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DE102018216964A1 - Aktuatoreinrichtung zur Ausrichtung eines Elements, Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie und Verfahren zur Ausrichtung eines Elements - Google Patents

Aktuatoreinrichtung zur Ausrichtung eines Elements, Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie und Verfahren zur Ausrichtung eines Elements Download PDF

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DE102018216964A1
DE102018216964A1 DE102018216964.0A DE102018216964A DE102018216964A1 DE 102018216964 A1 DE102018216964 A1 DE 102018216964A1 DE 102018216964 A DE102018216964 A DE 102018216964A DE 102018216964 A1 DE102018216964 A1 DE 102018216964A1
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DE
Germany
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actuator unit
output member
actuator
actuator device
clamping ring
Prior art date
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Ceased
Application number
DE102018216964.0A
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English (en)
Inventor
Boaz Pnini-Mittler
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
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Priority to CN201980065744.2A priority patent/CN112805626B/zh
Priority to KR1020217009375A priority patent/KR102791702B1/ko
Priority to PCT/EP2019/071147 priority patent/WO2020069787A1/de
Publication of DE102018216964A1 publication Critical patent/DE102018216964A1/de
Priority to US17/220,305 priority patent/US11320749B2/en
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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Aktuatoreinrichtung (1) zur Ausrichtung eines Elements (2), mit wenigstens einer an einer Tragstruktur (5) festlegbaren ersten Aktuatoreinheit (7) für einen ersten Einstellungsbereich und einer an dem Element (2) festlegbaren zweiten Aktuatoreinheit (8) für einen zweiten Einstellungsbereich. Die zweite Aktuatoreinheit (8) ist mit einem Ausgangsglied (9) der ersten Aktuatoreinheit (7) derart wirkverbunden, dass durch eine Verstellung des Ausgangsglieds (9) die Positionierung der zweiten Aktuatoreinheit (8) verstellbar ist. Die erste Aktuatoreinheit (7) weist ein Verstellelement (13) und ein an der Tragstruktur (5) festlegbares Fixierelement (14) auf, wobei das Fixierelement (14) ausgebildet ist, das Ausgangsglied (9) in einem Betriebszustand des Elements (2) kraftschlüssig festzulegen. Das Fixierelement (14) ist ferner ausgebildet, die kraftschlüssige Verbindung in einem Einstellzustand des Elements (2) zu lösen, um eine Verstellung des Ausgangsglieds (9) mittels des Verstellelements (13) zu ermöglichen.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Aktuatoreinrichtung zur Ausrichtung eines Elements nach dem Oberbegriff von Anspruch 1.
  • Die Erfindung betrifft auch eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie mit einem Beleuchtungssystem mit einer Strahlungsquelle sowie einer Optik nach Anspruch 19.
  • Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur Ausrichtung eines Elements nach dem Oberbegriff von Anspruch 20.
  • Aus dem allgemeinen Stand der Technik, insbesondere der Elektronik und der Optik, sind eine Vielzahl von Bauteilen bzw. Elemente bekannt, die, insbesondere zur Optimierung deren Funktion, möglichst exakt ausgerichtet werden müssen. Zur Ausrichtung derartiger Bauteile sind Aktuatoreinrichtungen bekannt, die innerhalb eines definierten Einstellungsbereichs, eines sogenannten „actuator ranges“, eine Ausrichtung- bzw. Einstellung der Bauteile vornehmen.
  • Besondere Anforderungen an die Aktuatoreinrichtung ergeben sich, wenn der Einstellungsbereich verhältnismäßig groß und die Einstellung dennoch verhältnismäßig exakt erfolgen soll. Ein großer Einstellungsbereich bei gleichzeitig sehr hoher Positioniergenauigkeit lässt sich mit den aus dem Stand der Technik bekannten Lösungen nur schwer oder kostenintensiv erreichen.
  • Besondere Anforderungen stellen dabei Projektionsbelichtungsanlagen für die Halbleiterlithografie.
