DE19531465C2 - Rastersonde für die optische Nahfeldmikroskopie - Google Patents
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- 239000000523 sample Substances 0.000 title claims description 28
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 21
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 title claims description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 9
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 4
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 2
- 230000002146 bilateral effect Effects 0.000 claims 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000003760 hair shine Effects 0.000 description 1
- 238000000399 optical microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000004574 scanning tunneling microscopy Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- 238000004441 surface measurement Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q60/00—Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
- G01Q60/02—Multiple-type SPM, i.e. involving more than one SPM techniques
- G01Q60/06—SNOM [Scanning Near-field Optical Microscopy] combined with AFM [Atomic Force Microscopy]
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q10/00—Scanning or positioning arrangements, i.e. arrangements for actively controlling the movement or position of the probe
- G01Q10/04—Fine scanning or positioning
- G01Q10/045—Self-actuating probes, i.e. wherein the actuating means for driving are part of the probe itself, e.g. piezoelectric means on a cantilever probe
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
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- G01Q60/00—Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
- G01Q60/02—Multiple-type SPM, i.e. involving more than one SPM techniques
- G01Q60/04—STM [Scanning Tunnelling Microscopy] combined with AFM [Atomic Force Microscopy]
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Description
Es ist allgemein bekannt, die Auflösungsgrenze der
Lichtmikroskopie dadurch zu überwinden, daß mit
Aperturen wesentlich kleiner als die Wellenlänge des
Lichtes im Nahfeld der Oberfläche gearbeitet wird.
Mit der Entwicklung der Tunnelmikroskopie wurden
Voraussetzungen für Oberflächenmessungen im
Nanometerbereich geschaffen.
Bei der Tunnelmikroskopie wird mittels Piezostelltechnik
eine Spitze in einem Bereich kleiner 1 nm an eine
leitfähige Probenoberfläche gebracht. Wird zwischen
Spitze und Probenoberfläche eine elektrische Spannung
angelegt, so beginnt ein Tunnelstrom in nA-Größenordnung
zu fließen. Eine Veränderung des Spaltes zwischen Spitze
und Probenoberfläche von z. B. 0,1 nm bewirkt eine
Veränderung des Tunnelstroms um eine Größenordnung. Diese
starke Abstandsabhängigkeit wird ausgenutzt, um die Nadel
mittels Piezostelltechnik der Probenoberfläche
nachzuführen.
G. Binnig, H. Rohrer, "Scanning tunneling microscopy -
from birth to adolescence", Rev. Mod. Phys.
59 (1987) 3, pp. 615-625.
Aus dem US-Patent 4 604 520 zur optischen
Nahfeldmikroskopie ist bekannt, eine Apertur von 20 nm
dadurch zu gewinnen, daß eine transparente pyramidale
Kristallecke metallbeschichtet und die Spitze z. B.
durch Ionenätzen wieder freigelegt wird. Das aus der
Apertur austretende Licht durchstrahlt das Objekt oder
wird an ihm reflektiert und von einem
lichtempfindlichen Detektor als Meßsignal erfaßt. Die
Führung der Sonde über die Objektoberfläche erfolgt
mechanisch wie beim Profilometer oder
interferometrisch, kapazitiv oder
über das evaneszente elektromagnetische Feld.
Der Nachteil dieser Methoden besteht u. a. in der
aufwendigen Sonderpräparation und Sondenführung.
Gemäß US 5 354 985 wird eine Sonde mit den Merkmalen des Oberbegriffs des Anspruchs 1 für die optische
Nahfeldmikroskopie vorgeschlagen, bei der das Licht
über mikroskopische Wellenleiter der Sondenspitze
zugeführt wird. Die Sondenspitze, ausgebildet als
Apertur-Blende, weist eine ummantelte Metallschicht
auf, wobei die für das austretende Licht angeordnete
Öffnung kleiner λ/2 ist.
Durch Reflexionen und Absorptionen an der Apertur
treten starke Intensitätsverluste auf, die die
Empfindlichkeit der Sonde stark verringern.
