DE19503703A1 - Verfahren zur Herstellung von porösen anorganischen Schichten auf porösen anorganischen Substraten - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von porösen anorganischen Schichten auf porösen anorganischen SubstratenInfo
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Description
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zur
Herstellung von Ultrafiltrationsmembranen (UF-Membranen)
sowie UF-Membranen aus Materialien, die kein ausgeprägtes
Sol-Gel-Verhalten aufweisen.
Ultrafiltrationsmembranen sind bekannt und werden bei
spielsweise eingesetzt für die Reinigung gebrauchten Öls.
Solche UF-Membranen sind aus feinsten Partikeln im Bereich
von einigen nm bis ca. 100 nm aufgebaut, die auf poröse
Trägermaterialien aufgebracht sind. Um solche Schichten auf
poröse Trägerkörper aufzubringen, muß verhindert werden,
daß die feinen Partikel in das poröse Substrat eindringen.
Im Stand der Technik beschrieben ist die Herstellung sol
cher Membranen durch die sogenannte Sol-Gel-Technologie.
Hierbei wird das als Sol vorliegende Material, beispiels
weise gamma-Al₂O₃, mit einem porösen Träger in Kontakt
gebracht. Der infolge der Kapillarkräfte des Substrates
stattfindende Lösungsmittelentzug führt dazu, daß das Sol
in den Gel-Zustand übergeht. Der Sol-Gel-Übergang ist mit
einem steilen Anstieg der Viskosität verbunden, der sich
dadurch erklärt, daß die im Sol vorliegenden Einzelpartikel
im Gel vernetzt vorliegen. Die aus gamma-Al₂O₃ bestehenden
Membranen sind jedoch aufgrund ihrer geringen Korrosions
beständigkeit für den praktischen Einsatz nur bedingt ver
wendbar. Nachteilig wirkt sich bei der Anwendung des Sol-
Gel-Verfahrens aus, daß durch den Lösungsmittelentzug bzw.
bei der Trocknung Spannungsrisse auftreten, die die Quali
tät der Membran nachteilig beeinflussen. Zur Vermeidung
solcher Risse wird dem Sol in manchen Fällen ein Bindemit
tel zugesetzt. UF-Membranen aus Partikeln, die kein ausge
prägtes Sol-Gel-Verhalten aufweisen, sind nach diesem Ver
fahren nicht erhältlich.
Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung bestand darin, ein
Verfahren zur Herstellung von UF-Membranen bereitzustellen,
das die aus dem Stand der Technik bekannten Nachteile be
seitigt. Eine weitere Aufgabe bestand darin, UF-Membranen
aus Materialien bereitzustellen, die kein ausgeprägtes Sol-
Gel-Verhalten aufweisen.
Gelöst wurden die Aufgaben durch die Kennzeichen der An
sprüche 1 und 7 und die darauf rückbezogenen Unteransprü
che.
Gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren wird "in-situ" eine
Folie aus vernetztem Bindemittel auf einem porösen Träger
hergestellt, das die Membran bildenden feinen Partikel ent
hält. Die "in-situ"-Folie aus vernetztem Bindemittel ent
steht durch das an dem porösen Träger sich einstellende
Konzentrationsgefälle. Wird die bindemittelhaltige Lösung
mit feinteiligen Partikeln versetzt, so werden diese Parti
kel mit in die "in-situ"-Folie eingebaut. Nach Entfernen
des Bindemittels, beispielsweise durch Ausbrennen, bleibt
eine poröse Membranschicht auf dem porösen Substrat zurück.
Die Porengröße dieser Membran läßt sich in weiten Bereichen
durch die Partikelgröße der eingesetzten anorganischen Par
tikel, sowie durch die thermische Behandlung steuern. Die
Schichtdicke wird beeinflußt durch die Dauer des Kontakts
der bindemittelhaltigen Lösung mit dem porösen Träger. Das
erfindungsgemäße Verfahren läßt sich insbesondere zur Her
stellung poröser Membranschichten aus zirkon- und titan
oxidhaltigen Systemen einsetzen, da diese Systeme keinen
ausgeprägten Sol-Gel-Übergang zeigen.
