DE19521323A1

DE19521323A1 - Teil mit einer galvanisch aufgebrachten Beschichtung und Verfahren zur Herstellung von galvanischen Schichten

Info

Publication number: DE19521323A1
Application number: DE1995121323
Authority: DE
Inventors: Elias Dr Juelke; Martin Schiesser
Original assignee: ABB Management AG
Current assignee: ABB Asea Brown Boveri Ltd
Priority date: 1995-06-12
Filing date: 1995-06-12
Publication date: 1996-12-19
Also published as: CA2171585A1; EP0748883A1; PL314668A1; BR9602735A; CN1147569A

Description

TECHNISCHES GEBIET

Die Erfindung geht aus von einem Teil mit einer galvanisch aufgebrachten Beschichtung gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1 und von einem Verfahren zur Herstellung von galvanischen Schichten.

STAND DER TECHNIK

Es sind galvanisch beschichtete Teile und eine Vielzahl von Verfahren zur Herstellung von galvanischen Schichten bekannt. Aus der Offenlegungsschrift DE 23 58 309 ist beispielsweise ein derartiges Verfahren bekannt, bei welchem im galvanischen Bad feinkörnige Partikel in der Schwebe gehalten werden. Diese feinkörnigen Partikel werden mechanisch in die galvanisch erzeugte Metallschicht eingebracht und werden beim Fortschrei ten des Galvanisierungsvorgangs von dem abgelagerten Metall eingeschlossen. Das Einbringen der feinkörnigen Partikel in die Metallschicht erfordert einen vergleichsweise großen maschinellen Aufwand.

Aus dem Artikel "Erhöhung der Verschleißfestigkeit versil berter Gleitkontakte durch Dispersionsbeschichtungen" von V. Sova und H. Bollhalder, der in der Zeitschrift "Oberfläche surface" 1987, Heft 9, Seiten 13 bis 15, erschienen ist, ist bekannt, daß durch den Einbau metallfremder Partikel in eine Silbermatrix der Adhäsionsverschleiß der so erhaltenen galvanischen Schichten vermindert wird. Diese metallfremden Partikel können Oxide, Karbide, Sulfide oder Fremdmetalle sein, sie weisen Partikelgrößen im Bereich zwischen 0,5 µm und 8 µm auf. Der Volumenanteil dieser metallfremden Partikel lag im Bereich zwischen 1% und 5%. Diese Dispersions beschichtung brachte eine Verbesserung des Adhäsions verschleißes bei Silberkontaktanordnungen, allerdings können derartige Kontaktanordnungen nur eingesetzt werden, wenn sie von Zeit zu Zeit zusätzlich mit üblichen Schmiermitteln geschmiert werden. Die Oberfläche von derartigen Beschich tungen ist vergleichsweise rauh, da einerseits die scharf kantigen metallfremden Partikel stellenweise aus der Ober fläche herausragen, und andererseits die scharfkantigen metallfremden Partikel Poren in der Beschichtung verursachen. In den Vertiefungen dieser Oberfläche lagert sich das jeweilige Schmiermittel ab und wird zusammen mit der im Betrieb erfolgenden Abtragung der rauhen Partien der Oberfläche verbraucht, es muß dann ersetzt werden.

DARSTELLUNG DER ERFINDUNG

Die Erfindung, wie sie in den unabhängigen Ansprüchen gekennzeichnet ist, löst die Aufgabe, ein Teil mit einer galvanisch aufgebrachten Beschichtung zu schaffen, welches vergleichsweise einfach herzustellen ist, wobei die Beschichtung so ausgelegt ist, daß sie, wenn sie als Komponente einer Kontaktanordnung eingesetzt wird, eine zusätzliche Schmierung derselben unnötig macht, und ein einfaches Verfahren zur Herstellung dieser galvanisch aufgebrachten Beschichtung anzugeben.