Eine weitere optische Nahfeldmikroskopie-Methode ist
aus EP 0 545 538 A1 bekannt geworden. Dabei wird eine
Monomode-Glasfaser zu einer feinen Spitze ausgezogen und
durch Bedampfungstechniken metallummantelt. Eine
Apertur für den Lichtdurchtritt wird an der Faserspitze
freigehalten. Die Führung der Sonde über die
Objektoberfläche erfolgt dadurch, daß die
Glasfaserspitze von einem Piezoröhrchen in laterale
Schwingungen versetzt wird, diese Schwingungen durch
die Nähe der Objektoberfläche gedämpft werden und die
Schwingungsdämpfung von einem zusätzlichen optischen
System gemessen wird. Die Meßsignale des optischen
Systems dienen der Sondenführung. Ein
photoempfindlicher Detektor erfaßt das das Objekt
transmittierende oder das von diesem reflektierende Licht und bildet
das Meßsignal.
Sowohl diese, als auch alle bekannten technischen
Lösungen der Sonden nahfeldoptischer Rastermikroskope
besitzen den Nachteil, daß die erreichbaren
Lichtintensitäten relativ gering sind und deshalb zu
langsamen Scannzeiten eines Bildes führen.
Ausgehend von dem geschilderten Stand der Technik liegt
der Erfindung die Aufgabe zugrunde, die Rastersonde im
Hinblick auf ihre Meßdynamik und Empfindlichkeit zu
verbessern.
Diese Aufgabe wird durch die Merkmale des Anspruchs 1
gelöst.
Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der Unteransprüche.
Mit der erfindungsgemäßen Lösung wird eine hohe
Lichtintensität erreicht, wodurch sich die Zeiten für
das Scannen eines mikrooptischen Bildes verkürzen.
Der Querschnitt des optischen Wellenleiters kann sehr
gering sein, wodurch eine lokale Beleuchtung eines
Objektes mit großer Lichtstärke oder die lokale
Erfassung der Lichtintensität im Nahfeld eines Objektes
mit geringen optischen Verlusten möglich ist.
Die erfindungsgemäße mikrooptische Sonde soll
nachstehend anhand eines Ausführungsbeispieles näher
erläutert werden.
Bei der in der Figur schematisch dargestellten
mikrooptischen Sonde sind der Übersichtlichkeit wegen
einzelne Teile nicht in den tatsächlich vorteilhaften
Größen zueinander wiedergegeben.
Mit der mikrooptischen Sonde können die optischen
Eigenschaften eines Objektes 1 gemessen werden. Ein
optischer Wellenleiter 4, ein Dünnschicht-Wellenleiter,
besteht aus dem für die verwendete Wellenlänge
transparenten und besonders hochbrechenden Material
Siliziumkarbid (SiC). Eine dem Objekt 1 zugewandte
Mikrotastspitze 2 des optischen Wellenleiters 4 besitzt
in den beiden zur Lichtausbreitung senkrechten
Richtungen jeweils eine Breite, die etwa gleich der
halben Wellenlänge des verwendeten Lichtes, dividiert
durch den Brechungsindex n des Materials des optischen
Wellenleiters 4 ist. Der optische Wellenleiter 4 ist
mit einem piezoelektrischen Erreger 3 mechanisch
gekoppelt. Das dem Objekt abgewandte Ende des optischen
Wellenleiters 4 ist mit einer Lichtquelle 5 optisch
über eine Lichtleitfaser 6 gekoppelt. Ein optisches
System, bestehend aus der Lichtleitfaser 6 mit einem
Faserkern 8 ist zur Vermeidung größerer Koppelverluste
mit einem linsenförmigen Teil 7 versehen. Dadurch wird
das Licht der Lichtquelle 5 auf das dem Objekt
abgewandte Ende des optischen Wellenleiters 4
fokussiert. Der piezoelektrische Erreger 3 besitzt die
geometrische Form eines Balkens, der in seinem
Mittelteil im Bereich des Schwingungsknotens gehaltert
ist. Er wird durch die beiden Schichten 9, 10 gebildet,
die aus Aluminiumnitrid (AlN) bestehen. Das AlN besitzt
eine niedrigere Brechzahl als das SiC.
