aufgrund des Char
genbetriebes die Zeit für einen Bedampfungszyklus aus der Summe der Prozeßzeiten in den
einzelnen Stationen der Anlage besteht. Zur teilweisen Lösung dieses Problems wurden die
Kammern zur Durchführung der Hilfsprozesse "Vakuumschleusen" und "Vorheizen" spiegel
bildlich auf beiden Seiten der Bedampfungskammer angeordnet und es wird mit zwei oder vier
Einrichtungen zum Substrattransport gearbeitet. Derartige Anlagen werden z. B. mit 4 ver
schiebbaren Chargierkammern und 4 Heizkammern ausgerüstet. Diese Lösung ist daher sehr
platz- und kostenaufwendig.
Die Verwendung einer nach dem Durchlaufprinzip arbeitenden Beschichtungsanlage würde
die genannten Probleme lösen. Eine Verwendung der bisher bekannten Transportsysteme
scheidet jedoch für die vorliegende Beschichtungsaufgabe aufgrund der außerordentlich hohen
thermischen Belastung in Heiz- und Beschichtungskammer aus.
Es besteht die Aufgabe eine Konstruktion anzugeben, die es gestattet, das bei Durchlaufan
lagen angewendete Prinzip des nacheinanderfolgenden Transports der Substrate durch die
Kammern der Anlage auch bei sehr großer Temperaturbelastung in Heizer- und Beschich
tungskammer anzuwenden.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß die Kammern, in denen eine hohe
Temperaturbelastung auftritt, durch eine Trennwand in zwei getrennte Teilkammern unterteilt
werden, von denen eine Teilkammer den Transportwagen und die andere Teilkammer den
Substrathalter mit den Turbinenschaufeln aufnimmt. Diese beiden Teilkammern kommunizieren
jeweils über einen in Transportrichtung verlaufenden Schlitz in der Trennwand, durch den die
Verbindungselemente zwischen Transportwagen und Substrathalterung hindurchgreifen. Am
Transportwagen ist außerdem eine Blende befestigt, die diesen Schlitz bis auf die notwendi
gen Aussparungen für den Substrathalter abdeckt. Heizelemente und Bedampfungsstation be
finden sich in dem Teil der Kammer, die von den Substraten durchlaufen wird. Der Transport
wagen wird dagegen im thermisch nur wenig belasteten Teil der jeweiligen Kammer bewegt, in
dem die Transporteinrichtungen für den Wagen angeordnet sind. Mittels Durchgangsventilen,
die sich zwischen den Kammern befinden, können diese in der bei Durchlaufanlagen üblichen
Weise vakuumseitig vollständig voneinander getrennt werden.
Ein weiteres wesentliches Merkmal der erfindungsgemäßen Lösung besteht darin, daß der An
trieb für die erforderliche Rotations- und Schwenkbewegung der Substrate hydraulisch erfolgt.
Diese Antriebsart besitzt den Vorteil, daß das Medium gleichzeitig zur Kühlung verwendet
werden kann. Außerdem werden neben den Hydraulikkreisläufen ein oder mehrere zusätzlich
Kühlkreisläufe im Wagen installiert. Durch geeignete Dimensionierung dieser Kühlkreisläufe
kann gesichert werden, daß die zulässige Grenztemperatur an keiner Stelle des Transportsy
stems überschritten wird. Die Kühlung des Wagens ist bei der verwendeten Bauform unbe
dingt erforderlich, da wegen der geringen Entfernung zwischen Wagen und Substrat eine
wirksame thermische Entkopplung nahezu unmöglich ist.
Zur Realisierung der erfindungsgemäßen Lösung ist es notwendig, daß das aus mehreren
Kreisläufen bestehende Antriebs- und Kühlsystem des Wagens in den jeweiligen Arbeitsposi
tionen in der Heizer- bzw. Bedampfungskammer unter Vakuum über ein leckfreies Andocksy
stem mit dem von außen herangeführten Medienanschlüssen gekoppelt wird. Dies ist mit mo
dernen, technisch ausgereiften Andocksystemen möglich. Bei derartigen Systemen ist nach
der Trennung lediglich noch die unmittelbare Trennstelle mit einem dünnen Film des Mediums
überzogen. Als Medium für Hydraulik und Kühlung wird Diffusionspumpenöl verwendet. Da
durch wird eine Beeinträchtigung der Restgasverhältnisse ausgeschlossen und es wird eine
wirksame Kühlung der Antriebselemente erreicht. Alle Kammern sind durch Türen oder Deckel
für Bedienung und Wartung zugängig.