  • Aufgrund der fortschreitenden Miniaturisierung von Halbleiterschaltungen erhöhen sich die Anforderungen an Auflösung und Genauigkeit von Projektionsbelichtungsanlagen gleichermaßen. Entsprechend hohe Anforderungen werden auch an die dort verwendeten Elemente, insbesondere die optischen Elemente, die unter anderem den Strahlengang innerhalb der Projektionsbelichtungsanlagen beeinflussen, gestellt.
  • In Projektionsbelichtungsanlagen für die Halbleiterlithografie werden üblicherweise eine Vielzahl von Aktuatoren, beispielsweise Tauchspulenaktuatoren, eingesetzt, um die optischen Elemente im Beleuchtungssystem der Projektionsbelichtungsanlage mechanisch zu verstellen bzw. auszurichten, so dass der Strahlengang einer Strahlungsquelle gesteuert bzw. beeinflusst werden kann und insbesondere damit Abbildungsfehler korrigiert und die Projektionsbelichtungsanlage somit optimiert werden kann.
  • Aus der WO 2005/026801 A2 ist es bekannt, optische Elemente für EUV („Extreme Ultraviolet“) - Projektionsbelichtungsanlagen, wie Spiegel, unter Einsatz von ansteuerbaren Bewegungsachsen durch Betätigungseinheiten in Form von Lorentz-Aktuatoren in mehreren Freiheitsgraden zu verstellen bzw. auszurichten. Hierzu können Tauchspulenaktuatoren verwendet werden, wobei eine linear bewegliche Betätigungseinheit, ein Translator, in Form eines Magneten durch elektromagnetische Wechselwirkung mit einer statisch montierten und den Translator umgebenden Spule bewegt werden kann. Der Translator ist dabei über ein Führungsglied mit dem optischen Element verbunden, auf das sich eine ausgeführte Bewegung überträgt.
  • Die immer höher werdenden Anforderungen an die Ausrichtung bzw. Aktuierung der optischen Elemente in einer Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere der Spiegel in EUV-Projektionsbelichtungsanlagen, setzen verhältnismäßig große Einstellungsbereiche bei gleichzeitig sehr hohen Positionierungsgenauigkeiten voraus. Die großen Einstellungsbereiche ergeben sich dabei unter anderem auch aus Montage-, Justage- und Integrationstoleranzen sowie durch thermale Einflüsse.
  • Aus der DE 198 31 744 A1 ist eine gattungsgemäß Aktuatoreinrichtung bekannt, bei der vorgesehen ist, dass eine Spindelmutter zur Wandlung einer Rotations- in eine Linearbewegung für ein Grobverstellung und ein in Serie dazu angeordnetes piezoelektrisches Linearstellelement zur Feinverstellung vorgesehen sind.
  • Die in der DE 198 31 744 A1 beschriebene Vorrichtung soll neben einer Verstellung um mehrere Millimeter darüber hinaus eine exakte Positionierung ermöglichen.
  • Problematisch dabei ist, dass die optischen Elemente, insbesondere die Spiegel einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage, mehrere 100 kg wiegen können und daher eine besonders stabile Konstruktion notwendig ist, insbesondere um auch im Betriebszustand eine hohe Positioniergenauigkeit einzuhalten.
  • Aus diesem Grund werden bei den im Stand der Technik eingesetzten Projektionsbelichtungsanlagen derzeit keine Aktuatoreinrichtungen verwendet, bei denen seriell zwei Aktuatoreinheiten gekoppelt sind. Eingesetzt werden vielmehr Aktuatoren, die ausgerichtet sind, um den gesamten Einstellungsbereich abzudecken. Derartige Aktuatoren weisen hierzu in der Regel einen Einstellungsbereich von circa 1000 µm. Der Nachteil derartiger Aktuatoreinrichtungen besteht darin, dass aufgrund des für Projektionsbelichtungsanlagen vergleichsweise großen Einstellungsbereichs („actuator range“) eine sehr hohe Positioniergenauigkeit nur schwer erreichbar ist.