Die durch die Erfindung erreichten Vorteile sind im wesent lichen darin zu sehen, daß die Beschichtung eine bessere Standfestigkeit gegenüber mechanischen Beanspruchungen aufweist. Es ist ein wesentlicher wirtschaftlicher Vorteil, daß diese Beschichtungen ohne zusätzlichen maschinellen Aufwand in üblichen Galvanikanlagen hergestellt werden können.

Die weiteren Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstände der abhängigen Ansprüche.

Die Erfindung, ihre Weiterbildung und die damit erzielbaren Vorteile werden nachstehend anhand der Zeichnung, welche lediglich einen Ausführungsweg darstellt, näher erläutert.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNG

Es zeigen:

Fig. 1 einen Teilschnitt durch ein Teil mit einer erfindungsgemäßen Beschichtung,

Fig. 2 einen Schnitt durch ein Nanopartikel,

Fig. 3 ein vereinfachtes Blockdiagramm eines erfindungsgemäßen Verfahrens, und

Fig. 4 ein vereinfachtes Blockdiagramm eines weiteren erfindungsgemäßen Verfahrens.

Bei den Figuren sind gleich wirkende Elemente mit gleichen Bezugszeichen versehen. Alle für das unmittelbare Verständnis der Erfindung nicht erforderlichen Elemente sind nicht dargestellt.

WEGE ZUR AUSFÜHRUNG DER ERFINDUNG

Die Fig. 1 zeigt einen stark vereinfacht dargestellten Teilschnitt durch ein Teil 1 mit einer erfindungsgemäßen Beschichtung. Das Teil 1 kann zylindrisch ausgebildet sein, es kann aber auch eine ebene Oberfläche aufweisen, die mit einer Beschichtung versehen ist. Das Teil 1 weist ein Grundmaterial 2 auf, welches aus einem Metall oder aus einem Kunststoff besteht. Wenn das Grundmaterial 2 eine Kunststoffmatrix ist, dann wird seine zu beschichtende Oberfläche vor dem Einbringen in ein galvanisches Bad metallisiert, beispielsweise durch chemisches Abscheiden einer Metallschicht auf dieser Oberfläche oder durch das Aufdampfen einer Metallschicht unter Hochvakuumbedingungen. Auf das Grundmaterial 2 ist galvanisch eine erste Metallschicht 3 aufgebracht worden, in die homogen verteilte Nanopartikel 4 eingelagert sind. Diese Nanopartikel 4 sind mit einem den Abrieb bzw. die Reibung reduzierenden Stoff chemisch-physikalisch verbunden. Dieser den Abrieb bzw. die Reibung reduzierende Stoff ist ein Stoff auf der Basis von oberflächenaktiven chemischen Verbindungen. Diese erste Metallschicht 3 kann auch aus mehreren nacheinander aufgebrachten einzelnen Schichten bestehen. Für bestimmte Anwendungen braucht die erste Metallschicht 3 nicht mit weiteren Schichten überzogen werden. Die erste Metallschicht 3 wird hier jedoch durch eine metallische Deckschicht 5 vollständig überzogen. Die Deckschicht 5 weist eine glatte Oberfläche 6 auf. Die metallische Deckschicht 5 weist in der Regel eine größere Härte auf als die erste Metallschicht 3.

Für eine feststehende oder vergleichsweise langsam bewegte Komponente einer versilberten Kontaktanordnung hat es sich herausgestellt, daß die erste Metallschicht 3 vorteilhaft eine Dicke im Bereich von 5 µm bis 15 µm aufweist, während die metallische Deckschicht 5 eine Dicke im Bereich um 2 µm aufweist. Die metallische Deckschicht 5 wird dabei vorteilhaft als Hartversilberung ausgeführt, um so deren Abriebverhalten zu optimieren.

