DE1295614B - Storage screen for an image pick-up tube - Google Patents
Storage screen for an image pick-up tubeInfo
- Publication number
- DE1295614B DE1295614B DEW41626A DEW0041626A DE1295614B DE 1295614 B DE1295614 B DE 1295614B DE W41626 A DEW41626 A DE W41626A DE W0041626 A DEW0041626 A DE W0041626A DE 1295614 B DE1295614 B DE 1295614B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- storage
- density
- storage screen
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J31/00—Cathode ray tubes; Electron beam tubes
- H01J31/08—Cathode ray tubes; Electron beam tubes having a screen on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted, or stored
- H01J31/50—Image-conversion or image-amplification tubes, i.e. having optical, X-ray, or analogous input, and optical output
- H01J31/506—Image-conversion or image-amplification tubes, i.e. having optical, X-ray, or analogous input, and optical output tubes using secondary emission effect
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/10—Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
- H01J29/36—Photoelectric screens; Charge-storage screens
- H01J29/39—Charge-storage screens
- H01J29/44—Charge-storage screens exhibiting internal electric effects caused by particle radiation, e.g. bombardment-induced conductivity
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J31/00—Cathode ray tubes; Electron beam tubes
- H01J31/08—Cathode ray tubes; Electron beam tubes having a screen on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted, or stored
- H01J31/26—Image pick-up tubes having an input of visible light and electric output
- H01J31/28—Image pick-up tubes having an input of visible light and electric output with electron ray scanning the image screen
- H01J31/34—Image pick-up tubes having an input of visible light and electric output with electron ray scanning the image screen having regulation of screen potential at cathode potential, e.g. orthicon
- H01J31/36—Tubes with image amplification section, e.g. image-orthicon
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J31/00—Cathode ray tubes; Electron beam tubes
- H01J31/08—Cathode ray tubes; Electron beam tubes having a screen on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted, or stored
- H01J31/50—Image-conversion or image-amplification tubes, i.e. having optical, X-ray, or analogous input, and optical output
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
- H04N1/12—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using the sheet-feed movement or the medium-advance or the drum-rotation movement as the slow scanning component, e.g. arrangements for the main-scanning
- H04N1/14—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using the sheet-feed movement or the medium-advance or the drum-rotation movement as the slow scanning component, e.g. arrangements for the main-scanning using a rotating endless belt carrying the scanning heads or at least a part of the main scanning components
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/23—Reproducing arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/23—Reproducing arrangements
- H04N1/29—Reproducing arrangements involving production of an electrostatic intermediate picture
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2231/00—Cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2231/50—Imaging and conversion tubes
- H01J2231/50057—Imaging and conversion tubes characterised by form of output stage
- H01J2231/50063—Optical
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2231/00—Cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2231/50—Imaging and conversion tubes
- H01J2231/50057—Imaging and conversion tubes characterised by form of output stage
- H01J2231/50068—Electrical
- H01J2231/50084—Electrical using light or electron beam scanning
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2231/00—Cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2231/50—Imaging and conversion tubes
- H01J2231/501—Imaging and conversion tubes including multiplication stage
- H01J2231/5013—Imaging and conversion tubes including multiplication stage with secondary emission electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2231/00—Cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2231/50—Imaging and conversion tubes
- H01J2231/505—Imaging and conversion tubes with non-scanning optics
- H01J2231/5056—Imaging and conversion tubes with non-scanning optics magnetic
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Image-Pickup Tubes, Image-Amplification Tubes, And Storage Tubes (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft einen Speicherschirm für eine Bildaufnahmeröhre, der aus einer für Photoelektronen durchlässigen Trägerelektrode und einem darauf befindlichen Speicherelement besteht, das eine poröse Schicht aus isolierendem Material aufweist, die bei Beschüß mit Primärelektronen in ihren Hohlräumen Sekundärelektronen erzeugt. Ein derartiger Speicherschirm ist aus der deutschen Patentschrift 1.138 482 bekannt.The invention relates to a storage screen for an image pickup tube consisting of one for photoelectrons permeable carrier electrode and a storage element located thereon, which is a Has porous layer of insulating material, which when bombarded with primary electrons in their cavities Secondary electrons generated. Such a storage screen is from the German patent 1,138,482 known.
auf einen Potentialwert aufladen kann, der größer als das Potential des ersten Nulldurchgangs für reflektierende Sekundäremission des Speichermaterials ist. Bei der Ablesung des auf dem Speicherschirm entstandenen Ladungsmusters bewirkt nämlich der langsame Elektronenstrahl eine reflektierende Sekundäremission des Speicherschirms. Die von den langsamen Elektronen erzeugten Sekundärelektronen werden von der auf verhältnismäßig hohem Potential liegen-can charge to a potential value that is greater than the potential of the first zero crossing for reflective Secondary emission of the storage material is. When reading the result on the storage screen This is because the charge pattern causes the slow electron beam to produce a reflective secondary emission of the storage screen. The secondary electrons generated by the slow electrons will be of which are at a relatively high potential-
Eine Anwendung eines solchen Speicherschirms ist io den Gitterelektrode angezogen, und die freie Oberd äl i dth Ptt 1240 549 fläche des Speicherschirms wird immer stärker posiOne application of such a storage screen is attracted to the grid electrode, and the open surface äl i dth Ptt 1240 549 area of the storage screen is becoming increasingly positive
in dem älteren eigenen deutschen Patent 1240 549 beschrieben. Der Speicherschirm ist hierbei in eine Bildaufnahmeröhre eingebaut und dient zum Auffangen des von der Photokathode erzeugten Elektronenbildes. Das gespeicherte Elektronenbild wird in Form eines Videosignals abgelesen, indem ein langsamer Elektronenstrahl auf den Speicherschirm gerichtet wird. Infolge der unregelmäßigen Bewegung des langsamen Elektronenstrahls ist es oft notwendig, eine Gitterelektrode in unmittelbarer Nähe der Oberfläche des Speicherschirms anzubringen, um die Elektronen in eine im wesentlichen senkrecht zur Schirmoberfläche verlaufende Bahn zu bringen. An diese Gitterelektrode kann beispielsweise eine Spannung im Bereich von 200 bis 400 Volt angelegt werden.in the earlier own German patent 1240 549 described. The storage screen is built into an image pick-up tube and serves to collect it of the electron image generated by the photocathode. The stored electron image is stored in Read the form of a video signal by directing a slow electron beam onto the storage screen will. Due to the irregular movement of the slow electron beam, it is often necessary to to attach a grid electrode in close proximity to the surface of the storage screen to collect the electrons to bring in a substantially perpendicular to the screen surface path. To this For example, a voltage in the range from 200 to 400 volts can be applied to the grid electrode.