  • Bei den aus dem Stand der Technik bekannten Aktuatoren, die bei Projektionsbelichtungsanlagen eingesetzt werden, kann es sich um Linearaktuatoren zum Beispiel um Piezoaktuatoren handeln.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Aktuatoreinrichtung zur Ausrichtung eines Elements zu schaffen, die es ermöglicht, innerhalb eines vergleichsweise großen Einstellungsbereichs eine hohe Positioniergenauigkeit zu erreichen.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt auch die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Ausrichtung eines Elements zur Verfügung zu stellen, mit dem innerhalb eines vergleichsweise großen Einstellungsbereichs eine hohe Positioniergenauigkeit eingehalten werden kann.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt außerdem die Aufgabe zugrunde, eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie bereitzustellen, welche wenigstens ein auszurichtendes optisches Element aufweist, welches innerhalb eines vergleichsweise großen Einstellungsbereichs mit hoher Positioniergenauigkeit eingestellt werden kann.
  • Die Aufgabe wird für die Aktuatoreinrichtung zur Ausrichtung eines Elements durch die in Anspruch 1 aufgeführten Merkmale und für das Verfahren zur Ausrichtung eines Elements durch die in Anspruch 20 aufgeführten Merkmale gelöst. Die Aufgabe wird für die Projektionsbelichtungsanlage durch die in Anspruch 19 aufgeführten Merkmale gelöst.
  • Die abhängigen Ansprüche und die nachfolgend beschriebenen Merkmale betreffen vorteilhafte Ausführungsformen und Varianten der Erfindung.
  • Die erfindungsgemäße Aktuatoreinrichtung zur Ausrichtung eines Elements weist wenigstens eine an einer Tragstruktur festlegbare erste Aktuatoreinheit für einen ersten Einstellungsbereich und eine, an dem Element festlegbare zweite Aktuatoreinheit für einen zweiten Einstellungsbereich auf. Die zweite Aktuatoreinheit ist erfindungsgemäß mit einem Ausgangsglied der ersten Aktuatoreinheit wirkverbunden derart, dass durch eine Verstellung des Ausgangsglieds die Positionierung der zweiten Aktuatoreinheit verstellbar ist. Vorzugsweise trägt das Ausgangsglied die zweite Aktuatoreinheit, so dass eine Verstellung des Ausgangsglieds zu einer Verstellung der zweiten Aktuatoreinheit bzw. einer Änderung deren Ausrichtung führt.
  • Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass die erste Aktuatoreinheit ein Verstellelement und ein an der Tragstruktur festlegbares Fixierelement aufweist, wobei das Fixierelement ausgebildet ist, das Ausgangsglied in einem Betriebszustand des Elements kraftschlüssig festzulegen. Das Fixierelement ist ferner ausgebildet, die kraftschlüssige Verbindung in einem Einstellzustand des Elements, d. h. wenn das Element innerhalb des ersten Einstellungsbereichs ausgerichtet werden soll, zu lösen, um eine Verstellung des Ausgangsglieds mittels des Verstellelements zu ermöglichen.
  • Die Festlegung des Ausgangsglieds durch Kraft- bzw. Reibschluss eignet sich in besonderer Weise, um im Betriebszustand eine zuverlässige Übertragung der Gewichtskraft des Elements, insbesondere des optischen Elements, zu gewährleisten und die Kräfte in die Tragstruktur einzuleiten.