Als Nanopartikel 4 können, je nach dem vorgesehenen Einsatzbereich der Beschichtung, verschiedene, entsprechend aufbereitete Stoffe verwendet werden, beispielsweise Karbide wie SiC, WC und TiC, Nitride wie AlN und Si₃N₄, Boride wie TiB, Metalloxide wie ZnO, SiO₂, Fe₂O₃, Bi₂O₃, PdO, NiO, AgO, TeO, CuO, Sb₂O₃, TiO₂, ZrO₂, Al₂O₃, In₂O₃, SnO, V₂O₅, TiO₂ und MgO und Metalle wie beispielsweise W und Ni. Die Nanopartikel 4 werden aus den jeweiligen Grundmaterialien mit Hilfe eines der bekannten Verfahren hergestellt. Die Nanopartikel 4 weisen eine Größe im Bereich von etwa 5 nm bis 50 nm auf und sind in der Regel kugelförmig ausgebildet. Die Nanopartikel 4 weisen keine scharfen Kanten auf. Es werden entweder Nanopartikel 4 aus einem einzigen Stoff oder Nanopartikel 4 aus einem Gemisch von zwei oder mehr Stoffen in das galvanische Bad eingebracht. Um eine gleichmäßige Verteilung der Nanopartikel 4 in dem galvanischen Bad zu erreichen, wird das Bad ständig umgerührt.

Werden Partikel mit einer etwas gröberen Struktur als die oben beschriebenen Nanopartikel 4 eingesetzt, so wird die chemisch- physikalische Wirksamkeit dieser Partikel zwar etwas verschlechtert, da sich an diese Partikel weniger oberflächenaktive chemische Verbindungen anlagern können, es sind aber durchaus Anwendungen vorstellbar, wo eine derartige gröbere Struktur vorteilhaft einsetzbar ist. Insbesondere ist es auch möglich, Partikel, die eine etwas gröbere Struktur aufweisen, mit nanostrukturiertem Material vermischt anzuwenden, um so eine spezifische Anpassung an bestimmte vorgegebene Betriebsanforderungen zu erreichen.

Als für die Anlagerung an die Nanopartikel 4 geeignete oberflächenaktive chemische Verbindungen können bipolare, natürliche chemische Verbindungen eingesetzt werden, die als Seifen bezeichnet werden, wie beispielsweise Stearate, Oleate, Palmitate oder Laureate, es können aber auch synthetische Verbindungen wie beispielsweise Sulfonsäuren, und da insbesondere Toluolsulfonsäure oder Laurinsulfonsäure, oder Aminoalkohole, Polyalkohole und dergleichen eingesetzt werden. Diese Verbindungen lagern sich chemisch-physikalisch an die Nanopartikel 4 an, in der Regel sind es Van der Waal′sche Kräfte, welche für diese Anlagerung sorgen. Die Nanopartikel 4 werden von einer oder einem Gemisch von zwei oder mehreren dieser den Abrieb bzw. die Reibung reduzierenden Verbindungen ganz oder zumindest teilweise eingehüllt.

In der Fig. 2 ist ein Schnitt durch ein Nanopartikel 4 mit seiner auf chemisch-physikalischem Weg angelagerten Hülle aus einer oberflächenaktiven chemischen Verbindung schematisch dargestellt. Das Nanopartikel 4 ist beispielsweise aus Al₂O₃, ZrO oder TiO₂ nach einem der bekannten Verfahren hergestellt worden. An das Nanopartikel 4 ist direkt Sauerstoff O ange lagert und an den Sauerstoff O eine Kohlenwasserstoff verbindung R₁. An die Kohlenwasserstoffverbindung R₁ ist hier beispielsweise ein Aminoalkohol NH₂ angelagert, welcher als die entscheidende Komponente für die Reduktion des Abriebs bzw. der Reibung anzusehen ist, wenn dieses Nanopartikel 4 in die erste Metallschicht 3 eingelagert ist. An das Nanopartikel 4 sind jedoch zusätzlich auch Hydroxylgruppen OH direkt ange lagert, der Wasserstoff für diese Hydroxylgruppen wird durch den angelagerten Sauerstoff O aus dem Wasser des galvanischen Bades geholt. Die Wasserstoffionen dieser Hydroxylgruppen OH sind positiv geladen, so daß das Nanopartikel 4 insgesamt eine positive elektrische Ladung aufweist. Die so positiv geladenen Nanopartikel 4 wandern im elektrischen Feld des galvanischen Bades zur Kathode, ebenso wie die gelösten Metalle, und lagern sich dort gemeinsam mit diesen an dem zu beschichtenden Teil 1 ab. Auf diese Art wird ohne zusätzliche Hilfsmittel eine sehr homogene Verteilung der Nanopartikel 4 in der ersten Metall schicht 3 erreicht, was eine gleichmäßige Schmierwirkung durch die Hülle der eingelagerten Nanopartikel 4 zur Folge hat.

