DE1099166B - Sensitizers for the photopolymerization of unsaturated organic compounds - Google Patents
Sensitizers for the photopolymerization of unsaturated organic compoundsInfo
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Description
Es ist bekannt, daß man photochemische Polymerisationen durch Zusatz von Sensibilisatoren beschleunigen kann. Als Sensibilisatoren werden z. B. Diacetyl, 2,3-Pentadienon, Benzyl-, Phenylglyoxal, Azodiisobuttersäurenitril, Disulfide und auch Mercaptane und Thioäther, die in α-Stellung zum Schwefelatom halogeniert sind, verwendet. Es wurde auch schon vorgeschlagen, olefinisch ungesättigte Verbindungen in Gegenwart von N-Nitrosoacyl- und -aroylaminen oder von N-Nitrososulfamiden als Katalysatoren zu polymerisieren, ohne sie dabei zu bestrahlen.It is known that photochemical polymerizations can be accelerated by adding sensitizers can. As sensitizers z. B. diacetyl, 2,3-pentadienone, benzyl-, phenylglyoxal, azodiisobutyronitrile, Disulfides and also mercaptans and thioethers, which are halogenated in the α-position to the sulfur atom, are used. It has also been proposed to use olefinically unsaturated compounds in the presence of N-nitrosoacyl and -aroylamines or N-nitrososulfamides as catalysts, without them being polymerized irradiate.
Es wurde nun gefunden, daß man photochemische Polymerisationen besonders vorteilhaft durchführen kann, wenn man als Sensibilisatoren N-Nitrosoacylamine, N-Nitrosoaroylamine oder N-Nitrososulfamide verwendet.It has now been found that photochemical polymerizations can be carried out particularly advantageously, if N-nitrosoacylamine, N-nitrosoaroylamine or N-nitrososulfamide are used as sensitizers.
Als N-Nitrosoverbindungen, die sich beispielsweise als Sensibilisatoren für photochemische Polymerisationen eignen, seien genannt: N-Nitrosoacetanilid, N-Nitrosoacetessigsäureanilid, N-Nitrosomethylacetamid, N-Nitroso-N-butyl-n-valeroylamid, N-Nitrosopyrrolidon, N-Nitrosocaprolactam, N-Nitroso-N-methylbenzamid, N-Nitroso-N-benzylbenzamid, N-Nitroso-N-benzylphenacetylamid, N-Nitroso-N-butylcyanacetamid, N-Nitroso-N-benzylcyanacetamid, N-Nitroso-N-benzylstearoylamid, N-Nitroso-N -benzyl-y-oxybutyroylamid, N-Nitrosomethylharnstoff, N-Nitrosomethylurethan, N-Nitroso-N-butylbenzolsulfamid und N-Nitroso-N-(2-äthylhexyl)-p-toluolsulfamid. As N-nitroso compounds, which can be used, for example, as sensitizers for photochemical polymerizations suitable, may be mentioned: N-nitrosoacetanilide, N-nitrosoacetoacetic anilide, N-nitrosomethylacetamide, N-nitroso-N-butyl-n-valeroylamide, N-nitrosopyrrolidone, N-nitrosocaprolactam, N-nitroso-N-methylbenzamide, N-nitroso-N-benzylbenzamide, N-nitroso-N-benzylphenacetylamide, N-nitroso-N-butylcyanacetamide, N-nitroso-N-benzylcyanacetamide, N-nitroso-N-benzylstearoylamide, N-nitroso-N -benzyl-y-oxybutyroylamide, N-nitrosomethylurea, N-nitrosomethyl urethane, N-nitroso-N-butylbenzenesulfamide and N-nitroso-N- (2-ethylhexyl) -p-toluenesulfamide.
Derartige N-Nitrosoverbindungen sensibüisieren die Photopolymerisation olefinisch ungesättigter Verbindungen, wie Acrylsäure und Methacrylsäure und deren Ester, Vinylacetat, Vinylpropionat, Styrol, a-Methylstyrol, Acrylnitril, Methylvinyläther, Cetylvinyläther, Vinylpyrrolidon und/oder gegebenenfalls von Gemischen solcher Monomeren. Sie werden den Monomeren zur Photopolymerisation in fester oder gelöster Form in Mengen von 0,01 bis 10 Gewichtsprozent, vorzugsweise 0,1 bis 5 Gewichtsprozent, zugesetzt.Such N-nitroso compounds sensitize the photopolymerization of olefinically unsaturated compounds, such as acrylic acid and methacrylic acid and their esters, vinyl acetate, vinyl propionate, styrene, a-methylstyrene, Acrylonitrile, methyl vinyl ether, cetyl vinyl ether, vinyl pyrrolidone and / or optionally mixtures such monomers. They are used in the monomers for photopolymerization in solid or dissolved form Amounts of 0.01 to 10 percent by weight, preferably 0.1 to 5 percent by weight, are added.