  • Dadurch, dass die Aktuatoreinrichtung zwei Aktuatoreinheiten aufweist, die seriell angeordnet sind, können die Aufgaben, die die Aktuatoreinrichtung zu erfüllen hat, aufgeteilt werden. Der ersten Aktuatoreinheit für einen ersten Einstellungsbereich kommt vorzugsweise die Aufgabe einer Grobeinstellung des Elements zu. Es hat sich gezeigt, dass insbesondere für die Ersteinstellung und/oder die Inbetriebnahme und/oder die Grundeinstellung des Elements ein größerer Einstellungsbereich erforderlich ist. Bei der Ersteinstellung ist es häufig erforderlich, Montage-, Justage- und Integrationstoleranzen auszugleichen. Dies erfolgt beispielsweise bei Projektionsbelichtungsanlagen dadurch, dass die Wellenfront gemessen wird und in Abhängigkeit des Messergebnisses eine Grundeinstellung der optischen Elemente (Spiegel, Linsen, Prisma, etc.) vorgenommen wird, um Abweichungen auszugleichen. Speziell bei Projektionsbelichtungsanlagen hat es sich gezeigt, dass 90 % des insgesamt notwendigen Einstellungsbereichs von beispielsweise 1000 µm nur bei der Ersteinstellung benötigt wird, um die Elemente, vorliegend die optischen Elemente, beispielsweise Spiegel einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage, in Abhängigkeit des Ergebnisses der Wellenfrontmessung auszurichten. Diese Ausrichtung, die auch als Grobeinstellung bezeichnet werden kann, wird erfindungsgemäß vorzugsweise durch die erste Aktuatoreinheit der Aktuatoreinrichtung vorgenommen. Die erste Aktuatoreinheit ist daher vorzugsweise ausgelegt, um einen entsprechend großen Einstellungsbereich abzudecken.
  • Die zweite Aktuatoreinheit für einen zweiten Einstellungsbereich übernimmt vorzugsweise eine Feineinstellung, insbesondere eine Ausrichtung des Elements während des Betriebs. Insofern es sich bei dem Element um ein optisches Element, insbesondere einer Projektionsbelichtungsanlage handelt, hat es sich gezeigt, dass während des Betriebs der erforderliche Einstellungsbereich, verglichen mit dem Einstellungsbereich, der erforderlich ist, um eine Ersteinstellung der optischen Elemente vorzunehmen, vergleichsweise gering ist. Typischerweise liegt der Einstellungsbereich, der notwendig ist, um das Element, insbesondere das optische Element, während des Betriebs auszurichten, bei nur 10 % des gesamten Einstellungsbereichs. Bei Projektionsbelichtungsanlagen kann es ausreichend sein, wenn der zweite Einstellungsbereich 100 µm beträgt. Die zweite Aktuatoreinheit ist daher vorzugsweise ausgebildet, um einen entsprechenden Einstellungsbereich abzudecken, nicht jedoch einen Einstellungsbereich für die Ersteinstellung.
  • Die erfindungsgemäße Aktuatoreinrichtung ermöglicht es nun in besonders vorteilhafter Weise, die erste Aktuatoreinheit derart auszugestalten, dass der erste Einstellungsbereich vorzugsweise eine Grobeinstellung ermöglicht. Hierzu kann die erste Aktuatoreinheit ausgebildet sein, um einen vergleichsweise großen Einstellungsbereich abzudecken, wobei Limitierungen bei der Positioniergenauigkeit diesbezüglich nicht primär relevant sind. Das heißt, es ist akzeptabel, dass die Positioniergenauigkeit nicht so hoch ist, wie dies zur Ausrichtung des Elements, insbesondere des Spiegels letztendlich gewünscht ist. Diese Aufgabe kann die erfindungsgemäße Aktuatoreinrichtung durch die zweite Aktuatoreinheit erfüllen, welche dann nur einen, verglichen mit der ersten Aktuatoreinheit geringeren Einstellungsbereich, beispielsweise im Verhältnis 9:1, aufweisen muss, was zur Folge hat, dass die zweite Aktuatoreinheit eine sehr hohe Positioniergenauigkeit aufweisen kann.
  • Der Nachteil der aus dem Stand der Technik bekannten Aktuatoreinrichtungen mit zwei seriell angeordneten Aktuatoreinheiten wird durch die erfindungsgemäße Aktuatoreinrichtung dadurch vermieden, dass die erste Aktuatoreinheit ein Verstellelement und ein an der Tragstruktur festlegbares Fixierelement aufweist. Das Fixierelement ist dabei ausgebildet, das Ausgangsglied in einem Betriebszustand des Elements kraftschlüssig festzulegen. Dadurch stellt das Fixierelement eine feste Verbindung zwischen dem Ausgangsglied und der Tragstruktur her. Das Gewicht des Elements, insbesondere eines optischen Elements einer Projektionsbelichtungsanlage, wird somit im Betriebszustand über das Ausgangsglied und das Fixierelement in die Tragstruktur eingeleitet, so dass eine feste Verbindung geschaffen wird. Das Fixierelement ist unbeweglich und fest mit der Tragstruktur verbunden.
