DE10342980B3 - Verfahren zur Bildung von Chip-Stapeln - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Bildung von Chip-Stapel bei der Fertigung von Chips 1 aus Wafern 2, wobei die auf dem Wafer 2 befindlichen Chips 1 voneinander getrennt, der Wafer 2 dünn geschliffen und die Chips 1 zu Chip-Stapeln gestapelt werden, wobei die Chips 1 zur Funktionskontrolle überprüft werden, dadurch gekennzeichnet, dass die Chips 1 in einem ersten Arbeitsschritt geprüft werden, dass auf den Gut-Chips 1a Haftmaterial aufgebracht wird, während die Schlecht-Chips 1b nicht mit haftendem Material 3 versehen werden, dass daraufhin der Wafer 2 montiert und dünn geschliffen wird und dass nachfolgend die Schlecht-Chips 1b entfernt und durch Gut-Chips 1a ersetzt werden.
Description
- Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Bildung von Chip-Stapeln gemäß dem Oberbegriff des Hauptanspruchs.
- Im Einzelnen bezieht sich die Erfindung auf ein Verfahren zur Bildung von Chip-Stapeln bei der Fertigung von Chips aus Wafern, wobei die auf dem Wafer befindlichen Chips voneinander getrennt, der Wafer dünn geschliffen und die Chips zu Chip-Stapeln gestapelt werden, wobei im Laufe des Verfahrens die einzelnen Chips einer Funktionskontrolle unterworfen werden.
- Bei der Herstellung und Weiterverarbeitung von Chips werden Chip-Stapel gebildet, beispielsweise um die Packungsdichte der Bausteine zu erhöhen. In derartigen Chip-Stapeln (3D-Packages) sollen sich jeweils nur funktionsfähige Chips (Gut-Chips) befinden.
- Aus dem Stand der Technik ist es bekannt, die Wafer zunächst elektrisch zu messen, um Gut-Chips und nicht brauchbare Schlecht-Chips voneinander zu unterscheiden und die Schlecht-Chips nachfolgend aussortieren zu können. Hierzu werden nach dem Trennen und Dünnschleifen die Chips auf eine Trägerfolie abgelegt, die Gut-Chips werden abgepickt, während die Schlecht-Chips auf der Trägerfolie verbleiben. Bei dieser Vorgehensweise erweist es sich als nachteilig, dass zum Montieren der Chips ein serieller Prozess eingesetzt wird, welcher sehr zeitaufwendig ist. Die für diesen Prozessschritt verwendeten Chipkontaktierer (Diebonder) haben, sofern sie einen produktionstauglichen Durchsatz haben, nicht die für die nachfolgende Durchkontaktierung notwendige Positioniergenauigkeit der Chips. Chipkontaktierer mit einer ausreichenden Positioniergenauigkeit erreichen andererseits nicht den für eine Produktion erforderlichen Durchsatz. Daraus folgt, dass es in der laufenden Produktion nicht in zufriedenstellender Weise möglich ist, die einzelnen Gut-Chips aufzunehmen und zu stapeln. Den diesbezüglichen Stand der Technik zeigt beispielsweise die
DE 44 33 845 A1 . - Eine weitere, aus dem Stand der Technik bekannte Vorgehensweise besteht darin, zunächst Chip-Stapel durch Aufeinandermontieren der Wafer zu bilden. In einem nachfolgenden Schritt werden dann diejenigen Chip-Stapel aussortiert, in denen sich defekte Chips (Schlecht-Chips) befinden. Bei dieser Vorgehensweise erweist es sich als nachteilig, dass zwar die Ausbeute bei den verwendeten Wafern gut ist, dass jedoch die Zahl der fehlerfreien Chip-Stapel entsprechend niedrig ist.
- Eine weitere, aus dem Stand der Technik bekannte Vorgehensweise besteht darin, die Wafer zunächst zu Vereinzeln und defekte Schlecht-Chips durch Gut-Chips zu ersetzen. In einem weiteren Arbeitsschritt werden dann die Chips auf bereits vorhandene Chip-Stapel montiert. Bei dieser Vorgehensweise erweist es sich als nachteilig, dass sich die Lage der Chips auf der Trägerfolie beim Vereinzeln verändert. Hierdurch ergeben sich hohe Lagetoleranzen beim nachfolgenden montieren der Chips. Die Chip-Stapel besitzen damit nicht die für eine nachfolgende Durchkontaktierung notwendige Positioniergenauigkeit.
- Aus der WO 01/18851 A1 ist es vorbekannt, zwei mit Bauelementen belegte Wafer, mit den Bauelementen zueinandergewandt, zu verbinden und zwischen die Wafer ein Unterfüllmaterial einzubringen. Nach dem Dünnschleifen eines der Wafer werden einige der Bauelemente entfernt und durch Detektoren ersetzt.
- Einen ähnlichen Stand der Technik zeigt auch die WO 01/29881 A2.
- Die
US 61 59 323 beschreibt ein Transfer-Verfahren, bei welchem ein mit Bauelementen versehenes Substrat auf ein Zwischensubstrat aufgelegt und verbunden wird. Nachfolgend wird das Substrat dünn geschliffen, wodurch einzelne der Bauelemente mittels eines Klebeverfahrens an ein weiteres Substrat übertragen werden. Durch entsprechende Ausgestaltung einer Verbindungsschicht ist ein selektives Abheben der Bauelemente möglich. - Das US-Patent 59 18 363 beschreibt ein Verfahren, bei welchem nach einem Funktionstest Gut-Chips mit einem Haftmittel versehen werden. Nach dem Sägen werden einzelne Chips auf einem Substrat gebondet.
- Die
DE 198 56 573 C1 bezieht sich auf ein Verfahren zum Verbinden zweier Wafer mit Bauelementen mittels eines leitfähigen Klebers, wobei einer der Wafer nachfolgend dünn geschliffen wird. - Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs genannten Art zu schaffen, welches bei einfachem Aufbau und einfacher, kostengünstiger Durchführbarkeit unter Vermeidung der Nachteile des Standes der Technik die Bildung von Chip-Stapeln ermöglicht.
- Erfindungsgemäß wird die Aufgabe durch die Merkmalskombination des Hauptanspruchs gelöst, die Unteransprüche zeigen weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung.
- Erfindungsgemäß ist somit vorgesehen, dass die Chips zunächst in einem ersten Arbeitsschritt geprüft werden. Nachfolgend wird auf den Gut-Chips Haftmaterial (Tape) aufgebracht, während die Schlecht-Chips nicht mit einem haftenden Material versehen werden. Darauffolgend kann der Wafer montiert und an schließend dünn geschliffen werden. Beim nachfolgenden Weiterverarbeiten können somit die Schlecht-Chips auf einfachste Weise entfernt und durch Gut-Chips ersetzt werden.
- Die Erfindung zeichnet sich durch eine Reihe erheblicher Vorteile aus.
- Erfindungsgemäß werden die Chips im Waferverband kontaktiert. Der Vorteil dieser Vorgehensweise liegt darin, dass die Kontaktierung simultan erfolgen kann. Hierdurch wird ein hoher Durchsatz erzielt. Ebenso können nachfolgende Prozessschritte, wie z.B. die elektrische Kontaktierung zwischen den Chips im Stapel, auch simultan durchgeführt werden.
- Ein weiterer Vorteil besteht darin, dass die Chips die auf dem Wafer übliche Lagetoleranz aufweisen. Hierdurch wird eine für die nachfolgende Durchkontaktierung ausreichend hohe Lagegenauigkeit erzielt. Erfindungsgemäß ist es auf einfachste Weise möglich, defekte Chips (Schlecht-Chips) auszutauschen und durch Gut-Chips zu ersetzen. Hieraus ergibt sich der Vorteil, dass keine Reduzierung der Ausbeute bei den Chip-Stapeln erfolgt, da sämtliche Chip-Stapel nur aus Gut-Chips gebildet sind.
- Ein weiterer Vorteil ergibt sich daraus, dass für den Austausch der defekten Chips (Schlecht-Chips) Diebonder mit hoher Positioniergenauigkeit eingesetzt werden können. Deren langsame Taktfrequenz beeinträchtigt jedoch nicht den Gesamtdurchsatz des Fertigungsverfahrens.
- Erfindungsgemäß ist es günstig, wenn nach dem Trennen der Chips auf dem Wafer nur die Gut-Chips mit dem Haftmaterial (Tape) versehen werden. Nur diese Chips haften nachfolgend auf dem Träger, sodass die Schlecht-Chips, welche demgemäß nicht mit dem haftenden Material versehen sind, leicht entfernt werden können.
- In einer abgewandelten Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, dass die Schlecht-Chips zunächst auch mit Haftmaterial versehen werden, dieses jedoch nachfolgend deaktiviert wird. Alternativ hierzu ist es auch möglich, die Schlecht-Chips zunächst mit Haftmaterial zu versehen, dieses jedoch nachfolgend zu entfernen, bevor die Chip-Stapel gebildet werden.
- In einer weiteren Variante der Erfindung kann vorgesehen sein, dass die Gut-Chips vor dem Trennen mit dem Haftmaterial versehen und nachfolgend getrennt werden. Hierdurch ergibt sich eine präzise Schnittkante sowohl der Chips als auch des Haftmaterials (Tapes).
- Durch die selektive Beschichtung der Chips mit einer klebenden Schicht bzw. das selektive Entfernen oder Deaktivieren dieser Schicht erfolgt erfindungsgemäß stets so, dass benachbarte Chips und benachbarte Bereiche von Haftmaterial durch einen Spalt voneinander getrennt sind. Hierdurch sind die klebenden und die nicht klebenden Gebiete eindeutig voneinander getrennt. Es wird somit verhindert, dass beispielsweise der Aushärteprozess, der bei einer Deaktivierung der Haftschicht durch UV-Belichtung in Gang gesetzt wird, sich auf unbelichtete oder nicht zu belichtende Gebiete des Haftmaterials überträgt.
- Im Folgenden wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen in Verbindung mit der Zeichnung beschrieben. Dabei zeigt:
-
1 eine schematische Seitenansicht eines Wafers mit Trennschnitten sowie mit teilweiser Aufbringung von Haftmaterial, -
2 eine schematische Ansicht der in1 gezeigten Anordnung, die gedreht und auf einen Träger aufgesetzt wurde, -
3 eine schematische Darstellung des Vorgangs beim Ersetzen von Schlecht-Chips durch Gut-Chips, -
4 einen weiteren Arbeitsgang beim Aufsetzen eines weiteren Wafers auf den Träger zur Bildung von Chip-Stapeln, -
5 die sich aus dem Arbeitsschritt der4 ergebenden Chip-Stapel, und -
6 eine schematische Darstellung der aus dem Stand der Technik bekannten Vorgehensweise. - Aus dem Stand der Technik ist es bekannt, vereinzelte Chips auf einen Träger oder eine Trägerfolie
4 , die mit einem Rahmen (Frame)5 versehen sein kann, abzulegen. Aus der Darstellung ergibt sich, dass die Anordnung Gut-Chips1a sowie Schlecht-Chips1b umfassen kann. Wie dargestellt, werden Gut-Chips1a einzeln entnommen und zu einem Chip-Stapel6 montiert. - Die
1 zeigt eine erfindungsgemäße Lösungsvariante, bei welcher ein Wafer2 auf der aktiven Seite eingesägt wird. Die somit geschaffenen Nuten trennen einzelne Chips1 . Nachfolgend werden die Gut-Chips1a mit einem Haftmaterial3 versehen, während Schlecht-Chips1b nicht mit Haftmaterial versehen werden, so wie dies durch den Pfeil a dargestellt ist. Als Alternative können die Schlecht-Chips auch mit Haftmaterial versehen werden, welches nachfolgend deaktiviert wird (Pfeile b). - Als alternative Ausgestaltung der Erfindung ist es auch möglich, die Wafer zunächst auf der aktiven Seite vollständig mit der klebenden Schicht (Haftmaterial
3 ) zu versehen und das Sägen bzw. Trennen nachfolgend durchzuführen. Bei dieser Ausgestaltungsvariante wird das Haftmaterial3 (Klebschicht) von den Schlecht-Chips1b entweder nachfolgend entfernt (siehe schematische Darstellung des Pfeils a) oder es wird der Haftmecha nismus deaktiviert (siehe schematische Darstellung der Pfeile b). - Nachfolgend wird der Wafer, wie in
2 gezeigt, gewendet und auf den Träger4 kontaktiert. Die Rückseite des Wafers kann nun dünn geschliffen werden. Hierdurch vereinzeln sich die einzelnen Chips1 , so wie dies schematisch in3 dargestellt ist. Die nicht mit Haftmaterial versehenen Schlecht-Chips1b sind gemäß der Darstellung in3 bereits entfernt worden. Wie durch die Pfeile angedeutet, werden hierfür Gut-Chips1a aufgesetzt. - In einem nachfolgenden Arbeitsgang wird, wie in
4 gezeigt, der nächste Wafer, bei dem ebenfalls bereits die Gut-Chips1a mit Haftmaterial3 versehen wurden, aufgesetzt. Der Wafer2 wird ebenfalls dünn geschliffen, sodass sich nach dem Austausch der dann nicht haftenden Schlecht-Chips durch Gut-Chips analog3 die Anordnung der5 ergibt. - Erfindungsgemäß ist somit ein selektives Verkleben von Wafern vorgesehen, sodass defekte Chips durch Gut-Chips ersetzt werden können. Das Austauschen der Chips ist somit an jeder Stelle bei der Bildung der Chip-Stapel möglich. Da die Wafer zunächst von der aktiven Seite her eingesägt und anschließend montiert und abgedünnt werden, können die Schlecht-Chips auf einfachste Weise entfernt werden.
- Um klebende von nichtklebenden Gebieten eindeutig zu trennen, werden entweder die eingesägten Chips mit einer Kleberschicht versehen oder die Kleberschicht wird beim Einsägen mitvereinzelt.
- Die Deaktivierung des Haftmaterials
3 auf den Schlecht-Chips (Pfeile b gemäß1 ) kann beispielsweise durch UV-Bestrahlung erfolgen. - Das Entfernen einzelner Bereiche von Haftmaterial
3 kann nach dem Aufbringen von Haftmaterial (Tape) auf die gesamte Fläche des Wafers und Trennen der einzelnen Bereiche des Haftmaterials und durch anschließendes Entfernen dieses Haftmaterials erfolgen. - Die erfindungsgemäßen Chip-Stapel zeichnen sich insbesondere dadurch aus, dass die Kante der Klebeschicht mit der Chip-Vorderseite übereinstimmt und dass sich kein erkennbarer Winkelversatz zwischen den einzelnen Chips eines Chip-Stapels ergibt. Weiterhin ist erfindungsgemäß praktisch kein Rückseitenchipping zu erkennen, d.h., es ergeben sich keine Ausplatzungen beim Sägen der Chips, da die Vereinzelung der Chips beim Dünnschleifen erfolgt.
-
- 1
- Chip
- 1a
- Gut-Chip
- 1b
- Schlecht-Chip
- 2
- Wafer
- 3
- Haftmaterial
- 4
- Träger
- 5
- Rahmen
- 6
- Chip-Stapel
Claims (6)
- Verfahren zur Bildung von Chip-Stapel bei der Fertigung von Chips (
1 ) aus Wafern (2 ), wobei die auf dem Wafer (2 ) befindlichen Chips (1 ) voneinander getrennt, der Wafer (2 ) dünn geschliffen und die Chips (1 ) zu Chip-Stapeln gestapelt werden, wobei die Chips (1 ) zur Funktionskontrolle überprüft werden, dadurch gekennzeichnet, dass die Chips (1 ) in einem ersten Arbeitsschritt geprüft werden, dass auf den Gut-Chips (1a ) Haftmaterial aufgebracht wird, während die Schlecht-Chips (1b ) nicht mit haftendem Material (3 ) versehen werden, dass daraufhin der Wafer (2 ) montiert und dünn geschliffen wird und dass nachfolgend die Schlecht-Chips (1b ) entfernt und durch Gut-Chips (1a ) ersetzt werden. - Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass nach dem Trennen der Chips (
1 ) auf dem Wafer (2 ) nur die Gut-Chips (1a ) mit dem Haftmaterial versehen werden. - Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Gut-Chips (
1a ) vor dem Trennen mit Haftmaterial (3 ) versehen und nachfolgend getrennt werden. - Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass nach dem Trennen der Chips (
1 ) auf dem Wafer (2 ) die Schlecht-Chips (1b ) nicht mit dem Haftmaterial versehen werden. - Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass nach dem Trennen der Chips (
1 ) auf dem Wafer (2 ) die Schlecht-Chips zunächst auch mit Haftmaterial versehen werden, dieses jedoch nachfolgend deaktiviert wird. - Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass nach dem Trennen der Chips (
1 ) auf dem Wafer (2 ) die Schlecht-Chips zunächst auch mit Haftmateri al versehen werden, dieses jedoch nachfolgend entfernt wird.
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