Auch die nichtoxidischen Nanopartikel 4, welche Nitride, Boride, Karbide und Metalle als Grundstoffe aufweisen, überziehen sich in der normalen Atmosphäre mit einer hauch dünnen Oxidschicht, welche nach dem Einbringen dieser Nano partikel 4 in ein galvanisches Bad die selben chemisch- physikalischen Oberflächenreaktionen ermöglicht, wie sie weiter oben im Zusammenhang mit der Darstellung des Nano partikels 4 in der Fig. 2 beschrieben sind.

Viele dieser Verbindungen werden in herkömmlichen galvanischen Bädern bereits als Netzmittel verwendet, ihre zusätzliche vorteilhafte Einsatzmöglichkeit als Mittel für die Reduktion des Abriebs bzw. der Reibung konnte bisher jedoch nicht ausge nutzt werden. Erst durch die Kombination mit den Nanopartikeln 4, die ein Anlagern dieser Verbindungen aus einem chemisch- physikalischen Weg in einer für eine gute Schmierung ausrei chenden Menge erlauben, und die selbst keine Kanten aufweisen, welche die so erzeugte Schmierwirkung wieder zunichte machen könnten, kommt die vorteilhafte Reduktion des Abriebs bzw. der Reibung voll zur Geltung. Die erste Metallschicht 3 ist demnach als eine selbstschmierend wirkende Schicht zu betrachten.

Derartige Beschichtungen können vorteilhaft als Kontaktober flächen in Kontaktanordnungen eingesetzt werden. Es ist eine Vielzahl von speziellen Anwendungen dieser Beschichtungen vorstellbar. Das beschichtete Teil 1 kann in einer Kontaktie rungsbaugruppe als feststehende oder vergleichsweise langsam bewegte Komponente mit einer beweglichen, auf diesem Teil 1 gleitenden oder abrollenden, metallischen Komponente zusammen wirken. Das Teil 1 kann beispielsweise als feststehender Nenn stromkontakt eines Leistungsschalters ausgebildet sein, und als auf diesem feststehenden Kontakt gleitende Komponente kann ein mit versilberten Fingern oder mit versilberten Spiralkon takten ausgerüsteter beweglicher Gegenkontakt vorgesehen sein. Einerseits können durch diese neuartig versilberten Kontakte die Kontaktübergänge in Leistungsschaltern und in Energie verteilungsanlagen verbessert werden, andererseits können beispielsweise auch die mit Gold beschichteten Kontaktpartien in Relais haltbarer gemacht, bzw., bei gleicher Lebensdauer, mit einer dünneren Beschichtung versehen werden, was bei der enormen Stückzahl derartiger Kontakte zu erheblichen Materialeinsparungen führt.

