DE1905958A1 - Process for improving the bond strength of a copper foil with a matt surface - Google Patents
Process for improving the bond strength of a copper foil with a matt surfaceInfo
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- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 64
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 title claims description 49
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 230000008569 process Effects 0.000 title description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 26
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 26
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 15
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims description 14
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 4
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 4
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 9
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 3
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- WYTGDNHDOZPMIW-RCBQFDQVSA-N alstonine Natural products C1=CC2=C3C=CC=CC3=NC2=C2N1C[C@H]1[C@H](C)OC=C(C(=O)OC)[C@H]1C2 WYTGDNHDOZPMIW-RCBQFDQVSA-N 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004812 Fluorinated ethylene propylene Substances 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920009441 perflouroethylene propylene Polymers 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
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- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/605—Surface topography of the layers, e.g. rough, dendritic or nodular layers
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- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/615—Microstructure of the layers, e.g. mixed structure
- C25D5/617—Crystalline layers
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- C25D5/627—Electroplating characterised by the visual appearance of the layers, e.g. colour, brightness or mat appearance
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- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/022—Processes for manufacturing precursors of printed circuits, i.e. copper-clad substrates
- H05K3/025—Processes for manufacturing precursors of printed circuits, i.e. copper-clad substrates by transfer of thin metal foil formed on a temporary carrier, e.g. peel-apart copper
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- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
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- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/382—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal
- H05K3/384—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal by plating
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/03—Conductive materials
- H05K2201/0332—Structure of the conductor
- H05K2201/0335—Layered conductors or foils
- H05K2201/0355—Metal foils
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- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/01—Tools for processing; Objects used during processing
- H05K2203/0147—Carriers and holders
- H05K2203/0152—Temporary metallic carrier, e.g. for transferring material
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/03—Metal processing
- H05K2203/0307—Providing micro- or nanometer scale roughness on a metal surface, e.g. by plating of nodules or dendrites
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0703—Plating
- H05K2203/0723—Electroplating, e.g. finish plating
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0703—Plating
- H05K2203/0726—Electroforming, i.e. electroplating on a metallic carrier thereby forming a self-supporting structure
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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Description
Es ist in der Technilc bekannt, daß man die Binde- · festigkeit einer Kupferfolie durch die -Bildung' einer matten Oberfläche auf wenigstens einer Seite der . \ genannten Folie verbessern kann. Beispielsweise ist in der US-Patentschrift 3 328 275 eine elektrochemischeIt is known in the T e chnilc in that the binder · strength of a copper foil by the formation 'of a matte surface on at least one side of the. \ said slide can improve. For example, in U.S. Patent 3,328,275, there is an electrochemical
zur Bildung
Behandlung /einer dendritischen Kupferelektroabscheidung
auf einer Oberfläche der Folie beschrieben, wodurch das Bindungsverhalten der Folie mit Bezug auf ein geeignetes
Substrat verbessert wird. Das dabei sich ergebende Produkt soll zum Gebrauch bei der Herstellung
von gedruckten elektronischen Schaltungen besonders geeignet sein. v For education
Treatment / a dendritic copper electrodeposition on a surface of the foil described, whereby the bonding behavior of the foil with respect to a suitable substrate is improved. The resulting product is said to be particularly suitable for use in the manufacture of printed electronic circuits. v
In ähnlicher Weise ist in der US-Patentschrift 3 220 897 ein Verfahren zur Bildung einer nodularisierten- oder sphärolithischen Kupferelektroabscheidung auf einer Oberfläche einer Kupferfolie beschrieben, die in ähnlicher Weise das Bindungsverhalten der Folie verbessern soll, um diese für die Herstellung von gedruckten elektronischen Schaltungen besonders brauchbar zu machen.Similarly, U.S. Patent 3,220,897 discloses a method of forming a nodularized or spherulitic copper electrodeposition a surface of a copper foil, which similarly improve the bonding behavior of the foil is intended to make them particularly useful for the production of printed electronic circuits.