N-Nitrosoverbindungen der genannten Art lassen sich gefahrlos handhaben. Falls erwünscht, läßt sich ihre verhältnismäßig gute Beständigkeit durch Anfeuchten mit Essigsäure noch verbessern, was z. B. bei N-Nitrosocaptolactam und N-Nitrosopyrrolidon vorteilhaft ist. Auch kann man sie unmittelbar vor ihrer Verwendung als Sensibilisatoren in einfacher Weise, z. B. durch Umsetzen der entsprechenden Amide mit Natriumnitrit, herstellen. N-nitroso compounds of the type mentioned can be handled safely. If desired, theirs can be proportionate Good resistance can be improved by moistening with acetic acid. B. with N-nitrosocaptolactam and N-nitrosopyrrolidone is beneficial. You can also use them immediately before using them as sensitizers in a simple manner, e.g. B. by reacting the corresponding amides with sodium nitrite.
Es ist ein besonderer Vorteil bei der Verwendung dieser leicht zugänglichen Sensibilisatoren, daß man auch bei Temperaturen unterhalb 4O0C photochemisch polymerisieren kann. Bei der Bestrahlung mit ultraviolettem Licht oder auch mit Sonnenlicht zerfallen diese Sensibilisatoren in Radikale, die dann die Polymerisation auslösen. Man kann daher durch Ein- und Ausschalten derIt is a particular advantage when using this readily available sensitizers that can be polymerized photochemically even at temperatures below 4O 0 C. When exposed to ultraviolet light or sunlight, these sensitizers break down into radicals, which then trigger the polymerization. You can therefore switch the
Sensibilisatoren zur Photopolymerisation
ungesättigter organischer VerbindungenSensitizers for photopolymerization
unsaturated organic compounds
Anmelder:Applicant:
Badische Anilin- & Soda-FabrikAniline & Soda Factory in Baden
Aktiengesellschaft,Corporation,
Ludwigshafen/RheinLudwigshafen / Rhine
Dr. Adolf Hrubesch, Dr. Hans CraubnerDr. Adolf Hrubesch, Dr. Hans Craubner
und Dr. Werner Luck, Ludwigshafen/Rhein,and Dr. Werner Luck, Ludwigshafen / Rhine,
sind als Erfinder genannt wordenhave been named as inventors
Bestrahlung die Radikalmenge und damit den Verlauf der Polymerisation regulieren, was bei Blockpolymerisationen besonders vorteilhaft ist. Die erfindungsgemäßen Sensibilisatoren können jedoch auch zu photochemischen Polymerisationen verwendet werden, die in Lösung, Suspension oder Emulsion ausgeführt werden. Die in den folgenden Beispielen genannten Teile sind Gewichtsteile.Irradiation regulates the amount of radicals and thus the course of the polymerization, which is the case with block polymerizations is particularly advantageous. However, the sensitizers according to the invention can also be photochemical Polymerizations are used, which are carried out in solution, suspension or emulsion. The parts mentioned in the following examples are parts by weight.
100 Teile Methacrylsäuremethylester werden mit 0,4 Teilen N-Nitrosocaprolactam versetzt und mit einer Quecksilbertauchlampe bei 25° C bestrahlt. Es polymerisieren durchschnittlich 7°/„ des Monomeren je Stunde. Nach 3 Stunden wird das Reaktionsprodukt in 500 Teilen Benzol gelöst und das Polymerisat durch Zugabe von 1500 Teilen Leichtbenzin aus der Lösung gefällt. Das Polymerisat besitzt ein Molekulargewicht von 63 000.100 parts of methyl methacrylate are mixed with 0.4 parts of N-nitrosocaprolactam and with a Mercury immersion lamp irradiated at 25 ° C. Polymerize it an average of 7% of the monomer per hour. After 3 hours, the reaction product is in 500 parts Dissolved benzene and the polymer precipitated from the solution by adding 1500 parts of light gasoline. The polymer has a molecular weight of 63,000.
Ohne Zusatz von N-Nitrosocaprolactam polymerisieren unter sonst gleichen Bedingungen durchschnittlich nur 1,9 % des Monomeren je Stunde.Without the addition of N-nitrosocaprolactam, under otherwise identical conditions, only polymerize on average 1.9% of the monomer per hour.