Für den Einsatz in versilberten Kontaktzonen in metallge kapselten gasisolierten Schaltanlagen, die mit SF₆-Gas gefüllt sind, lassen sich besonders vorteilhaft Nanopartikel 4 auf der Basis von Karbiden und Metallen verwenden, die mit Hilfe eines der bekannten Verfahren aufbereitet wurden. Diese Nanopartikel 4 weisen eine Größe von etwa 5 nm bis 50 nm auf. Diese Nano partikel 4 sind gegen die Zersetzungsprodukte des in der Regel in diesen metallgekapselten gasisolierten Schaltanlagen als Isoliermittel und als Löschmittel für den Lichtbogen verwende ten Schwefelhexafluorids beständig, so daß die Schmierfähig keit der ersten Metallschicht 3 durch diese Zersetzungs produkte nicht reduziert wird. Durch die an diese Nanopartikel 4 angelagerten Verbindungen wird eine besonders lange Lebens dauer der Kontakte erreicht. Der hier auftretende Abrieb besteht aus vergleichsweise kleinen Abriebpartikeln, es treten keine Abriebpartikel der kritischen Größe auf, welche in dem in den metallgekapselten gasisolierten Hochspannungsanlagen herrschenden elektrischen Feld wandern und Überschläge verursachen könnten.

Derartige Beschichtungen können auch vorteilhaft als Oberflä chen für Gleitlager oder sonstige mechanisch beanspruchten Lagerstellen eingesetzt werden. Bei einer Lagerstelle ist das Teil 1 als feststehende oder vergleichsweise langsam bewegte Komponente ausgebildet, die mit einer beweglichen, auf diesem Teil 1 gleitenden oder abrollenden, metallischen Komponente zusammenwirkt.

Es ist auch möglich, Gebrauchsgegenstände, wie beispielsweise Eßbesteck, Schmuck, Modeschmuck aus Plastik und dergleichen mit der erfindungsgemäßen Beschichtung zu versehen, um so deren Haltbarkeit zu verbessern bzw. um Material für die Beschichtung einzusparen. Bei versilbertem Eßbesteck ist die erste Metallschicht 3, wie beschrieben, mit Nanopartikeln 4 samt den Abrieb reduzierenden Anlagerungen versehen, und die darüberliegende Deckschicht 5 ist eine Hochglanzversilberung.

Diese Deckschicht 5 wird sich im Laufe der Zeit an den am meisten beanspruchten Stellen durchscheuern, so daß dort die erste Metallschicht 3 zum Vorschein kommt. Dank der Dotierung mit den umhüllten Nanopartikeln 4 ist diese erste Metall schicht 3 jedoch so abriebfest, daß die weitere Abnutzung des Eßbestecks extrem verlangsamt wird, während der optische Eindruck des Bestecks nur unwesentlich beeinträchtigt ist.

Das Verfahren zur Herstellung von abriebbeständigen galvani schen Schichten auf Teilen 1, weist die folgenden Verfahrens schritte auf:

a) Einbringen von Nanopartikeln in ein erstes galvani sches Bad, welches ständig umgerührt wird,
b) Einbringen von sich an diese Nanopartikel anlagernden Partikel aus einem Stoff auf der Basis von oberflächen aktiven chemischen Verbindungen in das erste galvanische Bad,
c) Einbringen eines zu beschichtenden Teiles 1 in das erste galvanische Bad,
d) Durchführen eines elektrolytischen Beschichtungs vorgangs bis eine erste, überwiegend metallische Schicht auf das Teil 1 aufgebracht ist, und
e) Entnehmen des Teiles 1 aus dem galvanischen Bad.

Das Teil 1 ist nun mit der ersten Metallschicht 3 überzogen. Diese erste Metallschicht 3 kann als einschichtiges Gebilde oder auch aus mehreren gleichartigen Schichten aufgebaut sein. Grundsätzlich ist es auch möglich, diese erste Metallschicht 3 aus mehreren Schichten aus verschiedenen Metallen aufzubauen, wobei jedoch jede dieser Schichten mit Nanopartikeln 4 dotiert ist. Wird diese erste Metallschicht 3 in einem Lager einge setzt, so ist in der Regel ein Überziehen mit einer zusätzli chen Deckschicht 5 nicht vorgesehen. Die volle Wirkung der an die Nanopartikel 4 angelagerten, schmierend wirkenden Verbindungen ist so von Anfang an gewährleistet.