Gegenüber den konventionellen Sol-Gel-Verfahren zur Her
stellung von keramischen Membranen auf anorganischen Stütz
körpern zeichnet sich das erfindungsgemäße Verfahren da
durch aus, daß rißfreie Membranen ohne Einhaltung speziel
ler Trocknungsbedingungen (z. B. Temperaturgradienten oder
Feuchtegehalte der Trockenluft etc.) erhalten werden.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren werden anorganische
Partikel, beispielsweise Oxide oder Nichtoxide wie alpha-
Al₂O₃, Vorprodukte reaktiver Tonerde, reaktive Tonerde
selbst, ZrO₂, MgO, SiO₂, Aluminiumtitanat, Mullit, Cor
dierit, Kaolin, Titanhydroxid, Titancarbid, Titannitrid,
Titancarbonitrid, Titandiborid, Zirkoniumdiborid, Titan-
Zirkon-diborid, Aluminiumnitrid, Siliziumnitrid oder bei
spielsweise schwerlösliche anorganische Verbindungen wie
BaSO₄ oder Mischungen derselben in Form feinster Partikel
eingesetzt. Die gewünschten Partikelgrößen von etwa 1 bis
300 nm, vorzugsweise 10 bis 100 nm werden beispielsweise
erhalten durch Detonationszerkleinerung, durch Intensiv-
Mahlprozesse, Präzipitationsverfahren oder Gasphasenprozes
se. Als Bindemittel werden solche, die hydrophil und was
serlöslich sind und filmbildende Eigenschaften aufweisen,
eingesetzt. Voraussetzung für ihre Eignung ist, daß der
entstehende Film bei Lösungsmittelentzug duktil bleibt und
daß sie durch den Sinterprozeß auszubrennen sind. Einge
setzt werden können beispielsweise Polyvinylalkohol, Methyl
cellulose, Hydroxypropylcellulose, Polyacrylate und deren
Mischungen, gegebenenfalls werden zusätzlich Weichmacher
hinzugefügt, wie beispielsweise niedermolekulares PEG oder
Glycerin. Die feinen Partikel werden in wäßriger Lösung
beispielsweise unter Verwendung von Ultraschallwellen sus
pendiert und anschließend mit der bindemittelhaltigen Lösung
versetzt. Bevorzugt eingesetzt wird eine Mischung aus Cel
lulose und Polyvinylalkohol.
Zur Herstellung einer für die Beschichtung geeigneten
Suspension wird ein Gehalt der Beschichtungssuspension an
den obengenannten anorganischen Partikeln im Bereich von
0,1 bis 5 Gew.-% eingestellt. Besondere Bedeutung kommt dem
auf den Feststoffgehalt bezogenen Anteil an Bindemitteln im
Hinblick auf die zu bildende, die obengenannten anor
ganischen Partikel enthaltende Folie, zu. Das Gewichtsver
hältnis von anorganischen Partikeln zum Bindemittel liegt
hierbei im Bereich von 0,2 : 1 bis 3 : 1, vorzugsweise im
Bereich von 0,4 : 1 bis 3 : 1, vorzugsweise im Bereich von
0,4 : 1 bis 1,5 : 1.
Die Suspension wird mit dem porösen Trägermaterial für ei
ne, je nach gewünschter Schichtdicke definierte Zeit in
Kontakt gebracht und darauf vom Trägerkörper entfernt. Die
Beschichtung des Trägerkörpers kann durch Eintauchen in die
Suspension oder durch Überstreichen/Übergießen erfolgen, wo
bei mit oder ohne Druckdifferenz gearbeitet werden kann.
Die auf dem Trägerkörper fest haftende "in-situ" erzeugte
Schicht (Folie), die die anorganischen Partikel enthält,
wird an der Luft getrocknet und anschließend versintert.
Lufttrocknung kann beispielsweise bei Raumtemperatur, bei
50°C oder auch bei höheren Temperaturen durchgeführt wer
den. Die Porengröße der UF-Membran wird bevorzugt auf 3 bis
100 nm eingestellt. Die Einstellung erfolgt in erster Linie
durch die Auswahl der Korngröße der eingesetzten Partikel.