Der horizontale Transport und die Führung des Wagens erfolgen in bekannter Weise durch
synchron angetriebene Rollen, die in sämtlichen Kammern angeordnet sind. Bei den Kammern
mit Zwischenwand befinden sich diese Rollen im "kalten" Teil.
Die erfindungsgemäße Lösung gestattet die Beschichtung von Turbinenschaufeln nach dem
Durchlaufprinzip. Damit können die Vorteile dieses Anlagentyps wie, paralleler Ablauf von Ein
schleusen, Heizen, Beschichten, Abkühlen und Ausschleusen sowie kontinuierlicher Arbeitsab
lauf auch für diese komplizierte Beschichtungsaufgabe genutzt werden.
Die Erfindung soll nachstehend an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert werden. Fig. 1
zeigt einen senkrechten und Fig. 2 einen waagerechten Schnitt durch die Anlage. An eine, mit
einer entsprechenden Evakuierungseinrichtung versehene Schleusenkammer 1 schließt sich,
durch ein wassergekühltes Durchgangsventil 2 getrennt, eine wassergekühlte Heizkammer 3
mit einem Strahlungsheizer 4 an. Die Heizkammer 3 ist durch eine senkrechte und mit einem
horizontalen Schlitz 5 versehene ebenfalls wassergekühlte Trennwand 8 parallel zur Trans
portrichtung geteilt. In Transportrichtung ist an der Heizkammer 3 ein weiteres wassergekühl
tes Durchgangsventil 2 angeordnet. An dieses Ventil schließt sich die wassergekühlte, mit ei
ner entsprechenden Evakuierungseinrichtung versehene Bedampfungskammer 6 an, die mit ei
nem oder mehreren Verdampfertiegeln 7, einem Kondensatfänger 9 und einer oder mehrerer
Elektronenkanonen 10 ausgerüstet ist. Die Bedampfungskammer 6 ist ebenfalls durch eine mit
einem Schlitz 5 versehene Trennwand 6 in zwei Teilkammern unterteilt. Über ein weiteres
wassergekühltes Durchgangsventil 2 kann der Wagen 12 nach einer Abkühlphase in der mit
Inertgas gefüllten, gekühlten Ausgabeschleuse 11 aus der Anlage ausgeschleust werden.
Auch die Ausgabeschleuse besitzt, wie die Kammern 3 und 6 eine Trennwand 8 mit Schlitz 5.
Alle Kammern sind für Wartung und Bedienung mit Türen oder Klappen ausgerüstet.
In der Eingabeschleuse 1, denjenigen Teilen von Heizkammer 3 und Bedampfungskammer 6,
in denen sich weder Heizelemente noch Beschichtungseinrichtungen befinden, und in der
Ausgabeschleuse 11 sind auf beiden Seiten des Wagens 12 eine Reihe von Rollen 13 ange
ordnet. Auf diesen Rollen 13 läuft der Wagen 12 an dem entsprechenden Laufschienen 14
angebracht sind. Das Antriebssystem ermöglicht bei jeweils geöffnetem Durchgangsventil 2
den Transport des Wagens 12 von einer in die nachfolgende Kammer und danach das Einfah
ren eines anderen Wagens aus der vorhergehenden Kammer.
An der Heizkammer 3, der Bedampfungskammer 6 und der Ausgabeschleuse befindet sich je
ein mehrkanaliges Andocksystem 15. Mit diesen Systemen wird in der jeweiligen Arbeitsposi
tion des Wagens 12 die Ankopplung der Hydraulik- und Kühlkreisläufe an die im Wagen 12
befindlichen Kühlkreisläufe und hydraulischen Antriebssysteme für die Substratbewegung her
gestellt.