Wird das beschichtete Teil 1 beispielsweise für eine Kontakt anordnung verwendet, so wird die erste Metallschicht 3 mit einer metallischen Deckschicht 5 überzogen und die nachfolgen den Verfahrensschritte schließen sich an die oben bereits aufgelisteten Verfahrensschritte an:

f) Einbringen des beschichteten Teiles 1 in ein zweites galvanisches Bad,
g) Durchführen mindestens eines weiteren elektrolytischen Beschichtungsvorgangs bis eine zweite, die erste Schicht vollständig überdeckende, metallische Deckschicht 5 auf das Teil 1 aufgebracht ist, und
h) Entnehmen des mit zwei Schichten überzogenen Teiles 1 aus dem zweiten galvanischen Bad.

Im ersten und im zweiten galvanischen Bad ist mehrheitlich das gleiche Metall gelöst, es ist aber auch möglich, wenn spezielle Anwendungen dies erfordern, daß in einem oder auch in beiden galvanischen Bädern mindestens zwei unterschiedliche Metalle gelöst sind. Die Härte der jeweiligen Metallschicht kann so mit einfachen Mitteln den jeweiligen Betriebs anforderungen angepaßt werden.

Von den Nanopartikeln 4 werden 0,002 bis 0,20 Gewichtsprozent in das erste galvanische Bad eingebracht. Es hat sich gezeigt, daß dann eine optimale Zusammensetzung der ersten Metall schicht 3 erreicht wird. Von dem Stoff auf der Basis von ober flächenaktiven chemischen Verbindungen wird eine vergleichs weise geringe, an die Menge der Nanopartikel 4 angepaßte, Menge in das erste galvanische Bad eingebracht, dabei wird darauf geachtet, daß dieser Stoff kontinuierlich zudosiert wird. Werden die Mengen der Nanopartikel 4 und dieses Stoffes nicht aneinander angepaßt, so tritt häufig ein unerwünschtes Verklumpen der Nanopartikel 4 auf, was zur Folge hat, daß diese Klumpen im galvanischen Bad absinken, die homogene Verteilung der Nanopartikel 4 in der ersten Metallschicht 3 ist dann nicht mehr gewährleistet. Wird jedoch auf die Anpassung der erwähnten Mengen geachtet, so wird die Konzentration des galvanischen Bades nicht nennenswert beeinflußt.

Bezugszeichenliste

1 Teil
2 Grundmaterial
3 erste Metallschicht
4 Nanopartikel
5 Deckschicht
6 Oberfläche
O Sauerstoff
R₁ Kohlenwasserstoffverbindung
NH₂ Aminoalkohol
OH Hydroxylgruppe

Claims

1. Teil mit einer galvanisch aufgebrachten, gegen mechanischen Abrieb beständigen Beschichtung, dadurch gekennzeichnet,

- daß in mindestens eine erste Metallschicht (3) der Beschichtung homogen verteilte Nanopartikel (4) eingelassen sind, welche mit mindestens einem, den Abrieb bzw. die Reibung reduzierenden Stoff chemisch- physikalisch verbunden sind.

2. Teil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,

- daß die mindestens eine erste Metallschicht (3) vollständig mit einer metallischen Deckschicht (5) überzogen ist.

3. Teil nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,

- daß die metallische Deckschicht (5) eine größere Härte aufweist als die erste Metallschicht (3).

4. Teil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,

- daß als der mindestens eine Stoff, der den Abrieb bzw. die Reibung reduziert, ein Stoff auf der Basis von oberflächenaktiven chemischen Verbindungen gewählt wird.

