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DE1765323B1 - Process for the production of a metallic material from at least two components as well as a device for performing this process - Google Patents

Process for the production of a metallic material from at least two components as well as a device for performing this process

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Publication number
DE1765323B1
DE1765323B1 DE19681765323D DE1765323DA DE1765323B1 DE 1765323 B1 DE1765323 B1 DE 1765323B1 DE 19681765323 D DE19681765323 D DE 19681765323D DE 1765323D A DE1765323D A DE 1765323DA DE 1765323 B1 DE1765323 B1 DE 1765323B1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
spectrographic
rays
electron beam
analysis
electron
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19681765323D
Other languages
German (de)
Inventor
Bernard Daigne
Francois Girard
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Office National dEtudes et de Recherches Aerospatiales ONERA
Original Assignee
Office National dEtudes et de Recherches Aerospatiales ONERA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from FR105259A external-priority patent/FR1529768A/en
Application filed by Office National dEtudes et de Recherches Aerospatiales ONERA filed Critical Office National dEtudes et de Recherches Aerospatiales ONERA
Publication of DE1765323B1 publication Critical patent/DE1765323B1/en
Pending legal-status Critical Current

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    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/304—Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
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    • G01N2223/076—X-ray fluorescence

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Description

5 65 6

F i g. 7 bis 11 Diagramme, Nach einer derartigen Eichung liefert die Anlage anF i g. 7 to 11 diagrams, after such a calibration the system delivers

Fig. 12 eine schematische Ansicht der Oberfläche einer in Herstellung begriffenen Legierung Auskünfte,12 shows a schematic view of the surface of an alloy being produced.

eines Werkstoffs während seiner Herstellung5 welche die Legierung in festem Zustand betreffen undof a material during its production 5 which relate to the alloy in the solid state and

Fig. 13 bis 15 Diagramme, daher unmittelbar verwendbar sind.13 to 15 are diagrams, which can therefore be used immediately.

Fig. 16 eine der Fig. 12 entsprechende Ansicht, 5 Die Erfindung sieht auch Ausführungen vor, bei Fig. 17 ein Blockschaltbild einer erfindungsge- welchen mehr als zwei Spektrographen vorhanden16 shows a view corresponding to FIG. 12, 5 The invention also provides embodiments at 17 shows a block diagram of a more than two spectrograph according to the invention

mäßen Einrichtung. sind, welche die Bestimmung der Konzentration einermoderate establishment. are which determining the concentration of a

Bei der in Fig. 1 dargestellten Ausführungsform entsprechenden Zahl von Bestandteilen gestatten, einer erfindungsgemäßen Einrichtung oder Anlage Bei einer Ausführungsabwandlung sieht die Erfin-In the embodiment shown in Fig. 1, allow the corresponding number of components, a device or system according to the invention. In a variant embodiment, the invention provides

befindet sich der herzustellende Werkstoff 20 in einer io dung eine Anlage vor, welche an Stelle eines der Kammer 21, in welcher durch entsprechende Einrich- Spektrographen einen einfachen Röntgenstrahlentungen ein Vakuum aufrechterhalten wird. Der Werk- empfänger X enthält.If the material 20 to be produced is located in a plant in front of a system which, in place of one of the chambers 21, in which a simple X-ray removal is maintained by means of appropriate setup spectrographs, a vacuum is maintained. The factory receiver X contains.

stoff 20 wird der Einwirkung eines aus einer an der Der Quotient aus der Stärke einer kennzeichnendenSubstance 20 is the action of one of one of the The quotient of the strength of a characteristic

Wand der Kammer befestigten Elektronenkanone 23 Linie, z. B. der Linie La-, und der Stärke des Auskommenden Elektronenbündels 22 ausgesetzt. Erfin- 15 gangssignals des Röntgenstrahlenempfängers liefert dungsgemäß wird das Elektronenbündel 23 ausge- die Auskunft über die Konzentration Ca des Bestandnutzt, um einerseits den Werkstoff 20 herzustellen und teils A. Man kann in gleicher Weise mit einem zweiten andererseits in diesem eine Röntgenstrahlung zu er- Spektrographen die Konzentration Cb eines Bestandregen, von welcher ein schematisch bei 24 dargestelltes teils B bestimmen, usw.Wall of the chamber attached electron gun 23 line, e.g. B. the line La, and the strength of the emerging electron beam 22 exposed. According to the invention, the electron beam 23 delivers the output signal of the X-ray receiver, the information about the concentration Ca of the existing material is used to produce the material 20 on the one hand and partly A. One can in the same way with a second on the other hand an X-ray radiation in this spectrograph the concentration Cb of a stock rain, of which a part B shown schematically at 24 is determined, etc.

Bündel in einen ebenfalls an die Kammer angesetzten 20 Die Erfindung sieht ferner eine Anlage vor, bei Spektrographen 25 tritt, dessen Ausgang 26 eine welcher der gleiche Röntgenstrahlenempfänger mit spektrographische Auskunft über die Zusammen- mehreren verschiedenen Wellenlängen entsprechenden setzung des Werkstoffs 20 liefert. spektrographischen Kanälen kombiniert werden kann.Bundles in a 20 also attached to the chamber. The invention also provides a system at Spectrograph 25 occurs whose output 26 is one of which the same X-ray receiver with Spectrographic information about the combination of several different wavelengths Setting of the material 20 supplies. spectrographic channels can be combined.

Fig. 2 betrifft eine Ausführungsform einer der- Eine derartige Anlage ist in Fi g. 3 dargestellt. Der artigen Anlage mit einer ein Merkmal der Erfindung 25 Röntgenstrahlenempfänger 43 ist an dem Eingang bildenden spektrographischen Apparatur. Die Appa- eines Kanals 44 mit einem Verstärker 45 angeordnet, ratur enthält einen ersten Spektrographen 27, welcher welcher an seinem Ausgang ein Signal liefert, welches so eingestellt ist, daß er an seinem Ausgang 28 ein an die Vorrichtung 35 angelegt wird, welche auch über elektrisches Signal liefert, welches zu der Stärke einer einen Umschalter 47 je nach der Stellung desselben ein Linie La proportional ist, welche für einen Bestand- 30 zu der Stärke der Linie La oder der Linie Lb proporteil A des zusammengesetzten Werkstoffs 20 kenn- tionales Signal empfangen kann, wobei die die Konzeichnend ist. Sie enthält einen zweiten Spektrographen zentration Ca bzw. Cb betreffende Information an dem 29, welcher so eingestellt ist, daß er an seinem Aus- Ausgang 48 der Vorrichtung 35 erscheint gang 30 ein elektrisches Signal liefert, welches pro- Bei der in F i g. 4 dargestellten AusführungsformFig. 2 relates to an embodiment of one of the- Such a system is in Fi g. 3 shown. Such equipment with a feature of the invention 25 X-ray receiver 43 is at the entrance forming spectrographic apparatus. The apparatus of a channel 44 arranged with an amplifier 45, temperature contains a first spectrograph 27, which supplies a signal at its output which is set so that it is applied to the device 35 at its output 28, which is also via supplies an electrical signal which is proportional to the strength of a changeover switch 47, depending on its position, a line La , which receives a signal characteristic of a component 30 to the strength of the line La or the line Lb proportional A of the composite material 20 can, where the is indicative. It contains a second information on the spectrograph relating to the centering Ca or Cb on the 29, which is set so that it appears at its output 48 of the device 35, output 30 supplies an electrical signal which is generated in the case of FIG. 4 illustrated embodiment

portional zu der Stärke einer für einen zweiten Be- 35 befindet sich der Werkstoff 20 in einem Tiegel 40, und standteil B des Werkstoffs 20 kennzeichnenden Linie über ihm befindet sich eine Vorrichtung 41 zur dosier- Lb ist. Die an den Ausgängen 28 und 30 vorhandenen ten Zufuhr eines Bestandteils, z. B. des Bestandteils A. Signale laufen durch Verstärker und Integriervorrich- Die Vorrichtung 41 wird durch eine Vorrichtung 42 getungen 31 und 32, welche an ihren Ausgängen 33 bzw. steuert, welche ihrerseits von dem an dem Ausgang 26 34 für die Stärken Ia und Ib der Linien La bzw. Lb 40 des Spektrographen 25 auftretenden spektrographikennzeichnende Signale liefern. Diese Signale werden sehen Signal gesteuert wird. Man kann so jederzeit die an eine Vorrichtung 35 angelegt, welche ihren Quotien- Speisung mit einem Bestandteil durch die tatsächlicheproportional to the strength of the material 20 is located in a crucible 40 for a second loading 35, and was in part B of the material 20 characterizing line is over it a device 41 for metering is Lb. The existing at the outputs 28 and 30 th supply of a component, for. B. of component A. Signals pass through amplifier and integrating device. The device 41 is made by a device 42 31 and 32, which at its outputs 33 and controls which in turn of the at the output 26 34 for the strengths Ia and Ib of the lines La and Lb 40 of the spectrograph 25 provide spectrographic characterizing signals. These signals will see signal being controlled. One can thus at any time apply the to a device 35, which its quotient supply with a component by the actual

ten bildet, nämlich^. Dieser Quotient wird z. B. durch Zusammensetzung des in Herstellung begriffenen Ib Werkstoffs zu dem betreffenden Zeitpunkt steuern und den Ausgang 36 einer Registriervorrichtung 37 züge- 45 so die Herstellung gemäß einer gewünschten Gesetzführt. Es kann ein anderer mit einer Signalisier- und mäßigkeit vornehmen.ten forms, namely ^. This quotient is z. B. control by the composition of the Ib material being produced at the relevant point in time and pull the output 36 of a recording device 37 so that the production is carried out according to a desired law. It can be done by someone else with a signaling and moderation.

Anzeigevorrichtung 39 verbundener Ausgang 38 vor- F i g. 5 zeigt eine gesteuerte Anlage, bei welcher derDisplay device 39 connected output 38 shown. 5 shows a controlled system in which the

gesehen werden. spektrographische Apparat zwei spektrographischebe seen. spectrographic apparatus two spectrographic

Der Wert des Quotienten f ist von den Erregungs- Jf ett,en entsprechend der unter Bezugnahme auf F i g. 2The value of the quotient is ett f of the excitation Jf, s g corresponding to the reference to F i. 2

^ Ib ö 6 50 beschriebenen Ausfuhrung enthalt.^ Ib ö 6 50 described execution contains.

bedingungen des Werkstoffs 20 durch das Elektronen- In F i g. 6 ist schematisch eine Elektronenkanone 50 bündel 22 unabhängig, wenn die Speisespannung der dargestellt, welche Vorrichtungen zur Ablenkung in Elektronenkanone 23 konstant gehalten wird, wie dies Richtungen 51 und 52 aufweist, welche so angeordnet in der Praxis laufend erfolgt. sind, daß das Elektronenbündel 53 die ganze Oberin einer erfindungsgemäßen Anlage kann also der 55 fläche 54 eines in Herstellung begriffenen Werkstoffs Elektronenfluß des Bündels 22 z. B. zur Herstellung sowie gegebenenfalls die Umgebung dieser Oberfläche gemäß einem gewünschten Programm verändert wer- bestreichen kann, insbesondere den Ausgang 62 der den, ohne daß hierdurch die an den Ausgängen 38 die Zusatzstoffe zuführenden Vorrichtung 55. Die ganze und 36 gelieferte Auskunft weniger genau ist. Anordnung befindet sich in einer Vakuumkammer 56. Die Anlage gibt auch jederzeit Aufschluß über den 60 Die Anlage enthält ferner einen Röntgenstrahlen-Wert der Konzentrationen Ca und Cb der Bestand- spektrographen 57, dessen Ausgang mit einer Inteteile A und B des Materials 20, welches z. B. eine in griervorrichtung 58 verbunden ist, welche mehrere Herstellung begriffene Legierung ist. Hierfür wird vor- Ausgangskanäle 59 und 59' besitzen kann. Das Spekher eine Eichung an einer Legierung vorgenommen, trometer57 ist so angeordnet, daß es verschiedene welche die Bestandteile A und B enthält und in der 65 Punkte der Oberfläche 54 anvisieren kann. Die Anlage gleichen Anlage hergestellt wird. Diese Legierung wird ermöglicht die Herstellung des Werkstoffs durch den nach der Abkühlung einer chemischen Analyse unter- Beschüß mittels des Bündels 53 und gleichzeitig die worfen, deren Ergebnisse die Eichung ermöglichen. Kontrolle der Herstellung durch die am Ausgang derconditions of the material 20 by the electron In F i g. 6, an electron gun 50 bundle 22 is schematically independent when the supply voltage of FIG. 6 is shown, which devices for deflection in electron gun 23 is kept constant, as has directions 51 and 52, which, arranged in this way, takes place continuously in practice. are that the electron bundle 53 the whole upper part of a system according to the invention can thus the 55 surface 54 of a material being manufactured electron flow of the bundle 22 z. B. for the production and optionally the area surrounding this surface can be changed according to a desired program, in particular the output 62 of the, without the device 55 supplying the additives at the outputs 38 being less precise . Arrangement is located in a vacuum chamber 56. The system will at any time informs about the 60 The system further comprises an X-ray value of the concentrations of Ca and Cb of the constituents spectrograph 57, the output of which a Inteteile A and B of the material 20, which e.g. . B. is connected in grating device 58, which is several manufacture in progress alloy. For this purpose it can have pre-output channels 59 and 59 '. The Spekher has carried out a calibration on an alloy, the trometer57 is arranged so that it can target different ones containing the constituents A and B and in the 65 points of the surface 54. The plant same plant is manufactured. This alloy makes it possible to manufacture the material by bombarding it with the aid of the bundle 53 after a chemical analysis and at the same time throwing the results of which allow calibration. Control of manufacture by those at the exit of the

7 87 8

Integriervoirichtung 58 an dem Kanal 59 vorhan- Abtastrichtung an, zu welcher die Bestreichungsrich-Integrating device 58 is present on the channel 59 scanning direction to which the scanning direction

denen Signale. tung senkrecht liegt. Der Wert von x0 wird notiert oderwhich signals. direction is perpendicular. The value of x 0 is noted or

Die Erfindung sieht vor, daß die Bestreichung der gespeichert. Während der nächsten Perioden wirdThe invention provides that the stroking of the saved. During the next periods will

Oberfläche durch das Bündel 53 periodisch mit einem während des Zeitabschnitts t0 der Fleck auf einen WertSurface through the bundle 53 periodically with a value during the time period t 0

den besten Herstellungsbedingungen entsprechenden 5 von y eingestellt, wie dies die Waagerechte in dem 5 of y corresponding to the best manufacturing conditions are set, as is the horizontal in the

zeitlichen Verschiebungsgesetz erfolgt und daß ein Schema der F i g. 14 zeigt, worauf die Bestreichung intemporal displacement law takes place and that a scheme of F i g. 14 shows what the deletion in

Bruchteil der Bestreichungsperiode für die Gewinnung der x-Richtung erfolgt, wie in dem Diagramm derFraction of the sweeping period for the extraction of the x-direction takes place, as in the diagram of FIG

der spektrographischen Information vorbehalten bleibt. F i g. 13 dargestellt. Wenn kein Signal an dem Kanal 59reserved for the spectrographic information. F i g. 13 shown. If no signal on channel 59

Hierfür wird gemäß einer bevorzugten Ausführungs- während der nächsten Periode vorhanden ist, wird dieFor this purpose, according to a preferred embodiment, the next period is available

form das Elektronenbündel während dieses Bruchteils io Bestreichung nach χ wiederholt, jedoch mit einem form the electron bundle repeatedly during this fraction io sweep after χ, but with one

der Bestreichungsperiode unbeweglich gehalten, wobei Fleck, welcher in der j-Richtung auf einen anderenof the sweep period held immobile, the spot pointing in the j-direction to another

die Zone 60 seines Aufpralls auf die Oberfläche 54 auf Wert als bei der vorhergehenden Periode festgelegt ist,the zone 60 of its impact on the surface 54 is set at value than in the previous period,

der Visierachse 61 des Spektrographen liegt. bis ein Signal an dem Kanal 59' erscheint, wie dies inthe sighting axis 61 of the spectrograph lies. until a signal appears on channel 59 ', as shown in FIG

Ein derartiges Gesetz ist sehr schematisch beispiels- dem Diagramm der Fig. 15 dargestellt ist, und zwar halber in den Diagrammen der F i g. 7 und 8 daige- 15 für eine Ordinate y0, welcher das Maximum der Kurve stellt. In dem Diagramm der F i g. 7 sind die Zeiten des Diagramms der Fig. 15 entspricht und welche als Abszissen und als Ordinaten eine Koordinate eines die der spektrographisch von dem Spektrometer 57 anrechtwinkligen Koordinatensystems der Oberfläche 54, visierten Zone ist.Such a law is shown very schematically by way of example in the diagram in FIG. 15, specifically in the diagrams in FIG. 7 and 8 daige- 15 for an ordinate y 0 , which represents the maximum of the curve. In the diagram of FIG. 7 corresponds to the times in the diagram of FIG. 15 and which, as the abscissa and the ordinate, is a coordinate of a zone targeted by the spectrographically perpendicular coordinate system of the surface 54, which is spectrographically made by the spectrometer 57.

z. B. die x, aufgetragen. Das Diagramm der Bestrei- Gemäß einer Ausführungsabwandlung wird nach chung wird z. B. durch die Kurve α dargestellt, und die 20 Bestimmung des Wertes der Abszisse X0 in der oben dem geradlinigen Abschnitt a' des Diagramms ent- angegebenen Weise bei jedem nächsten Periodensprechende Festlegung des Bündels erfolgt für die bruchteil t0 das Elektronenbündel auf x0 festgelegt, und Abszisse X0 der Zone 60. F i g. 8 ist ein ähnliches Dia- es wird in der j-Richtung bestrichen. Wenn die Begramm, bei welchem jedoch als Ordinaten die andere Streichungsamplitude genügend groß ist, d. h. die Koordinate der Herstellungsebene aufgetragen ist, 25 ganze Herstellungsoberfläche überdeckt, erscheint d. h. y, wobei die Zeit t wiederum als Abszisse aufge- während des ersten Periodenbruchteils das Signal an tragen ist. Die Kurve b entspricht der Herstellungs- dem Kanal 59', woraus der Wert von y0 erhalten werbestreichung und der Abschnitt b' der Festlegung des den kann. Wenn die Bestreichungsamplitude kleiner Bündels zur Gewinnung der spektrographischen Aus- ist, ist es möglich, daß kein Signal während der ersten kunft. Der der Gewinnung der spektrographischen 30 Perioden auftritt, sondern erst erzeugt wird, wenn die Auskunft vorbehaltene Periodenbruchteil t0 ist klein bestrichene Zone durch die spektiographisch anvisierte und liegt z. B. zwischen einem Zehntel und einem Zone geht. In F i g. 16 ist durch den schraffierten Teil Hundertstel der Periode, aber so groß, daß die spektro- die Zone dargestellt, welche während des Periodengraphische Analyse eine von den Herstellungsbedin- bruchteils bestrichen wird, während welchem dann das gungen unabhängige Genauigkeit hat. Insbesondere 35 Signal erzeugt wird.z. B. the x, plotted. According to a variant embodiment, after chung z. B. represented by the curve α , and the determination of the value of the abscissa X 0 in the manner indicated above for the straight-line section a 'of the diagram for each next period-speaking determination of the bundle takes place for the fraction t 0 of the electron bundle on x 0 and the abscissa X 0 of zone 60. F i g. 8 is a similar slide- it is swept in the j-direction. If the term, for which the other deletion amplitude is sufficiently large as the ordinate, ie the coordinate of the production plane is plotted, 25 covers the entire production surface, ie y appears, with the time t again plotted as the abscissa during the first period fraction carry the signal is. Curve b corresponds to the manufacturing channel 59 ', from which the value of y 0 can be obtained advertising deletion and section b' of the definition of the can. If the sweep amplitude is small to obtain the spectrographic information, it is possible that there will be no signal during the first future. The acquisition of the spectrographic 30 periods occurs, but is only generated when the information reserved period fraction t 0 is small swept zone through the spectiographically targeted and is z. B. goes between a tenth and a zone. In Fig. 16 is represented by the hatched part hundredths of the period, but so large that the spectro-zone is shown which is covered during the period graphic analysis of a part of the manufacturing conditions during which the accuracy is independent of the conditions. In particular 35 signal is generated.

die etwaigen Energieschwankungen beeinflussen dann Unabhängig von der Ausführungsform wird derthe possible energy fluctuations then influence the

nicht die Genauigkeit der Spektralanalyse. Wert y0 notiert oder gespeichert. Das Bündel 53 dernot the accuracy of the spectrum analysis. Value y 0 noted or saved. The bundle 53 of the

Die Erfindung sieht ferner vor, den Spektrographen Elektronenkanone 50 wird für die Stellung des Bündels,The invention also provides that the spectrograph electron gun 50 is used for the position of the beam,

selbst für die Lokalisierung der von ihm anvisierten für welche sein Fleck die Koordinaten x0 und y0 hat,even for the localization of those targeted by him for which his spot has the coordinates x 0 and y 0 ,

Zone auf der Bearbeitungsoberfiäche zu verwenden. 4° während der nächsten Perioden für den der spektro-Zone to be used on the machining surface. 4 ° during the next periods for the spectro-

Gemäß einer Ausführungsform wird zunächst während graphischen Messung entsprechenden Zeitabschnitt ta According to one embodiment, the corresponding time segment t a

des der Analyse vorbehaltenen Periodenabschnitts eine festgehalten.of the period segment reserved for the analysis is recorded.

Bestreichung nach y durch Ablenkung des Bündels ge- Eine entsprechende Lokalisierung erfolgt bei jeder maß der Richtung 52 vorgenommen, während die Veränderung der Einstellung des Spektrometers 57. Abszisse χ des Bestreichungsflecks konstant bleibt. 45 F i g. 17 ist ein Blockschaltbild einer erfindungs-Die Bestreichungsdiagramme haben dann die in gemäßen Anlage. Diese enthält wenigstens zwei F i g. 9 und 10 dargestellte Form. Wenn während Spektrographen 70 und 70', welche den gleichen Punkt dieses Periodenbruchteils kein spektrographisches des in Herstellung begriffenen Werkstoffs anvisieren Signal erhalten wird, wird die Bestreichung während und welchen je ein mit einer Integriervorrichtung verder nächsten Periode wieder aufgenommen, jedoch 5° sehener Verstärker 71 bzw. 71' nachgeschaltet ist, wonach Ablenkung des Bündels um einen kleinen Winkel bei die Ausgangsgrößen dieser Verstärker an eine Vorin der Richtung 51, wobei die verschiedenen Abszissen, richtung 72 angelegt werden, welche ihren Quotienten für welche die Bestreichung erfolgt, durch die waage- bildet. Dieser wird an einen Kodeumsetzer 73 mit rechten Linien des Diagramms der F i g. 9 wieder- einem Meßausgang 74 angelegt. Die Bewegungen des gegeben werden. Man kann so während aufeinander- 55 Elektronenbündels der Elektronenkanone 75 werden folgender Perioden die ganze Oberfläche 54 abtasten. von einem Funktionsgenerator 76 für die Bestreichung Für eine gewisse Periode geht der Fleck durch die von zur Herstellung, einer Vorrichtung 77 zum Aufsuchen dem Spektrographen 57 anvisierte Zone 60, so daß von x, einer Vorrichtung 78 zum Aufsuchen von y und dieser ein Signal an dem Kanal 59' liefert. Durch Auf- einer Vorrichtung zur Analyse 79 gesteuert, wobei χ tragen der Stärke des Signals als Ordinaten und der χ 6o und y fest sind. Die Vorrichtungen 77, 78 und 79 sind als Abszissen erhält man ein Diagramm der in F i g. 11 mit einer Programmiervorrichtung 80 mit der Zeit fa dargestellten Art, welches die Bestimmung der verbunden. Der Funktionsgenerator 76 wird über eine Abszisse X0 der anvisierten Zone 60 gestattet. F i g. 12 bistabile Kippschaltung 81 sowohl von der Programzeigt den Streifen 63, welcher während des Perioden- miervorrichtung 80 als auch von der Vorrichtung 72 bruchteils bestrichen wird, während welchem das 65 zur Quotientenbildung beeinflußt, und zwar von dieser spektrographische Signal erzeugt wurde, d. h. in letzteren unter Zwischenschaltung eines Anpassungsweichem sich die von dem Spektrographen anvisierte elements 82. Die Gesamtheit der Vorrichtungen 77, 78 Zone befindet. Der Doppelpfeil / gibt schematisch die und 79 bildet einen Funktionsgenerator 100 für dieScanning along y by deflecting the bundle. A corresponding localization is carried out at every measure of the direction 52, while the change in the setting of the spectrometer 57th abscissa χ of the scanning spot remains constant. 45 Fig. FIG. 17 is a block diagram of an inventive system. The coating diagrams then have those in accordance with the present invention. This contains at least two F i g. 9 and 10 shown shape. If during spectrographs 70 and 70 ', which target the same point of this period fraction, no spectrographic signal of the material being manufactured is received, the scanning is resumed during and each time with an integrating device for the next period 71 ', after which the bundle is deflected by a small angle at the output variables of these amplifiers to a forward direction 51, the various abscissas, direction 72 being applied, which form their quotients for which the sweep is made by the balance . This is sent to a code converter 73 with right lines of the diagram in FIG. 9 again applied to a measurement output 74. The movements of the be given. In this way, the entire surface 54 can be scanned during successive 55 electron bundles of the electron gun 75 will be subsequent periods. from a function generator 76 for the swipe For a certain period the spot passes through the zone 60 targeted by for production, a device 77 for searching the spectrograph 57, so that from x, a device 78 for searching y and this a signal at the Channel 59 'supplies. Controlled by an analysis device 79, where χ carry the strength of the signal as ordinates and χ 6o and y are fixed. The devices 77, 78 and 79 are as abscissas to obtain a diagram of the figure in FIG. 11 with a programming device 80 with the time f a shown, which is connected to the determination of the. The function generator 76 is permitted over an abscissa X 0 of the targeted zone 60. F i g. 12 bistable flip-flop 81 both from the program shows the strip 63, which is partially swept during the periodization device 80 as well as from the device 72, during which the 65 influences the formation of the quotient, namely from this spectrographic signal was generated, ie in the latter under Interposition of an adaptation switch is the element 82 targeted by the spectrograph. All of the devices 77, 78 are located in the zone. The double arrows / are schematically and 79 forms a function generator 100 for the

Bestreichung zum Aufsuchen und zur Analyse. Eine Programmiervorrichtung 83 mit der Zeit I1 ist sowohl mit dem Funktionsgenerator 76 als auch mit dem Funktionsgenerator 100 verbunden. Der bistabilen Kippschaltung 81 ist ein Speicher 84 für x, ein SpeicherStroking for searching and for analysis. A programming device 83 with the time I 1 is connected both to the function generator 76 and to the function generator 100 . The bistable flip-flop 81 is a memory 84 for x, a memory

85 für y, wobei diese beiden Speicher eine Vorrichtung85 for y, these two memories being a device

86 zur Anzeige von χ und y steuern, und eine Umschreibevonichtung 87 mit nachfolgender Analyseprogrammiervorrichtung 88 nachgeschaltet. Diese letztere ist mit einem Schalter 89 zur Einstellung des Arbeitsspiels für die automatische Steuerung desselben verbunden. Es ist ferner eine bei 90 angedeutete Handsteuerung vorgesehen. Die Analyseprogrammiervor-Control 86 to display χ and y , and a rewriting device 87 with a subsequent analysis programming device 88 connected downstream. This latter is connected to a switch 89 for setting the working cycle for the automatic control of the same. A manual control indicated at 90 is also provided. The analysis programming

richtung 88 ist mit dem Kodeumsetzer 73 verbunden, und dieser besitzt einen zweiten Ausgang 91 zur Auswertung der Ergebnisse, wobei ein Ausgang 92 für die Steuerung der Einrichtungen zur Zufuhr der Bestandteile des in Herstellung begriffenen Werkstoffs vorgesehen ist. Die Motoren 93 zur Regelung der Stellung der Spektrometer werden durch einen Steuerkasten 94 über eine Programmiervorrichtung 95 gesteuert. Eine Kodiervornchtung 96 für χ ist mit der Vorrichtung zum Aufsuchen von χ und dem Speicher 84 für χ verbunden, während eine Kodiervornchtung 97 für y mit der Vorrichtung zum Aufsuchen von y und dem Speicher von y verbunden ist.Direction 88 is connected to the code converter 73, and this has a second output 91 for evaluating the results, an output 92 being provided for controlling the devices for supplying the constituents of the material being manufactured. The motors 93 for regulating the position of the spectrometers are controlled by a control box 94 via a programming device 95. A coding device 96 for χ is connected to the device for looking up χ and the memory 84 for χ , while a coding device 97 for y is connected to the device for looking up y and the memory of y .

Hierzu 2 Blatt ZeichnungenFor this purpose 2 sheets of drawings

Claims (23)

Patentansprüche:Patent claims: 1. Verfahren zur Herstellung eines metallischen Werkstoffs aus wenigstens zwei Komponenten,1. A method for producing a metallic material from at least two components, z. B. einer Legierung, durch Schmelzung mittels Beschüß mit einem Elektronenbündel, unter Anwendung der Spektrographie von Röntgenstrahlen, dadurch gekennzeichnet, daß durch das Elektronenbündel eine Schmelze des Werkstoffs hergestellt wird und die von der Oberfläche der Schmelze ausgesandten Röntgenstrahlen spektrographisch zur Bestimmung der Schmelzenzusammensetzung analysiert werden und daß diese Zusammensetzung in Abhängigkeit von den Ergebnissen der Analyse korrigiert wird.z. B. an alloy, by melting by bombardment with an electron beam, using the spectrography of X-rays, characterized in that by the electron beam a melt of the material is produced and that of the surface X-rays emitted from the melt spectrographically to determine the composition of the melt be analyzed and that this composition depending on the results the analysis is corrected. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß für die Spektralanalyse der ausgesandten Röntgenstrahlen zwei spektrographische Ketten benutzt werden, welche auf zwei verschiedene zwei Bestandteilen des Werkstoffs entsprechende Wellenlängen eingestellt sind, und daß der Quotient der von den beiden Ketten gelieferten Signale gebildet wird.2. The method according to claim 1, characterized in that for the spectral analysis of the sent X-rays two spectrographic chains are used, which on two different ones two components of the material corresponding wavelengths are set, and that the The quotient of the signals supplied by the two chains is formed. 3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Zufuhr eines Bestandteils des in der Herstellung begriffenen Werkstoffs durch den erhaltenen Wert des Quotienten gesteuert wird.3. The method according to claim 2, characterized in that the supply of a component of the in the production of the material involved is controlled by the obtained value of the quotient. 4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß ein von einer spektrographischen Kette geliefertes Signal mit einem für die Stärke der von dem Werkstoff ausgesandten Röntgenstrahlung kennzeichnenden Signal verglichen wird.4. The method according to claim 2, characterized in that one of a spectrographic Chain with a signal supplied for the strength of the X-ray radiation emitted by the material characteristic signal is compared. 5. Verfahren nach Anspruch 1 zur Herstellung einer Werkstoffmasse mit gegenüber dem Querschnitt des Elektronenbündels verhältnismäßig großen Abmessungen, dadurch gekennzeichnet, daß das Elektronenbündel periodisch die Oberfläche des herzustellenden Werkstoffs bestreicht und periodisch durch eine zum Zwecke der Analyse spektrographisch anvisierte Zone des Werkstoffs geht.5. The method according to claim 1 for producing a material mass with opposite the cross section of the electron beam relatively large dimensions, characterized in that the electron beam periodically brushes the surface of the material to be manufactured and periodically goes through a zone of the material which is spectrographically targeted for the purpose of analysis. 6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Elektronenbündel auf dieser Zone während eines Bruchteils der Bestreichungsperiode stehenbleibt.6. The method according to claim 5, characterized in that the electron beam on this zone stops for a fraction of the stroke period. 7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Elektronenbündel so lange stehenbleibt, daß die spektrographische Auskunft von den Herstellungsbedingungen unabhängig ist.7. The method according to claim 6, characterized in that the electron beam for so long it remains that the spectrographic information is independent of the manufacturing conditions. 8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Zeit des Stehenbleibens zwischen einem Hundertstel und einem Zehntel der Bestreichungsperiode liegt.8. The method according to claim 7, characterized in that the time of standing between one hundredth and one tenth of the stroke period. 9. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Lage der spektrographisch anvisierten Zone auf der bestrichenen Oberfläche regelbar ist.9. The method according to claim 5, characterized in that the location of the targeted spectrographically Zone on the coated surface is adjustable. 10. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die spektrographische Auskunft benutzt wird, um während der Bestreichung die spektrographisch visierte Zone zu bestimmen.10. The method according to claim 5, characterized in that the spectrographic information is used to determine the spectrographically targeted zone during the sweep. 11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Lage des bestreichenden Elektronenbündels in dem Augenblick bestimmt wird, in welchem ein spektrographisches Signal erzeugt wird.11. The method according to claim 10, characterized in that the location of the coating Electron beam is determined at the moment in which a spectrographic signal is generated will. 12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß für die Bestimmung der Lage des Elektronenbündels nur ein Bruchteil der Bestreichungsperiode vorgesehen ist, so daß das Elektronenbündel während des Restes der Periode zur Herstellung des Werkstoffs benutzt wird.12. The method according to claim 11, characterized in that for determining the location of the Electron beam only a fraction of the sweep period is provided, so that the electron beam is used to manufacture the material for the remainder of the period. 13. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Feststellung der Lage des Elektronenbündels dadurch erfolgt, daß zunächst eine Koordinate der anvisierten Zone und hierauf die andere Koordinate dieser Zone bestimmt wird, und zwar durch zu den Koordinatenachsen parallele Bestreichungen.13. The method according to claim 11, characterized in that the determination of the position of the Electron bundle takes place in that first a coordinate of the targeted zone and then the other coordinate of this zone is determined by means of axes parallel to the coordinate axes Strokes. 14. Einrichtung zur Herstellung eines metallischen Werkstoffs aus wenigstens zwei Komponenten, z. B. einer Legierung, durch Schmelzung und Überwachung dieser Herstellung, mit einer Elektronenkanone, die durch Elektronenbombardement des Werkstoffs Röntgenstrahlen erzeugt, so wie mit einer Vorrichtung zur spektrographischen Analyse dieser Röntgenstrahlen zur Ausführung des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorrichtung (25, 27, 29, 57, 70, 70') zur spektrographischen Analyse (spektrographische Vorrichtung) derart einstellbar ist, daß sie auf die Intensität der Röntgenstrahlung der charakteristischen Wellenlänge einer der Komponenten des Werkstoffs (20) anspricht, und eine Steuerkette (42) vorgesehen ist, welche die Zufuhr dieser Komponente zum Zwecke der Herstellung des vorbestimmten Werkstoffs auf Grund der Intensität der Röntgenstrahlung der charakteristischen Wellenlänge regelt.14. Device for the production of a metallic material from at least two components, z. B. an alloy, by melting and monitoring this production, with an electron gun, generated by electron bombardment of the material X-rays, as with a device for spectrographic Analysis of these X-rays for carrying out the method according to Claim 1, characterized in that that the device (25, 27, 29, 57, 70, 70 ') for spectrographic analysis (spectrographic Device) is adjustable so that it is based on the intensity of the X-ray radiation characteristic wavelength of one of the components of the material (20) responds, and a Control chain (42) is provided, which controls the supply of this component for the purpose of manufacture of the predetermined material due to the intensity of the X-ray radiation of the characteristic Wavelength regulates. 15. Einrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorrichtung zur spektrographischen Analyse zwei spektrographische Ketten (27, 29), welche auf Wellenlängen eingestellt sind, welche Bestandteilen des Werkstoffs kennzeichnenden Röntgenstrahlen entsprechen, und eine Vorrichtung (35) zur Bildung der Quotienten der von den beiden Ketten gelieferten Signale enthält. 15. Device according to claim 14, characterized in that the device for the spectrographic Analysis of two spectrographic chains (27, 29), which are adjusted to wavelengths which components of the material correspond to characteristic X-rays, and a device (35) for forming the quotients of the signals supplied by the two chains. 16. Einrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die spektrographische Vorrichtung einen einfachen Empfänger (43) für Röntgenstrahlen ohne spektrographische Wirkung, eine spektrographische Kette (28 oder 30) und Einrichtungen (35) zum Vergleich der Signale des Empfängers mit dem von der Kette gelieferten Signal enthält. 16. Device according to claim 14, characterized in that the spectrographic device a simple receiver (43) for X-rays without a spectrographic effect, a spectrographic chain (28 or 30) and means (35) for comparing the signals from the receiver with the signal supplied by the chain. 17. Einrichtung nach Anspruch 16, gekennzeichnet durch einen Umschalter (47) zum wahlweisen Vergleich der von mehreren spektrographischen Ketten (28,30) gelieferten Signale mit dem von dem nicht spektrographischen Empfänger (43) gelieferten Signal.17. Device according to claim 16, characterized by a changeover switch (47) for optional Comparison of the signals provided by several spectrographic chains (28,30) with that of the signal supplied not by spectrographic receiver (43). 18. Einrichtung nach Anspruch 14, in der mit der Elektronenkanone eine Vorrichtung zur Ablenkung verbunden ist, mit welcher das Elektronenbündel willkürlich auf unterschiedliche Bereiche des herzustellenden Werkstoffs gerichtet werden kann, gekennzeichnet durch eine Einrichtung (80, 81) zur Steuerung der Ablenkungsvorrichtung (76), derart, daß eine Abtastung des Elektronenbündels (53) in Abhängigkeit von den Bedingungen der Herstellung des Werkstoffs und/oder den Feststellungen der Vorrichtung (57) zur spektrographischen Analyse der Röntgenstrahlung, welche einen Bereich des herzustellenden Werkstoffs anvisiert, erfolgt.18. Device according to claim 14, in which the electron gun comprises a device for deflection is connected, with which the electron bundle arbitrarily on different areas of the to be produced Material can be directed, characterized by a device (80, 81) for Control of the deflection device (76), such that a scanning of the electron beam (53) in Depending on the conditions of manufacture of the material and / or the findings the device (57) for the spectrographic analysis of the X-rays, which a region of the material to be produced is targeted. 3 43 4 19. Einrichtung nach Anspruch 18, gekennzeich- eine Einrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens net durch Einrichtungen zur Steuerung der Fest- geschaffen werden, die einfach aufgebaut und bequem legung des Elektronenbündels (53) in einer Lage, in anzuwenden ist.19. Device according to claim 18, marked a device for performing this method net can be created by means of control devices that are easy to set up and convenient to use placement of the electron beam (53) in a position to be used in. welcher der Fleck des Bündels auf der Oberfläche Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch ge-which is the spot of the bundle on the surface This object is achieved according to the invention (54) des Werkstoffs der durch die spektrographische 5 löst, daß durch das Elektronenbündel eine Schmelze Vorrichtung (57) anvisierten Zone des Werkstoffs des Werkstoffs hergestellt wird und die von der Oberüberlagert ist. fläche der Schmelze ausgesandten Röntgenstrahlen(54) of the material that dissolves through the spectrographic 5 that through the electron beam a melt Device (57) targeted zone of the material of the material is produced and that of the superimposed is. the area of the melt emitted by the X-rays 20. Einrichtungen nach Anspruch 19, gekenn- spektrographisch zur Bestimmung der Schmelzenzuzeichnet durch Einrichtungen, welche die spektro- sammensetzung analysiert werden und daß diese Zugraphische Vorrichtung (57) einstellen und die io sammensetzung in Abhängigkeit von den Ergebnissen Festlegungsstellung des Flecks des Elektronen- der Analyse korrigiert wird. Hierdurch ergibt sich eine bündeis (53) entsprechend verändern. laufende Korrigierung der Werkstoffzusammensetzung.20. Devices according to claim 19, marked spectrographically for determining the melts by means of which the spectro-composition is analyzed and that this is graphical Set the device (57) and the io composition depending on the results Fixing position of the spot of the electron analysis is corrected. This results in a change the bündeis (53) accordingly. ongoing correction of the material composition. 21. Einrichtung nach Anspruch 20, dadurch ge- Zweckmäßig werden für die Spektralanalyse der kennzeichnet, daß ein Ausgang der spektrographi- ausgesandten Röntgenstrahlen zwei spektrographische sehen Vorrichtung für die Steuerung dieser Ände- i5 Ketten benutzt, welche auf zwei verschiedene, zwei rung vorgesehen ist. Bestandteilen des Werkstoffs entsprechende Wellen-21. A device according to claim 20, characterized in that for the spectral analysis, it is useful that an output of the spectrographically emitted X-rays see two spectrographic devices for controlling this change i 5 chains are used, which are provided on two different, two tion . Components of the material corresponding to the shaft 22. Einrichtung nach einem der Ansprüche 18 längen eingestellt sind, und daß der Quotient der von bis 21, dadurch gekennzeichnet, daß die spektro- den beiden Ketten gelieferten Signale gebildet wird, graphische Vorrichtung zwei spektrographische Bei einer Weikstoffmasse mit verhältnismäßig Ketten (70, 70') enthält. 20 großen Abmessungen sieht eine zweckmäßige Ausfüh-22. Device according to one of claims 18 lengths are set, and that the quotient of to 21, characterized in that the signals supplied by the two spectral chains are formed, graphic device two spectrographic case of a wheat substance with relatively Contains chains (70, 70 '). 20 large dimensions provides an expedient execution 23. Einrichtung nach Anspruch 22, dadurch ge- rungsform vor, daß das Elektronenbündel periodisch kennzeichnet, daß die beiden spektrographischen die Oberfläche des herzustellenden Werkstoffs beKetten (70, 70') für verschiedene Wellenlängen streicht und periodisch durch eine zum Zwecke der empfindlich sind, wobei ihre Ausgangsgrößen Analyse spektrographisch anvisierte Zone des Werkeinem Quotientenmesser (72) zugeführt werden. a5 Stoffs geht.23. Device according to claim 22, characterized in that the electron beam periodically indicates that the two spectrographic chains (70, 70 ') sweep the surface of the material to be produced for different wavelengths and periodically through one for the purpose of being sensitive their output variables analysis spectrographically targeted zone of the plant are fed to a quotient meter (72). a5 fabric goes. Die zur Durchführung des Verfahrens geschaffene Einheit ist erfindungsgemäß dadurch gekennzeichnet, daß die Vorrichtung zur spektrographischen AnalyseAccording to the invention, the unit created for carrying out the method is characterized in that that the device for spectrographic analysis (spektrographische Vorrichtung) derart einstellbar ist,(spectrographic device) is adjustable in such a way that 30 daß sie auf die Intensität der Röntgenstrahlung der charakteristischen Wellenlänge einer der Komponenten des Werkstoffs anspricht, und eine Steuerkette vorge-30 that it relates to the intensity of the X-rays of the characteristic wavelength of one of the components of the material responds, and a timing chain is Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung sehen ist, welche die Zufuhr dieser Komponente zum eines metallischen Werkstoffs aus wenigstens zwei Zwecke der Herstellung des vorbestimmten Werkstoffs Komponenten, z. B. einer Legierung, durch Schmel- 35 auf Grund der Intensität der Röntgenstrahlung der zung mittels Beschuß mit einem Elektronenbündel, charakteristischen Wellenlänge regelt, unter Anwendung der Spektrographie von Röntgen- Bevorzugt wird, daß die Vorrichtung zur spektro-The invention relates to a method of manufacture is seen, which is the supply of this component to a metallic material for at least two purposes of producing the predetermined material Components, e.g. B. an alloy, by Schmel 35 due to the intensity of the X-ray radiation control by bombardment with an electron beam, characteristic wavelength, using the spectrography of X-rays It is preferred that the device for spectro- strahlen. graphischen Analyse zwei spektrographische Ketten,shine. graphic analysis of two spectrographic chains, Ferner bezieht sich die Erfindung auf eine Einrich- welche auf Wellenlängen eingestellt sind, welche Betung zur Herstellung eines metallischen Werkstoffs aus 40 standteilen des Werkstoffs kennzeichnenden Röntgenwenigstens zwei Komponenten, z. B. einer Legierung, strahlen entsprechen, und eine Vorrichtung zur BiI-durch Schmelzung und Überwachung dieser Herstel- dung der Quotienten der von den beiden Ketten gelung, mit einer Elektronenkanone, die durch Elektro- lieferten Signale enthält.The invention also relates to a device which is set to wavelengths, which pressure for the production of a metallic material from at least 40 components of the material characterizing X-rays two components, e.g. B. an alloy, radiate, and a device for BiI-through Melting and monitoring of this production of the quotients of the two chains, with an electron gun that contains signals delivered by electrons. nenbombardement des Werkstoffs Röntgenstrahlen Gemäß einer anderen Ausführung mit einer Aberzeugt, sowie mit einer Vorrichtung zur spektro- 45 lenkungsvorrichtung für das Elektronenbündel ist graphischen Analyse dieser Röntgenstrahlen zur Aus- zweckmäßig eine Einrichtung zur Steuerung der Abführung des Verfahrens. lunkungsvorrichtung derart vorgesehen, daß eine Ab-ner bombardment of the material X-rays According to another embodiment with a source, as well as with a device for the spectro-steering device for the electron beam graphical analysis of these x-rays for expedient means for controlling the discharge of the procedure. lunking device provided in such a way that a In einer besonderen Ausführung des Verfahrens soll tastung des Elektronenbündels in Abhängigkeit von dabei eine Werkstoff masse, deren Herstellungsfläche den Bedingungen der Herstellung des Weikstoff s und/ verhältnismäßig große Abmessungen gegenüber dem 50 oder den Feststellungen der Vorrichtung zur spektro-Querschnitt eines zum Beschuß verwendeten Elek- graphischen Analyse der Röntgenstrahlung, welche tronenbündels hat, hergestellt werden. einen Bereich des herzustellenden Werkstoffs anvisiert,In a special embodiment of the method, the electron beam is to be sampled as a function of thereby a material mass, the production area of which meets the conditions of the production of the Weikstoff s and / relatively large dimensions compared to the 50 or the findings of the device for spectro-cross-section an electronic analysis of the X-rays used for bombardment, which tronenbündels has to be produced. targeting an area of the material to be manufactured, Ferner besitzt eine Ausführungsform der Einrichtung erfolgt.Furthermore, one embodiment of the device has taken place. eine mit der Elektronenkanone zur Ablenkung ver- Die Erfindung wird im folgenden an Hand von Aus-one with the electron gun for deflection. The invention is described below with reference to bundene Vorrichtung, mit welcher das Elektronen- 55 führungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichbündel willkürlich auf unterschiedliche Bereiche des nungen beschrieben. In der Zeichnung zeigt herzustellenden Werkstoffs gerichtet werden kann. F i g. 1 eine sehr schematische Ansicht einer erfin-tied device with which the electron 55 guide examples with reference to the drawing beam arbitrarily described on different areas of the voltage. In the drawing shows material to be produced can be directed. F i g. 1 is a very schematic view of an inven- Bekannt ist die Analyse eines Materials durch die dungsgemäßen Einrichtung,The analysis of a material by the device according to the invention is known, Röntgenstrahlspektrographie, wobei das Emissions- Fig. 2 eine Ausführungsform einer erfindungs-X-ray spectrography, the emission Fig. 2 being an embodiment of an invention spektrum analysiert wird. 60 gemäßen Einrichtung,spectrum is analyzed. 60 according to the establishment, Es ist auch bekannt, einen Werkstoff durch Elek- F i g. 3 eine der F i g. 2 entsprechende DarstellungIt is also known to use a material by elec- F i g. 3 one of the F i g. 2 corresponding illustration tronenbeschuß herzustellen und mittels Elektronen- einer abgewandelten Ausführungsform, strahlbeschusses und JSf-Strahlen-Emission zu unter- F i g. 4 eine weitere Ausführungsform einer erfin-to produce electron bombardment and by means of electrons - a modified embodiment, beam bombardment and JSf radiation emission to F i g. 4 another embodiment of an inven- suchen. dungsgemäßen Einrichtung,Looking for. proper establishment, Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Ver- 65 F i g. 5 eine weitere Ausführungsform einer erfinfahren zu schaffen, mit welchem in besonders günstiger dungsgemäßen Einrichtung,The invention is based on the object of providing a connection 65 F i g. 5 a further embodiment of an invention to create, with which in a particularly favorable proper device, Weise eine exakte stöchiometrische Zusammensetzung F i g. 6 eine schematische Ansicht einer erfindungs-Way an exact stoichiometric composition F i g. 6 a schematic view of an invention aufrechterhalten wird. Ferner soll durch die Erfindung gemäßen Einrichtung,is maintained. Furthermore, the device according to the invention,
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