  • Das Fixierelement ist ferner ausgebildet, die kraftschlüssige Verbindung in einem Einstellzustand des Elements zu lösen, um eine Verstellung des Ausgangsglieds mittels des Verstellelements zu ermöglichen. Dadurch wird sichergestellt, dass das Element durch die erste Aktuatoreinheit innerhalb des ersten Einstellungsbereichs, insbesondere zur Grobeinstellung, insbesondere vor der ersten Inbetriebnahme, in dem gewünschten Maße ausgerichtet werden kann. Nachdem die Ausrichtung erfolgt ist, schließt das Fixierelement die kraftschlüssige Verbindung, wodurch die Ausrichtung des Elements, insbesondere des optischen Elements, fixiert ist. Im Betriebszustand kann dann durch die zweite Aktuatoreinheit die für den Betrieb des Elements, insbesondere des optischen Elements, notwendige Ausrichtung erfolgen. Die erfindungsgemäße Aktuatoreinrichtung ermöglicht es somit, die Grobeinstellung mit der ersten Aktuatoreinheit, die auch als „long stroke“-Aktuator bezeichnet werden kann, vorzunehmen, während im Betrieb die zweite Aktuatoreinheit, die auch als „short stroke“-Aktuator bezeichnet werden kann, die Feineinstellung übernimmt. Insbesondere bei optischen Elementen einer Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere bei Spiegeln einer EUV- Projektionsbelichtungsanlage, hat sich gezeigt, dass ein Range von 100 µm während des Betriebs ausreichend ist, um optische Aberrationen zu korrigieren.
  • Erfindungsgemäß kann vorgesehen sein, dass die erste Aktuatoreinheit, insbesondere das Verstellelement der ersten Aktuatoreinheit, ausgebildet ist, um eine Hubbewegung auszuführen, um das Ausgangsglied in Axialrichtung anzuheben oder abzusenken. Die Axialrichtung ist dabei eine Richtung, die achsparallel zur Mittelachse des Ausgangsglieds verläuft, so dass das Ausgangsglied vorzugsweise orthogonal zu einer Ebene des Elements, insbesondere eines optischen Elements einer Projektionsbelichtungsanlage, verschoben, d. h. angehoben oder abgesenkt, wird.
  • Vorzugsweise ist die erste Aktuatoreinheit bzw. das Verstellelement der ersten Aktuatoreinheit ausgebildet, um nur Hubbewegungen in Axialrichtung und keine Bewegung in andere Richtungen auszuführen.
  • Erfindungsgemäß kann vorgesehen sein, dass die erste Aktuatoreinheit ein Gehäuse aufweist, welches an der Tragstruktur festlegbar ist, wobei das Fixierelement und/oder das Verstellelement in dem Gehäuse festgelegt sind.
  • Die Ausbildung der Aktuatoreinheit mit einem Gehäuse, welches vorzugsweise starr bzw. unbeweglich an der Tragstruktur festgelegt bzw. mit dieser verbunden ist und in dem entsprechend unbeweglich das Fixierelement und/oder das Verstellelement festgelegt sind, führt dazu, dass Kräfte von dem Element, insbesondere einem optischen Element, über das Ausgangsglied und das Fixierelement in das Gehäuse der ersten Aktuatoreinheit und von dort in die Tragstruktur eingeleitet werden können.
  • Dadurch nimmt die erste Aktuatoreinheit in besonders vorteilhafter Weise das Gewicht des Elements auf und leitet dieses in die Tragstruktur ein.
  • Von Vorteil ist es, wenn das Fixierelement ausgebildet ist, das Ausgangsglied durch Klemmen kraftschlüssig festzulegen.
  • Die Ausbildung des Fixierelements derart, dass das Ausgangsglied durch Klemmen kraftschlüssig festgelegt wird, hat sich als besonders geeignet herausgestellt, um einerseits eine zuverlässige Verbindung im Betriebszustand zu realisieren und andererseits im Einstellzustand die Verbindung zwischen dem Fixierelement und dem Ausgangsglied lösen zu können.
  • Von Vorteil ist es, wenn das Fixierelement im Betriebszustand auf wenigstens einen Teil des Ausgangsglieds aufgeschrumpft ist.
  • Die Realisierung einer kraftschlüssigen Verbindung dadurch, dass das Fixierelement auf wenigstens einen Teil des Ausgangsglieds, vorzugsweise ringförmig umlaufend um einen Teilbereich des Ausgangsglieds, aufgeschrumpft wird, hat sich als besonders geeignet herausgestellt. Das Aufschrumpfen ist ein technisches Verfahren zum kraftschlüssigen Verbinden, dem das Prinzip der Wärmedehnung zugrunde liegt. Durch Aufschrumpfen lassen sich dauerhafte und feste Verbindungen herstellen. So ist es zum Beispiel bekannt, die Welle und den Radreifen von Eisenbahnrädern durch Aufschrumpfen miteinander zu verbinden.
  • Von Vorteil ist es, wenn das Fixierelement als Klemmring ausgebildet ist.
  • Besonders vorteilhaft ist es, wenn der Klemmring auf das Ausgangsglied aufgeschrumpft wird.
  • Es kann vorgesehen sein, dass der Klemmring und das Ausgangsglied, welches vorzugsweise als Welle oder Kolben ausgebildet ist, mit einer Übermaßpassung gefertigt sind. Vorzugsweise derart, dass die beiden Teile bei Normaltemperatur nicht miteinander verbindbar sind. Wenn das äußere Teil, im Regelfall der Klemmring, erhitzt wird, dehnt sich dieser aus, so dass der Klemmring und das Ausgangsglied nicht kraftschlüssig miteinander verbunden sind. Sobald eine kraftschlüssige Verbindung gewünscht ist, zum Beispiel im Betriebszustand, kann dies dadurch erreicht werden, dass der Klemmring abkühlt, vorzugsweise auf Normaltemperatur bzw. die Umgebungstemperatur, so dass der Klemmring auf den Außenumfang des Ausgangsglieds aufschrumpft.
  • Grundsätzlich ist es auch möglich, eine kraftschlüssige Verbindung zwischen dem Klemmring und dem Ausgangsglied durch ein gegenteiliges Verfahren, welches als Kalt- oder Eindehnen bezeichnet wird, zu erreichen.
  • Es kann alternativ auch vorgesehen sein, das Ausgangsglied abzukühlen, damit die kraftschlüssige Verbindung zwischen dem Fixierelement und dem Ausgangsglied gelöst wird. Die kraftschlüssige Verbindung kann dann wieder dadurch hergestellt werden, dass das Ausgangsglied anschließend wieder erwärmt wird, beispielsweise auf Normaltemperatur bzw. die Umgebungstemperatur.
  • Die Realisierung einer Schrumpfverbindung durch ein Erwärmen (Lösen) bzw. Abkühlen (Verbinden) des Klemmrings eignet sich jedoch im besonderen Maße.
  • Erfindungsgemäß kann vorgesehen sein, dass der Klemmring eine Aufnahmeöffnung aufweist, welche wenigstens einen Teil des Ausgangsglieds umfangsseitig umfasst und wobei die Aufnahmeöffnung im Betriebszustand einen ersten Durchmesser aufweist, um das Ausgangsglied kraftschlüssig zu fixieren, und wobei die Aufnahmeöffnung im Einstellzustand einen zweiten, vergrößerten Durchmesser derart aufweist, dass die kraftschlüssige Verbindung mit dem Ausgangsglied gelöst ist, um eine Verstellung des Ausgangsglieds mittels des Verstellelements zu ermöglichen.
  • Durch eine derartige Ausgestaltung lässt sich in besonders vorteilhafter Weise eine Verbindung zwischen dem Klemmring und dem Ausgangsglied, insbesondere wenn dieses als Ausgangswelle oder Ausgangskolben ausgebildet ist, herstellen. Vorzugsweise weist das Ausgangsglied eine äußere Mantelfläche zumindest in einem Teilbereich auf, die zylindrisch ausgebildet ist und von dem Klemmring umschlossen wird. Vorzugsweise ist die Mantelfläche als gerader Kreiszylinder ausgebildet.
  • Von Vorteil ist es, wenn der Klemmring im Einstellzustand beheizt ist.
  • Des Weiteren ist es von Vorteil, wenn der Klemmring im Betriebszustand nicht beheizt ist, vorzugsweise eine Normaltemperatur aufweist. Dadurch wird im Betriebszustand eine kraftschlüssige Verbindung zwischen dem Klemmring und dem Ausgangsglied hergestellt, ohne dass hierzu ein Energieeintrag notwendig ist. Eine derartige Lösung ist für viele Anwendungen im Bereich der Technik von Vorteil, da das Einbringen von Energie und Wärme häufig ungewünscht ist bzw. negative Effekte auslöst. Insbesondere wenn es sich bei dem Element um ein optisches Element einer Projektionsbelichtungsanlage handelt, ist es von Vorteil, wenn die kraftschlüssige Verbindung im Betriebszustand keinen Energieeintrag benötigt oder Wärme abgibt.
  • Von Vorteil ist es, wenn der Klemmring zur Beheizung Stromanschlüsse aufweist und/oder bestrombar ist.
  • Eine derartige Ausgestaltung ermöglicht es in einfacher Weise den Klemmring zu erwärmen, so dass dieser sich ausdehnt und die Verbindung mit dem Ausgangsglied gelöst wird.
  • Vorzugsweise ist der Klemmring aus Edelstahl ausgebildet.
  • Vorzugsweise ist das Ausgangsglied aus einem Material gebildet, welches sich bei Wärme wenig ausdehnt, vorzugsweise einen geringen, besonders bevorzugt einen sehr geringen Wärmeausdehnungskoeffizienten aufweist. Die Ausbildung des Ausgangsglieds aus einer Eisen-Nickel-Legierung, vorzugsweise Invar (eine Marke von Imphy Alloys), eignet sich im besonderen Maße. Möglich ist jedoch auch die Verwendung eines anderen Materials für das Ausgangsglied.
  • Die Erwärmung des Klemmrings mittels Strom kann vorzugsweise dadurch erfolgen, dass der Klemmring einen Draht aufweist bzw. mit einem Draht versehen ist, der vorzugsweise einen hohen Widerstand aufweist und der Draht bestromt wird, so dass dieser entsprechend Wärme abgibt.
  • Von Vorteil ist es, wenn der Klemmring im Betriebszustand unbestromt ist.
  • Durch diese Ausgestaltung wird vermieden, dass der Klemmring einerseits Wärme abgibt und andererseits ein störendes Magnetfeld erzeugt werden kann. Die Abgabe von Wärme bzw. eine magnetische Beeinflussung gilt es insbesondere bei Projektionsbelichtungsanlagen zu vermeiden.
  • Von Vorteil ist es, wenn der Klemmring über Stege und/oder Verbindungsglieder und/oder Gelenke mit dem Gehäuse verbunden ist.
  • Der Klemmring kann sich besonders vorteilhaft ausdehnen, wenn eine Verbindung des Klemmrings zu dem Gehäuse über Stege oder Verbindungsglieder oder Gelenke erfolgt, die eine definierte Wärmeausdehnung des Klemmrings zulassen. Die Stege und/oder die Verbindungsglieder sind vorzugsweise einstückig mit dem Gehäuse ausgebildet.
  • Von Vorteil ist es, wenn die Stege und/oder die Verbindungsglieder und/oder die Gelenke in Radialrichtung flexibel und/oder nachgiebig sind und/oder ausweichen, um eine radiale Wärmedehnung des Klemmrings zu ermöglichen, jedoch in Axialrichtung steif und/oder unbeweglich ausgebildet sind, um in Axialrichtung des Ausgangsglied wirkende Kräfte aufzunehmen und über das Gehäuse in die Tragstruktur einzuleiten.