Obgleich Arbeitsweisen, wie sie in den genannten. Patentschriften, beschrieben sind, der Verbesserung der Bindefestigkeit einer Kupferfolie dienen, wurde eine Schwierigkeit in Verbindung mit den genannten Produkten beobachtet, indem deren Bindefestigkeit zu einer Verschlechterung neigt, wenn das Substrat, an welches die behandelt-e Folie gebunden wird, an hohe Temperaturen,( z.B. 1770C (3500P) und darüber), während längerer Zeitdauern ausgesetzt wird. Da gedruckte Schaltungen, welchen eine derartige Kupferfolie einverleibt ist/ Although working methods like those mentioned. Patents, which are described, serve to improve the bonding strength of a copper foil, a problem has been observed in connection with the named products in that their bonding strength tends to deteriorate when the substrate to which the treated foil is bonded is exposed to high temperatures, (eg 177 0 C (350 0 P) and above), is exposed for longer periods of time. Since printed circuits, which such a copper foil is incorporated /
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nicht seIter/an so hoho Temperaturen während längerer Zeitdauern ausgesetzt werden, stellte diese Verschlechterung in der Bindefestigkeit eine beträchtliche Schwierigkeit dar.not sIde / at such high temperatures for long periods of time this deterioration in bond strength posed a considerable problem.
Gemäß der Erfindung wird das Problem der Verschlechterung der Bindefestigkeit einer Kupferfolie durch vollständiges Überziehen-der matten Oberfläche der Kupferfolie mit einem Metall, das bei erhöhten Temperaturen im wesentlichen gegenüber dem Substrat, an.'welches die genannte Folie gebunden werden soll, chemisch inert ist, gelöst, wobei jedoch ein derartiger Überzug im wesentlichen keine Änderung der ursprünglichen Bindefestigkeit der Kupferfolie an dem Substrat bewirkt.According to the invention, the problem of the deterioration in the bonding strength of a copper foil becomes complete Plating-the matte surface of the copper foil with one Metal, which at elevated temperatures essentially compared to the substrate, bound to the said film is to be, is chemically inert, dissolved, but such a coating essentially does not change the original Bond strength of the copper foil to the substrate causes.
Demgemäß besteht ein wesentlicher Zweck der Erfindung in der Schaffung eines neuartigen Verfahrens zur Verbesserung der Bindefestigkeit der matten Oberfläche einer Kupferfolie in der V/eise, daß die Bindefestigkeit im Verlauf einer längeren Aussetzung eines Schichtstoffes oder einer Schichtanordnung, die eine derartige Kupferiblie enthält, an erhöhte Temperaturen nicht abnimmt. Ein weiterer wichtiger Zweck der Erfindung ist die Schaffung eines neuartigen Verfahrens zurVerbesserung der Bindefestigkeit bei hoher Temperatur einer Kupferfolie durch Überziehen der matten Oberfläche dieser Folie mit einem Metall, das gegenüber dem Substrat bei erhöhten Temperaturen im wesentlichen chemisch inert ist und das bei vollständiger Bedeckung der genannten matten Oberfläche im wesentlichen keine Änderung in der Bindefestigkeit der genannten matten Oberfläche während deren Bindung an das Substrat bewirkt.Accordingly, an essential purpose of the invention is the creation of a novel method for improving the bond strength of the matt surface of a copper foil in the V / e that the bond strength in the course of prolonged exposure a laminate or a layer arrangement that such a copper library contains, at elevated temperatures not decreasing. Another important purpose of the invention is to provide a novel method for improving the Bond strength at high temperature of a copper foil by coating the matt surface of this foil with a metal, that is essentially chemically inert to the substrate at elevated temperatures and that at more complete Coverage of the above-mentioned matt surface has essentially no change in the bond strength of the above-mentioned mats Surface causes during its binding to the substrate.
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Noch ein weiterer wichtiger Zweck der Erfindung ist die Schaffung eines hauen Verfahrens zur Verbesserung der Bindefestigkeit einer Kupferfolie, die eine elektrochemisch gebildete matte Oberfläche aufweist, durch Überziehen dieser ' matten Oberfläche,vorzugsweise auf elektrochemischem Wege, mit einem Metall, das bei erhöhten Temperaturen gegenüber" einem an die genannte Kupferfolie zu bindenden Substrat inert ist, wobei jedoch der Überzug im wesentlichen keine Änderung, der anfänglichen oder ursprünglichen Bindefestigkeit der genannten matten Oberfläche bewirkt.Yet another important purpose of the invention is that To create a tough method for improving the bond strength of a copper foil that is an electrochemically formed one has a matt surface, by coating this' matt surface, preferably by electrochemical means, with a metal which at elevated temperatures compared to "a substrate to be bonded to the said copper foil is inert, but the coating will have essentially no change in initial or initial bond strength the said matt surface causes.
