DE10211551A1 - Flußsensor auf Substrat - Google Patents
Flußsensor auf SubstratInfo
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Abstract
Zur Messung des Flusses einer Flüssigkeit oder eines Gases wird ein Sensor vorgeschlagen, welcher einen Halbleiterbaustein (1) mit Messelementen und ein Gehäuse (2) aufweist. Im Gehäuse (2) verläuft ein Kanal (6) für das zu messende Medium. Der Halbleiterbaustein (1) ist vom Kanal durch ein Substrat (5) getrennt. Dieses ist thermisch leitfähig, so dass eine Messung durch das Substrat hindurch möglich ist. Auf dem Substrat (5) sind Leiterbahnen angeordnet, die in Kontakt mit dem Halbleiterbaustein (1) stehen und diesen mit der Außenwelt verbinden.
Description
Die Erfindung betrifft einen Flusssensor und
ein Verfahren zu dessen Herstellung gemäss Oberbegriff
der unabhängigen Ansprüche.
Es ist bekannt, die Flussgeschwindigkeit bzw.
den Massenfluss eines flüssigen oder gasförmigen Mediums
mit einem Halbleiterbaustein zu messen, auf welchem eine
Wärmequelle und mindestens ein Temperatursensor angeord
net sind. Der Fluss führt zu einer Änderung der Tempera
turverteilung der Wärmequelle, welche mit dem Temperatur
sensor bzw. den Temperatursensoren gemessen werden kann.
Halbleiterbausteine dieser Art sind jedoch
empfindlich. Im Kontakt mit gewissen Flüssigkeiten oder
Gasen kommt es leicht zu unerwünschter Verschmutzung oder
Beschädigung des Bausteins. Ausserdem kann mechanische
Beanspruchung das Bauteil beschädigen. In gewissen Anwen
dungen kann es ferner vorkommen, dass das zu messende Me
dium durch den Halbleiterbaustein in unerwünschter Weise
kontaminiert wird. Deshalb müssen die Halbleiterbausteine
z. B. durch Schutzschichten vom zu messenden Medium ge
trennt werden, was jedoch aufwendig ist und nicht immer
zu befriedigen vermag.
Es stellt sich deshalb die Aufgabe, einen
Flusssensor der eingangs genannten Art bereitzustellen,
der eine Vielzahl von verschiedensten Medien messen kann,
robust ist und in einfacher Weise hergestellt werden
kann.
Diese Aufgabe wird vom Flusssensor gemäss An
spruch 1 erfüllt.
Erfindungsgemäss ist also ein Substrat vorge
sehen. Dieses befindet sich zwischen dem Halbleiterbau
stein und dem Medium und bildet eine Trennwand. Es ist
thermisch leitfähig, so dass eine Messung durch das Sub
strat hindurch möglich ist.
Auf dem Substrat sind Leiterbahnen angeord
net, welche mit den Kontaktpunkten des Halbleiterbau
steins verbunden werden können. Auf diese Weise übernimmt
das Substrat gleichzeitig die Aufgabe einer Trennwand und
einer Leiterplatte, was die Zahl der Komponenten redu
ziert und die Herstellung vereinfacht. Der Halbleiterbau
stein kann auf das Substrat aufgelötet werden, vorzugs
weise mittels Flip-Chip Technik.
Das Substrat kann nebst dem Halbleiterbau
stein noch weitere elektronische Komponenten, wie z. B.
digitale Speicher, Spulen oder Kondensatoren aufnehmen.
Vorzugsweise basiert das Substrat auf einer
flexiblen, elektrisch isolierenden Folie, auf welcher die
Leiterbahnen angeordnet werden. Derartige Folien werden
für verschiedenste Anwendungen angeboten und eignen sich
für standardisierte Herstellungsverfahren.
Die vorliegende Erfindung eignet sich beson
ders gut zur Messung des Flusses einer Flüssigkeit, sie
kann jedoch auch zur Messung von Gasflüssen verwendet
werden.
Weitere bevorzugte Ausführungen werden in den
abhängigen Ansprüchen sowie in der nun folgenden Be
schreibung anhand der Figuren offenbart. Dabei zeigen:
Fig. 1 einen Schnitt durch eine bevorzugte
Ausführung des Sensors entlang des Kanals,
Fig. 2 einen Schnitt entlang Linie II-II von
Fig. 1 quer zum Kanal,
Fig. 3 eine Ansicht des Halbleiterbausteins
für den Sensor nach Fig. 1 und 2 vom Substrat her,
Fig. 4 eine Draufsicht auf das Substrat mit
den darauf angeordneten Komponenten und
Fig. 5 eine weitere Ausführung des Sensors.
Der Grundaufbau des Flusssensors ergibt sich
aus dem in Fig. 1 und 2 dargestellten ersten Ausführungs
beispiel. Er besteht aus einem Halbleiterbaustein 1, der
in einem Gehäuse 2 angeordnet ist. Das Gehäuse 2 besteht
aus einem ersten Gehäuseteil 2a und einem zweiten Gehäu
seteil 2b, welche z. B. beide als Spritzgussteile aus
Kunststoff ausgestaltet sein können.
Der erste Gehäuseteil 2a besitzt eine im we
sentlichen flache Oberseite 3, in der eine gerade Nut
bzw. Vertiefung 4 verläuft. Der zweite Gehäuseteil 2b
liegt auf der Oberseite 3 des ersten Gehäuseteils 2a auf.
Zwischen den beiden Gehäuseteilen 2a, 2b ist ein folien
artiges Substrat 5 eingeklemmt. Das Substrat 5 ist mit
beiden Gehäuseteilen 2a, 2b z. B. durch Schweissen oder
Kleben so verbunden, dass das Medium nicht zwischen den
Teilen hindurchtreten kann. Somit bildet die Nut 4 zusam
men mit dem Substrat 5 einen Kanal 6 für das zu messende
Medium.
Der Halbleiterbaustein 1 ist auf dem Substrat
5 angeordnet. Durch den zweiten Gehäuseteil 2b erstreckt
sich eine zentrale Öffnung 7, in welcher der Halbleiter
baustein 1 und allfällige weitere, auf dem Substrat 5 an
geordnete Komponenten 8, 9, 10 Platz finden. Die Öffnung
7 und somit der Bereich um den Halbleiterbaustein 1 bis
an das Substrat 5 ist mit einer ausgehärteten Füllmasse
11 gefüllt. Die Füllmasse 11 bietet Halbleiterbaustein 1,
dem Substrat 5 und den allfälligen weiteren Komponenten
8, 9, 10 Halt.
Wie insbesondere aus Fig. 3 ersichtlich, ist
auf einer Komponentenseite 1a des Halbleiterbausteins 1
eine integrierte Schaltung in CMOS-Technik angeordnet.
Diese umfasst eine Wärmequelle 12 in Form eines Wider
stands. In Flussrichtung des Mediums vor und hinter der
Wärmequelle 12 sind zwei Temperatursensoren 13a, 13b vor
gesehen. In der vorliegenden bevorzugten Ausführung sind
die Temperatursensoren 13a, 13b als Thermosäulen ausge
staltet.
Im Halbleiterbaustein 1 ist eine Öffnung 14
ausgeätzt, die von einer dünnen dielektrischen Membran 15
überdeckt ist. Die Wärmequelle 12 sowie die wärmequellen
seitigen Kontaktreihen der Thermosäulen 13a, 13b sind auf
der Membran 15 angeordnet. Durch diese Anordnung wird die
Wärmeleitung zwischen der Wärmequelle 12 und den Tempera
tursensoren 13a, 13b reduziert.
Die Wärmequelle 12 und die Thermosäulen 13a,
13b sind mit einer dielektrischen Passivierungsschicht
(nicht gezeigt) z. B. aus Siliziumoxid oder Siliziumnitrid
versehen.
Die Wärmequelle 12 und zumindest die inneren
Kontaktreihen der Thermosäulen 13a, 13b bzw. deren Passi
vierungsschicht stehen in thermischem Kontakt mit dem
Substrat 5. Sie können das Substrat 5 direkt berühren
oder von diesem durch eine dünne Schicht aus adhäsivem
Material, Wärmeleitpaste oder Lot getrennt sein.
Auf dem Halbleiterbaustein 1 ist ferner eine
Auswerteelektronik 17 angeordnet. Diese umfasst z. B. ei
nen Vorverstärker, einen Analog-Digital-Wandler und eine
digitale Verarbeitungsstufe, z. B. um das Signal der Ther
mosäulen zu linearisieren und zu skalieren, sowie die An
steuerung für die Wärmequelle. Zur elektrischen Verbin
dung mit der Aussenwelt besitzt die integrierte Schaltung
Anschlusspunkte 18.
Die Auswerteelektronik 17 ist ausgestaltet,
um die Wärmequelle 12 mit konstantem Strom, konstanter
Temperatur, konstanter Spannung oder gepulst zu betrei
ben. Ferner misst sie den Unterschied A der Temperatur
differenzen über den Thermosäulen 13a, 13b. Da die äusse
ren Kontaktreihen der Thermosäulen 13a, 13b ungefähr auf
gleicher Temperatur liegen, entspricht der Unterschied Δ
im wesentlichen dem Temperaturunterschied an den inneren
Kontaktreihen.
Im Betrieb erzeugt die Wärmequelle 12 eine
Temperaturverteilung in der Wand des Kanals 6. Durch den
Fluss des Mediums im Kanal 2 wird diese Temperaturvertei
lung asymmetrisch, so dass der Unterschied Δ der Tempera
turdifferenzen ein Mass für die Flussgeschwindigkeit ist.
Aus diesem Wert leitet die Auswerteelektronik 17 einen
geeignetes Messwert ab.
Dem Substrat 5 kommen in der vorliegenden
Vorrichtung verschiedene Aufgaben zu. Einerseits bildet
es, wie bereits erwähnt, eine Wand für den Kanal 6 und
schliesst diesen gegen oben ab. Weiter überträgt es die
Wärmesignale zwischen dem Halbleiterbaustein 1 und dem zu
messenden Medium. Schliesslich bildet es eine Leiterbahn
folie zur elektrischen Kontaktierung des Halbleiterbau
steins 1.
Hierzu sind, wie auf Fig. 4 dargestellt, auf
dem Substrat 5 Leiterbahnen 19 angeordnet, wie sie bei
spielhaft in Fig. 4 illustriert sind. Die Leiterbahnen 19
sind mit dem Kontaktpunkten 18 des Halbleiterbausteins 1
verbunden, vorzugsweise über Lotverbindungen.
Auf dem Substrat 5 können, wie bereits er
wähnt, noch weitere Komponenten angeordnet sein, wie z. B.
ein externes ROM 8 für die Auswerteschaltung 17 oder pas
sive Komponenten 9, 10, beispielsweise Kondensatoren oder
Spulen. Diese Komponenten sind ebenfalls mit den Leiter
bahnen 19 des Substrats 6 verbunden.
In einem Randbereich 20 des Substrats bilden
die Leiterbahnen 19 Kontaktflächen 21. Wie aus Fig. 2 er
sichtlich, ragt der Randbereich 20 seitlich über das Ge
häuse 2 hinaus, so dass die Kontaktflächen 21 als An
schlüsse für den Sensor zugänglich sind.
Zum Anschluss von Rohren oder Schläuchen für
das Medium sind im Gehäuse 2 ferner zwei zylindrische
Öffnungen 23 vorgesehen, welche im wesentlichen konzen
trisch zum Kanal 6 angeordnet sind. Diese können in den
Gehäuseteilen 2a, 2b vorgeformt sein oder nach der Her
stellung des Sensors ausgebohrt werden.
Bei der Herstellung des Sensors werden zuerst
die Gehäuseteile 2a, 2b, der Halbleiterbaustein 1, die
übrigen Komponenten 8, 9, 10 sowie das Substrat 5 gefer
tigt. Das Substrat 5 besteht vorzugsweise aus einer Fo
lie, auf welcher die Leiterbahnen 19 in bekannter Technik
angeordnet werden. Vorzugsweise besteht das Substrat aus
einem flexiblen, elektrisch nicht leitenden Kunststoff,
wie z. B. Polyetheretherketon (PEEK), Teflon, Polyaryl-
Sulfon (PSU) oder Polyimid, und besitzt eine Dicke zwi
schen 10 und 200 µm. Das Substrat sollte für das zu mes
sende Medium undurchlässig sein, so dass es eine Trenn
wand zwischen dem Kanal 6 und dem Halbleiterbaustein 1
bildet.
Nach der Herstellung der Einzelteile können
beispielsweise der Halbleiterbaustein 1 und die Komponen
ten 8, 9 und 10 auf dem Substrat 5 befestigt werden, was
vorzugsweise im Flip-Chip verfahren geschieht. Dabei wer
den die Kontaktpunkte 18 über Lottropfen mit den Leiter
bahnen 19 verbunden. Zusätzlich können, um einen guten
thermischen Kontakt zu gewährleisten, zwischen der Wärme
quelle 12 und dem Substrat 5, sowie zwischen den wärme
quellen-seitigen Kontaktreihen der Thermosäulen 13a, 13b
Wärmebrücken angeordnet werden, z. B. in Form einer
Schicht aus Wärmeleitpaste oder Metall.
Nun kann das Substrat 5 mit den Gehäuseteilen
2a, 2b verbunden werden. Vorzugsweise geschieht dies mit
tels Kleben oder Schweissen, damit eine dichte Verbindung
entsteht.
Schliesslich wird die Füllmasse 11 in die
Öffnung 7 eingefüllt und ausgehärtet.
Es ist auch denkbar, dass das Substrat 5 zu
erst zwischen den Gehäuseteilen 2a, 2b angeordnet oder
zumindest mit einem davon verbunden wird, bevor der Halb
leiterbaustein 1 und die Komponenten 8, 9, 10 darauf an
geordnet werden.
Im soweit beschriebenen Ausführungsbeispiel
wurde das Substrat 5 separat von den Gehäuseteilen 2a, 2b
gefertigt. Es ist jedoch auch denkbar, dass es einstückig
von einem der Gehäuseteile 2a oder 2b gebildet wird. Bei
spielsweise kann das Substrat durch die Oberseite des er
sten Gehäuseteils 2a gebildet werden, wobei in diesem
Falle der Gehäuseteil 2a so gespritzt wird, dass sich
über dem Kanal 6 eine Membran bildet. Die Ausgestaltung
des Substrats 5 als separate Folie hat jedoch den Vor
teil, dass zum Bilden der Leiterbahnen Strukturierung
konventionelle Herstellungsverfahren verwendet werden
können.
In einer weiteren, in Fig. 5 dargestellten
Ausführung des Sensors, kann der Gehäuseteil 2a mit dem
Kanal 6 auch entfallen. Dieser Sensor eignet sich beson
ders für eine direkte Anordnung im zu messenden Medium.
Beispielsweise kann er als Geschwindigkeitsmesser für ein
Boot verwendet werden.
Claims (17)
1. Flusssensor zum Messen des Flusses eines
Mediums, insbesondere einer Flüssigkeit, mit einem Halb
leiterbaustein (1), auf welchem mindestens ein Tempera
tursensor (13a, 13b), eine Wärmequelle (12) und elektri
sche Anschlusspunkte (18) integriert sind, gekennzeichnet
durch ein Substrat (5) mit Leiterbahnen (19), welches
mindestens teilweise zwischen dem Halbleiterbaustein (1)
und dem Medium angeordnet ist, wobei mindestens ein Teil
der Anschlusspunkte mit den Leiterbahnen (19) verbunden
ist und die Wärmequelle und der Temperatursensor über das
Substrat (5) in thermischen Kontakt mit dem Medium ste
hen, derart, dass das Substrat (5) eine thermisch leiten
de Trennwand zwischen dem Halbleiterbaustein (1) und dem
Medium bildet.
2. Flusssensor nach Anspruch 1 mit einem er
sten Gehäuseteil (2a), in welchem ein Kanal (6) für das
Medium verläuft, wobei das Substrat (5) die Vertiefung
zum Bilden des Kanals (6) abdeckt, und insbesondere dass
der Kanal (6) als Vertiefung (4) im ersten Gehäuseteil
(2a) angeordnet ist.
3. Flusssensor nach Anspruch 2, wobei das
Substrat (5) mit dem ersten Gehäuseteil (2a) verbunden
ist, insbesondere mit diesem verklebt oder verschweisst
ist.
4. Flusssensor nach einem der Ansprüche 2
oder 3, mit einem zweiten Gehäuseteil (2b), wobei minde
stens ein Teil des Substrats (5) zwischen dem ersten (2a)
und dem zweiten (2b) Gehäuseteil eingeklemmt ist.
5. Flusssensor nach einem der vorangehenden
Ansprüche, wobei auf dem Substrat (5) neben dem Halblei
terbaustein (1) noch mindestens eine weitere elektroni
sche Komponente (8, 9, 10) angeordnet und mit den Leiter
bahnen (19) verbunden ist.
6. Flusssensor nach einem der vorangehenden
Ansprüche, wobei der Halbleiterbaustein (1) auf das Sub
strat (5) gelötet ist.
7. Flusssensor nach einem der vorangehenden
Ansprüche, wobei das Substrat (5) eine mit den Leiterbah
nen (19) versehene, flexible, elektrisch isolierende Fo
lie aufweist.
8. Flusssensor nach einem der vorangehenden
Ansprüche, wobei das Substrat (5) für das zu messende Me
dium undurchlässig ist.
9. Flusssensor nach einem der vorangehenden
Ansprüche mit einem Kanal (6) für das Medium, wobei eine
Wand des Kanals (6) von einer Kunststofffolie gebildet
wird und die übrigen Wände von mindestens einem Gehäuse
teil (2a), wobei die Kunststofffolie die Leiterbahnen
(19) trägt.
10. Flusssensor nach einem der Ansprüche 1
bis 8 mit einem Kanal (6) für das Medium, wobei der Kanal
(6) und das Substrat (5) einstückig von einem Gehäuseteil
gebildet werden.
11. Flusssensor nach einem der vorangehenden
Ansprüche, wobei die Trennwand eine Dicke zwischen 10 µm
und 200 µm aufweist.
12. Flusssensor nach einem der vorangehenden
Ansprüche, wobei das Substrat (5) aus einem Kunststoff
ist, insbesondere aus Polyetheretherketon, Polyimid, Po
lyaryl-Sulfon oder Teflon.
13. Flusssensor nach einem der vorangehenden
Ansprüche, wobei er ein Gehäuse (2) aufweist, in welchem
der Halbleiterbaustein (1) und ein Kanal (6) für das Me
dium angeordnet sind, wobei das Substrat (5) aus dem Ge
häuse geführt ist und ausserhalb des Gehäuses Kontakte
(21) zum Kontaktieren des Flusssensors aufweist.
14. Flusssensor nach einem der vorangehenden
Ansprüche, wobei die Wärmequelle (12), der Temperatursen
sor (13a, 13b) und die elektrischen Anschlusspunkte (18)
auf einer Komponentenseite (1a) des Halbleiterbausteins
(1) angeordnet sind und wobei der Halbleiterbaustein (1)
mit der Komponentenseite (1a) am Substrat (5) angeordnet
ist.
15. Flusssensor nach einem der vorangehenden
Ansprüche, wobei ein Bereich um den Halbleiterbaustein
(1) bis an das Substrat (5) mit einer ausgehärteten Füll
masse (11) ausgefüllt ist.
16. Verfahren zum Herstellen eines Flusssen
sors, insbesondere nach einem der vorangehenden An
sprüche, bei welchem ein Halbleiterbaustein (1) bereitge
stellt wird, auf welchem mindestens ein Temperatursensor
(13a, 13b), eine Wärmequelle (12) und elektrische An
schlusspunkte (18) integriert sind, gekennzeichnet durch
die Schritte
Herstellen eines Substrats (5) mit Leiterbah nen (19) und
Anordnen des Substrats (5) als Trennwand zwi schen dem Halbleiterbaustein und einem zu messenden Medi um und
Herstellen elektrischer Verbindungen zwischen dem Halbleiterbaustein und den Leiterbahnen (19) des Sub strats (5).
Herstellen eines Substrats (5) mit Leiterbah nen (19) und
Anordnen des Substrats (5) als Trennwand zwi schen dem Halbleiterbaustein und einem zu messenden Medi um und
Herstellen elektrischer Verbindungen zwischen dem Halbleiterbaustein und den Leiterbahnen (19) des Sub strats (5).
17. Verfahren nach Anspruch 16 wobei der
Halbleiterbaustein (1) mittels Flip-Chip Technik mit den
Leiterbahnen (19) des Substrats (5) verbunden wird.
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