DE1539606A1 - Elektrolumineszentes Material - Google Patents
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Description
Die Erfindung befaßt sich mit elektrolumlneszierenden Stoffen, insbesondere
mit der Verwendung von Galllumphosphid-Krlstailen mit geeigneten Verunreinigungen
als elektret um ineszierendem Stoff fUr elektrolumineszierend©
Gerate aus solchen Materialien und auf Verfahren zur Herstellung solcher Materialien und Gerate.
Wenn auch kristallines Galliumphosphid mit Einschlüssen von Zink und
Sauerstoff als Verunreinigungen bisher benutzt worden ist, um rote Elektrolumineszenz
zu erzeugen, war doch die gemessene äußere Quanten-Ausbeute
für praktische Anwendungen zu gering. Soweit vorbekannte Ergebnisse reproduzierbar
sind, haben sie Wirkungsgrade In der Größenordnung von 0,01 %
ergeben. In den berichteten Fällen, in denen bessere Wirkungsgrade erhalten
worden sind, war es schwierig, die Ergebnisse zu reproduzieren. Obwohl es
nicht sicher Ist, ob die Schwierigkeit In der Materialherstellung oder der
* Geratefabrikation liegt, haben die Anmelder doch erkannt, daß Verbesserungen
im Material andere Schwierigkelten leichter zu beseitigen oder leichter
erträglich machen.
Dementsprechend besteht ein Ziel dieser Erfindung in der Bereitstellung und
Anwendung eines Materials für elektrolumineszlerende Geräte·
Ein weiteres Ziel der Erfindung Ist die Bereitstellung eines Materials, aus
dem eiektrolumlneszterende Gerate leicht hergestellt werden können.
Ein anderes Ziel der Erfindung ist die Bereitstellung eines neuen und verbesser·
ten eiektrolumineszierenden Geräts und Verfahren zur Herstellung solcher
Gerate.
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Als eine Möglichkeit der Erfindung haben die Anmelder entdeckt, daß die
Zugabe geeigneter Mengen Tellur zu Galliumphosphid-Kristailen, die
Sauerstoff und Zink oder Cadmium enthalten, den Wirkungsgrad der Elektrolumineszenz
bemerkenswert zu erhöhen strebt, die man als Folge einer Injektion von Ladungsträgern erhält. Darüber hinaus scheint, daß die Zugabe
von Donatoren wir Schwefel oder Selen gleichfalls in geringerem Grade für
diesen Zweck brauchbar ist. Weiterhin scheint durch die Zugabe von Tellur oder ähnlichen Donatoren die brauchbare Elektrolumineszenz In einem breiteren
Bereich von Zink- und Sauerstoff-Konzentrationen realisierbar zu sein,
als dies vorher der Fall war.
Die im einzelnen zu besprechenden Ausfuhrungsformen schließen Tellur als
den zugefugten Donator ein, Insofern es als zu bevorzugende Dotierung ermittelt
wurde. Indessen sind Feststellungen bezüglich des Tellurs allgemein
auf Situationen anwendbar, in denen Tellur durch Schwefel oder Selen ersetzt oder ergänzt wird.
Galltumphosphid-Kristalle mit Zink, Sauerstoff und einem Donator aus der
Gruppe Schwefel, Selen, Tellur als Dotierung können in zwei Hauptklassen von Geräten verwendet werden. Die erste benutzt eine p-n-Schicht im
Kristall, die zweite verwendet eine Oberflächen-Sperrschicht. Von der Materlaiseite her gestattet die Erfindung die Herstellung beider Geräteklassen
und mit wenig Muhe.
Beispielsweise wird bei der Herstellung des Geräts mit p-n-übergang ein
Bereich von entgegengesetztem Leitfähigkeits-Typ im Hauptmaterial durch
Ausdiffusion oder Gatterung von Zink aus einem begrenzten Bezirk gebildet,
so daß Tellur oder Selen oder Schwefel in diesem Bereicht Überwiegt.
Die Ausdiffusion oder Getterung kann bei Temperaturen vollzogen werden,
die unter den für die Kristallzüchtung benötigten liegen.
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•a 3
Bel der Herstellung de« Sperrschicht-Geräts ergibt sich die Leichtigkeit
der Fabrikation aus der von Natur gegebenen Gegenwart einer geeigneten
Sperrschicht auf einem Galllumphosphld-Krlstall mit geeigneten Verunreinigungen.