Bezugszeichenliste
1 Schleusenkammer
2 Durchgangsventil, wassergekühlt
3 Heizkammer, wassergekühlt
4 Strahlungsheizer
5 Schlitz in Trennwand
6 Bedampfungskammer, wassergekühlt
7 Verdampfertiegel
8 Trennwand, wassergekühlt
9 Kondensatfänger
10 Elektronenkanone für Verdampfung und Substratheizung
11 Abkühlkammer/Ausgabeschleuse, wassergekühlt
12 Wagen, mit Kühlflüssigkeit gekühlt
13 Transportrollen
14 Laufschienen
15 Leckfreies Andocksystem für Kühl- und Hydraulikkreisläufe
2 Durchgangsventil, wassergekühlt
3 Heizkammer, wassergekühlt
4 Strahlungsheizer
5 Schlitz in Trennwand
6 Bedampfungskammer, wassergekühlt
7 Verdampfertiegel
8 Trennwand, wassergekühlt
9 Kondensatfänger
10 Elektronenkanone für Verdampfung und Substratheizung
11 Abkühlkammer/Ausgabeschleuse, wassergekühlt
12 Wagen, mit Kühlflüssigkeit gekühlt
13 Transportrollen
14 Laufschienen
15 Leckfreies Andocksystem für Kühl- und Hydraulikkreisläufe
Claims (4)
1. Elektronenstrahl-Bedampfungsanlage zum Aufbringen von Thermobarriere-Schichten (TBC),
bestehend aus Schleusenkammern, Heizkammer, Bedampfungskammer mit Elektronenstrahl-
Verdampfern und Verdampfertiegeln, Durchgangsventilen, Substrattransporteinrichtung, zuge
höriger Evakuierungseinrichtung sowie den erforderlichen peripheren Baugruppen, dadurch
gekennzeichnet,
- - daß Heizkammer, Bedampfungskammer und die gleichzeitig als Abkühlkammer genutzte Ausgabeschleuse in Transportrichtung der Substrate durch eine Trennwand jeweils in zwei Teilkammern geteilt sind und nur über einen Schlitz kommunizieren durch den die Verbin dungselemente zwischen Transportwagen und Substrathalterung hindurchgreifen,
- - daß Heizelemente und Bedampfungsstation in dem Teil der jeweiligen Kammer angeordnet sind, der von den Substraten durchlaufen wird, während der Wagen im anderen, thermisch nur wenig belasteten Teil der jeweiligen Kammer bewegt wird, in dem auch die Transport einrichtungen für den Wagen angeordnet sind,
- - daß der Wagen einen oder mehrere Kühlkreisläufe besitzt, die mittels eines leckfreien An docksystems in Heiz- und Beschichtungskammer sowie in der Ausgabeschleuse an den je weiligen Arbeitspositionen mit den äußeren Kreisläufen koppelbar sind,
- - daß der Antrieb für die Rotations- und Schwenkbewegung der Substrate hydraulisch erfolgt, und die Hydraulikkreisläufe in den jeweiligen Arbeitspositionen des Wagens ebenfalls über ein leckfreies Andocksystem koppelbar sind.
2. Elektronenstrahl-Bedampfungsanlage nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als
Medium für den Hydraulikantrieb und die Kühlung Diffusionspumpenöl verwendet wird.
3. Elektronenstrahl-Bedampfungsanlage nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß
das hydraulische Antriebsmedium gleichzeitig zur Kühlung des Wagens und des Antriebssy
stems für die Substrate verwendet wird.
4. Elektronenstrahl-Bedampfungsanlage nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß am
Wagen eine Blende befestigt ist, die in der Arbeitsposition den Schlitz in der Trennwand von
Heiz-, Beschichtungs- und Abkühl/Ausschleuskammer bis auf die notwendigen Aussparun
gen für den Substrathalter abdeckt.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19537092A DE19537092C1 (de) | 1995-10-05 | 1995-10-05 | Elektronenstrahl-Bedampfungsanlage im Durchlaufbetrieb für thermisch hoch belastete Substrate |
US08/725,814 US5882415A (en) | 1995-10-05 | 1996-10-07 | Electron-beam continuous process vaporization installation for thermally high stressed substrata |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19537092A DE19537092C1 (de) | 1995-10-05 | 1995-10-05 | Elektronenstrahl-Bedampfungsanlage im Durchlaufbetrieb für thermisch hoch belastete Substrate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19537092C1 true DE19537092C1 (de) | 1996-07-11 |
Family
ID=7774088
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19537092A Expired - Fee Related DE19537092C1 (de) | 1995-10-05 | 1995-10-05 | Elektronenstrahl-Bedampfungsanlage im Durchlaufbetrieb für thermisch hoch belastete Substrate |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5882415A (de) |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8100 | Publication of the examined application without publication of unexamined application | ||
D1 | Grant (no unexamined application published) patent law 81 | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |