DE1047943B - Semiconductor arrangement for converting electrical signals with a pn junction covered by an electrode - Google Patents
Semiconductor arrangement for converting electrical signals with a pn junction covered by an electrodeInfo
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Description
DEUTSCHESGERMAN
Die Erfindung betrifft eine Halbleitervorrichtung zur Umsetzung von Signalen mit Anschlußverbindungen an der Vorrichtung.The invention relates to a semiconductor device for converting signals with terminal connections on the device.
Insbesondere bezieht sich die Erfindung auf vorgeschlagene Vorrichtungen, die einen Körper aus halbleitendem Material, z. B. Germanium oder Silicium, enthalten, der eine Zone oder einen Bereich der einen Leitfähigkeitsart, also n- oder p-Leitfähigkeit, zwischen zwei Zonen der entgegengesetztenLeitfähigkeitsart aufweist, sowie elektrische Anschlüsse an den drei Zonen. Im allgemeinen werden der Anschluß an der mittleren Zone als Basiselektrode und die Anschlüsse an den äußeren Zonen als Emitter- und Kollektorelektrode bezeichnet. Beim Betrieb werden Signale z. B. zwischen der Emitter- und Basiselektrode zugeführt, und ein Ausgangskreis ist zwischen der Kollektor- und Basiselektrode angeschlossen.In particular, the invention relates to proposed devices comprising a body of semiconducting material, e.g. B. germanium or silicon, contain a zone or area of one type of conductivity, i.e. n- or p-conductivity, between has two zones of opposite conductivity type and electrical connections to the three Zones. In general, the connection to the central zone is used as the base electrode and the connections called the emitter and collector electrodes on the outer zones. When in operation, signals z. B. between the emitter and base electrodes, and an output circuit is between the collector and base electrode connected.
Die Betriebscharakteristik einer Halbleitervorrichtung hängt unter anderem von den physikalischen Parametern der mittleren Basiszone ab. Wenn die Vorrichtung z. B. als Verstärker betrieben wird, hängt die obere Grenze des Frequenzbandes, bis zu der ein einwandfreier Betrieb möglich ist, von der Dicke dieses Bereiches ab und diese Grenze steigt mit abnehmender Dicke des Bereiches an. Es ist daher bei dieser und auch bei anderen Anwendungen sehr erwünscht, die mittlere Zone äußerst dünn zu machen, so daß sie die Größenordnung von 0,025 mm hat. Bei der Konstruktion derartiger Vorrichtungen mit einer dünnen Basisschicht muß jedoch das praktische Problem der Herstellung einer elektrischen Verbindung triit dieser Zone gelöst werden. Selbst wenn sehr feine Drähte, deren Durchmesser mit der Dicke der Zone vergleichbar ist, verwendet werden, besteht die Gefahr, daß der Draht den einen oder beide pn-Übergänge überbrückt und einen Kurzschluß bewirkt. Ferner besteht die Möglichkeit, daß der Draht durch mechanische Stöße verlagert wird, so daß die Verbindung mit der mittleren Zone unterbrochen oder ein unerwünschter Kon^ takt mit den benachbarten Zonen hergestellt wird. Es ist daher wünschenswert, daß die Anscblußverbindiung mit der Basiszone über eine möglichst große Fläche mit der Zone in Berührung steht, um einen festen mechanischen Halt zu gewährleisten; außerdem soll die Anschlußverbindung der Basiszone keinen Kurzschluß zwischen der Basiszone und den anderen Zonen herstellen.. The operating characteristic of a semiconductor device depends on the physical parameters, among other things the central base zone. When the device z. B. is operated as an amplifier, depends on the upper limit of the frequency band up to which proper operation is possible, the thickness of this Area and this limit increases with decreasing thickness of the area. It is therefore with this and In other applications, too, it is very desirable to make the central zone extremely thin so that the Of the order of 0.025 mm. In constructing such devices with a thin base layer however, the practical problem of making an electrical connection must meet this Zone to be solved. Even if very fine wires, their diameter is comparable to the thickness of the zone is used, there is a risk that the wire bridges one or both pn junctions and causes a short circuit. There is also the possibility that the wire due to mechanical impact is shifted, so that the connection with the central zone is interrupted or an undesired Kon ^ clock is established with the neighboring zones. It is therefore desirable that the connector with the base zone is in contact with the zone over as large an area as possible in order to achieve a solid mechanical To ensure stability; in addition, the connection of the base zone should not be short-circuited between the base zone and the other zones ..
Es ist daher ein Ziel der vorliegenden Erfindung, eine verbesserte elektrische Anschlußverbindüng mit
der dünnen Zone eines Halbleiterkörpers und besonders mit der dünnen Zone der einen Leitfähigkeitsart,
die zwischen zwei Zonen der anderen Leitfähigkeitsart liegt, zu schaffen.
Gemäß der vorgeschlagenen Ausführung wird ein Halbleiteranordnung zur UmsetzungIt is therefore an object of the present invention to provide an improved electrical connection connection with the thin zone of a semiconductor body and in particular with the thin zone of one conductivity type which lies between two zones of the other conductivity type.
According to the proposed embodiment, a semiconductor arrangement is used for implementation
von elektrischen Signalenof electrical signals
mit einem von einer Elektrodewith one of an electrode
überdeckten pn-übergangcovered pn junction
Anmelder:Applicant:
General Electric Company,
Schenectady, N. Y. (V. St. A.)General Electric Company,
Schenectady, NY (V. St. A.)
Vertreter: Dr.-Ing. W. Reichel, Patentanwalt,
Frankfurt/M., Lichtenbergstr. 7 Representative: Dr.-Ing. W. Reichel, patent attorney,
Frankfurt / M., Lichtenbergstr. 7th
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 28. Juni 1954Claimed priority:
V. St. v. America June 28, 1954
Alfred Kanter, Syracuse, N. Y. (V. St. Α.),
ist als Erfinder genannt wordenAlfred Kanter, Syracuse, NY (V. St. Α.),
has been named as the inventor
Anschluß dadurch hergestellt, daß ein Draht stumpf gegen die Basiszone angelegt wird. Ein stumpf endender Draht hat eine sehr kleine Gesamtfläche für die mechanische Verbindung mit der Basiszone. Wenn der Durchmesser des Drahtes größer gewählt wird, dann wird nur die Überdeckung der benachbarten Zonen vergrößert, was auch unerwünscht ist.Connection made by placing a wire butt against the base zone. A blunt ending Wire has a very small total area for mechanical connection to the base zone. If the If the diameter of the wire is chosen to be larger, then only the overlap of the adjacent zones will be enlarged, which is also undesirable.
Um eine Kurzschlußbildung zu verhindern, sind bei bekannten Einrichtungen Basisanschlußleitungen, verwendet worden, die einen Aktivatorstoff enthielten, der bei der Einführung in ein Halbleitermaterial bewirkt, daß das Halbleitermaterial entweder n- oder p-Eigenschaften hat. Da die Basiszone der einen Leitfähigkeitsart angehört und die benachbarten Zonen entgegengesetzte Leitfähigkeitsart aufweisen,, kann der Aktivatorstoff der Basiszuführung so ausgewählt werden, daß er einen gleichrichtenden Kontakt mit den benachbarten Zonen und einen ohmschen Kontakt mit der Basiszone ergibt, so daß ein Kurzschluß der Vorrichtung durch einseitig leitende Übergänge verhindert wird. Bei diesen früheren Ausführungen, verläßt man sich darauf, daß die nur in einer Richtung leitenden Übergänge einen Kurzschluß der verschiedenen Elektroden verhindern und auch gegenseitige Einwirkungen ausschließen. Je größer jedoch die Fläche des einseitig leitenden Überganges ist, um so schlechter ist der gleichrichtende Kontakt, und beiIn order to prevent the formation of a short circuit, base connection lines are used in known devices which contained an activator substance which, when introduced into a semiconductor material, causes that the semiconductor material has either n- or p-properties. As the base zone of one type of conductivity belongs and the adjacent zones have opposite types of conductivity, can the activator of the base feed can be selected so that it has a rectifying contact with the adjacent zones and an ohmic contact with the base zone, so that a short circuit of the Device is prevented by one-sided conductive transitions. With these earlier remarks, leaves one is sure that the junctions that are only conductive in one direction short-circuit the different ones Prevent electrodes and also rule out mutual effects. However, the bigger the The area of the junction that is conductive on one side, the worse the rectifying contact, and at
809 727/396809 727/396
hohen Frequenzen ist es notwendig, daß der gleichrichtende Übergang höchste Qualität und kleinste Größe aufweist.high frequencies it is necessary that the rectifying transition is highest quality and smallest Has size.
Ein weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung ist es daher, eine verbesserte Halbleitervorrichtung anzugeben, in der der Basisanschluß eine verhältnismäßig großflächige ohmsche Verbindung mit der Basiszone, jedoch nur eine verhältnismäßig kleinflächige gleichrichtende Verbindung mit den benachbarten Zonen herstellt.Another object of the present invention is therefore to provide an improved semiconductor device, in which the base connection has a relatively large-area ohmic connection with the Base zone, but only a relatively small-area rectifying connection with the neighboring ones Creates zones.
Ein weiteres Ziel der Erfindung ist es, ein verbessertes Verfahren zur Befestigung einer Leitung an einem Körper aus halbleitendem Material anzugeben. Die Erfindung bezieht sich daher auf eine Halbleiteranordnung zur Umsetzung von elektrischen Signalen mit einem Halbleiterkörper, z. B. aus Germanium oder Silicium, dessen pn-übergang sich von einer Außenfläche des Halbleiterkörpers aus nach innen erstreckt und der mit einer Elektrode überdeckt ist. Gemäß der Erfindung ist die Länge der Elektrode wesentlich größer als ihre Dicke, die Elektrode berührt den pn-Übergang in dessen Längsrichtung auf einer langen Fläche, und die Elektrode ist mit einem Aktivator bedeckt, der mit der einen Zone einen ohmschen Kontakt und mit der anderen einen gleichrichtenden Kontakt nach dem" Verschmelzen bildet. Der Ausdruck »gleichrichtender Kontakt« bedeutet einen Kontakt, der einen hohen Widerstand gegenüber dem Stromdurchfluß in der einen Richtung und einen niedrigen Widerstand gegenüber dem Stromfluß in der anderen Richtung aufweist. Der Leiter wird dann erhitzt, um den Draht mit der Basiszone zu verschmelzen, so daß ein großflächiger ohmscher Kontakt mit der Basiszone und relativ kiemflächige Kontakte hohen Widerstandes mit den benachbarten Zonen entstehen.Another object of the invention is to provide an improved method of attaching a conduit to a body made of semiconducting material. The invention therefore relates to a semiconductor device for the implementation of electrical signals with a semiconductor body, e.g. B. from germanium or silicon, the pn junction of which extends from an outer surface of the semiconductor body extends inside and which is covered with an electrode. According to the invention is the length of the electrode much larger than its thickness, the electrode touches the pn junction in its longitudinal direction a long surface, and the electrode is covered with an activator that has an ohmic contact with one zone Contact and with the other forms a rectifying contact after the "fusing. The The term "rectifying contact" means a contact that has a high resistance to the Current flow in one direction and low resistance to current flow in the other Has direction. The conductor is then heated to fuse the wire to the base zone, so that large-area ohmic contact with the base zone and relatively kiem-area contacts are high Resistance with the neighboring zones arise.
Weitere Merkmale und Vorteile des Erfindungsgegenstandes gehen aus der folgenden Beschreibung vom Ausführungsbeispielen hervor, die in der Zeichnung dargestellt sind.Further features and advantages of the subject matter of the invention emerge from the following description from the exemplary embodiments shown in the drawing.
Fig. 1 zeigt eine Halbl-eiterumsetzungsvorrichtung gemäß der Erfindung zusammen mit einer Schaltung, in der die Vorrichtung benutzt werden kann;Fig. 1 shows a half-pus conversion device according to the invention together with a circuit in which the device can be used;
Fig. 2 ist ein, Längsschnitt durch die in Fig. 1 dargestellte Vorrichtung, undFIG. 2 is a longitudinal section through that shown in FIG Device, and
Fig. 3 ist eine vergrößerte Ansicht eines Leiters, der gemäß der Erfindung benutzt wird.Figure 3 is an enlarged view of a conductor used in accordance with the invention.