Beeinflußt wird die Porengröße jedoch auch durch die Sin
terbedingungen. So kann die Porengröße der Membran durch
die Zugabe von Substanzen, die das Kornwachstum beeinflus
sen, eingestellt werden. Um während des Sintervorganges ein
unerwünschtes, diskontinuierliches Kornwachstum einzelner
Körner der Membran zu verhindern, können, je nach einge
setzten anorganischen Partikeln, kornwachstumshemmende Addi
tive, wie z. B. bei alpha-Al₂O₃ das MgO verwendet werden.
Diese kornwachstumshemmenden Additive können in fester Form
oder als Salzlösung eingesetzt werden. Das Ausbrennen der
Bindemittel und die innige Verbindung der verbleibenden UF-
Membran mit dem Stützkörper erfolgt durch einen Sinterpro
zeß, bei dem vorzugsweise Temperaturen von 400 bis 1300°C
und Haltezeiten von 10-300 Minuten angewendet werden. Als
Stützkörpermaterialien können die für UF-Membranen üblichen
Materialien verwendet werden. Im allgemeinen werden korro
sionsbeständige Materialien, vorzugsweise alpha-Al₂O₃ ein
gesetzt. Die Porengröße des Stützkörpers sollte nicht mehr
als 10 mal so groß sein wie die Partikelgröße der suspen
dierten Teilchen.
Die nachfolgenden Beispiele sollen die Erfindung erläutern,
ohne sie jedoch einzuschränken.
Ein durch Intensivmahlung hergestelltes alpha-Al₂O₃ mit
einer Korngröße von 100 nm wird in einer wäßrigen Lösung
unter Verwendung von Ultraschallwellen suspendiert und an
schließend mit einer bindemittelhaltigen Lösung versetzt.
Die Lösung besteht aus Polyvinylalkohol (Verseifungsgrad
98%; Molekulargewicht 72 000), Hydroxypropylcellulose (Mo
lekulargewicht 100 000) und Wasser. Die zur Erzeugung der
Membran eingesetzte Mischung setzt sich zusammen aus:
3,0 Gew.-% alpha-Al₂O₃
1,2 Gew.-% Polyvinylalkohol
0,7 Gew.-% Hydroxypropylcellulose und
ad 100,0 Gew.-% Wasser.
1,2 Gew.-% Polyvinylalkohol
0,7 Gew.-% Hydroxypropylcellulose und
ad 100,0 Gew.-% Wasser.
Die Suspension wird mit dem porösen Trägermaterial 120 Se
kunden lang in Kontakt gebracht und darauf vom Trägerkörper
entfernt. Als poröses Trägermaterial wird eine mikroporöse
alpha-Al₂O₃ Membran mit einer Porengröße von 0,2 µm verwen
det, die über eine Zwischenschicht aus alpha-Al₂O₃ mit ei
ner Porengröße von 1 µm auf einem alpha-Al₂O₃ Träger (Mehr
kanal oder Rohr) mit einer Porengröße von 6 µm gebunden
ist. Die auf dem Trägerkörper fest haftende "in-situ" erzeug
te Schicht (Folie), die die alpha-Al₂O₃ Partikel enthält,
wird bei Raumtemperatur für 24 Stunden an der Luft getrock
net und anschließend 1 Stunde bei 800°C versintert. Die so
hergestellte Membran weist eine Schichtdicke von 4 µm und
eine mittlere Porengröße von 60 nm auf.
Aus einer Titanylsulfatlösung wird Titanhydroxid ausgefällt
und dispergiert. Die Suspension mit einer Partikelgröße von
30 nm wird durch Verdünnung auf einen Oxidgehalt von 0,5
Gew.-% eingestellt. 15 ml dieser Suspension werden mit 5 ml
einer wäßrigen Lösung, mit einem Gehalt von 0,25 Gew.-%
Polyvinylalkohol (Verseifungsgrad 98%; Molekulargewicht
72 000) und 10 ml einer 0,75%igen Hydroxypropylcelluloselö
sung (Molekulargewicht 100 000), versetzt und durch Rühren
vermischt. Diese Suspension wird mit dem porösen Träger
material 60 Sekunden lang in Kontakt gebracht. Als Träger
matematerial kann die in Beispiel 1 eingesetzte verwendet
werden.
Die auf dem Trägerkörper fest haftende "in-situ" erzeugte
Folie, die die Titanhydroxid-Partikel enthält, wird bei
35°C für 8 Stunden an der Luft getrocknet und anschließend
mit dem Trägermaterial 2 Stunden bei 450°C versintert. Die
so hergestellte Membran weist eine Schichtdicke von 1,5 µm
auf und besitzt für Molekulargewichte 6.000, z. B. für
Polyethylenglykol, ein Rückhaltevermögen von < 98%.
Claims (13)
1. Verfahren zur Herstellung einer Ultrafiltrationsmem
bran, dadurch gekennzeichnet,
daß "in-situ" eine Folie aus vernetztem Bindemittel,
das feinste anorganische Partikel enthält, auf einem
porösen Träger hergestellt wird und daß das Bindemit
tel durch Sintern ausgebrannt wird.
2. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß als anorganische Partikel Oxide oder Nichtoxide
wie alpha-Al₂O₃, Vorprodukte reaktiver Tonerde, re
aktive Tonerde selbst, ZrO₂, MgO, SiO₂, Aluminiumti
tanat, Mullit, Cordierit, Kaolin, Titanhydroxid, Ti
tancarbid, Titannitrid, Titancarbonitrid, Titandibo
rid, Zirkoniumdiborid, Titan-Zirkon-diborid, Alumi
nium-nitrid, Siliziumnitrid oder beispielsweise
schwerlösliche anorganische Verbindungen wie BaSO₄
oder Mischungen derselben eingesetzt werden.
3. Verfahren gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß die anorganischen Partikel mittlere
Partikelgrößen von 1 bis 300 mm aufweisen.
4. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, da
durch gekennzeichnet, daß als Bindemittel Poly
vinylalkohol, Hydroxypropylcellulose oder deren
Mischungen eingesetzt werden.
5. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, da
durch gekennzeichnet, daß das Gewichtsverhältnis
von anorganischen Partikeln zum Bindemittel im Be
reich von 0,2 : 1 bis 3 : 1, vorzugsweise im Be
reich von 0,4 : 1 bis 1,5 : 1 liegt.
6. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, da
durch gekennzeichnet, daß die "in-situ"-Schicht
bei einer Temperatur von 400 bis 1300°C und einer
Haltezeit von 10 bis 300 min. versintert wird.
7. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, da
durch gekennzeichnet, daß die Porengröße der Mem
bran durch den Zusatz von Kornwachstumshemmern
eingestellt wird.
8. Ultrafiltrationsmembran herstellbar nach einem
der Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7.
9. Ultrafiltrationsmembran, dadurch gekennzeichnet,
daß sie aus anorganischen Materialien besteht,
die kein ausgeprägtes Sol-Gel-Verhalten aufwei
sen.
10. Ultrafiltrationsmembran gemäß Anspruch 9, da
durch gekennzeichnet, daß sie aus ZrO₂ oder
TiO₂ besteht.
11. Ultrafiltrationsmembran gemäß Anspruch 9, da
durch gekennzeichnet, daß sie aus BaSO₄ besteht.
12. Ultrafiltrationsmembran, dadurch gekennzeichnet,
daß sie aus alpha-Al₂O₃ besteht, eine Schicht
dicke von 4 µm und eine mittlere Porengröße von
60 nm aufweist.
13. Ultrafiltrationsmembran, dadurch gekennzeichnet,
daß sie aus TiO₂ besteht, eine Schichtdicke von
0,5 bis 3 µm und ein Rückhaltevermögen für Mole
kulargewichte 6000 von < 98% aufweist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19503703A DE19503703A1 (de) | 1994-02-07 | 1995-02-04 | Verfahren zur Herstellung von porösen anorganischen Schichten auf porösen anorganischen Substraten |
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DE4403568 | 1994-02-07 | ||
DE19503703A DE19503703A1 (de) | 1994-02-07 | 1995-02-04 | Verfahren zur Herstellung von porösen anorganischen Schichten auf porösen anorganischen Substraten |
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DE19503703A Ceased DE19503703A1 (de) | 1994-02-07 | 1995-02-04 | Verfahren zur Herstellung von porösen anorganischen Schichten auf porösen anorganischen Substraten |
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US4808311A (en) * | 1986-11-03 | 1989-02-28 | Millipore Corporation | Crystal growth process for preparing inorganic dynamic membranes |
JPH01274815A (ja) * | 1988-04-25 | 1989-11-02 | Toto Ltd | セラミックスフィルターの製造方法 |
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