Ferner bezweckt die Erfindung die Schaffung einer neuartigen Kupferfolie, und einer diese Folie enthaltenden Schicht■ anordnung, wobei diese Folie eine verbesserte Bindefestigkeit unter lang anhaltenden Bedingungen von erhöhten Temperaturen urfer Beibehaltung der anfänglichen Bindefestigkeit aufweist. Das G-rundausgangsmaterial, das bei der Ausführung des Verfahrens gemäß der Erfindung zur Anwendung gelangt, ist eine Kupferfolie,- vorzugsweise in Form einer langgestreckten Bahn. Obgleich eine gewalzte oder eine mittels Elektroabscheidung erhaltene Kupferfolie verwendet werden kann, wird die letztere bevorzugt, obgleich die zur Anwendung gelangende besondere Form von Kupferfolie keinen Teil der Erfindung darstellt.Another object of the invention is to provide a novel one Copper foil, and a layer containing this foil arrangement, this film having improved bond strength under prolonged conditions of elevated temperatures urfer has retention of the initial bond strength. The basic starting material used in carrying out the method according to the invention is one Copper foil, - preferably in the form of an elongated sheet. Albeit rolled or electrodeposited obtained copper foil can be used, the latter becomes preferred, although the particular form of copper foil employed does not form part of the invention.
Zur Verbesserung der Bindefestigkeit der Kupferfolie wird die Folie zunächst einer Behandlung unterworfen, die in wirksamer Weise einer Aufrauhung von wenigstens einer ihrer Oberflächen dient., wobei diese Oberfläche mit einer matten Oberflächenbeschaffenheit zurückbleibt, deren Bindeverhalten gegenüber der unbehandelten Folie verbessert ist. To improve the bond strength of the copper foil the film is first subjected to a treatment that is more effective Way a roughening of at least one of its surfaces is used., This surface with a matt surface finish remains, the binding behavior of which is improved compared to the untreated film.
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Eine geeignete Behandlung für diesen Zweck ist z.B. in den vorstehend genannten US-Patentschriften beschrieben, auf welche hiermit Bezug genommen wird. Wie vorstehend angegeben, ist in beiden dieser Patentschriften ein. Verfahren zur elektrochemischen Bildung einer matten Kupferabscheidung auf wenigstens einer der Oberflächen einer Kupferfolie beschrieben. In jedem Fall besteht die so gebildete matte Kppferabscheidung aus einer mikrokristallinen Abscheidung, die eine pulverartige Beschaffenheit aufweist. Da das Verfahren zur Bildung dieser mikrokristallinen Kupferelektroabscheidung keinen Teil der Erfindung darstellt, ist es ausreichend, auf die in den genannten Patentschriften beschriebenen Arbeitsweisen Bezug 2U nehmen.Suitable treatment for this purpose is described, for example, in the aforementioned U.S. patents, to which reference is hereby made. As indicated above, in both of these patents there is a. procedure for the electrochemical formation of a matt copper deposit on at least one of the surfaces of a copper foil. In any case, the matt head deposit thus formed exists from a microcrystalline deposit that has a powdery texture. As the procedure to form this microcrystalline copper electrodeposition does not form part of the invention, it is sufficient to rely on the working methods described in the patents mentioned Refer to 2U.
Gemäß der Erfindung wird die auf diese Weise anfänglich behandelte Kupferfolie auf ihre?behandelten oder matten Oberfläche mit einem Metall überzogen, das gegenüber dem Sub-,strat, an welches die behandelte Kupferfolie schließlich gebunden werden soll, chemisch inert ist. Dieses Metall wird auf die matte Oberfläche der Kupferfolie in ausreichendem Ausmaß aufgebracht, um diese matte Oberfläche vollständig zu bedecken, jedoch mit einer ausreichend kleinen Dicke, so daß der Überzug im wesentlichen keine Abnahme in der Bindefestigkeit der Kupferfolie während deren Bindung an das Substrat zur Bildung einer Schichtanordnung herbeiführt. Dieses Merkmal kann in außerordentlich wirksamer Weise durch Elektroabscheidung eines Metallüberzugs auf die matte Oberfläche der Kupferfolie erreicht werden, wobei die Elektroabscheidung in einer Menge von etwa 0,2 bis 1,0 g/m Polienoberflache aufgebracht wird. Andererseits können, wenn auchAccording to the invention, this is initially done treated copper foil on its? treated or matte surface coated with a metal that is opposite to the substrate to which the treated copper foil is finally bound is to be chemically inert. This metal is sufficient on the matte surface of the copper foil Extent applied to completely cover this matte surface, but with a sufficiently small thickness, see above that the coating has essentially no decrease in the bond strength of the copper foil during its bond to the Brings substrate to form a layer arrangement. This feature can be extremely effective through Electrodeposition of a metal coating on the matt surface of the copper foil can be achieved, with the electrodeposition in an amount of about 0.2 to 1.0 g / m 2 Polienoberflache is applied. On the other hand, you can, albeit
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weniger wirksam, andere Arbeitsweisen zum Aufbringen des Metallüberzugs zur Anwendung gelangen, z.B. Dampfabscheidung ο.dgl.. . χ -less effective, different ways of applying the Metal coating, e.g. vapor deposition or the like ... χ -
Irgendein Metall/ das zweckmäßig und bequem auf die matte Oberfläche der Kupferfolie bis zu dem vorstehend genannten Ausmaß der Dicke abgeschieden werden kann und das gegenüber dem gewünschten Substrat, auf welches die Folie gebunden werden soll, chemisch inert ist, ist in Verbindung, mit der Erfindung brauchbar. Das bevorzugte Metall, für diesen Zweck ist Nickel. Andere Metalle, die zur Anwendung gelangen können, umfassen Kobalt, Chrom, rostfreier Stahl ο.dgl., wobei von diesen drei Kobalt und Chrom bevorzugt werden, da diese durch Elektroabscheidung aufgebracht werden können, obgleich ein Metall, z.B. rostfreier Stahl, ohne Schwierigkeit mittels Dampfabscheidungsarbeitsweisen o.dgl. aufgebracht werden kann.Any metal / that is functional and convenient to the matte surface of the copper foil can be deposited to the aforementioned extent of thickness and that opposite the desired substrate on which the foil is to be bound, is chemically inert, is in connection, useful with the invention. The preferred metal for this purpose is nickel. Other metals that are used can include cobalt, chromium, stainless steel, etc., Of these three, cobalt and chromium are preferred as these can be deposited by electrodeposition, although a metal such as stainless steel, without difficulty by means of vapor deposition procedures or the like. upset can be.
Wie vorstehend angegeben, wird gemäß der Erfindung nicht·.: nur die Schaffung eines neuartigen Verfahrens zur Herstellung einer Kupferfolie mit einer verbesserten Bindefestigkeit bei ■■". hoher Temperatur' und einer danach hergestellten Kupferfolie vorgesehen, sondern auch die Schaffung von Schichtstoffen oder Schichtanordnungen, die derartige auf ein geeignetes Substrat gebundene Kupferfolien umfassen. Wie ersichtlich, variiert das in&ieser Schichtanordnung verwendete besondere Substrat in Abhängigkeit von dem Gebrauchszweck, für welchen der Schichtstoff vorgesehen ist, und von den Gebrauchs- oder Arbeitsbedingungen, unter welchen ein derartiger Schichtstoff verwendetAs indicated above, according to the invention not only the creation of a novel process for the production of a copper foil with an improved bond strength at high temperature and a copper foil produced thereafter, but also the creation of laminates or layer arrangements, comprising such copper foils bonded to a suitable substrate As can be seen, the particular substrate used in this layer arrangement will vary depending on the purpose for which the laminate is intended and the conditions of use or working conditions under which such laminate is used
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wird. Besonders geeignete Substrate, die den Schichtstoff zur Verwendung bei der Bildung von gedruckten Schaltungen geeignet machen, umfassen nicht biegsame Träger, wie Teflonimprägnierte Glasfasern (Teflon, Warenbezeichnung für PoIytetrafluoräthylen), KeI-F-imprägnierte Glasfasern (11KeI-F", Warenbezeichnung für bestiiümte Fluorkohlenstoff produkte, einschließlich von Polymerisaten von Trifluorchlorethylen und bestimmten MischpAyinerisaten) o.dgl.. Biegsame Substrate umfassen Polyimide, z.B. siehe, die unter den Bezeichnungen "Kapton" und 11H-FiIm" bekannt sind (beide Materialien,hegestellt von du Pont, sind Polyimidharze, die durch Kondensieren von Pyromellitsäureanhydrid mit einem aromatischen Diamin gebildet werden). -will. Particularly suitable substrates which make the laminate suitable for use in the formation of printed circuits include non-flexible supports such as Teflon-impregnated glass fibers (Teflon, trade name for polytetrafluoroethylene), KeI-F-impregnated glass fibers ( 11 KeI-F ", trade name for particular fluorocarbon products including polymers of trifluorochloroethylene and certain MischpAyinerisaten) or the like .. Flexible substrates include polyimides such as see which are known under the designations "Kapton" and 11 H-FiIm "(both materials cherish up by du Pont, are Polyimide resins formed by condensing pyromellitic anhydride with an aromatic diamine). -
Die zum Bilden der behandelten Kupferfolie an das Substrat verwendeten Klebstoffe sind; solche, die üblicherweise für die jeweilige spezifische Anwendung verwendet werden, wobei "FEP" (ein ILuoriertes Äthylenpropylenharz in Form eines Mischpolymerisats von Tetrafluoräthylen und Hexafluorpropylen mit ähnlichen Eigenschaften wie Teflon) für Teflon und KeI-F besonders geeignet ist und gebräuchliche Epoxyharze für die anderen Materialien brauchbar sind. Das Verfahren" zum Binden der Kupferfolie an das Substrat wird in üblicher Weise ausgeführt und stellt !keinen Teil der Erfindung Ar. Einzelheiten über ein derartiges Binden sind z.B. in der US-Patentschrift J. 328 275 angegeben.The one used to form the treated copper foil to the substrate adhesives used are; those that are commonly used for the specific application can be used, whereby "FEP" (an I-fluorinated ethylene propylene resin in the form of a copolymer of tetrafluoroethylene and hexafluoropropylene with properties similar to Teflon) for Teflon and KeI-F is particularly suitable and common epoxy resins are useful for the other materials. The procedure "for tying the copper foil to the substrate is carried out in a conventional manner and does not form part of the invention. details such bonding is disclosed, for example, in U.S. Patent J. 328 275.