5. Teil nach einem der voranstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,

- daß das Teil (1) in einer Kontaktierungs- oder Lagerbaugruppe als feststehende oder vergleichsweise langsam bewegte Komponente mit einer beweglichen, auf diesem Teil gleitenden oder abrollenden, metallischen Komponente zusammenwirkt.

6. Teil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,

- daß die Nanopartikel (4) eine Partikelgröße im Bereich von 5 nm bis 50 nm aufweisen.

7. Teil nach einem der Ansprüche 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet,

- daß die erste Metallschicht (3) überwiegend Silber als metallische Matrix aufweist, und
- daß die metallische Deckschicht (5) als Hartversilberung ausgeführt ist.

8. Teil nach einem der Ansprüche 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet,

- daß die erste Metallschicht (3) eine Dicke im Bereich von 5 µm bis 15 µm aufweist, und
- daß die metallische Deckschicht (5) eine Dicke im Bereich um 2 µm aufweist.

9. Teil nach einem der Ansprüche 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet,

- daß die erste Metallschicht (3) und die metallische Deckschicht (5) aus unterschiedlichen Metallen oder Metallegierungen bestehen.

10. Teil nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,

- daß als oberflächenaktive chemische Verbindung entweder bipolare, natürliche chemische Verbindungen eingesetzt werden, die als Seifen bezeichnet werden, oder synthetische Verbindungen wie Sulfonsäuren oder Aminoalkohole oder Polyalkohole.

11. Teil nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet,

- daß als bipolare, natürliche chemische Verbindungen Stearate, Oleate, Palmitate oder Laureate eingesetzt werden, und
- daß als Sulfonsäuren insbesondere Toluolsulfonsäure oder Laurinsulfonsäure eingesetzt werden.

12. Teil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,

- daß als Teil (1) ein Gebrauchsgegenstand vorgesehen ist.

13. Verfahren zur Herstellung von abriebbeständigen galvanischen Schichten auf Teilen, welches die folgenden Verfahrensschritte aufweist:

a) Einbringen von Nanopartikeln (4) in ein erstes galvanisches Bad, welches ständig umgerührt wird,
b) Einbringen von sich an diese Nanopartikel (4) anlagernden Partikel aus einem Stoff auf der Basis von oberflächenaktiven chemischen Verbindungen in das erste galvanische Bad,
c) Einbringen eines zu beschichtenden Teiles (1) in das erste galvanische Bad,
d) Durchführen eines elektrolytischen Beschichtungsvorgangs bis eine erste, überwiegend metallische Schicht (3) auf das Teil (1) aufgebracht ist, e) Entnehmen des Teiles (1) aus dem galvanischen Bad.

14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet,

- daß das Teil (1) in ein zweites galvanisches Bad eingebracht wird,
- daß mittels mindestens eines weiteren elektrolytischen Beschichtungsvorgangs eine zweite, die erste Schicht (3) vollständig überdeckende, metallische Deckschicht (5) auf das Teil (1) aufgebracht wird, und
- daß danach das mit den zwei Schichten (3, 5) überzogene Teil (1) aus dem zweiten galvanischen Bad entnommen wird.

15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet,

- daß im ersten und im zweiten galvanischen Bad mehrheitlich das gleiche Metall oder in mindestens einem der beiden Bäder mindestens zwei unterschiedliche Metalle gelöst sind.

16. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet,

- daß als Basis für die Nanopartikel (4) ein einziger chemischer Stoff oder ein Gemisch von mindestens zwei chemischen Stoffen dient.

17. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet,

- daß ein Teil des chemischen Stoffes oder ein Teil des Gemisches aus einem gröber strukturierten Material ausgeführt sind.

18. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet,

- daß von den Nanopartikeln (4) 0,002 bis 0,20 Gewichtsprozent in das erste galvanische Bad eingebracht werden, und
- daß von dem Stoff auf der Basis von oberflächenaktiven chemischen Verbindungen eine an die Menge der Nanopartikel (4) angepaßte Menge in das erste galvanische Bad eingebracht wird.