DE1200638B

DE1200638B - Fastener

Info

Publication number: DE1200638B
Application number: DEM48263A
Authority: DE
Inventors: Werner Moll
Original assignee: WERNER MOLL
Current assignee: WERNER MOLL
Priority date: 1961-03-03
Filing date: 1961-03-03
Publication date: 1965-09-09

Description

Schnellätzmaschine Gegenstand des Hauptpatentes ist eine Schnellätzmaschine mit waagerecht liegender Ätzplattenaufnahme, unterhalb der mehrere die Ätzflüssigkeit aus Löchern unter Druck gegen die Ätzplatte spritzende, unterhalb des Ätzflüssigkeitsspiegels liegende, zu zwei gegenüberliegenden Wannenwänden parallel verlaufende Rohrabschnitte angeordnet sind. Diese Maschinen eignen sich sehr gut für die Verwendung von Ätzemulsionen, welche heute bevorzugt eingesetzt werden, um im Einstufenätzverfahren zu arbeiten, und deren Emulsionskomponente das Flankenschutzmittel darstellt, so daß Unterätzungen vermieden sind. Die Ausbildung solcher Ätzmaschinen, bei denen Ätzflüssigkeit aus Spritzlöchern unter Druck austritt, die jedoch ihrerseits in die Ätzflüssigkeit versenkt sind, erzeugt eine hohe innere Bewegung des Ätzbades, ohne daß ein Störmedium in die Ätzflüssigkeit eingeleitet wird. Die Ätzflüssigkeit wird vielmehr durch Ätzflüssigkeit in innere Bewegung versetzt. Es treten Wellenberge auf, deren Wellenkuppen die Ätzplatte rhythmisch und gleichmäßig bestreichen.Fast etching machine The subject of the main patent is a fast etching machine with horizontally lying etching plate holder, below which several the etching liquid splashing out of holes under pressure against the etching plate, below the etching liquid level lying pipe sections running parallel to two opposite tub walls are arranged. These machines are very suitable for the use of etching emulsions, which are preferred today to work in the one-step etching process, and the emulsion component of which is the side protection agent, so that undercuts are avoided. The formation of such etching machines, in which etching liquid from Spray holes exits under pressure, which in turn, however, into the etching liquid are sunk, generates a high internal movement of the etching bath, without an interfering medium is introduced into the etching liquid. Rather, the etching liquid is replaced by the etching liquid set in motion. There are wave peaks, the wave crests of which the etched plate Spread rhythmically and evenly.

In Weiterbildung dieser dem Hauptpatent zugrunde liegenden Ausgestaltung schlägt die vorliegende Erfindung vor, daß eine umlaufende Ätzplatte unterhalb des Spiegels der in dem Behälter befindlichen Ätzflüssigkeit angeordnet ist.In a further development of this design on which the main patent is based the present invention proposes that a circumferential etching plate below the Is arranged mirror of the etching liquid located in the container.

Die Älzflüssigkeit tritt unter solchem Druck aus den Spritzlöchern aus, daß in der Ätzflüssigkeit eine auf die Ätzplatte treffende Strömung entsteht. Zufolge dieser Ausgestaltung ist eine ebenso weich und zuverlässig arbeitende Schnellätzmaschine geschaffen wie diejenige nach dem Hauptpatent; zusätzlich treten jedoch Vorteile auf, die vor allen Dingen bei kleinen Maschinen von Bedeutung sind. Es ist eine geringe Menge Ätzflüssigkeit notwendig, da keine ausbauchenden Wellenberge mehr erzeugt werden müssen. Der mit Luft in Berührung kommende Ätzflüssigkeitsspiegel ist flächenmäßig kleiner, so daß die Erschöpfung des Ätzbades durch Luftberührung verlangsamt ist. Die Höhe der die Ätzflüssigkeit aufnehmenden Wanne kann kleiner gewählt werden. Auch ist die Ätzplatte während des Ätzvorgangs vor jeder Luftberührung geschützt. Alle diese Faktoren fallen, insbesondere bei der Verwendung von Ätzemulsionen, ins Gewicht. Die fehlerfreie Ätzung mit einer Ätzemulsion, welche ein möglichst weiches Bestreichen der Ätzplatte mit der Emulsion verlangt, ist möglich, weil die aus den Spritzlöchern austretenden Spritzstrahlen nicht unmittelbar und gebündelt auf die Ätzplatte treffen. Geätzt wird vielmehr mit einer von den Spritzstrahlen erzeugten, stets annähernd senkrecht auf die Ätzplatte gerichteten Strömung des Ätzflüssigkeitsbades. Da die Spritzstrahlen durch die innere Unruhe des Ätzflüssigkeitsbades zudem ständig abgelenkt werden, tritt in Verbindung mit dem an sich bekannten Umlauf der Ätzplatte eine völlig homogene Ätzung auf, insbesondere ohne Gefahr einer Streifen- oder Pickelbildung.The oil comes out of the spray holes under such pressure from the fact that a flow striking the etching plate is created in the etching liquid. As a result of this configuration, there is a high-speed etching machine that works just as smoothly and reliably created like the one according to the main patent; however, there are additional advantages which are particularly important for small machines. It is one small amount of etching liquid necessary, as there are no more bulging wave crests must be generated. The etching liquid level in contact with air is smaller in area, so that the depletion of the etching bath by contact with air is slowed down. The height of the trough receiving the etching liquid can be smaller to get voted. The etching plate is also prior to any air contact during the etching process protected. All of these factors fall, especially when using caustic emulsions, weight. The error-free etching with an etching emulsion, which is a possible Soft coating of the etching plate with the emulsion required is possible because the Spray jets emerging from the spray holes are not direct and bundled hit the etching plate. Rather, one of the spray jets is used to etch generated, always approximately perpendicular to the etching plate directed flow of the Etching liquid bath. Because the spray jets through the inner restlessness of the caustic bath are also constantly distracted, occurs in connection with the circulation, which is known per se a completely homogeneous etching of the etching plate, in particular without the risk of streaking or pimple formation.