100 Teile Methacrylsäuremethylester werden mit 2 Teilen N-Nitroso-N-benzyl-y-oxybutyroylamid versetzt und mit einer Quecksilbertauchlampe bei 25° C bestrahlt. Es polymerisieren durchschnittlich 8°/0 des Monomeren je Stunde. Nach 4x/2 Stunden wird das Reaktionsprodukt in 500 Teilen Benzol gelöst und das Polymerisat durch Zusatz von 1500 Teilen Benzin aus der Lösung gefällt. Es besitzt ein Molekulargewicht von 590 000.100 parts of methyl methacrylate are mixed with 2 parts of N-nitroso-N-benzyl-γ-oxybutyroylamide and irradiated with a mercury immersion lamp at 25.degree. It polymerize an average of 8 ° / 0 of the monomers per hour. After 4 × 1/2 hours, the reaction product is dissolved in 500 parts of benzene and the polymer is precipitated from the solution by adding 1500 parts of gasoline. It has a molecular weight of 590,000.
Ein Gemisch aus 100 Teilen Methacrylsäuremethylester und 2 Teilen N-Nitrosoacetessigsäureanilid wird mitA mixture of 100 parts of methyl methacrylate and 2 parts of N-nitrosoacetoacetic anilide is mixed with
109 509/589109 509/589
einer Quecksilbertauchlampe 5 Stunden bei 25° C bestrahlt. Es polymerisieren durchschnittlich 25°/0 des Monomeren je Stunde. Dann wird das Reaktionsprodukt in 500 Teilen Benzol gelöst und das Polymerisat durch Zusatz von 1500 Teilen Benzin aus der Lösung gefällt. Es besitzt ein Molekulargewicht von 510 000.irradiated with a mercury immersion lamp for 5 hours at 25 ° C. It polymerize an average of 25 ° / 0 of the monomers per hour. The reaction product is then dissolved in 500 parts of benzene and the polymer is precipitated from the solution by adding 1500 parts of gasoline. It has a molecular weight of 510,000.
Ein Gemisch aus 100 Teilen Acrylnitril und 2 Teilen N-Nitrosoacetessigsäureanilid wird bei 25° C mit einer Quecksilbertauchlampe bestrahlt. Nach 3 Stunden ist vollständiger Umsatz eingetreten. Das entstandene Polymerisat ist im Monomeren unlöslich. Ohne Zusatz eines Sensibilisators polymerisieren unter sonst gleichen Bedingungen durchschnittlich nur 0,5 % des Monomeren je Stunde.A mixture of 100 parts of acrylonitrile and 2 parts of N-nitrosoacetoacetic acid anilide is at 25 ° C with a Mercury immersion lamp irradiated. Complete conversion has occurred after 3 hours. The resulting polymer is insoluble in the monomer. Polymerize under otherwise identical conditions without adding a sensitizer on average only 0.5% of the monomer per hour.
100 Teile Acrylsäure werden mit einer Lösung von 2 Teilen N-Nitrosomethylformamid in 3 Teilen Chloroform-versetzt-und das Gemisch mit einer Quecksilbertauchlampe bei 250C 2 Stunden lang bestrahlt. Durchschnittlich polymerisieren 6 % des Monomeren je Stunde. Das entstandene Polymerisat ist in den gebräuchlichen organischen Lösungsmitteln praktisch unlöslich und hat ίο in Wasser bei 25° C den k-Wert 94.A solution of 2 parts of N-nitrosomethylformamide in 3 parts of chloroform is added to 100 parts of acrylic acid and the mixture is irradiated with a mercury immersion lamp at 25 ° C. for 2 hours. On average, 6% of the monomer polymerize per hour. The resulting polymer is practically insoluble in the common organic solvents and has ίο the k value 94 in water at 25 ° C.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEB55733A DE1099166B (en) | 1959-12-01 | 1959-12-01 | Sensitizers for the photopolymerization of unsaturated organic compounds |
Applications Claiming Priority (1)
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DE1099166B true DE1099166B (en) | 1961-02-09 |
Family
ID=6971084
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DEB55733A Pending DE1099166B (en) | 1959-12-01 | 1959-12-01 | Sensitizers for the photopolymerization of unsaturated organic compounds |
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Country | Link |
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DE (1) | DE1099166B (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3203801A (en) * | 1962-04-09 | 1965-08-31 | Du Pont | Photopolymerizable composition and element |
DE1795089A1 (en) * | 1967-08-08 | 1972-01-20 | Agfa Gevaert Ag | Photopolymerization process |
DE2402179A1 (en) * | 1973-01-18 | 1974-07-25 | Du Pont | PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOUNDS CONTAINING DIMER NITROSO COMPOUNDS |
-
1959
- 1959-12-01 DE DEB55733A patent/DE1099166B/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3203801A (en) * | 1962-04-09 | 1965-08-31 | Du Pont | Photopolymerizable composition and element |
DE1795089A1 (en) * | 1967-08-08 | 1972-01-20 | Agfa Gevaert Ag | Photopolymerization process |
DE2402179A1 (en) * | 1973-01-18 | 1974-07-25 | Du Pont | PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOUNDS CONTAINING DIMER NITROSO COMPOUNDS |
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