. . Die zweckmäßigste Arbeitsweise zum Aufbringen des Metallüberzugs auf die matte Oberfläche der Kupferfolie besteht darin,. . The most convenient way to apply the metal coating on the matte surface of the copper foil consists in
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daß man die Kupferfolie durch einen Elektrolyten in der Weise und .unter Anwendung einer Vorrichtung, wie sie in der US- Patentschrift ....... (US-Patentanmeldung Serial No. ^21 OkQ (196*0) beschrieben ist, durchführt, wobei hiermit auf diese US Patentschrift Bezug genommen wird. Das in dieser US Patentschrift beschriebene System umfaßt die Verwendung von Plattenanoden, wobei die Kupferfolie serpentinenartig in Nähe von derartigen Anoden durchgeführt wird.und durch eine geeignete Berührung zwischen "der Kupferfolie und leitenden Rollen oder Walzen die Kupferfolie in dem Stromkreis,kathodisch gemacht wird. Bei der Durchführung der Kupferfolie durch das System in der Weise, daß die matte Oberfläche ddr Folie der aktiven Oberfläche der Anoden gegenüberliegt, wird das als Überzug auf diese matte Oberfläche aufzubringende Metall· darauf aus dem Elektrolyten mittels Elektroabscheidung aufgebracht.that one passes the copper foil through an electrolyte in the manner and using a device as described in US patent specification ....... (US patent application Serial No. ^ 21 OkQ (196 * 0) , incorporated herein by reference. The system described in this US patent includes the use of plate anodes, the copper foil being passed in serpentine fashion in the vicinity of such anodes, and by suitable contact between "the copper foil" and conductive rolls or rollers When the copper foil is passed through the system with the matt surface and the foil facing the active surface of the anodes, the metal to be coated on this matt surface is made up of the electrolyte applied by means of electrodeposition.
Die praktische Ausführung der'Erfindung wird nachstehend mit Bezug auf die Elektroabscheidung von Nickel auf die matte Oberfläche einer Kupferfolie anhand von Beispielen näher erläutert. Practice of the invention is as follows with respect to the electrodeposition of nickel on the matte Surface of a copper foil explained in more detail using examples.
Beispiel 1 „--"'■Example 1 "-" '■
Bei diesem Versuch wurde eine Rolle von 28,35 g (1 ounce) Kupferfolie verwendet, die auf einer ihrer Flächen eine matte Oberfläche in Form einer mikrokristallinen pulverförmiger! Kupferelektroabscheidung der Art, wie sie allgemein z.B. in der US Patentschrift 3 220 897 beschrieben ist, besaß.A roll of 28.35 g (1 ounce) of copper foil was used in this experiment, which had a matt surface in the form of a microcrystalline powdery! Copper electrodeposition of the type commonly used e.g. B. in U.S. Patent 3,220,897.
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Das Kupfer wurde durch einen Nickelionen enthaltenden Elektrolyten in einer Elektrolysezelle der vorstehend angegebenen Art, wie sie insbesondere in der US Patentschrift (US Patentanmeldung Serial No. 421 049 beschrieben ist, geleitet. Der für diesen Zweck verwendete Elektrolyt bestand aus einem Chloridbad der Woods-Art, in welchem das Badvolumen von 4^4 Liter (115 gals) aus 109 kg (240 lbs.) Nickelchlorid und 54,8 Liter (14,5 gals)Salzsäure gebildet worden war. Zwei getrennte Ansätze wurden ausgeführt, wobei die Bedingungen in jedem Versuch wie nachstehend angegeben waren.The copper was replaced by a nickel ion containing Electrolytes in an electrolytic cell of the type specified above, as in particular in the US patent (U.S. Patent Application Serial No. 421,049 described is headed. The electrolyte used for this purpose consisted of a Woods-type chloride bath in which the Bath volume of 4 ^ 4 liters (115 gals) from 109 kg (240 lbs.) Nickel chloride and 54.8 liters (14.5 g as) hydrochloric acid had been. Two separate runs were carried out, with the conditions in each experiment as given below was.