Die Vorrichtung der Fig. 1 enthält einen halbleitenden Körper 10, z. B. aus Germanium oder Silicium, der Endzonen 11 und 13 aus n-lieitendem Material und eine dritte Zone 15 aus einem p-Halbleiter enthält, die zwischen den Zonen 11 und 13 angeordnet ist und pn-Übergänge 17 und 19 bildet.The device of Fig. 1 includes a semiconducting body 10, e.g. B. of germanium or silicon, the end zones 11 and 13 made of n-conductive material and contains a third zone 15 made of a p-semiconductor, which is arranged between the zones 11 and 13 and forms pn junctions 17 and 19.
Die Endzonen 11 und 13 sind mit ohmschen Elektroden 23 und 25 versehen, die als Emitter bzw. Kollektor bezeichnet werden. Eine dritte Elektrode 27, die als Basis bezeichnet wird und weiter unten ausführlich beschrieben ist, ist an die p-Mittelzone 15 angeschlossen. Die Herstellung des halbleitenden Körpers an sich ist kein Gegenstand der vorliegenden Erfindung und der Körper kann z. B. in bekannter oder vorgeschlagener Weise hergestellt sein. Der Leitfähigkeitstyp der Mittelzone und der Endzonen kann z. B. auch vertauscht werden.The end zones 11 and 13 are provided with ohmic electrodes 23 and 25, which act as emitters and collectors, respectively are designated. A third electrode 27, referred to as the base and detailed below is connected to the p-center zone 15. The manufacture of the semiconducting body per se is not an object of the present invention and the body can e.g. B. in known or proposed way to be produced. The conductivity type the central zone and the end zones can e.g. B. can also be swapped.
Beim Betrieb der Halbleiteranordnung als Verstärker ist der Emitter 23 gegenüber der Basis mittels einer Gleichspannungsquelle 29 vorgespannt, und Eingangssignale von einer Signalquelle 31 werden zwischen Basis und Emitter aufgedrückt. Die verstärkten Eingangssignale treten in einer Leitung 33 auf, welche Kollektor und Basis verbindet, wobei der Kollektor in der umgekehrten Richtung, z. B. durch eine Gleichspannungsquelle 35, vorgespannt ist.When operating the semiconductor arrangement as an amplifier, the emitter 23 is opposite to the base means a DC voltage source 29, and input signals from a signal source 31 are between Base and emitter pressed on. The amplified input signals appear in a line 33, which Collector and base connects, the collector in the opposite direction, e.g. B. by a DC voltage source 35, is biased.
Die Basismittelzone 15 ist, wie erwähnt, vorzugsweise sehr dünn und kann insbesondere in der Größenordnung von 0,025 mm oder darunter liegen. Um einen festen mechanischen Kontakt mit der Basiszone 15 zu ermöglichen, ist die Basiselektrode 27 auf eine Fläche des aus halbleitendem Material 10 bestehenden Körpers parallel zu den Übergängen 17 und 19 und in Berührung mit der Zone 15 aufgesetzt. Die Basiselektrode 27 ist vorzugsweise ein Draht, z. B. aus Nickel, der mit einem Aktivatormaterial überzogen ist.As mentioned, the base central zone 15 is preferably very thin and can in particular be of the order of magnitude 0.025 mm or less. In order to have a firm mechanical contact with the base zone 15 enable, the base electrode 27 is on a surface of the body 10 made of semiconducting material placed parallel to the transitions 17 and 19 and in contact with the zone 15. The base electrode 27 is preferably a wire, e.g. B. made of nickel, which is coated with an activator material.
Wie aus Fig. 3 hervorgeht, enthält die Basiselektrode 27 bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 1 vorzugsweise einen Nickeldraht 37 von 0,025 mm, der einen dünnen Überzug aus Aktivatormaterial 39 in der Größenordnung von 0,0125 mm als Überzug enthält. Da bei dem beschriebenen Beispiel die Halbleitervorrichtung aus einem n-p-n-Transistor besteht, ist das. Aktivatormaterial des Überzuges ein Akzeptorstoff, z. B. Indium oder Gallium, um einen ohmschen Kontakt mit der Basiszone 15 und einen gleichrichtenden Kontakt mit den Zonen 11 und 13 herzustellen. As can be seen from FIG. 3, the base electrode 27 in the exemplary embodiment according to FIG. 1 preferably contains a 0.025 mm nickel wire 37 coated with a thin coating of activator material 39 in of the order of 0.0125 mm as a coating. Since in the example described, the semiconductor device consists of an n-p-n transistor, the activator material of the coating is an acceptor substance, z. B. indium or gallium, in order to produce an ohmic contact with the base zone 15 and a rectifying contact with the zones 11 and 13.
Nach dem Aufsetzen der Basiselektrode 27 auf die Zone 15 wird die Elektrode 27 in geeigneter Weise erhitzt, z. B. durch Stromdurchgang oder durch strahlende Wärme. Die Erhitzung bewirkt, daß ein Teil des Aktivatorüberzuges 39 nach unten fließt und mit dem halbleitenden Körper verschmilzt. Da der Kontakt zwischen dem überzogenen Draht 37 und dem Körper aus halbleitendem Material im wesentlichen ein Linienkontakt ist, fließt nur eine kleine Menge des Aktivatormaterials, über die Übergänge 17 und 19 und verschmilzt mit den Zonen 11 und 13. Da das Aktivatormaterial ein Akzeptor ist, erzeugt der Bereich der Verschmelzung des Aktivatormaterials mit den n-Zonen 11 und 13 gleichrichtende Übergänge oder Inversionsschichten, wie dies bei 41 und 43 in Fig. 2 angedeutet ist. Die gleichrichtenden Übergänge 41 und 43 verhindern, daß die Basiselektrode 27 die drei Zonen kurzschließt und die Vorrichtung unbrauchbar macht.After the base electrode 27 has been placed on the zone 15, the electrode 27 is heated in a suitable manner, z. B. by passage of current or by radiating heat. The heating causes a part of the activator coating 39 flows downward and fuses with the semiconducting body. Because the contact between the covered wire 37 and the body of semiconducting material substantially is a line contact, only a small amount of the activator material flows over the junctions 17 and 19 and merges with zones 11 and 13. Since the activator material is an acceptor, the area generates the Fusion of the activator material with the n-zones 11 and 13 rectifying transitions or Inversion layers, as indicated at 41 and 43 in FIG. 2. The rectifying junctions 41 and 43 prevent the base electrode 27 from short-circuiting the three zones and rendering the device unusable power.
Da das Aktivatormaterial ein Akzeptor ist und da die Basiszone 15 eine p-Zone ist, erzeugt das Aktivatormaterial, welches mit der Zone 15 verschmilzt, keinen gleichrichtenden. Kontakt, sondern einen bei 45 angedeuteten ohmschen Kontakt. Die Basiselektrode 27 ist daher im festem mechanischem Kontakt mit der Zone 15 entlang der ganzen Oberfläche und stellt eine feste mechanische Verbindung her. Da jedoch die Konrtaktfläche zwischen der Basiselektrode 27 und den benachbarten! Zonen 11 und 13 sehr klein ist, erhält man mit dieser Halbleitervorrichtung ausgezeichnete Hochfrequenzeigenschaften.. Since the activator material is an acceptor and since the base zone 15 is a p-zone, the activator material generates, which merges with zone 15, not a rectifying one. Contact, but one at 45 indicated ohmic contact. The base electrode 27 is therefore in firm mechanical contact with the Zone 15 along the entire surface and establishes a firm mechanical connection. However, there the contact area between the base electrode 27 and the neighboring! Zones 11 and 13 is very small, one obtains excellent high frequency characteristics with this semiconductor device ..
Wenn auch in der beschriebenen Ausführungsform die Basiselektrode 27 mit der Zone 15 so\vie mit den Zonen 11 und 13 verbunden ist, kann es auch wünschenswert sein-, den. Draht 27 mit der Zone 15 und nur einer der Zonen 11 oder 13 zu verbinden.Even if in the described embodiment the base electrode 27 with the zone 15 as well as with the Zones 11 and 13 connected, it may also be desirable be-, the. Wire 27 to connect to zone 15 and only one of zones 11 or 13.
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USA.-Patentschrift Nr. 2 654 059.Considered publications:
U.S. Patent No. 2,654,059.
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