Der
optische Wellenleiter 4 ist innerhalb des
piezoelektrischen erregers 3 zwischen den
piezoelektrischen Schichten 9, 10 angeordnet und
besitzt außerhalb des piezoelektrischen Erregers 3
objektseitig einen kegelförmigen Bereich 11, der das Licht in die
Mikrotastspitze 2 überführt. Der piezoelektrische
Erreger 3 wird mittels der Elektroden 12, 13 zu
Schwingungen angeregt. Die Länge L des
piezoelektrischen Erregers 3 ist so gewählt, daß sie in
etwa einer viertel Wellenlänge der akustischen Welle
des piezoelektrischen Erregers 3 bei vorgegebener
Anregungsfrequenz entspricht. Auf diese Weise wird eine
Längsresonanz des piezoelektrischen Erregers 3 parallel
zur Ausbreitungsrichtung des Lichtes ermöglicht. Die
Länge L ergibt sich dabei nährungsweise nach der Formel
L=c/(4f), wobei c die Schallgeschwindigkeit im
piezoelektrischen Erreger 3 und f die Frequenz der
piezoelektrisch angeregten Schwingung ist. Bei einer
Arbeitsfrequenz von
f=50 MHz und einer Schallgeschwindigkeit von
c=2,5 · 10³ m/s für AIN ergibt sich eine Länge
L=12,5 µm für den piezoelektrischen Erreger. Die
elektrischen Zuleitungen 14, 15 für die Elektroden 12,
13 des piezoelektrischen Erregers 3 sind über
Kontaktinseln 16 angeschlossen. Die gesamte Anordnung
befindet sich auf einem Substrat 17 aus Silizium (Si).
Das Substrat 17 kann beispielsweise eine Fläche von ca.
1 mm² und eine Dicke von ca. 300 µm besitzen.
Die Fixierung der Lichtleitfaser 6 auf dem Si-Substrat
17 erfolgt durch eine in das Substrat eingeätzte V-förmige
Nut.
Der piezoelektrische Erreger 3 und der dem Objekt
zugewandte Teil des Lichtwellenleiters 2, 11 bestehen
aus freitragenden Schichten, um die freie Schwingung
des Piezoresonators zu gewährleisten.
Claims (6)
1. Rastersonde für die optische Nahfeldmikroskopie,
- - mit einem optischen Dünnschicht-Wellenleiter (4 ),
- - der an seinem objektseitigen Ende eine konisch zulaufende Tastspitze (11) aufweist, die in das optische Nahfeld einer zu untersuchenden Probe eintaucht und Lichtenergie von der Probe aufnimmt oder an diese abgibt,
- - und der piezoelektrisch angetrieben mit seiner Resonanzfrequenz schwingt,
dadurch gekennzeichnet,
- - daß der Dünnschicht-Wellenleiter (4) breitseitig zwischen zwei Begrenzungsschichten (9, 10) mit einem niedrigeren Brechungsindex als derjenige des Dünnschicht-Wellenleiters (4) eingebracht ist,
- - welche als piezoelektrische Schichten (9, 10) ausgebildet sind und die mechanische Resonanzschwingung des Dünnschicht-Wellenleiters (4) erzeugen,
- - und daß der Dünnschicht-Wellenleiter (4) zusammen mit den beiden Begrenzungsschichten (9, 10) mittig gehalten ist und dort einen Schwingungsknoten aufweist.
2. Rastersonde nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der
Dünnschicht-Wellenleiter (4) an seinem objektabgewandten
Ende optisch an eine Lichtleitfaser (6) gekoppelt ist, deren
Faserkern zu dem Wellenleiter (4) hin mit einer Linse (8)
versehen ist.
3. Rastersonde nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß der Dünnschicht-Wellenleiter (4) aus SiC und die
beiderseitigen Begrenzungsschichten (9, 10) aus AlN
bestehen.
4. Rastersonde nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß an der objektabgewandten Seite des
Dünnschicht-Wellenleiters (4) eine Halbleiterdiode
ausgebildet ist.