Kupferfolie
vm/min)
(ft./min.)
Verweilzeit (Sek.)Speed of
Copper foil
vm / min)
(ft./min.)
Dwell time (sec.)
(4)
571.20
(4)
57
(4)
57 1.20
(4)
57
(A/9,3 dnr) (A/ft. )Current density p
(A / 9.3 dnr) (A / ft.)
Die Kupferfolie wurde serpentinenartig· durch den Elektrolyten in der vorstehend beschriebenen Weise geführt,wobei die matte Oberfläche der Folie den aktiven Oberflächen der Anoden (die aus löslichen Nickelblechen gebildet waren) ge-The copper foil became serpentine through the electrolyte guided in the manner described above, the matt surface of the film being the active surfaces of the Anodes (which were formed from soluble nickel sheets)
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genüberlag. Am Schluß der Versuche A und B wurde die mit Nickel überzogene Folie an einen Epoxyharz-imprägnierten Faserglasträger in üblicher Weise gebunden. Das Epoxyharz wurde in dessen "Ö-Stufe verwendet und wurde in Berührung mit der mit Nickel bedeckten Oberfläche der Folie unter einem Druck von etwa 35 kg/cm (500 psi) bei etwa 166 bis 1710C (330 bis 340°F) gehärtet. Die Enddicke des Schicht- - Stoffs betrug etwa 1,587 mm (l/l6 in.)* wobei die Folie fc etwa 0,038 mm (0,0015 in.) von dieser Gesamtdicke ausmachte.opposite. At the end of experiments A and B, the nickel-coated film was bonded to an epoxy resin-impregnated fiberglass support in the usual way. The epoxy resin was in the "east-stage uses and was cured in contact with the covered nickel surface of the film under a pressure of about 35 kg / cm (500 psi) at about 166-171 0 C (330 to 340 ° F) The final laminate thickness was about 1.587 mm (1/16 in.) * With the film fc being about 0.038 mm (0.0015 in.) Of that total thickness.
Der so bildete Schichtstoff wurde dann in 12,7 mm breite Streifen (one-half inch) geschnitten und dann Biege.-·"" festigkeitsprüfungen in folgender V/eise unterworfen: Bei einem ersten Versuch (dessen Ergebnisse in der nachstehenden Tabelle I als "anfängliches Ablösen" aufgeführt sind) wurde das Kupfer von dem Glastuchträger bei einem Ausmaß von 5,08 cm (2 inches) je Minute in senkrechter Richtung zu der Schichtanordnung abjelöst . Die erforderliche Kraft für das Ablösen oder Abschälen des Kupfers von dem Träger wurde auf einem Kraftmeßgerät abgelesen und in kg Kraft (lbs) gemessen. Diese Ablesung wurde verdoppelt, um die Ablösefestigkeit je 2,54 cm (inch)Breite des Schichtstoffes zu erhalten» The laminate so formed was then 12.7 mm wide strips (one-half inch) cut and then subjected to bending · "" strength tests in the following manner: On an initial attempt (the results of which are listed in Table I below as "Initial Peel" are) the copper from the glass cloth carrier in a 5.08 cm (2 inches) per minute in vertical dimensions Direction to the layer arrangement detached. The required Force for peeling or peeling the copper the backing was read on a force meter and measured in kilograms of force (lbs). This reading has been doubled to maintain the peel strength for every 2.54 cm (inch) width of the laminate »
Ein zweiter Bindefestigkeitsversuch (der in der nachstehenden Tabelle I als "Bedingung B" bezeichnet ist) wurde in gleicher Weise wie der "anfängliche Ablöse" - iest mit der Abänderung ausgeführt, daß, bevor das Kupfer von dem Träger in der angegebenen Weise abgelöst wurde, der Schichtstoff an ein Ölbad bei 260°C (5000F) während 10 Sek.A second bond strength test (identified as "Condition B" in Table I below) was carried out in the same manner as the "Initial Peel" - except that before the copper was peeled from the carrier in the manner indicated, the laminate in an oil bath at 260 ° C (500 0 F) for 10 sec.
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ausgesetzt wurde. Das Kupfer wurde jedoch in dem Träger bei Raumtemperatur abgelöst.was exposed. However, the copper was peeled off in the carrier at room temperature.
Bei einem dritten Bindefestigkeitsversuch (der in der nachstehenden Tabelle I mit "nach 7 Tagen bei 1500C" bezeichnet ist) wurde die erforderliche Kraft zum Ablösen des Kupfers von dem Träger in gleicher Weise wie in Verbindung mit der Prüfung der "anfänglichen Ablösung" mit der Abänderung gemessen, daß der Schichtstoff zuerst einer Temperatur von 15O0C während 7 Tagen ausgesetzt wurde, wobei die Messung wiederum bei Raumtemperatur erfolgte. Zur Gewinnung von sinnvolleren Ergebnissen wurden zwei getrennte Proben von jedem der Versuche A und B verwendet, wobei die Proben von dem Versuch,A in der nachstehenden Tabelle I als "A-l" und "A-2" bezeichnet sind und diejenigen aus dem Versuch B "B-I" und "B-2" angegeben sind.(Indicated in Table I below with "after 7 days at 150 0 C") at a third bond strength test, the force required was to peel the copper from the carrier in the same way as in connection with the examination of the "initial separation" Amendment measured, that the laminate was first exposed to a temperature of 15O 0 C for 7 days, whereby the measurement was carried out again at room temperature. To obtain more meaningful results, two separate samples from each of Trials A and B were used, with the samples from Trial A being labeled "Al" and "A-2" in Table I below and those from Trial B " BI "and" B-2 "are indicated.
Die hierbei erhaltenen Ergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle I aufgeführt..The results thereby obtained are shown below Table I listed ..
.) kß/2,54cmcondition
.) kß / 2.54cm
(lbs./in.'B.
(lbs./in. '
bei 1500CAfter 7 days
at 150 ° C
Ablösen
kK/2,54cm (lbs./in,Initial
Peel off
k K / 2.54cm (lbs./in,
90 9834/127 290 9834/127 2
Aus den vorstehenden Ergebnissen ist ersichtlich, daß, obgleich die.Bindefestigkeit der Proben in drei Fällen von den vier Proben urter dem mit"Bedingung B" betitelten Versuch abnahm, die Bindefestigkeit bei allen vier Proben nach der langen Aussetzung an eine erhöhte Temperatur zunahm, was gänzlich im Gegensatz dazu war, was aufgrund der bisherigen Fachkenntnis zu erwarten gewesen wäre.From the above results it can be seen that, although the bond strength of the samples in three cases of the four samples from the experiment titled "Condition B" decreased, the bond strength in all four samples the long exposure to an elevated temperature increased, which was completely in contrast to what was due to the previous Expertise would have been expected.
zweite Reiäe von Versuchen wurde unter variierenden Bedingungen ausgeführt, wobei wiederum das in Beispiel 1 beschriebene Chloridbad der Woods-Art verwendet wurde. Die Bedingungen, unter welchen die Versuche.ausgeführt wurden, waren wie folgt:The second series of attempts was varied among Conditions carried out again using the Woods-type chloride bath described in Example 1. the Conditions under which the tests were carried out, were as follows:
HCl (g/Liter) Ni (g/Liter) Temperatur (0C)HCl (g / liter) Ni (g / liter) temperature ( 0 C)
Geschwindigkeit der T/"upfer folieSpeed of the T / "sheet
m/min)m / min)
.ftV/min)
Verweilzeit (Sek.).ftV / min)
Dwell time (sec.)
Stromstärke (A)Current (A)
Stromdichte o Current density o
(k/9,3 dm2) (A/ft-Λ) (k / 9.3 dm 2 ) (A / ft-Λ)
(§}
28,52.40
( § }
28.5
(8)
28,5 ·2.40
(8th)
28.5
909834/127 2909834/127 2
Die mit Nickel überzogene Kupferfolie wurde wie in Beispiel 1 an das Epoxyharz-imprägnierte Glastuch gebunden und wie in Beispiel 1 in 12,7 mm (one-half inch) breite Streifen geschnitten. Die Prüfungen der Bindefestigkeit wurden in der in Beispiel 1 beschriebenen Weise ausgeführt und die dabei erhaltenen· Ergebnisse sind Inder nachstehenden Tabelle II zusammengefaßt. The nickel-plated copper foil was bonded to the epoxy resin-impregnated glass cloth as in Example 1 and as in Example 1 with a width of 12.7 mm (one-half inch) Cut strips. The bond strength tests were carried out in the manner described in Example 1 and the results obtained are summarized in Table II below.
Ver- Anfängliches Bedingung B Nach 1J TagenInitial condition B After 1 J days
such Ablösen ■ bei 1500Cseek detachment ■ at 150 ° C
kg/2,54cm- (lbs./in.) kg/2,54cm (lbs./in.) kg/2t54cm(Ibs4n.) kg / 2.54cm - (lbs./in.) kg / 2.54cm (lbs./in.) kg / 2 t 54cm (Ibs4n.)
A-I 4,54 10,0 4,26 9,4 4,99 11,0A-I 4.54 10.0 4.26 9.4 4.99 11.0
A-2 4,45 ' 9,8 · 4,45 9,8 4,65 10,2A-2 4.45 '9.8 x 4.45 9.8 4.65 10.2
B-I 4,35 . 9,6 4,45 ' 9,8 5,08 11,2BI 4.35 . 9.6 4.45 '9.8 5.08 11.2
B-2 4,72 10,4 4,54 10,0 5,08 11,2B-2 4.72 10.4 4.54 10.0 5.08 11.2
Obgleich auch hier die Bindefestigkeit in zwei von den vier Proben abnahm und in den anderen beiden Proben im wesentlichen konstant blieb bei der Prüfung unter der "Bedingung B", führte die Aussetzung der Proben an aäiönte Temperature! während einer !längeren Zeitdauer gleichbleibend zu einer Erhöhung der Bindefestigkeit in auffallender Weise, was im Gegensatz zu der Erwartung stand.Although here too the bond strength decreased in two of the four samples and substantially in the other two samples remained constant in the test under "Condition B", the exposure of the samples resulted in aäiönte Temperature! constant for a longer period of time to an increase in the bond strength in a striking way, which was contrary to the expectation.
Aus den vorstehenden Ausführungen ist ersichtlich, daß gemäß der Erfindung beachtliche Vorteile durch die Erteilung einer signifikant verbesserten Bi'ndefestigkeitbei hoher Temperatur an Kupferfolien geschaffen werden. Es wird ange-From the foregoing it can be seen that according to the invention, considerable advantages through the grant a significantly improved bond strength at high temperature can be created on copper foils. It is
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nommen, daß diese verbesserte Bindefestigkeit sich zu . - " einem erheblichen Anteil aus der Tatsache ergibt, daß der Metallüberzug auf der matten Oberfläche der Kupfer-" folie die matte Oberfläche vor dem Substrat so isoliert, daß eine chemische Wechselwirkung zwischen dem Substrat und der matten. Oberfläche, die wiederum zu einer Verminderung der Bindefestigkeit einer derartigen Oberfläche führen würde, verhindert wird. Gleichzeitig wird jedoch die Dicke des Metallüberzugs ausreichend gering gehalten, so daß der Überzug die anfängliche Bindefestigkeit der matten Oberfläche während deren Bindung an das Substrat nicht'wesentlich verringert. ·this improved bond strength is believed to increase. - " results in a significant proportion from the fact that the metal coating on the matte surface of the copper "foil isolates the matte surface from the substrate, that a chemical interaction between the substrate and the matte. Surface, which in turn leads to a reduction the bond strength of such a surface would be prevented. At the same time, however, the thickness of the metal coating is kept sufficiently low so that the coating does not significantly affect the initial bond strength of the matt surface while it is being bonded to the substrate decreased. ·
Der hier verwendete Ausdruck "im wesentlichen ohne ; Abnahme in der Bindefestigkeit der genannten matten Oberfläche" bedeutet einen Verlust an Bindefestigkeit von weniger als etwa 0,45 kg je 2,54 cm (1 pound/in.),As used herein, "essentially without; Decrease in the bonding strength of said matt surface "means a loss in bonding strength of less than about 0.45 kg per 2.54 cm (1 pound / in.),
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Claims (12)
bringt.6. The method according to any one of claims 1 to 5, characterized in that «a nickel coating by electrodeposition on the matt surface in an amount of ett
brings.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US70325368A | 1968-02-06 | 1968-02-06 |
Publications (1)
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---|---|
DE1905958A1 true DE1905958A1 (en) | 1969-08-21 |
Family
ID=24824652
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DE19691905958 Pending DE1905958A1 (en) | 1968-02-06 | 1969-02-06 | Process for improving the bond strength of a copper foil with a matt surface |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5343555B1 (en) |
BE (1) | BE727909A (en) |
DE (1) | DE1905958A1 (en) |
FR (1) | FR2001410A1 (en) |
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