Im Betrieb liegt die leitende Trägerelektrode des Speicherschirms an einem Potential, das etwa +15 Volt gegen die normalerweise geerdete Kathode der Elektronenstrahlquelle beträgt. Das von der Photofläche des Speicherschirms wird immer stärker positiv, weil sie an Elektronen verarmt. Dieser Vorgang setzt sich fort, bis das Potential der freien Oberfläche im wesentlichen gleich dem Potential der Gitterelektrode ist. Schon vorher tritt allerdings in der Regel ein Durchbruch der Speicherschicht auf. Dieser Durchbruch kann gemäß der Lehre des älteren Patents durch Anwendung eines zweiten Gitters zwischen der zur Ausrichtung des Ablesestrahls dienenden Gitterelektrode und dem Speicherschirm verhindert werden. An dieses Hilfsgitter wird eine positive Spannung angelegt, die unterhalb des ersten Nulldurchgangs der Sekundäremissionskurve der Speicherschicht liegt. Dadurch läßt sich verhindern, daß die Oberfläche des Speicherschirms ein Potential annimmt, das zum Durchbruch führen würde. : In operation, the conductive support electrode of the storage screen is at a potential which is approximately +15 volts with respect to the normally grounded cathode of the electron beam source. That of the photo surface of the storage screen becomes more and more positive because it is depleted of electrons. This process continues until the potential of the free surface is substantially equal to the potential of the grid electrode. However, a breakthrough in the storage layer usually occurs even beforehand. According to the teaching of the earlier patent, this breakthrough can be prevented by using a second grid between the grid electrode used to align the reading beam and the storage screen. A positive voltage is applied to this auxiliary grid which is below the first zero crossing of the secondary emission curve of the storage layer. This prevents the surface of the storage panel from assuming a potential that would lead to breakdown. :
Wegen des verhältnismäßig niedrigen Nullpotentials für die meisten verwendbaren Stoffe muß dasBecause of the relatively low zero potential for most materials that can be used, this must be
kathode ausgehende Elektronenbild der Primärelek- 30 Potential des Hilfsgitters auf einem geringen Wertcathode outgoing electron image of the primary electrode 30 potential of the auxiliary grid at a low value
tronen wird auf eine Energie (etwa 10 keV) beschleunigt, die ausreicht, um die Trägefelektrode zu durchdringen und in die poröse Schicht einzutreten, wobei hier die Energie der Primärelektronen unter Erzeugung zahlreicher langsamer Sekundärelektronen vernichtet wird. Die meisten langsamen Sekundärelektronen werden unter dem Einfluß des polarisierenden elektrischen Feldes durch die Hohlräume der porösen Schicht abgeführt und gelangen auf die Trägerelektrode. So entsteht ein Sekundärelektronenstrom, der die freie Oberfläche der porösen Schicht immer stärker positiv macht, bis das ,Potential dieser Schicht im "wesentlichen gleich derjenigen der Trägerelektrode ist. So ergibt sich ein Ladungsbild an der freien Oberfläche, das von der Sekundärelektronenleitung herrührt. Die örtliche Aufladung ist eine Funktion der Anzahl und Energie der Primärelektronen, der Stärke des polarisierenden elektrischen Feldes und der Kapazität der Speicherschicht.tronen is accelerated to an energy (about 10 keV), which is sufficient to penetrate the carrier electrode and to enter the porous layer, thereby generating the energy of the primary electrons numerous slow secondary electrons is destroyed. Most of the slow secondary electrons are under the influence of the polarizing electric field through the cavities of the porous Layer removed and reach the carrier electrode. This creates a flow of secondary electrons, the the free surface of the porous layer makes more and more positive until the potential of this layer im "is essentially the same as that of the carrier electrode. This results in a charge pattern on the free one Surface resulting from the secondary electron conduction. Local charging is a function the number and energy of the primary electrons, the strength of the polarizing electric field and the capacity of the storage layer.
Der Speicherschirm hat die weitere Eigenschaft, daß aus seiner freien Oberfläche Sekundärelektronen austreten, die vom äußeren elektrischen Feld der Gitterelektrode beschleunigt werden. Diese aus dem Speicherschirm austretenden Sekundärelektronen erhinsichtlich der Trägerelektrode des Speicherschirms gehalten werden. Unter diesen Umständen ist die elektrische Feldstärke zwischen der Trägerelektrode und dem Hilfsgitter außerordentlich klein, so daß nahezu keine äußere Sekundäremission an der freien Oberfläche der porösen Schicht auftritt und der Speicherschirm nahezu ausschließlich durch die innere Sekundäremission aufgeladen wird.The storage screen has the further property that secondary electrons from its free surface emerge, which are accelerated by the external electric field of the grid electrode. This from the Secondary electrons emerging from the storage screen with regard to the carrier electrode of the storage screen being held. Under these circumstances, the electric field strength is between the support electrode and the auxiliary grid extremely small, so that almost no external secondary emission to the free Surface of the porous layer occurs and the storage screen almost exclusively through the inner Secondary emission is charged.
Ähnlich hegen die Verhältnisse bei dem Speicherschirm nach der USA.-Patentschrift 3 128 406. Hier handelt es sich um eine Bildröhre für Direktwiedergabe, bei der das aufzunehmende Bild auf einen Eingangsschirm gerichtet wird und das hinsichtlich Helligkeit und/oder Kontrast verstärkte Bild auf einem Ausgangsschirm betrachtet werden kann. In dieser Röhre befinden sich mehrere Speicherschirme zwischen dem Eingangsschirm und dem Ausgangsschirm, um hierdurch die vom Eingangsschirm emittierten Elektronen zu vervielfachen. Ein HilfsgitterThe situation is similar in the case of the storage screen according to US Pat. No. 3,128,406. Here it is a picture tube for direct playback, in which the image to be recorded is directed to an input screen and that with regard to Brightness and / or contrast enhanced image can be viewed on an output screen. In this tube there are several storage screens between the input screen and the output screen, to thereby multiply the electrons emitted by the input screen. An auxiliary grid
so kann angewandt werden, um die emittierten Sekundärelektronen zu beschleunigen und auch das Potential zu begrenzen, auf das die freie Oberfläche der porösen Schicht des Speicherschirms ansteigen kann. Um die Elektronen von einem Speicherschirm aufso can be applied to the emitted secondary electrons to accelerate and also to limit the potential to which the free surface of the porous layer of the storage screen can rise. To get the electrons from a storage screen on
höhen das Potential der freien Oberfläche über das- 55 den nächsten dahinterliegenden zu "richten, müssen jenige der Trägerelektrode auf einen Gleichgewichts- die aufeinanderfolgenden Speicherschirme mit zuwert zwischen dem Potential der Gitterelektrode und nehmend stärker positiven Spannungen betrieben demjenigen der Trägerelektrode. Dieses Gleich- werden. Ohne Verwendung eines Hilfsgitters kann gewichtspotential erzeugt ein elektrisches Feld an der der Speicherschirm leicht zerstört werden, weil stän-increase the potential of the free surface above that of the next one behind it those of the carrier electrode on an equilibrium the successive storage screens with additional value operated between the potential of the grid electrode and increasing positive voltages that of the carrier electrode. This becoming equal. Without using an auxiliary grid weight potential creates an electric field at which the storage screen is easily destroyed, because constant-
porösen Schicht, das eine zur anfänglichen Polarisation entgegengesetzte Polarität hat und normalerweise groß genug ist, um einen Durchbruch der porösen Schicht hervorzurufen. Selbst wenn die Intensität oder Dauer der Primärelektroneneinwirkung begrenzt wird, um diesen Prozeß aufzuhalten, bevor die Durchbruchsspannung der porösen Schicht überschritten wird, ist der Speicherschirm doch nicht vor Zerstörung sicher, wenn seine freie Oberfläche sich dig eine Sekundäremission stattfindet und die freie Oberfläche der porösen Schicht infolgedessen das Potential der benachbarten Elektrode anzunehmen sucht. Der Potentialanstieg rührt hierbei grundsätzlich ausschließlich von der äußeren Sekundäremission her. Um den Potentialanstieg zu beschränken, ist ein Hilfsgitter erforderlich. Es muß auf einer solchen Spannung gehalten werden, daß zwischen dem Hilfsgitter und der Trägerelektrode des zugehörigen Spei-porous layer, the one for initial polarization has opposite polarity and is usually large enough to breakthrough the porous To evoke layer. Even if the intensity or duration of the primary electron exposure is limited is to stop this process before the breakdown voltage of the porous layer is exceeded the storage screen is not safe from destruction if its free surface is dig a secondary emission takes place and the free surface of the porous layer consequently the Seeks to accept the potential of the neighboring electrode. The increase in potential is fundamentally due to this exclusively from the external secondary emission. In order to limit the increase in potential, a Auxiliary grid required. It must be kept at such a tension that between the auxiliary grid and the carrier electrode of the associated storage
cherschirms keine elektrische Feldstärke von mehr als etwa 150 Volt/cm auftreten kann.cherschirms no longer have an electric field strength than about 150 volts / cm can occur.
Die Verwendung eines Hilfsgitters in einer Fernsehkameraröhre oder einer Direktbildverstärkerröhre ist aber aus verschiedenen Gründen nachteilig. Nicht nur müssen zusätzliche Teile und ihre Halterungen in der Röhre untergebracht werden, sondern es müssen auch die erforderlichen Gleichspannungen aufgebracht und auf dem richtigen Wert gehalten werden. Außerdem wird die Bildqualität durch das Hilfsgitter stark verschlechtert.The use of an auxiliary grid in a television camera tube or a direct image intensifier tube but is disadvantageous for various reasons. Not only do additional parts and their brackets need to be in the tube, but the required DC voltages must also be applied and kept at the right value. In addition, the image quality is increased by the auxiliary grid greatly deteriorated.
Aufgabe der Erfindung ist demgemäß die Schaffung eines Speicherschirms der eingangs erwähnten Art, der kein Hilfsgitter mehr in der Bildaufnahmeröhre erforderlich macht, um einen Durchbruch des Speicherelements zu verhindern.The object of the invention is accordingly to create a storage screen of the type mentioned at the beginning, which no longer requires an auxiliary grid in the image pickup tube in order to break through the storage element to prevent.
Die Lösung dieser Aufgabe besteht erfindungsgemäß darin, daß die poröse Speicherschicht auf ihrer der Trägerelektrode abgekehrten Seite mit einer Sperrschicht versehen ist, deren Dichte größer als diejenige der Speicherschicht ist und die den Austritt von Elektronen aus der freien Oberfläche des Speicherelements verhindert.The solution to this problem is that the porous storage layer on their the side facing away from the carrier electrode is provided with a barrier layer, the density of which is greater than that of the storage layer and that of the escape of electrons from the free surface of the storage element prevented.
Durch die dichtere Deckschicht wird nämlich die Austrittswahrscheinlichkeit der Sekundärelektronen aus der Oberfläche des Speicherelements verringert.The denser cover layer increases the probability of the secondary electrons escaping decreased from the surface of the memory element.
Bei einer Ausführungsform der Erfindung sind die poröse Speicherschicht und die Sperrschicht als getrennte Schichten aus dem gleichen Isoliermaterial ausgebildet, während bei einer anderen Ausführungsform der Erfindung die Dichte des Speicherelements sich stetig von einem stärker porösen Bereich an der Seite der Trägerelektrode zu einem dichteren Bereich an der freien Oberfläche des Speicherelements ändert. Bei einer dritten Ausführungsform besteht die Sperrschicht aus einem dünnen unzusammenhängenden Überzug eines elektrisch leitenden Materials. In one embodiment of the invention, the porous storage layer and the barrier layer are as separate Layers formed from the same insulating material, while in another embodiment of the invention the density of the memory element steadily from a more porous area on the side of the carrier electrode to a denser area changes on the free surface of the storage element. In a third embodiment, there is Barrier layer made from a thin, discontinuous coating of electrically conductive material.
Es ist bereits ein Speicherschirm für Bildaufnahmeröhren vorgeschlagen worden, bei dem sich auf einer Glasplatte mit einem durchsichtigen, elektrisch leitenden Überzug eine poröse Schicht aus einem photoleitenden Material und daran anschließend eine nicht poröse oder semiporöse Schicht aus photoleitendem Material befindet. Durch die Verwendung einer solchen Deckschicht aus photoleitendem Material soll die Empfindlichkeit des Speicherschirms gesteigert werden, insbesondere, wenn dieser gesondert zum nachträglichen Einbau in eine Bildaufnahmeröhre vorgefertigt wird. Es handelt sich hier also um eine speichernde Photokathode, auf der unmittelbar ein Bild entworfen wird, um die photoleitende Schicht je nach deren Belichtung mehr oder weniger leitend zu machen. Erfindungsgemäß handelt es sich dagegen nicht um ein photoleitendes Speicherelement, sondern um ein Speicherelement aus Isolierstoff, worin durch den Beschüß der anderswo ausgelösten Elektronen Sekundärelektronen frei gemacht werden. Auch ist der Zweck der Erfindung nicht wie bei dem älteren Vorschlag eine Empfindlichkeitssteigerung, sondern die Verhinderung des Austritts von Elektronen aus der freien Oberfläche des Speicherelementes.There has already been proposed a storage screen for image pick-up tubes which is based on a glass plate with a transparent, electrically conductive coating a porous layer of a photoconductive material and then a non-porous or semi-porous layer of photoconductive Material is located. By using such a cover layer made of photoconductive material the sensitivity of the storage screen is to be increased, especially if it is separate is prefabricated for subsequent installation in an image pickup tube. So this is a storing photocathode on which an image is immediately drawn around the photoconductive layer to make more or less conductive depending on their exposure. According to the invention, however, it is not a photoconductive memory element, but a memory element made of insulating material, in which by Secondary electrons are released from the bombardment of electrons released elsewhere. Also is The purpose of the invention is not an increase in sensitivity as in the older proposal, but rather the prevention of the escape of electrons from the free surface of the storage element.
Die Erfindung wird nachstehend an Hand der Zeichnung erläutert. Hierin zeigtThe invention is explained below with reference to the drawing. Herein shows
F i g. 1 die schematische Darstellung einer Bildaufnahmeröhre mit dem erfindungsgemäßen Speicherschirm, F i g. 1 the schematic representation of an image pickup tube with the storage screen according to the invention,
Fig. 2 schematische Darstellung einer Direktbildverstärkerröhre mit dem erfindungsgemäßen Speicherschirm undFig. 2 is a schematic representation of a direct image intensifier tube with the storage screen according to the invention and
F i g. 3 bis 5 stark vergrößerte Schnittdarstellungen erfindungsgemäßer Speicherschirme, die bei den An-5 Ordnungen nach Fig. 1 und 2 angewandt werden können.F i g. 3 to 5 greatly enlarged sectional views of storage screens according to the invention, which are shown in FIGS Orders of Fig. 1 and 2 can be applied.
Fig. 1 zeigt die Anwendung der Erfindung auf eine Fernsehkameraröhre 40. Sie besitzt einen Kolben 42 aus Isoliermaterial mit einer Stirnplatte 44Fig. 1 shows the application of the invention to a television camera tube 40. It has a piston 42 made of insulating material with an end plate 44
ίο am einen Ende. Die Stirnplatte 44 ist für die gewünschte Lichtart durchlässig, so daß das Bild einer Szene 62 auf eine an der Innenseite der Stirnplatte 44 befindliche Photokathode 45 entworfen werden kann. Am anderen Ende der Röhre befindet sich ein Elektronenstrahlerzeuger 50, der einen langsamen pinseiförmigen Elektronenstrahl auf den Speicherschirm 24 richten kann. Der Elektronenstrahlerzeuger besteht z. B. aus der Kathode 52, dem Steuergitter 54 und der Beschleunigungselektrode 55. Eine Feldelektrode 56 ist als Überzug auf der Innenfläche des Kolbens 42 ausgebildet. Ablenkspulen 58 dienen zur Ablenkung des Abtastelektronenstrahls. Ferner ist eine Konzentrationsspule 60 vorgesehen, die nicht nur den vom Elektronenstrahlerzeuger 50 ausgehenden Elektronenstrahl, sondern auch die von der Photokathode 45 emittierten Photoelektronen auf den Speicherschirm 24 richtet. Zwischen dem Speicherschirm 24 und der Photokathode 45 befinden sich mehrere Beschleunigungs- und Konzentrationselektroden 46 undίο at one end. The face plate 44 is transparent to the desired type of light, so that the image of a Scene 62 can be designed onto a photocathode 45 located on the inside of the face plate 44. There is an electron gun at the other end of the tube 50, which emits a slow, pin-shaped electron beam onto the storage screen 24 can judge. The electron gun consists, for. B. from the cathode 52, the control grid 54 and the accelerating electrode 55. A field electrode 56 is coated on the inner surface of the piston 42 formed. Deflection coils 58 are used to deflect the scanning electron beam. Furthermore is a Concentration coil 60 is provided, which not only contains the electron beam emanating from the electron beam generator 50, but also the photoelectrons emitted by the photocathode 45 onto the storage screen 24 sets up. Between the storage screen 24 and the photocathode 45 there are several acceleration and concentration electrodes 46 and
48. Ferner ist in geringem Abstand von der freien Oberfläche des Speicherschirms 24 ein dünnes Drahtnetz 64 angeordnet, das auf einem Potential von 200 bis 400 Volt gegen die geerdete Kathode 52 gehalten wird. Das Drahtnetz dient dazu, den von der Kathode 52 ausgehenden Elektronen eine zum Speicherschirm 24 senkrechte Auftreffrichtung zu geben.48. There is also a thin wire mesh at a short distance from the free surface of the storage screen 24 64, which is held at a potential of 200 to 400 volts against the grounded cathode 52 will. The wire mesh serves to transfer the electrons emanating from the cathode 52 to the storage screen 24 to give a vertical direction of impact.
Der Speicherschirm 24 ist im Kolben 42 mit einem Tragring 66 befestigt, der z. B. aus einer Nickel-Eisen-Kobalt-Legierung (Handelsname Kovar) bestehen kann. Der erfindungsgemäße Aufbau eines solchen Speicherschirms 24 ist in F i g. 3 dargestellt. Er besteht aus einer isolierenden Tragschicht 27, beispielsweise aus Aluminiumoxyd, auf der sich eine elektrisch leitende Elektrodenschicht 26, beispielsweise aus Aluminium, befindet. Auf der leitenden Elektrode 26 befindet sich eine zusammenhängende poröse Schicht 28 aus einem isolierenden sekundäremittierenden Material, z. B. Kaliumchlorid. Statt dessen sind beispielsweise auch Bariumfluorid, Lithiumfluorid, Magnesiumnuorid, Magnesiumoxyd, Zäsiumjodid und Natriumchlorid verwendbar. Die Schicht 28 wird in bekannter Weise z. B. als Rauch niedergeschlagen. Eine zweite Schicht 30 befindet sich auf der Schicht 28 und hat die Eigenschaft, daß ihre Dichte größer als diejenige der Schicht 28 ist.The storage screen 24 is fastened in the piston 42 with a support ring 66 which, for. B. from a nickel-iron-cobalt alloy (Trade name Kovar) can exist. The structure according to the invention of such a storage screen 24 is shown in FIG. 3 shown. It consists of an insulating support layer 27, for example made of aluminum oxide, on which a electrically conductive electrode layer 26, for example made of aluminum, is located. On the senior Electrode 26 is a cohesive porous layer 28 made of an insulating secondary emitting Material, e.g. B. Potassium Chloride. Instead, for example, barium fluoride, lithium fluoride, Magnesium nitride, magnesium oxide, cesium iodide and sodium chloride can be used. the Layer 28 is applied in a known manner, for. B. cast down as smoke. A second layer 30 is located is on the layer 28 and has the property that its density is greater than that of the layer 28.
Typisch besteht die Schicht 30 aus dem gleichen Werkstoff wie die Schicht 28, jedoch können auch andere Isolierstoffe verwendet werden.The layer 30 typically consists of the same material as the layer 28, but can also other insulating materials can be used.
Im Betrieb der Kameraröhre nach Fig. 1 wird ein Potential von etwa 15 Volt gegen die Kathode 52 an die Elektrode 26 des Speicherschirms 24 angelegt. Die vom Elektronenstrahlerzeuger 50 emittierten langsamen Elektronen werden von der Feldelektrode 56 und der Konzentrationsspule 60 auf die Oberfläche der Schicht 30 des Speicherschirms 24 fokussiert. Infolgedessen nimmt die Oberfläche der Schicht 30 im wesentlichen das Potential der Kathode 52, also Erdpotential an. Ferner wird ein Bild derIn the operation of the camera tube according to FIG a potential of about 15 volts is applied across the cathode 52 to the electrode 26 of the storage screen 24. The slow electrons emitted from the electron gun 50 are from the field electrode 56 and the concentration coil 60 are focused on the surface of the layer 30 of the storage screen 24. As a result, the surface of layer 30 essentially depletes the potential of the cathode 52, i.e. earth potential. Furthermore, a picture of the
Szene 62 auf der Photokathode 45 entworfen, und die wo sie abermals vervielfacht werden. Die vom letzten Photoelektronen werden durch die Konzentrations- Speicherschirm 24 emittierten Elektronen werden von spule 60 in ihrer dem Bild entsprechenden Verteilung der Potentialquelle 35 mit einer Spannung von etwa auf den Schirm 24 fokussiert, wobei sie durch die 5 kV auf die Oberfläche der Leuchtschicht 23 gerich-Beschleunigungselektroden 46 und 48 so stark be- 5 tet, die eine entsprechende optische Darstellung er-•schleunigt werden, daß sie die isolierende Tragschicht gibt.Scene 62 designed on the photocathode 45, and the one where they are multiplied again. The one from the last Photoelectrons are emitted by the concentration storage screen 24 from electrons coil 60 in its distribution corresponding to the image of the potential source 35 with a voltage of about focused on the screen 24, whereby they by the 5 kV on the surface of the luminous layer 23 gerich acceleration electrodes 46 and 48 so strongly that a corresponding visual representation is accelerated that it gives the insulating base layer.
27 und die Elektrode 26 durchdringen. Die einfallen- Zur Herstellung des Speicherschirms 24 gemäß27 and the electrode 26 penetrate. To manufacture the storage screen 24 according to FIG
den Primärelektronen dringen in die Schicht 28 ein F i g. 1 bis 3 kann folgendermaßen vorgegangen wer- und erzeugen in den Hohlräumen dieser porösen den. Eine Aluminiumplatte wird zuerst oxydiert, und Schicht große Mengen langsamer Sekundärelektro- io dann wird das metallische Aluminium weggeätzt, so nen. Dadurch ändert sich das Potential der freien daß die isolierende Tragschicht 27 mit einer Dicke Oberfläche des Schirms 24, und zwar hauptsächlich von etwa 1000 Angstrom übrigbleibt. Dann wird infolge der Ableitung der Sekundärelektronen durch Aluminium auf die Tragschicht 27 in einer Dicke von die Schicht 28 zur Elektrode 26 und in zweiter Linie etwa 1000 Angström aufgedampft, um die Elektrode infolge einer merklichen, aber weit weniger bedeu- 15 26 zu bilden. Nun wird die Tragschicht 27 mit der tenden Emission von Sekundärelektronen aus der Elektrode 26 in einen Rezipienten gebracht, worin Schicht 30, die dann von der Elektrode 64 aufgenom- sich ein inertes Gas (z. B. Argon oder Stickstoff) men werden. Somit ergibt sich eine dem aufgenom- unter einem Druck von etwa 1 Torr befindet. Eine menen Bild entsprechende Ladungsverteilung auf der bestimmte Menge (z. B. 25 mg) eines entsprechenden freien Oberfläche der Schicht30, die in bekannter ao Materials (z.B. Kaliumchlorid), wird in einer Ent-Weise abgetastet werden kann. In F i g. 1 ist z. B. fernung von etwa 7,5 cm verdampft, um sich auf der eine. Ablesevorrichtung vom Vidicontyp vorgesehen. Elektrode 27 niederzuschlagen. Die Verdampfungthe primary electrons penetrate the layer 28 F i g. 1 to 3 can be done as follows and create in the cavities of this porous den. An aluminum plate is oxidized first, and Layer large amounts of slow secondary electronics then the metallic aluminum is etched away, like this nen. This changes the potential of the free that the insulating support layer 27 with a thickness Surface of the screen 24, mainly of about 1000 Angstroms remains. Then it will be as a result of the dissipation of the secondary electrons by aluminum on the support layer 27 in a thickness of layer 28 to electrode 26 and secondly evaporated about 1000 angstroms to the electrode as a result of a noticeable but far less significant 15 26 form. Now the base layer 27 with the Tending emission of secondary electrons from the electrode 26 brought into a recipient, wherein Layer 30, which is then absorbed by electrode 64, an inert gas (e.g. argon or nitrogen) men will be. This results in a recorded pressure of about 1 Torr. One menen image corresponding charge distribution on the specific amount (z. B. 25 mg) of a corresponding free surface of layer30, which is known in ao material (e.g. potassium chloride), is made in an ent-way can be scanned. In Fig. 1 is e.g. B. distance of about 7.5 cm evaporated to be on the one. Vidicon type reading device provided. Electrode 27 knock down. The evaporation
Fig. 2 zeigt als weiteres Beispiel eine Direktbild- wird bei einer Temperatur vorgenommen, die nur verstärkerröhre 10 gemäß der Erfindung. Sie besitzt wenig über dem Schmelzpunkt des Kaliumchlorids einen Kolben 12, der z. B. aus Glas besteht.. Der 35 liegt. Das Kaliumchlorid wird vollständig verdampft, Vakuumkolben 12 hat einen zylindrischen Teil 13, woraufhin man findet, daß die Dichte der Schicht 28 ein Fenster 14 an der einen Stirnfläche und ein etwa 1 bis 10 °/o ihrer Dichte im kompakten Zustand Fenster 16 an der anderen Stirnfläche. Auf der Innen- beträgt. Um die gewünschte Sekundäremission von fläche des Fensters 14 befindet sich eine elektrisch Elektronen innerhalb der Hohlräume der Schicht 28 leitende Schicht 18, die für die aufzunehmende Strah- 30 zu erzeugen, soll die Flächendichte der Schicht 28 lung durchlässig ist und z.B. aus Zinnoxyd besteht etwa 25 bis 200mg/cm2 betragen, und ihre Dichte Eine Photokathode 20, z. B. Zäsiumanthnonid, befin- soll etwa zwischen 10 und 30 Mikron liegen, det sich auf der Schicht 18. Die Innenfläche des Fen- ■ Als nächstes wird erfindungsgemäß eine zweite sters 16 ist mit einer durchsichtigen Elektrode 22 Schicht 30 aus passendem Material, wie Kaliumchlo-(z. B. aus Zinnoxyd) bedeckt, auf der sich eine 35 rid, aufgedampft, und zwar in einer inerten Atmo-Leuchtschicht 23 (z. B. aus Zinkkadmiumsuffid) be- sphäre bei einem Druck von etwa 0,1 Torr oder findet. Die Photokathode 20 wird von einer Szene 15 weniger. Hierdurch wird erreicht, daß die Schicht 30 belichtet und liefert ein entsprechendes Elektronen- dichter als die Schicht 28 wird. Um das Gleichgebild. Die Leuchtschicht 23 emittiert Licht bei Elek- wichtspotential auf der Oberfläche der Schicht 30 auf tronenbeschuß. 40 einen günstigen Wert zu bringen, ohne die Eigen-Fig. 2 shows as a further example a direct image is made at a temperature that only intensifier tube 10 according to the invention. It has a little above the melting point of potassium chloride a flask 12, the z. B. consists of glass. The 35 lies. The potassium chloride is completely evaporated, vacuum flask 12 has a cylindrical portion 13, whereupon it is found that the density of the layer 28 has a window 14 on one end face and about 1 to 10% of its density in the compact state window 16 on the other Face. On the inside is. In order to achieve the desired secondary emission from the surface of the window 14, there is an electrically conductive layer 18 inside the cavities of the layer 28, which layer 18 is to generate for the radiation to be absorbed, the surface density of the layer 28 should be permeable and, for example, consists of tin oxide about 25 to 200mg / cm 2 , and their density. A photocathode 20, e.g. B. cesium anthnonide, should be between 10 and 30 microns, det is on the layer 18. The inner surface of the window. Next, according to the invention, a second sters 16 is with a transparent electrode 22 layer 30 of a suitable material, such as potassium chloride - (e.g. made of tin oxide), on which a 35 rid, vapor-deposited, namely in an inert atmospheric luminous layer 23 (e.g. made of zinc cadmium suffide), at a pressure of about 0.1 Torr or finds. The photocathode 20 becomes less of one scene 15. This ensures that the layer 30 is exposed and provides a corresponding electron density than the layer 28. To the same picture. The luminous layer 23 emits light at electrical potential on the surface of the layer 30 upon electron bombardment. 40 to bring a favorable value, without the own
Zwischen den Fenstern 14 und 16 befinden sich schäften des Speicherschirms ungünstig zu beeinmehrere
Speicherschirme 24, deren Anzahl von der flüssen, soll die Flächendichte der Schicht 30 etwa
gewünschten Verstärkung der Helligkeit bzw. des 5 bis 25 mg/cm2 haben. Ihre Dicke soll etwa zwischen
Kontrastes abhängt. In gewissen Fällen genügt eine 0,5 und 5,0 Mikron liegen. Die Dichte der Schicht 30
einzige Speicherelektrode. Der Aufbau des Speicher- 45 beträgt etwa 10 bis 5O°/o der Dichte im kompakten
schirms24 ist identisch mit demjenigen nach Fig. 1 Zustand,
und 3. Wie erwähnt, erzeugen die in die poröse Schwamm-Between the windows 14 and 16 there are shafts of the storage screen 24, which are unfavorable to impair, the number of which depends on the density of the layer 30 should have the desired enhancement of brightness or 5 to 25 mg / cm 2 . Their thickness should depend roughly between contrasts. In certain cases a 0.5 and 5.0 micron range will suffice. The density of the layer 30 single storage electrode. The structure of the memory 45 is about 10 to 50% of the density in the compact screen24 is identical to that of Fig. 1 state,
and 3. As mentioned, the in the porous sponge
Zwischen der Photokathode 20 und dem ersten schicht 28 eindringenden Primärelektronen eine An-Speicherschirm 24 befindet sich eine Spannungsquelle zahl langsamer freier Elektronen. Ein Teil dieser 31, die eine Beschleunigungsspannung liefert. Ent- 50 Sekundärelektronen kann aus dem Speicherschirm 24 sprechende Spannungsquellen 33 und 35 sind zwi- austreten und hinterläßt hierdurch eine positive Aufsehen dem ersten und zweiten Speicherschirm und ladung an der Oberfläche der Schicht 30. Im Laufe zwischen dem letzten Speicherschirm 24 und dem der Zeit steigt die Oberflächenladung Q ständig an, Leuchtschirm 23 vorgesehen. Zur Konzentration der da die Schichten 28 und 30 einen sehr hohen spezi-Elektronen dient z. B. ein die Röhre umgebender 55 fischen Widerstand haben. Infolgedessen entwickelt Dauermagnet 34. - sich eine Potentialdifferenz F an den Schichten 28Between the photocathode 20 and the first layer 28 penetrating primary electrons an An-storage screen 24 is a voltage source number of slow free electrons. Part of this 31 that provides an accelerating voltage. Voltage sources 33 and 35 that speak secondary electrons can emerge from the storage screen 24 and thereby leave a positive impression on the first and second storage screen and charge on the surface of layer 30. In the course of time between the last storage screen 24 and that of time increases the surface charge Q is constantly on, luminescent screen 23 is provided. To concentrate the layers 28 and 30 as a very high speci-electron z. B. have a 55 fish resistance surrounding the tube. As a result, permanent magnet 34 develops. A potential difference F develops across layers 28
30 entsp^hend der Bähung F = f, wo C30 corresponding to the flatness F = f, where C
Spannung von etwa 4 kV in Richtung auf den ersten die Gesamtkapazität der Schichten 28 und 30 gegen-Speicherschirm 24 beschleunigt. Sie durchdringen die G0 über der leitenden Elektrode 26 ist. Bei einem Anisolierende Trägerschicht 27 und die Elektrode 26 stieg der Potentialdifferenz V steigt die Stärke des und lösen in der porösen Schicht 28 zahlreiche Se- Sekundäremissionsstroms, weil die Austrittswahrkundärelektronen aus. Wie in der obengenannten scheinlichkeit der in der Schicht 28 gebildeten freien USA.-Patentschrift 3 128 406 ausgeführt ist, ist die Elektronen zunimmt. Übersteigt die Potentialdiffe-Porosität der Schicht 28 ein wesentlicher Faktor zur 65 renz V emen-bestimmten Wert, so tritt eine Ableitung Erzielung einer hohen Verstärkung. Die vom ersten durch die Schichten 28 und 30 auf, weil freie Elek-Speicherschirm24 austretenden Elektronen werden tronen und/oder Leitungselektronen durch den Stoß dann zum zweiten Speicherschirm 24 beschleunigt, der Primärelektronen hoher Energie (5 bis 10 kV)Voltage of about 4 kV in the direction of the first accelerates the total capacitance of layers 28 and 30 against storage screen 24. They penetrate the G 0 above the conductive electrode 26. In the case of an insulating carrier layer 27 and the electrode 26, the potential difference V increases, the strength of the increases and releases numerous Se secondary emission currents in the porous layer 28 because the leakage secondary electrons are released. As pointed out in the above-mentioned US Pat. No. 3,128,406 formed in layer 28, the electron is increasing. Potentialdiffe exceeds the porosity of the layer 28 is an important factor for 65 rence V emen-specific value, then a discharge occurs achieve a high amplification. The electrons emerging from the first through the layers 28 and 30 because the electron storage screen 24 is free are electrons and / or conduction electrons are accelerated by the impact to the second storage screen 24, the primary electrons of high energy (5 to 10 kV)
verfügbar sind. Dieser Leitungseffekt begrenzt die positive Aufladung auf der Oberfläche des Speicherschirms 24. Ein Gleichgewicht zwischen der Aufladung der Oberfläche durch Sekundäremission und der Entladung durch Leitungseffekt ergibt sich, wenn der Leitungsstrom durch Sekundäremission dem Emissionsstrom durch Sekundärelektronen gleichkommt, d. h., wenn die innere Sekundäremission gleich der äußeren Sekundäremission wird. Dieser Zustand entspricht einem Spannungsabfall an den Schichten 28 und 30, der als Gleichgewichtsspannung Vgl bezeichnet werden kann.Are available. This conduction effect limits the positive charge on the surface of the storage screen 24. A balance between the charge of the surface by secondary emission and the discharge by conduction effect results when the conduction current due to secondary emission equals the emission current due to secondary electrons, i.e. when the inner secondary emission is equal to the outer one Secondary emission will. This state corresponds to a voltage drop across layers 28 and 30, which can be referred to as the equilibrium voltage Vgl.
Die Gleichgewichtsspannung Vgi typischer Speicherschirme ist nun normalerweise höher als die Durchbruchsspannung einer porösen Schicht. Infolgedessen tritt bereits ein Durchbrach mit entsprechender Zerstörung des Speicherelements ein, bevor die oben definierte Gleichgewichtsspannung erreicht wird. Die Gleichgewichtsspannung kann aber herabgesetzt werden, wenn der äußere Sekundäremissions- ao strom verringert und/oder der innere Sekundäremissionsstrom erhöht wird. Erfindungsgemäß läßt sich dies leicht erreichen, indem die Oberflächenschicht 30 dichter als die eigentliche Sekundäremissionsschicht 28 gemacht wird. In einem dichteren Bereich ist nämlich die Austrittswahrscheinlichkeit der Sekundärelektronen aus der Oberfläche geringer, und gleichzeitig wird die Festkörperleitung in der Schicht erhöht. Dadurch wird die Abhängigkeit ■des Gleichgewichtspotentials vom äußeren elektrisehen Feld verringert, so daß ein Hilfsgitter zur Begrenzung des äußeren elektrischen Feldes unnötig wird.The equilibrium voltage V gi of typical storage screens is now normally higher than the breakdown voltage of a porous layer. As a result, a breakthrough with corresponding destruction of the storage element already occurs before the equilibrium voltage defined above is reached. The equilibrium voltage can, however, be reduced if the external secondary emission current is reduced and / or the internal secondary emission current is increased. According to the invention, this can easily be achieved by making the surface layer 30 more dense than the actual secondary emission layer 28. In a denser area, the probability of the secondary electrons escaping from the surface is lower and, at the same time, the solid-state conduction in the layer is increased. This reduces the dependence of the equilibrium potential on the external electrical field, so that an auxiliary grid to limit the external electrical field is unnecessary.
Es ist offenbar nicht erforderlich, ein Speicherelement mit zwei besonderen Schichten gemäß F i g. 3 zu verwenden. Statt dessen kann auch ein Speicherelement 74 gemäß F i g. 4 vorgesehen sein, das eine einzige Sekundäremissionsschicht 72 besitzt, bei welcher derjenige Bereich, der an die Oberfläche 78 einer Elektrodenschicht 76 anschließt, eine Dichte von etwa 1 bis 10% der Dichte im kompakten Zustand hat, während diejenigen Bereiche, die der freien Oberfläche 80 benachbart sind, eine Dichte von etwa 30% der Dichte im kompakten Zustand haben. Durch diesen Aufbau wird nicht nur die Menge der aus der freien Oberfläche austretenden Sekundärelektronen verringert, sondern es wird auch der von der Sekundäremission herrührende Leitungsstrom durch die Schicht 72 erhöht, wodurch die Gleichgewichtsspannung Vgi weiter verringert wird.It is evidently not necessary to use a memory element with two special layers as shown in FIG. 3 to use. Instead, a memory element 74 according to FIG. 4 can be provided, which has a single secondary emission layer 72, in which the area which adjoins the surface 78 of an electrode layer 76 has a density of approximately 1 to 10% of the density in the compact state, while those areas which the free surface 80 are adjacent have a density of about 30% of the density in the compact state. This structure not only reduces the amount of secondary electrons emerging from the free surface, but also increases the conduction current through the layer 72 resulting from the secondary emission, whereby the equilibrium voltage Vgi is further reduced.
Der Speicherschirm 74 kann z. B. folgendermaßen hergestellt werden: Eine isolierende Trägerschicht 77 aus Aluminiumoxyd und die Elektrode 76 aus Aluminium werden wie oben gebildet. Dann wird die Sekundäremission 72 aus Kaliumchlorid aufgedampft. Das Material befindet sich während des Verdampfungsprozesses in einem Abstand von etwa 7,5 cm von der Elektrode 76. Die Verdampfung geschieht wieder bei einer Temperatur, die nur wenig über dem Schmelzpunkt des Kaliumchlorids liegt, in einer Schutzgasatmosphäre, z. B. Argon. Anfangs wird die Verdampfung bei einem Druck von etwa 2 bis 3 Torr durchgeführt. Während des Verdampfungsvorgangs wird der Druck laufend durch Auspumpen verringert, so daß am Ende des Verdampfungsprozesses der Restdruck etwa 0,1 Torr oder weniger beträgt. Infolgedessen sind die anfangs niedergeschlagenen Teile der Schicht 72 sehr porös, während die später aufgedampften Teile immer dichter werden.The storage screen 74 may e.g. B. be produced as follows: an insulating carrier layer 77 of aluminum oxide and electrode 76 of aluminum are formed as above. Then the Secondary emission 72 evaporated from potassium chloride. The material is in the process of evaporation at a distance of about 7.5 cm from the electrode 76. The evaporation occurs again at a temperature which is only slightly above the melting point of the potassium chloride, in one Protective gas atmosphere, e.g. B. argon. Initially, the evaporation occurs at a pressure of about 2 to 3 torr carried out. During the evaporation process, the pressure is continuously reduced by pumping out, so that at the end of the evaporation process the residual pressure is about 0.1 torr or less. Consequently the initially deposited parts of the layer 72 are very porous, while the later vapor deposited Parts are getting denser.
Im übrigen ist es nicht erforderlich, die Außenschicht des Speicherelements aus dem gleichen Material wie die eigentliche Sekundäremissionsschicht zu bilden. Beispielsweise ist es bei einer Kameraröhre nach F i g. 1 unter Umständen erwünscht, ein anderes Material mit geringer Sekundäremissionsverstärkung und einem höheren Nulldurchgangspotential als für das unmittelbar auf der Elektrode befindliche Material zu wählen. Ein Beispiel hierfür ist in F i g. 5 dargestellt. Der Speicherschirm 84 besitzt wieder eine isolierende Tragschicht 87 und eine darauf niedergeschlagene Elektrode 90. Darauf wird eine poröse Schicht 88 in gleicher Weise wie vorher niedergeschlagen. Dann kommt eine leitende Schicht 86, z. B. Aluminium, deren Dichte etwa 100% der Dichte im kompakten Zustand beträgt. Sie wird im Hochvakuum aufgedampft und ergibt einen dünnen, nicht zusammenhängenden Überzug mit einer Tiefe von nur wenigen Molekülen (d. h. 10 bis 20 Angström) auf den Teilchen der Schicht 88. Das leitende Material bedeckt hierbei nicht nur die äußere Oberfläche der Schicht 88, sondern sucht auch in die Hohlräume derselben einzudringen und deren Begrenzungen auszukleiden, wodurch die Leitung durch die Schicht verbessert wird. Ein solcher Speicherschirm 84 hat gegebenenfalls nicht nur die Eigenschaft, daß das Gleichgewichtspotential niedriger als das Durchbruchspotential ist, sondern das Gleichgewichtspotential kann auch niedriger als das Potential des ersten Nulldurchgangs für reflektierende Sekundäremission sein.Otherwise it is not necessary to use the outer layer of the storage element made of the same material as the actual secondary emission layer form. For example, it is in the case of a camera tube according to FIG. 1 may be desirable, another Material with low secondary emission gain and higher zero crossing potential than for to choose the material directly on the electrode. An example of this is shown in FIG. 5 shown. The storage screen 84 again has an insulating support layer 87 and one deposited thereon Electrode 90. A porous layer 88 is deposited thereon in the same manner as before. Then comes a conductive layer 86, e.g. B. aluminum, the density of which is about 100% of the density in compact state. It is evaporated in a high vacuum and results in a thin one, not coherent coating only a few molecules deep (i.e. 10 to 20 angstroms) on the particles of layer 88. The conductive material does not only cover the outer surface the layer 88, but also seeks to penetrate into the cavities of the same and to line their boundaries, thereby improving conduction through the layer. Such a storage screen 84 has possibly not only the property that the equilibrium potential is lower than the breakdown potential is, but the equilibrium potential can also be lower than the potential of the first zero crossing for reflective secondary emission.
Die Erfindung hat, wie erwähnt, den Vorteil, daß das Gleichgewichtspotential des Speicherschirms unter dem Durchbruchspotential liegt, ohne daß ein äußeres Hilfsgitter angewandt werden muß. So ergibt sich eine erhebliche Vereinfachung in Herstellung und Betrieb von Bildspeicherröhren.As mentioned, the invention has the advantage that the equilibrium potential of the storage screen is below the breakdown potential without an external auxiliary grid having to be used. So results There is a considerable simplification in the manufacture and operation of image storage tubes.
Claims (9)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US457430A US3657596A (en) | 1965-05-20 | 1965-05-20 | Electron image device having target comprising porous region adjacent conductive layer and outer, denser region |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1295614B true DE1295614B (en) | 1969-05-22 |
Family
ID=23816699
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEW41626A Pending DE1295614B (en) | 1965-05-20 | 1966-05-20 | Storage screen for an image pick-up tube |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3657596A (en) |
BE (1) | BE681355A (en) |
DE (1) | DE1295614B (en) |
FR (1) | FR1480636A (en) |
GB (1) | GB1137910A (en) |
NL (1) | NL6606827A (en) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1491300A (en) * | 1966-05-05 | 1967-08-11 | Thomson Houston Comp Francaise | Improvements to secondary emission conduction targets and electron tubes incorporating them |
FR1494817A (en) * | 1966-06-24 | 1967-09-15 | Thomson Houston Comp Francaise | Improvements to targets with internal conduction by secondary emission and to electron tubes equipped with such targets |
FR1544839A (en) * | 1967-09-28 | 1968-11-08 | Thomson Houston Comp Francaise | Improvements to shooting tubes |
US3890524A (en) * | 1972-06-27 | 1975-06-17 | Hitachi Ltd | Photo-conductive target comprising both solid and porous layers |
US4039887A (en) * | 1975-06-04 | 1977-08-02 | Rca Corporation | Electron emitter including porous antimony |
US4147988A (en) * | 1977-06-02 | 1979-04-03 | Tektronix, Inc. | Channel multiplier plate CRT scan converter and scan conversion method |
US4155024A (en) * | 1977-06-03 | 1979-05-15 | Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. | Image tube having output fluorescent screen coated with porous and solid aluminum layers |
FR2453419A1 (en) * | 1979-04-03 | 1980-10-31 | Commissariat Energie Atomique | PARTICLE DETECTION DEVICE |
JPS5659434A (en) * | 1979-10-18 | 1981-05-22 | Toshiba Corp | Secondary electron multiplying target |
JP3675326B2 (en) * | 2000-10-06 | 2005-07-27 | キヤノン株式会社 | Multi-channel plate manufacturing method |
CA2436237A1 (en) * | 2000-12-01 | 2002-06-06 | Yeda Research And Development Co. Ltd. | Device and method for the examination of samples in a non-vacuum environment using a scanning electron microscope |
US20050154563A1 (en) * | 2001-08-27 | 2005-07-14 | Ulf Hassler | Device and method for evaluating a characteristic of an object |
IL150056A0 (en) * | 2002-06-05 | 2002-12-01 | Yeda Res & Dev | Low-pressure chamber for scanning electron microscopy in a wet environment |
AU2003231893A1 (en) | 2002-06-05 | 2003-12-22 | Quantomix Ltd. | A sample enclosure for a scanning electron microscope and methods of use thereof |
US20070125947A1 (en) * | 2003-02-20 | 2007-06-07 | David Sprinzak | Sample enclosure for a scanning electron microscope and methods of use thereof |
US7498557B2 (en) | 2005-09-08 | 2009-03-03 | Applied Materials Israel Ltd. | Cascaded image intensifier |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3128406A (en) * | 1961-04-28 | 1964-04-07 | Westinghouse Electric Corp | Radiation image pickup tube |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2678400A (en) * | 1950-12-30 | 1954-05-11 | Bell Telephone Labor Inc | Photomultiplier utilizing bombardment induced conductivity |
US2757233A (en) * | 1951-09-29 | 1956-07-31 | Emi Ltd | Electron discharge tube arrangements |
FR1043481A (en) * | 1951-10-05 | 1953-11-09 | Cfcmug | Improvements to photoconductive targets |
BE536517A (en) * | 1954-03-17 | |||
NL204284A (en) * | 1955-02-15 | |||
US2927254A (en) * | 1955-10-04 | 1960-03-01 | Gen Telephone Lab Inc | Impulse generator with impulse relay |
US3002124A (en) * | 1956-04-09 | 1961-09-26 | Westinghouse Electric Corp | Display storage tube |
GB879569A (en) * | 1957-02-07 | 1961-10-11 | Emi Ltd | Improvements in or relating to electron discharge devices and to circuit arrangements embodying such devices |
US3197662A (en) * | 1960-03-11 | 1965-07-27 | Westinghouse Electric Corp | Transmissive spongy secondary emitter |
US3213315A (en) * | 1962-12-03 | 1965-10-19 | Westinghouse Electric Corp | High gain storage tube with bic target |
-
1965
- 1965-05-20 US US457430A patent/US3657596A/en not_active Expired - Lifetime
-
1966
- 1966-05-12 GB GB21059/66A patent/GB1137910A/en not_active Expired
- 1966-05-18 NL NL6606827A patent/NL6606827A/xx unknown
- 1966-05-20 BE BE681355A patent/BE681355A/en unknown
- 1966-05-20 FR FR62273A patent/FR1480636A/en not_active Expired
- 1966-05-20 DE DEW41626A patent/DE1295614B/en active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3128406A (en) * | 1961-04-28 | 1964-04-07 | Westinghouse Electric Corp | Radiation image pickup tube |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BE681355A (en) | 1966-10-31 |
FR1480636A (en) | 1967-05-12 |
US3657596A (en) | 1972-04-18 |
NL6606827A (en) | 1966-11-21 |
GB1137910A (en) | 1968-12-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1295614B (en) | Storage screen for an image pick-up tube | |
DE2129909C2 (en) | Cathode ray storage tube | |
DE69300429T2 (en) | Microchannel plate image intensifier tube, particularly suitable for radiological images. | |
DE1489986B1 (en) | Layered body with electrical conductivity that can be stimulated by irradiation and process for its production | |
DE1089895B (en) | Electronic image amplifier | |
DE2810524C2 (en) | Method for displaying an image brightness distribution with an electroluminescent device | |
DE1138482B (en) | Emission electrode | |
DE1187740B (en) | Electron multiplier tubes | |
DE1240549B (en) | Method of operating an image pick-up tube | |
DE1162001B (en) | Electron discharge device, in particular television pickup tubes | |
DE2656621C3 (en) | Image display device having a gas discharge path and an electron accelerating path | |
DE1439929B2 (en) | PROCEDURE FOR ELECTRONIC STORAGE INCREASE AND READING OF PICTURALLY DISTRIBUTED INFORMATION | |
DE1937208B2 (en) | CATHODE TUBE SCREEN | |
DE2214374C3 (en) | Image converter or image intensifier tube | |
DE1201865B (en) | Screen for television tubes of the Vidicon type | |
DE3039011A1 (en) | SECONDARY ELECTRONIC MULTIPLE COLLECTING ELECTRODE OR -TARGET | |
DE1289587B (en) | Electron discharge device for image amplifiers, image pickup tubes and photomultiplier | |
DE1514946C3 (en) | Device for bistable storage of charge images | |
DE2209533A1 (en) | Light amplifier | |
DE2436622C2 (en) | Image converter or image intensifier tube | |
DE1539106C (en) | Image storage tube | |
DE1462101B1 (en) | METHOD OF MANUFACTURING A PHOTOCONDUCTIVE IMAGE ELECTRODE FOR IMAGE RECORDING TUBES | |
DE904777C (en) | Cathode ray tubes, in particular for television purposes | |
DE1037610B (en) | Electron multiplier with a large number of dynodes arranged between the cathode and the fluorescent screen, in which the carriers of the secondary electron emission layers are grid-like structures | |
DE1439929C (en) | Process for the electronic storage, amplification and reading of information that is distributed over an image |