Eine die innere Bewegung des Ätzbades günstig beeinflussende Ausgestaltung ist erfindungsgemäß dadurch gegeben, daß die Spritzrohre auf einem Rost angeordnet sind, deren Durchbrechungen symmetrisch zwischen den Rohrabschnitten liegen. Die Lage dieser Durchbrechungen verursacht in gewissem Maße eine gerichtete Ätzflüssigkeitsbewegung, indem zwischen den Rohrabschnitten eine bevorzugte Ausbildung von Wellentälern erfolgt, weil durch diese Löcher die Ätzflüssigkeit nach unten durch den Rost abfließt und andererseits symmetrisch seitlich dieser Durchbrechungen aus den Spritzlöchern der Rohrabschnitte wieder zugeführt wird.A design that has a beneficial effect on the internal movement of the etching bath is given according to the invention in that the spray pipes are arranged on a grate are whose openings are symmetrically between the pipe sections. the The position of these breakthroughs causes, to a certain extent, a directed movement of the etching liquid, by creating a preferred formation of wave troughs between the pipe sections, because through these holes the etching liquid flows down through the grate and on the other hand, symmetrically to the side of these openings from the injection holes Pipe sections is fed back.

Eine gebrauchstechnisch günstige Ausgestaltung ist erfindungsgemäß dadurch verwirklicht, daß die Ätzplattenaufnahme einen Tragzapfen aufweist, der teleskopartig verschiebbar in der Austrittsachse eines am Maschinendeckel angeordneten, an sich bekannten Planetengetriebes sitzt. Dies gestattet das Verstellen der Ätzplattenaufnahme auf die beabsichtigte, auch von der Füllmenge abhängige Höhe.According to the invention, an embodiment which is advantageous in terms of use is the present invention realized in that the etching plate receptacle has a support pin which telescopically displaceable in the exit axis of a known planetary gear sits. This allows the etching plate holder to be adjusted to the intended height, which is also dependent on the filling quantity.

Der Gegenstand der Erfindung ist in den A b b. 1 bis 5 in einem Ausführungsbeispiel dargestellt. Es zeigt A b b. 1 eine Vorderansicht der Ätzmaschine im teilweisen Schnitt, A b b. 2 eine Seitenansicht der Ätzmaschine, A b b. 3 einen Schnitt gemäß der Linie A-B der Ab b. 1, A b b. 4 einen vergrößerten Schnitt durch die Auffangwanne der Ätzmaschine in skizzenmäßiger Darstellung eines während des Ätzvorgangs vorhandenen Momentzustandes, A b b. 5 eine gleiche Seitenansicht wie A b b. 2 bei hochgeklapptem Deckel der Ätzmaschine.The object of the invention is shown in A b b. 1 to 5 in one embodiment shown. It shows A b b. 1 is a partial front view of the etching machine Section, A b b. 2 shows a side view of the etching machine, A b b. 3 shows a section according to the line A-B the Ab b. 1, A b b. 4 shows an enlarged section through the drip pan of the etching machine in a sketchy representation of a during the Etching process present instantaneous state, A b b. 5 is the same side view as A b b. 2 with the cover of the etching machine up.

In dem Untergestell l der Ätzmaschine ist der Motor 2 angeordnet, der mit einer Kreiselpumpe 3 gekuppelt ist. Die Schaltung des Motors erfolgt von einem Schaltpult 4 aus; der Motor 2 ist stufenlos regelbar, um die Leistung der Kreiselpumpe 3 zu regulieren; er arbeitet im übrigen mit Programmsteuerung.The motor 2, which is coupled to a centrifugal pump 3, is arranged in the underframe 1 of the etching machine. The motor is switched from a control panel 4 ; the motor 2 is infinitely variable in order to regulate the output of the centrifugal pump 3; he also works with program control.

Die Kreiselpumpe 3 ist mit ihrer Eingangsöffnung mit der Auffangwanne 5 der Ätzmaschine durch die Zuleitung 6 verbunden. Es sind vorzugsweise zwei Einmündungen 6' und 6" in der Auffangwanne 5 vorhanden. Am Boden der Auffangwanne 5 liegen eine Heizschlange 7 und eine Kühlschlange 8, um die Temperatur der Ätzemulsion 9 mit einem gemeinsamen Thermostaten auf einem konstanten Wert zu halten. Oberhalb der Heiz- und Kühlschlangen 7 und 8 befindet sich ein Rost 11. Dieses Rost 11 trägt das mit den senkrecht nach oben gerichteten Spritzlöchern 23 ausgestattete, oberhalb des Rostes 11 befindliche Schlangenrohr 12. Es bildet einzelne, parallel zueinander verlaufende geradlinige Rohrabschnitte. Letztere sind auf ihrer Mitte quergeteilt, so daß sie sich jeweils aus den Stücken 12' und 12"' zusammensetzen. Die durch die Querteilung gebildeten Enden 27 treten im Paßsitz in die Querbohrungen 28 der auf dem Rost 11 angeordneten Leiste 26 ein, was bereits vorgeschlagen wurde und nicht Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist. Die Rohrstücke 12' und 12"' verlaufen jeweils koaxial zueinander. Zwischen den Rohrabschnitten des Schlangenrohres 12 weist der Rost 11 Durchbrechungen 29 auf, die symmetrisch zwischen den geradlinig verlaufenden Rohrstücken 12' und 12"' liegen.The inlet opening of the centrifugal pump 3 is connected to the collecting trough 5 of the etching machine through the supply line 6. There are preferably two junctions 6 'and 6 "in the drip pan 5. At the bottom of the drip pan 5 are a heating coil 7 and a cooling coil 8 in order to keep the temperature of the etching emulsion 9 at a constant value with a common thermostat. Above the heater - and cooling coils 7 and 8 there is a grate 11. This grate 11 carries the serpentine tube 12, which is equipped with the spray holes 23 directed vertically upwards and located above the grate 11 divided transversely so that they are each composed of the pieces 12 'and 12'''. The ends 27 formed by the transverse division enter the transverse bores 28 of the bar 26 arranged on the grate 11 with a snug fit, which has already been proposed and is not the subject of the present invention. The pipe sections 12 ' and 12 "' each run coaxially to one another. Between the pipe sections of the serpentine pipe 12 , the grate 11 has openings 29 which lie symmetrically between the straight pipe sections 12 ' and 12"'.

An den Krümmungsstellen 12" sind Anschlagklötze 13 vorgesehen. Diese sitzen fest an den Krümmungsbögen und sind zugleich mittels der Schrauben 13' auf dem Rost 11 befestigt.Stop blocks 13 are provided at the points of curvature 12 "are provided. These are stuck to the arcs of curvature and are also fastened by means of screws 13 'on the grate. 11

Die beiden Enden 14 und 14' des Schlangenrohres 12 sind mit der Druckleitung 15 der Kreiselpumpe 3 verbunden.The two ends 14 and 14 ' of the coiled tube 12 are connected to the pressure line 15 of the centrifugal pump 3.

Die Auffangwanne 5 ist mit der Deckelplatte 17 verschließbar. Ein Hebelgestänge 18, ausgestattet mit einem Gegengewicht 19, erlaubt ein Öffnen dieser Deckelplatte 17 in Form eines Hochstellens.The drip pan 5 can be closed with the cover plate 17. A lever linkage 18, equipped with a counterweight 19, allows this cover plate 17 to be opened in the form of an upright position.

An der Unterseite der Deckelplatte 17 ist die Aufnahmeplatte 20 für die Ätzplatte 21 angeordnet. Die Aufnahmeplatte 20 ist mit einem Planetengetriebe 22 gekuppelt. Zufolge dieser Ausgestaltung führt die Aufnahmeplatte 20 eine Drehbewegung um ihre vom Tragzapfen 20' gebildete Mittelachse aus, wobei zusätzlich diese Mittelachse auf einer Kreisbahn läuft. Die Rohrabschnitte 12' und 12"' besitzen die zur Deckelplatte 17 gerichteten Spritzlöcher 23. Die Ätzplattenaufnahmeplatte 20 ist auf die Höhe des Ätzflüssigkeitsspiegels 9' einstellbar. Der Tragzapfen 20' sitzt dafür teleskopartig verschiebbar in der Austrittsachse 22' des Planetengetriebes 22. Eine Stellschraube 30 gestattet die Halterung des Tragzapfens 20' in jeder Lage. The receiving plate 20 for the etching plate 21 is arranged on the underside of the cover plate 17. The receiving plate 20 is coupled to a planetary gear 22. According to this embodiment, the receiving plate 20 performs a rotary movement about their formed by the support pin 20 'central axis, in addition, this central axis running along a circular path. The pipe sections 12 'and 12''are directed towards the cover plate 17, injection ports 23. The Ätzplattenaufnahmeplatte 20 9' is adjustable. The support pin 20 'to the height of Ätzflüssigkeitsspiegels sitting for telescopically slidable in the exit axis 22' of the planetary gear 22. A set screw 30 allows the support pin 20 'to be held in any position.

Die Wirkungsweise der Vorrichtung ist folgende: Die Auffangwanne 5 wird mindestens so weit mit der Ätzflüssigkeit 9, welche vorzugsweise aus einer Ätzemulsion besteht, gefüllt, daß die Rohrabschnitte 12' und 12"' vollständig unterhalb des Flüssigkeitsspiegels 9' liegen. (vgl. A b b. 1). Die Ätzplatte 21 taucht dabei in die Atzflüssigkeitsoberfläche ein. Die Pumpe 3 wird eingeschaltet, sie führt den Spritzlöchern 23 Ätzflüssigkeit zu, so daß Ätzflüssigkeitsstrahlen 24 erzeugt werden. Es stellt sich innerhalb der Ätzflüssigkeit zufolge entsprechender Reflexionen an den Seitenwänden der Auffangwanne eine rhythmische Bewegung ein, die ein Vorbeistreichen der Flüssigkeitsteilchen an der Ätzplatte 21 bewirkt. Unterstützt ist diese rhythmische Bewegung des Ätzbades durch die Durchbrechungen 29 zwischen den Rohrabschnitten. Durch diese Durchbrechungen 29 strömt die durch die Einmündungen 6' und 6" von der Pumpe angesaugte Ätzflüssigkeit nach unten. Dieses bringt verstärkte Wellentäler T zwischen den Wellenbergen W. Die innere Bewegung des Atzbades schaukelt sich dann zu einem Pendeln der Flüssigkeitsstrahlen 24 unter geringem Winkel auf.The mode of operation of the device is as follows: The drip pan 5 is filled at least so far with the etching liquid 9, which preferably consists of an etching emulsion, that the pipe sections 12 ' and 12''' are completely below the liquid level 9 '(cf. A b b. 1) The etching plate 21 dips into the etching liquid surface. The pump 3 is switched on, it feeds etching liquid to the spray holes 23 so that etching liquid jets 24 are generated a rhythmic movement that causes the liquid particles to sweep past the etching plate 21. This rhythmic movement of the etching bath is supported by the openings 29 between the pipe sections downward. This brings increased wave troughs T between the wave crests W. The inner movement of the etching bath then rocks to a pendulum of the liquid jets 24 at a small angle.

Die Druckkraft der Pumpe wird vorteilhafterweise so reguliert, daß die Strahlen 24 nicht in scharfer gebündelter Form bis auf die Ätzplatte treffen.The pressure force of the pump is advantageously regulated so that the rays 24 do not hit the etching plate in a sharply focused form.

Zufolge der eingetauchten Ätzplatte kann gegebenenfalls auch das Planetengetriebe 22 in Fortfall kommen, da gefunden wurde, daß auch ohne dieses eine völlig homogene Ätzung erreichbar ist; dies bringt die Möglichkeit, die räumlich breiten Maße der Wanne 5 wesentlich zu verkleinern.As a result of the immersed etching plate, the planetary gear can also be used 22 in failure, since it was found that even without this a completely homogeneous Etching is achievable; this brings the possibility of the spatially broad dimensions of the To reduce tub 5 significantly.

Claims

Claims: 1. Schnellätzmaschine with horizontally lying etching plate receptacle, below which several pipe sections are arranged, which spray the etching liquid from holes under pressure against the etching plate, lie below the etching liquid level and run parallel to two opposite tub walls, according to patent 1106 578, characterized in that a circumferential Etching plate is arranged below the level of the etching liquid in the container.

2. Schnellätzmaschine according to claim 1, characterized in that the spray pipes (12 ' and 12 "') are arranged on a grate (11) , whose openings (29) are symmetrically between the pipe cuts (12 ', 12"') .

3. Schnellätzmaschine according to claim 1, characterized in that the etching plate receptacle (20) has a support pin (20 ') which sits telescopically displaceable in the exit axis (22') of a planetary gear (22) arranged on the machine cover (17) . References considered: U.S. Patent Nos. 1016 487, 1313 233.