Ein Kontakt kam auf dieser Schicht bei Raumteperatur niedergeschlagen
werden.
F(Ir beide Typen von Geritten wurde rote Elektrolumineszenz mit einer äußeren
gemessenen Quanten-Ausbeute bts zu 0,3% beobachtet. In einigen Fällen
wurde mit verschiedenen Mengen Dotierungsmittel giüne Elektrolumineszenz
beobachtet.
Schon zur Verfügung stehende Kenntnisse zeigen an, daß die Konzentration
des Tellurs oder entsprechender Donatoren Im fertigen Kristall zwischen den
Konzentrationen des Zinks und des elektrisch aktiven Sauerstoffs liegen,
obwohl diese Beziehung nicht zwischen den Konzentrationen des Zinks,
Sauerstoffs und Tellurs in der Originalmischung oder der Schmelze zu herrschen
braucht, aus der die Kristalle gezüchtet werden. Unter elektrisch aktivem Sauerstoff verstehen die Anmelder, daß es gelöster Sauerstoff ist,
der beim strahlenden Rekombinationsprozee mitwirkt. Für die Teilnahme an
der Elektrolumineszenz kann die Konzentration des elektrisch aktiven Sauerstoffe
wetter unter dem Niveau liegen, das die Leitfähigkeit det Kristalls
meßbar beeinflußt.
Weitere Einzelheiten werden In der nachfolgenden genauen Beschreibung auseinandergesetzt; die aus dem neuen Material hergestellten Gerate werden
in der beigefügten Abbildung gezeigt.
Flg. 1 ist eine Abbildung eines elektrolumineszlerenden Gerät« mit pn-übergang
aus einem Galllumphosphld-Kristall, der partiell in der Nähe
einer Elektrode von Zink gegettert Ist.
Ladungstrager-!n[ektion durch eine Oberflächen-Sperrschicht auf ein
Galliumphosphid-Kristali verwertet.
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Die typische Mischung, aus der Galllumphosphld-Kristalle.gezüchtet
wurden, bestand gemäß Materialseite der Erfindung aus 15 g Ga, 3 g GaP (12 Molprozent), 0,0040 g Ga2O3 (0,01 Molprozent), 0,0072 g Zn
(0,05 Moiprozent) und 0,0027 g Te (0,01 Molprozent).
In anderen Beispielen sind die Anteile an Zink, Tellur und Galliumoxyd in
der nachstehenden Tabelle angezeigt.
Beispiel | 1 | MoIp | rozent | Ga2O3 | Visuell beobachtete Farbe |
Nr. | 2 | Zn (Cd) | Te | 0,01 | der Elektrolumineszenz |
3 | 0,05 | 0,01 | 0,01 | Rot | |
4 | 0,08 | 0,04 | 0,01 | Rot | |
5 | 0,05 | 0,01 | 0,01 | Rot | |
6 | 0,04 | 0,0066 | 0,01 | Rot | |
7 | 0,04 | 0,0033 | 0,01 | Rot | |
8 | 0,04 | 0,02 | 0,01 | Rot | |
9 | 0,05 | 0,0066 | 0,01 | Rot | |
10 | 0,05 | 0,0033 | 0,01 | Rot | |
11 | 0,1 | 0,02 | 0,02 | Rot | |
22 | 0,05 | 0,01 | 0,05 | Gelb-Rot | |
13 | 0,05 | 0,01 | 0,07 | Gelb-Rot | |
14 | 0,05 | 0,01 | - | Orange-Rot | |
15 | 0,05 | 0,01 | - | GrUn | |
16 | 0,1 | 0,005 | - | GrUn | |
17 | 0,05 | 0,01 | - | GrUn | |
18 | 1,3 | 0,2 | GrUn ' | ||
19 | 0,5 | 0,1 | - | GrUn | |
20 | 0,7 | 0,1 | 0,01 | GrUn | |
(7,0) | 0,005 | 0,01 | Tief-Rot | ||
(7,0) | 0,01 | Tief-Rot | |||
Bei den vorstehenden Ergebnissen Ist zu beachten, daß die partielle Kompensations-Wirkung des Tellurs eine Erhöhung der Zlnkkonzenrratton Über
die Grenzen hinaus gestattet, die bisher angewandt wurden, ohne die
Elektrolumlnenszenz auszulöschen« Die vorbekannten Grenzen der für die
Erzeugung der Elektrolumineszenz günstigen Zink-Konzentration sind in dem
Artikel Mln|ektiom-Elektrolumineszenz an pn-jbergöngen in ztiikdotieetem
009839/0 215
Galliumphosphid11 von J. Starkiewicz und J.W »Allen im Journal of
Physics and Chemistry of Solids, Band 23, 1962, S. 881 - 884, angegeben.
In einem Material gemäß vorliegender Erfindung scheint die partielle Kompensationswirkung
des zugefügten Donators wie Tellur eine Erhöhung der Zink-Konzentratton auf höhere^ Niveaus zu gestatten, offenbar dank seiner
Löslichkelts-Grenze bei Gegenwart von Sauerstoff und dem zugefügten
Donator ohne die Elektrolumineszenz auszulöschen, vorausgesetzt, daß die
Anzahl der Akzeptor-Atome die Anzahl der Donator-Atome übersteigt, so daß
das Material p-Typ bleibt« Es scheint ferner, daß der zugefügte Donator die
Löslichkeit des Zinks Im Galiiumphosphid-KrUtall zu erhüben strebt» An den
unteren Konzentrations-Grenzen, die für die Erzeugung der Elektrolumineszens günstig sind, scheint es auszureichen, daß Zink und Tellur gerade so
große Konzentrationen haben, um die Leitfähigkeit des Galliumphosphld-KrUta!U
meßbar zu beeinflussen.
Außerdem gestattet der zugefügte Donator wie Tellur eine Änderung der
Konzentration des elektrisch aktiven Sauerstoffs von einem Niveau, das
unterhalb der meßbaren Beeinflussung der Leitfähigkeit des Kristalls liegt
bis zu verhältnismäßig hohen Niveaus, ohne die Elektrolumineszenz auszulöschen · Dieser Konzentrations-Bereich des elektrisch aktiven Sauerstoffs Ist
breiter als bisher bekannt, obwohl die Konzentration des elektrisch aktiven
Sauerstoffs Immer niedriger zu sein scheint als die Zink- und Tellur-Konzentration.
Die untere Grenze für Sauerstoff, der zugegeb^ sein muß. Ist
ziemlich niedrig, wie Beispiele 13 - 18 zeigen, In denen kein Sauerstoff
absichtlich der Schmelze zugesetzt wurde und der Sauerstoff-Bedarf augenscheinlich
entweder von dem Sauerstoff befriedigt wurde, der aus dem Quarzrohr, in dem die Schmelze erhitzt wurde, herausdiffundierte oder
durch Spurenmengen, die In άνη geschmolzenen Materialien vorhanden
waren«
In Beispiel 19 und 20 ist Cadmium an Stelle von Zink der Schmelze zugesetzt
worden»
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Andere nicht Im einzelnen beschriebene Beispiele zeigen an, daß Schwefel
und Selen als Ersatz oder Ergänzung des Tellurs verwendet werden kennen.
Aus Bequemlichkettsgrunden werden die Mengen an Sauerstoff, Zink oder
Cadmium und die Donator-Vereunreinlgung, die zugegen sein muß, um
brauchbare Elektrolumineszenz wie oben beschrieben, zu bewirken, als
bedeutsam bezeichnet*
Es wurde sowohl eine Diode mit pn-übergang und eine Elektrolumineszenz-Diode
hergestellt, die die Ladungsträger-Injektion durch eine Oberflächen-Sperrschicht
verwendet· Die Dioden stammten aus Kristallen, die aus Mischungen gezüchtet waren, die dem in der obigen Tabelle dargelegten
ersten Beispiel entsprachen. In der Durchlaßrichtung wurden die äußeren
Quantenausbeuten von diesen beiden Geräten mit einer Siliclum-Sonnenzelle
zu etwa 0,3 % gemessen· Al,e aus der in Beispiel 2-20 beschriebenen Mischung gezüchteten Kristalle wurden zu Elektrolumineszenz-Dioden verarbeitet,
die eine Ladungsträger-Injektion durch eine Oberflächen-Sperrschicht
verwenden, wie anschließend beschrieben wird. Zusätzlich wurden
nach Beispiel 15 und 16 gezüchtete Kristalle gleichfalls mit elektroluminesKie·
rendem pn-übergang gemacht·
Für Beispiel 2-8 hatten die Dioden die von einer SlHcium-SonnenzeUe
gemessenen äußeren Quanten-Ausbeuten zwischen 0,1 % und 0,4 %. Die Ausbeuten streben nach einer Erhöhung mit dem Strom In Durchlaßrichtung
bis zu einem Strom von wenigen Milliampere und fallen dann wieder.
Für Beispiel 9 bis 15 hatten die Dioden äußere, von einer Siliclum-Sonnenzelle
gemessene Wirkungsgrade von weniger als 0,1 %, aber mehr als 0,01%,
Für Beispiel 16-18 wurden die äußeren Wirkungsgrade nicht direkt gemessen,
sondern visuell bewertet gleich denen der Beispiele 9-15.
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FUr Beispiel 19 und 20 hatten die Dioden die von einer Sillcium-Sonnenzelle
gemessene Quanten-Ausbeute von etwa 0,15%.
Bei den Beispielen 1 - 18 emittieren beide Typen von Dioden ein breites
rote· Band (einer Energie von) 1,79 β V (7000 Rt) bei 298°K, wwelches beim
Vergleich mit Fotolumlneszenz-Ergebnissen an diesen und ähnlichen Kristallen
auf der Rekombination eines tiefen Donators (Sauerstoff)" flachen Akzepter
(Zink)-Paares im massiven p-Typ-Maferlal beruht. Es wird auch etwas grünes
Licht mit der Energie von 2, T eV (6000 Rt) bei 298° K emittiert, was die
gesamte ausgesandte Strahlung in Gelb-Grün oder Orange-Rot, wie in Beispiel
10 - 12, veranlaßt. Die elektrolumlneszierenden Dioden aus Kristallen, die
aus Mischungen nach Beispiel 13-18 gezüchtet sind, emittieren grUnes Licht,
was visuell das rote Licht Überdeckt.
Das bevorzugte Verfahren zur Züchtung von Kristallen aus diesen Schmelzen
verlief wie folgt:
1. Gallium wurde entweder in ein Quarzrohr oder in einen Bornltrld-Tiegei
In einem Quarzrohr eingesetzt.
2. Das Rohr wurde unter Vakuum auf eine Temperatur zwischen SOO und 600 C
erhitzt.
3. Das Rohr wurde vom Vakuum abgetrennt und GaP, Zn, Te und Ga2O3 in
den Anteilen zugesetzt, die In dt* obigen Beispielen aufgeführt sind.
4. Das Rohr wurde evakuiert und unter Vakuum verschlossen.
5. Das Rohr wurde in einen GIm gesetzt und die Mischung auf ihren Schmelzpunkt
erhitzt. Für Mischungen mit 12 Molprozent Galliumphosphid ist der Schmelzpunkt 1200°C, Im allgemeinen sollte Galliumphosphid und die
Dotierung«-Verunreinigungen völlig In der flussigen Phase gelöst sein. Die
Zeltdauer, für welche die Schmelze auf dieser Temperatur gehalten wurde,
war nicht kritisch und betrug 1 - 12 Stunden.
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6. Die Temperatur wurde gewöhnlich mit einer Geschwindigkeit von etwa
60°/h gesenkt, bis eine Temperatur unterhalb 900°C erreicht war· Die
Kuhlgeschwtndigkeit war nicht kritisch. Geschwindigkeiten von nur
5°/h und sogar 80°/h konnten offenbar angewandt werden·
7. Das Rohr wurde dann aus dem Ofen entfernt und die Kristalle durch
Behandeln mit Salzsäure gewonnen.
Anden erhaltenen Kristallen wurde eine glatte Flache (1-1-1-Flache) und
eine rauhe Fläche beobachtet·
Die verschiedenen Bestimmungsgrößen ά·τ besprochenen Verfahrensschritte,
wie Temperatur und Zeit, wurden als nicht kritisch festgestellt. Überdies
können Kristalle mit den gewünschten Verunreinigungen durch andere bekannte
Verfahren hergestellt werden, solange geeignete Mengen der gewünschten Verunreinigungen kombiniert werden.
Andere Donatoren aus der Gruppe Tellur, Schwefel oder Selen können als
Tetl der obigen Verfahrensstufe 3 zugesetzt werden·
Eine besonders beachtenswerte Charakteristik der erhaltenen Kristalle war eine
von Natur gegebene Oberflächen-Sperrschicht, die mit keinem der Standard-Ätzmittel beseitigt werden konnte. Zwar konnte die exakte Zusammensetzung
dieser Oberflächen-Sperrschicht nicht leicht bestimmt werden, doch scheint sie entweder eine eigentumliche oder leicht-dotierte Galliumphosphid-Schlcht
oder eine Oxydschlcht zu sein. Kapazltattmeseungen zeigen
an, daß ihre Dicke In keinem Fall merklich größer als 200 & Ist.
Wie oben erwähnt, wurden 2 Arten eiekrrolumineszlerender Gerate oder
Zeilen aus dem dotierten Galltumphosphid-Kristall gemseht. Die zugesetzten
Donator-Verunreinigung, wie Tellur, trägt zu der Leichtigkeit bei, mit der
diese Gerate gemacht werden kennen.
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Als Beispiel wird in Fig· 1 eine Vorrichtung mit einem pn-übergang gezeigt,
die aus einem Kristall mit der massiven Region 1 vom p-Typ und der
natürlichen Oberflächen-Sperrschicht 7 besteht, welche für einen nach dem
vorstehenden Verfahren gemachten Kristall mit den beschriebenen Verunreinigungen charakteristisch sind · Ein Kontakt oder Elektrode 4 durchdringt
die Sperrschicht 7 und berührt die rauhe Fläche des massiven Teils 1 vom
p-Typ. Ein (zweiter) Kontakt oder Elektrode 3 durchdringt die Sperrschicht und schafft einen Flachenkontakt auf der glatten Seite an einen n-Typ-Bezirk
2, der, wie nachfolgend beschrieben, hergestellt wird. Eine Batterie ist mit einem Schalter 6 zwischen den Elektroden 3 und 4 in Reihe geschaltet
in solcher Polarität, daß Elektronen aus der Elektrode 3 durch den n-Typ-Bezirk 2 Injiziert werden.
In einer Ausführungsform dieser Art hatte der Kristall 0,152 mm Dicke bei
0,762 mm Breite, und 6,35 mm Länge bei etwas unregelmäßigem U mriß. Die
Abmessung 0,152 mm lag zwischen den Elektroden· Die Elektrode 3 war eine
Goldschicht von 10 & Dicke, die auf den Kontakt bei 6000C aufgedampft
war und der Kontakt 4 bestand aus Gold-Beryllium, das in den massiven
Materialien 1 vom p-Typ bei 600 einlegiert war, um einen Kontakt niedrigen
Widerstands daran zu schaffen· Versuche zeigten, daß die Vorrichtung
die Charakteristik einer Diode mit pn-Schicht zeigte, bei der Gleichrichtung in der Nachbarschaft der Goldschlcht-Elektrode 3 auftritt. Die Quantenausbeute der roten Elektroiunlneszenz dieses Gerätes wurde mit einer
SlHclum*Sonnenzelle zu etwa 0,3% gemessen, wenn die Batterie 5 einen
Strom von 2 mA bei 1,7 V an den Elektroden durch die Vorrichtung schickte. Der gemessene Wirkungsgrad wuchs mit dem Strom In Durchlaßrichtung auf
wenige Milliampere und nahm danach wieder ab bei steigendem Strom In Durchlaßrichtung.
Die Elektrode 4 wurde in verschiedenen Beispielen durch Siiberposte ersetzt
oder Gallium, das bei Ultraschall den Kristall flUsflg benetzt oder Metallpunkte
aus verschiedenen Materialien, alles mit gutem Erfolg. Es scheint
009839/0215 BAD
40.
nicht notwendig zu sein, daß die Elektrode 4 einen ohmschen Kontakt oder
Kontakt geringen Widerstandes zu dem massiven Bereich 1 vom p-Typ hat, obwohl ein ohms eher Kontakt leicht bei Anwendung ausreichender Temperatur
oder ausreichenden Ducks hergestellt werden kann, so daß das Elektrodenmaterial die Sperrschicht 7 oder eine vor dem Anbringen etwa gebildete
n-Typ-Schlcht durchdringt, wie nachstehend erklärt wird.
Die Elektrode 3 wurde (gleichfalls) durch Silberpaste, Gallium oder Metallpunkt«
in verschiedenen Beispielen mit gutem Erfolg ersetzt. In jedem Beispiel
wurde die Elektrode 3 bei genügend niedriger Temperatur und Druck angebracht,
damit sie den n-lyp-Berelch 2 nicht völlig durchdringt. In einem
anderen Beispiel wurde die Elektrode 3 aus Zinn hergestellt, das bei 600°
auf die glatte Flache des Kristalls aufgedampft wurde, (auch) mit gutem
Erfolg,
Der n-Typ-Berelch 2 entsteht als Ergebnis einer Erhitzung des Kristalls auf
eine Temperatur und für eine Zeitdauer, die die Diffusion eines Teils des
Zinks zur Oberflüche gestattet, von wo es durch Verdampfung in ein Vakuum oder durch Getterung, etwa in einer flussigen Metall-Halbleiter
Phase entfernt wird. Da Zink die beweglichste der Verunreinigungen ist,
kann für die Ausdiffusion des Zinks eine solche Temperatur gewühlt werden,
bei der Sauerstoff und Tellur verhältnismäßig unbeweglich sind. Insoweit der
Kristall partiell mit der Verunreinigung Tellur kompensiert Ist, hinterläßt
das ausdiffundierte Zink eine verhältnismäßig stark dotiert« n-Schicht,
womit ein pn-übergang gebildet wird.
Der n-Typ-Berelch 2 ist In speziellen Beispielen durch Ausgebern des Zinks
in einen Gold- oder Zinn-Film 3 bei 600°C hergestellt worden, wodurch der
n-Typ-Beretch lokalisiert wird, wie in Fig. 1 angedeutet. Es scheint, daß
andere Materialien als Getter für das ausdiffundierte Zink benutzt werden
kannten. Dtr Bereich 2 Ist auch erfolgreich durch Verdampfen des ausdiffundierten
Zinks In ein Vakuum bei 600° gebildet worden, wodurch der
n-Typ-Berelch allgemein Über der Oberfläche gebildet wird. Die Elektrode
durchdringt dl· n-Typ-Schlcht vorzugsweise auf der rauhen Seite.
η M
Wie zuvor besprochen, können die in der beschriebenen gezüchteten
Kristalle auch zur Herstellung von Sperrschicht-Dioden von der in Fig. 2
gezeigten Art benutzt werden.
Die in PIg. 2 gezeigte Diode besteht aus einem Galliumphosphidkristall,
der in der zuvor beschriebenen Art hergestellt ist und somit aus dem massiven
p-Typ-Materlal 11 besteht und der dünnen Oberflächen- oder Sperrschicht
darüber, von der von Natur aus vorhandenen, beschriebenen Art· Eine
Elektrode 14 durchdringt die Sperrschicht 17 und hat Kontakt mit der rauhen
Fläche des massiven p-Typmaterlals 11. Eine Elektrode 13 Hegt auf einem
Bezirk dv Sperrschicht 17 auf der glatten Fläche des Kristalls. Eine
Batterie 15 Ist mit einem Schalter 16 zwischen den Elektroden 13 ind 14
in Serie geschaltet mit einer Polarität, daß Elektronen aus der Elektrode durch die Sperrschicht 17 In das massive p-Typ-Material 11 Injiziert werden«
Bei einer typischen Ohm-dieser Art hatte der Kristall 0,178 mm Dicke bei
7,62 mm Breite und 7,£2 mm Länge bei etwas unregelmäßigem Umriß. Die
Abmessung 0,178 mm wurde zwischen die Elektroden gelegt. Der Kontakt
bestand aus Gold-Beryllium, das in die rauhe Fläche des massiven p-Typ-Materlals
11 bei 600°C einlegiert war, um eine Verbindung niedrigen Widerstandes dorthin zu schaffen· Der Kristall wurde dann auf Raumtemperatur
gekühlt, der Kontakt 14 mit einem überzug aus Paraffin oder Wachs geschützt
und der Kristall geätzt und umgedreht und eine Goidschicht auf die
glatte Oberfläche bei Raumtemperatur aufgedampft, um die Elektrode 13
herzustellen. Die Quantenausbeute der roten Elektrolumineszenz dieses
Geräts wurde mit einer Sillelum-Sonnenzclle zu etwa 0,3% gemessen, wem
die Batterie 15 einen Strom von 2 mA bei etwa 3,4 V, zwischen den Elektroden
gememn, schickte. Der gemessene Wirkungsgrad erhöhte sich bei Stromerhähung auf wenige Milliampere und nahm danach bei Stromerhöhung
ob.
009839/0215
Die Natur der Elektrode 14 ist nebensächlich und es kann entweder ein
ohmscher oder beinahe jeder andere nichtohmsche Kontakt sein. Er wurde mit Erfolg in verschiedenen Beispielen durch Silberpaste, durch Gallium,
das durch j(/ Ultraschall den Kristall flussig benetzt oder durch Metallpunkte
aus verschiedenen Stoffen ersetzt« Es ist nicht notwendig, daß er die Sperrschicht
durchdringt, da er lediglich einen Weg fUr den Stromfluß schafft.
Die Elektrode 13 ist mit Erfolg durch Silberpaste, Gallium oder Metailpunkte
ersetzt worden, in jedem Falle bei ausreichend tiefer Temperatur und Druck,
damit sie nicht die Sperrschicht 17 durchbricht«
Es wird festgehalten, daß bei Abwesenheit der Sperrschicht. 17 zwischen dem
massiven p-Typ-Material 11 und der Elektrode 13 sich eine Schottky-Sperrschicht
auf dem angrenzenden Galliumphosphid bildet und daß nur Mehrheltstrttger,
in diesem Fall Defektelektronen oder Löcher In den Kristall einfließen,
so daß In keiner Stromrichtung eine Rekombination Elektron-Loch eingeleitet
wird.
Im Gegensatz hierzu werden in einem Gerät nach Fig. 2 Elektronen von der
Elektrode 13 durch dte Sperrschicht 17 injiziert, wahrscheinlich durch
"Tunnelwirkung" oder vielleicht durch Feldemission durch einen Bereich mit
einen starken Feld nahe der Oberfläche in den Kristall 11 vom ρ-Typ hinein,
wodurch die mit der Rekombination Elektron-Loch verbundene Elektrolumineszenz
hervorgerufen wird.
Mit dem Ausdruck "Tunnelwirkung" beziehen sich die Anmelder auf das
physikalische Phänomen, daß ein Elektron, das einer sehr dünnen Energiebarriere
nahekommt, wie etwa der Sperrschicht 17, einige Wahrscheinlichkeit
hat, auf der anderen Seite der Barriere ohne Rucksicht auf seine Geschwindigkeit
oder thermische Energie aufzutauchen.
009839/02!5 . BAD 0R,e,NAL
Ei wird noch besonders festgehalten, daß die auf einem mit Zink, Sauerstoff
und einem Donator wie Tellur dotierten GaIIlumphosphtd-KrlstalI von
Natur aus gebildete Oberflächen-Sperrschicht dünner und gleichmäßiger
Ist, als die durch Aufdampfen niedergeschlagenen IsoHerfHme bei der
Herstellung vorbekannter Gaillumphosphld-Geräte.
009839/0215
Claims (8)
1. Verwendung eines Galilumphosphld-KrtstalU als elektrolumineszierend·»
Material, dadurch gekennzeichnet, daß der Kristall Sauerstoff,
0,04 bis 7,0 Molprozent Zink oder Cadmium und 0,003 bis 0,2 Molprozent
Tellur, Schwefel oder Selen enthalt.
2. Elektroluminesziererdes Gerät,gekennzelchnet siurch einen
Galllumphosphid-Kristall, der Sauerstoff, 0,04 bis 7,0 Molprozent Zink
oder Cadmium und 0,003 bis 0,2 Molprozent Tellur, Schwefel oder
Selen enthält, die dem Kristall eine natürliche Sperrschicht auf seiner
Oberfläche erteilen und einem an den Kristall angehefteten Elektrodenpoar,
von denen eine auf die erwähnte Sperrschicht aufgelegt wird ·
3. Elektrolumineszierend« Gerät nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die zweite Elektrode einen ohmschen Kontakt an den Kristall bildet und daß die erwähnte erste Elektrode mit dem Kristall durch
einen Bereich in der Sperrschicht gekuppelt wird, deren Dicke nicht
merklich größer als 200 & Ist.
4. Elektrolumineszierend« Gerät, gekennzeichnet durch einen
Galliumphosphid-Krlstall mit 0,04 bis 7,0 Molprozent Zink oder Cadmium,
mit Sauerstoff und mit 0,003 bis 0,2 Molprozent Tellur, Schwefel oder
Selen, mit einer ersten Elektrode, die einen ohmschen Kontakt zum
Kristall bildet und einer zweiten Elektrode, die einen gleichrichtenden
Kontakt an einen Bereich des Kristalls bildet, in welchem Sauerstoff, und Schwefel, Selen oder TeHI ur örtlich überwiegen.
5. Verfahren zur Herstellung eines elektroiumlneszierenden Geräts,
gekennzeichnet durch die Verfahrentschritte der Herstellung eines Galltumphosphidkrlstalls mit 0,04 bis 7,0 Molprozent Zink oder Cadmium,
00 9 8 3 9/0215 BAD ORiGSNAL
Js
Sauetstoff und 0,003 bis 0,2 Molprozent Tellur, Schwefel oder Selen,
ferner der örtlichen Ausdiffusion des Zinks aus dem Kristall zwecks
Bftdung eines pn-Ubergangs darin und dem Anheften eines Elektrodenpaars
an Bereiche entgegengesetzten Lettfählgkeitstyps·
6. Verfahren nach Anspruch 5 dadurch gekennzeichnet, daQ das Ausdlffundfesen
des Zinks in der Erhitzung des Kristalls auf eine Temperatur
und for eine Zeitspanne besteht, die dem Zink die Bewegung zur Oberfläche
gestaltet, während Sauerstoff und das Donator-Element verhältnismäßig
unbeweglich sind.
7. Verfahren nach Anspruch 6 dadurch gekennzeichnet, daß das diffundteren des Zinks seine Getferurig in einer flussigen Metall-Halbleiter·
Phase einschließt.
8. Verfahren zur Herstellung eines elektrolurntneszlerenden Geräts,
gekennzeichnet durch die Verfahrensschritte der Herstellung eines Gadfwnphosphid-Krtstalls mit 0,04 bis 7,0 Molprozent Zink oder
Cadmium, Sauerstoff und 0,003 bis 0,2 Molpfozent Tellur, Schwefel
oder Selen, die eine Oberflächen-Sperrschicht auf dem Kristall bereitstellen,
dem Anheften einer ersten Elektrode an den Kristall und dem Anheften einer zweiten Elektrode bei Temperaturen und Drucken, die
der zweiten Elektrode dos Aufliegen auf der erwähnten Sperrschicht
gestatten*
009839/0215
ι Λ ·» Leerseite
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US3540941A (en) * | 1967-12-01 | 1970-11-17 | Ibm | Method of heat treating semiconductor electroluminescent devices |
US3619304A (en) * | 1968-08-30 | 1971-11-09 | Tokyo Shibaura Electric Co | Method of manufacturing gallium phosphide electro luminescent diodes |
BE754437A (fr) * | 1969-08-08 | 1971-01-18 | Western Electric Co | Dispositif electroluminescent ameliore |
US3603833A (en) * | 1970-02-16 | 1971-09-07 | Bell Telephone Labor Inc | Electroluminescent junction semiconductor with controllable combination colors |
CA920280A (en) * | 1970-11-16 | 1973-01-30 | Omron Tateisi Electronics Co. | Semiconductive transducer |
US3675316A (en) * | 1971-02-01 | 1972-07-11 | Bell Telephone Labor Inc | Group iii-v schottky barrier diodes |
FR2192431B1 (de) * | 1972-07-12 | 1975-09-05 | Radiotechnique Compelec | |
JPS5596629A (en) * | 1979-01-17 | 1980-07-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method of epitaxially growing in liquid phase |
US7204050B2 (en) * | 2003-12-29 | 2007-04-17 | Sargent Manufacturing Company | Exit device with lighted touchpad |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE970420C (de) * | 1951-03-10 | 1958-09-18 | Siemens Ag | Elektrisches Halbleitergeraet |
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US3365630A (en) | 1968-01-23 |
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