5. Rastersonde nach einem der Ansprüche 1 bis 4, daß der
Dünnschicht-Wellenleiter (4) aus dotiertem
Halbleitermaterial besteht.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19531465A DE19531465C2 (de) | 1995-03-30 | 1995-08-26 | Rastersonde für die optische Nahfeldmikroskopie |
PCT/EP1996/001322 WO1996030797A1 (de) | 1995-03-30 | 1996-03-26 | Mikrooptische sonde für rastermikroskope |
EP96911945A EP0763215A1 (de) | 1995-03-30 | 1996-03-26 | Mikrooptische sonde für rastermikroskope |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19511612 | 1995-03-30 | ||
DE19531465A DE19531465C2 (de) | 1995-03-30 | 1995-08-26 | Rastersonde für die optische Nahfeldmikroskopie |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19531465A1 DE19531465A1 (de) | 1996-10-02 |
DE19531465C2 true DE19531465C2 (de) | 1997-12-18 |
Family
ID=7758114
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19531466A Expired - Fee Related DE19531466C2 (de) | 1995-03-30 | 1995-08-26 | Mikromechanische Sonde für Rastermikroskope |
DE19531465A Expired - Fee Related DE19531465C2 (de) | 1995-03-30 | 1995-08-26 | Rastersonde für die optische Nahfeldmikroskopie |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19531466A Expired - Fee Related DE19531466C2 (de) | 1995-03-30 | 1995-08-26 | Mikromechanische Sonde für Rastermikroskope |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (2) | DE19531466C2 (de) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3260619B2 (ja) * | 1996-03-19 | 2002-02-25 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 光導波路プロ−ブおよび光システム |
DE19713746C2 (de) * | 1997-04-03 | 2001-06-28 | Inst Mikrotechnik Mainz Gmbh | Sensor für gleichzeitige Rasterkraftmikroskopie und optische Nahfeldmikroskopie |
WO2001006296A1 (en) * | 1999-07-20 | 2001-01-25 | Martin Moskovits | High q-factor micro tuning fork by thin optical fiber for nsom |
DE10039337A1 (de) | 2000-08-04 | 2002-02-28 | Infineon Technologies Ag | Kombination von abtastenden und abbildenden Methoden bei der Überprüfung von Photomasken |
JP4009197B2 (ja) * | 2001-02-06 | 2007-11-14 | ユニバーシティ・オブ・ブリストル | 走査型近接場光学顕微鏡 |
US7498564B2 (en) | 2001-02-06 | 2009-03-03 | University Of Bristol Of Senate House | Resonant scanning near-field optical microscope |
US7473887B2 (en) | 2002-07-04 | 2009-01-06 | University Of Bristol Of Senate House | Resonant scanning probe microscope |
GB0718094D0 (en) * | 2007-04-09 | 2007-10-24 | Univ Bristol | Probe microscopy and probe position monitoring apparatus |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3276138D1 (en) * | 1982-12-27 | 1987-05-27 | Ibm | Optical near-field scanning microscope |
US4906840A (en) * | 1988-01-27 | 1990-03-06 | The Board Of Trustees Of Leland Stanford Jr., University | Integrated scanning tunneling microscope |
DE3820518C1 (de) * | 1988-06-16 | 1990-01-11 | Wild Leitz Gmbh, 6330 Wetzlar, De | |
US5254854A (en) * | 1991-11-04 | 1993-10-19 | At&T Bell Laboratories | Scanning microscope comprising force-sensing means and position-sensitive photodetector |
US5386720A (en) * | 1992-01-09 | 1995-02-07 | Olympus Optical Co., Ltd. | Integrated AFM sensor |
US5354985A (en) * | 1993-06-03 | 1994-10-11 | Stanford University | Near field scanning optical and force microscope including cantilever and optical waveguide |
JP3390173B2 (ja) * | 1993-07-22 | 2003-03-24 | ビーティージー・インターナショナル・リミテッド | 近視野光学装置用インテリジェントセンサ |
JP3047030B2 (ja) * | 1993-11-05 | 2000-05-29 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 走査型近視野原子間力顕微鏡 |
-
1995
- 1995-08-26 DE DE19531466A patent/DE19531466C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-08-26 DE DE19531465A patent/DE19531465C2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE19531465A1 (de) | 1996-10-02 |
DE19531466A1 (de) | 1996-10-02 |
DE19531466C2 (de) | 2000-09-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8181 | Inventor (new situation) |
Free format text: WEIHNACHT, MANFRED, DR., 01744 PAULSDORF, DE BARTZKE, KARLHEINZ, DR., 07747 JENA, DE MARTIN, GUENTER, DR., 01307 DRESDEN, DE RICHTER, WOLFGANG, PROF., DR., 99425 WEIMAR, DE |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |