DE159215C - - Google Patents

Description

KAISERLICHES

PATENTAMT.

- M 159215 KLASSE 75 d.

Das nachstehend beschriebene Verfahren zur Erzeugung von ebenen, glatten Mustern auf Stoffen mit matter, glättbarer Oberfläche, wie Pappe, Papier, Leder u. dgl-, schließt sich an das bekannte Musterungsverfahren an, nach welchem der zu musternde Stoff mit seiner Rückseite auf ein Relief aufgelegt und auf die Oberfläche des Stoffes ein Druck ausgeübt wird. Gemäß der vorliegenden Erfindung wird dieses bekannte Verfahren weiter dahin ausgebildet, daß mit dem auf die Oberfläche des zu musternden Stoffes ausgeübten Druck ein Reiben verbunden wird. Man erhält durch diese Weiterbildung des Verfahrens Muster in einer glänzenden, ' dunkleren Schattierung der Grundfarbe des Werkstoffes. Das Verfahren wird folgendermaßen ausgeführt:

Auf eine harte, glatte Unterlage wird ein das zu erzeugende Muster darstellendes Relief und darauf das zu musternde Werkstück mit seiner Rückseite „gelegt. In dieser Lage wird das Werkstück dem reibenden Druck ausgesetzt, dabei wirkt der Druck an den durch das Muster des'Reliefs unterstützten Stellen des Werkstückes stärker als in deren Umgebung und macht so diese Stellen glänzend und läßt sie dunkler erscheinen, so daß sich eine dem Relief entsprechende Musterung bildet.

Als Relief ist beispielsweise ein das Muster darstellendes Fadengebilde verwendbar. Dieses Fadengebilde kann seinerseits gestrickt oder gehäkelt oder auch ein Drahtnetz sein. Weiterhin kann das Muster auch auf einer gravierten Platte, z. B. einer geätzten Zinkplatte oder einer gravierten Holzplatte enthalten sein.

Das Verfahren läßt sich in verschiedener Weise zur Ausführung bringen und damit gleichzeitig die Musterung des Werkstückes bei Verwendung desselben Reliefs variieren. Erstens kann während eines Arbeitsganges das Werkstück mit Bezug auf das Relief ortsunveränderlich sein, d. h. das Werkstück liegt mit dem Relief, während der reibende Druck ausgeübt wird, fest oder das auf dem Relief festliegende Werkstück wird mit dem Relief zusammen fortbewegt. Zweitens kann das Werkstück während eines Arbeitsganges gegen das Relief ortsveränderlich sein. In diesem Falle wird entweder das Werkstück fortbewegt, während das Relief festliegt, oder man läßt umgekehrt das Relief fortschreiten und das Werkstück festliegen.

Ist das Werkstück gegen das Relief ortsunveränderlich, so erhält man, gleichviel ob Relief und Werkstück festliegen oder ob beide gleichzeitig bewegt werden, eine getreue Nachbildung des Reliefs auf dem Werkstück.

Ist das Werkstück gegen das Relief ortsveränderlich, so ergibt sich eine Wiederholung des Reliefmusters auf dem Werkstück. Bezüglich dieser Wiederholung sind noch zwei Variationen möglich. Läßt man nämlich das Werkstück gegen das Relief bezw. das Relief gegen das Werkstück nur schrittweise sich bewegen, so wird die Wiederholung des Musters eine regelmäßige und deutliche, wo-

bei — falls nicht das Vorrücken um eine ganze Relieflänge erfolgt — eine Durchdringung der Einzelabdrücke stattfindet. Läßt man dagegen das Werkstück oder Relief kontinuierlich fortschreiten, so erscheint ein. streifiges Muster auf dem Werkstück, welches das Muster des Reliefs undeutlich und nur noch einigermaßen in der Querrichtung des Vorschubs zum Ausdruck bringt.

ίο Bei der zweiten Ausführungsart des Verfahrens, bei der das Werkstück gegen das Relief ortsveränderlich ist, braucht natürlich das Relief nicht die ganze Fläche des zu musternden Werkstüekes zu decken. Sie kann in diesem Falle eine strcifcnförmige sein und nur die Hauptzüge des Musters aufweisen, welche sich bei einem die ganze Fläche des Werkstüekes deckenden Relief immer wiederholen. Beispielsweise braucht bei Verwendung eines Fadengebildes als Muster das streifenförmig« Relief nur aus einer cjuer zur Vorschubrichtung liegenden Schnur mit Knoten zu bestehen.

Bei Anwendung eines die ganze Fläche deckenden Reliefs hat man natürlich den Vorteil, daß eine Bearbeitung des Werkstüekes an vielen Stellen zugleich erfolgt. Nur in diesem Falle kann die oben angegebene, gegenseitige Durchdringung der Einzelabdrücke des Musters bei schrittweisem Vorschub des Werk-Stückes oder des Reliefs stattfinden. Mit einem streifenförmigen Relief (Schnur) kann andererseits bei schrittweiser Relativbewegung des Werkstüekes gegen das Relief ein Wechsel ' zwischen gemusterten und ungemusterten Querstreifen erzeugt werden, sobald man den Vorschub des Reliefs entsprechend groß macht.

Claims (2)

Patent-An Sprüche:

1. Verfahren zur. Erzeugung von ebenen, glatten Mustern auf Stoffen mit matter, glättbarer Oberfläche, bei welchem die Rückseite des Stoffes auf einem Relief aufliegt und auf die zu musternde Oberfläche ein Druck ausgeü! t wird, dadurch gekennzeichnet, daß der auf die Oberfläche ausgeübte Druck zur Erzielung einer größeren Glätte mit einem Reiben verbunden ist.

2. Ausführungsform des unter 1. gcschützten Verfahrens, dadurch gekennzeichnet, daß während der Ausübung des reibenden Druckes eine gegenseitige Verschiebung von Werkstoff und Mustergeber zur Erzielung* von streifig verwaschenen Mustern stattfindet.