  • Die vorgenannten Ausgestaltungen ermöglichen es, dass sich der Klemmring, um die Verbindung mit dem Ausgangsglied zu lösen, ausdehnen kann. Gleichzeitig wird sichergestellt, dass die Gewichtskräfte des Elements, insbesondere eines optischen Elements einer Projektionsbelichtungsanlage, wenn die Klemmverbindung wieder geschlossen ist, zuverlässig aufgenommen und von dem Klemmring über die Stege bzw. die Verbindungsglieder bzw. die Gelenke in das Gehäuse und von dort in die Tragstruktur eingeleitet werden können.
  • Die Stege und/oder die Verbindungsglieder und/oder die Gelenke sind vorzugsweise radial flexibel und axial steif ausgebildet. Unter „axial steif“ ist dabei zu verstehen, dass die Stege und/oder die Verbindungsglieder und/oder die Gelenke Kräfte in Axialrichtung, d. h. Kräfte, die achsparallel zur Mittelachse des Ausgangsglieds bzw. des Klemmrings verlaufen, ohne auszuweichen aufnehmen können. Unter „radial flexibel“ ist zu verstehen, dass die Stege und/oder die Verbindungsglieder und/oder die Gelenke in Radialrichtung, d. h. in einer Ebene, die orthogonal zur Mittelachse des Ausgangsglieds bzw. des Klemmrings verläuft, flexibel ausgebildet sind bzw. nachgeben oder ausweichen können.
  • Bei einer Ausgestaltung des Klemmrings mit Stegen oder dergleichen kann eine axial steife und radial flexible Ausgestaltung vorzugsweise dadurch erreicht werden, dass die Stege nicht radial verlaufen bzw. nicht auf die Mittelachse des Klemmrings ausgerichtet sind, sondern in einem Winkel hierzu verlaufen, so dass die Stege ausgelenkt werden bzw. ausweichen, wenn der Klemmring eine Radialkraft auf diese ausübt.
  • Das Gehäuse kann aus einem beliebigen Material hergestellt werden, das geeignet ist, die Kräfte, insbesondere auch die Gewichtskräfte des Elements, aufzunehmen und in die Tragstruktur einzuleiten. Möglich ist insbesondere eine Ausbildung des Gehäuses aus Metall, gegebenenfalls auch aus Edelstahl oder Invar.
  • Von Vorteil ist es, wenn der Klemmring im Einstellzustand eine Temperatur von 40 °C bis 100 °C, vorzugsweise 50 °C bis 90 °C, besonders bevorzugt 50 °C bis 80 °C und ganz besonders bevorzugt 50 °C bis 70 °C, insbesondere 60 °C +/- 5 °C aufweist. Diese Werte haben sich im besonderen Maße als geeignet herausgestellt, um im Einstellzustand die kraftschlüssige Verbindung zwischen dem Klemmring und dem Ausgangsglied zu lösen. Wenn die Beheizung durch eine Bestromung erfolgt, kann die Bestromung entsprechend geregelt bzw. gesteuert werden.
  • Von Vorteil ist es, wenn der Klemmring im Betriebszustand eine Temperatur von 10 °C bis 30 °C, vorzugsweise 15 °C bis 25 °C, besonders bevorzugt 20 °C bis 25 °C und ganz besonders bevorzugt 22 °C +/- 2 °C bzw. die Umgebungstemperatur aufweist. Die vorgenannten Werte haben sich als besonders geeignet herausgestellt, damit im Betriebszustand eine zuverlässige und dauerhafte kraftschlüssige Verbindung zwischen dem Klemmring und dem Ausgangsglied erzielt wird. Die Werte können vorzugsweise auch derart gewählt werden, dass diese berücksichtigen, bei welcher Temperatur das auszurichtende Element, insbesondere ein optisches Element einer Projektionsbelichtungsanlage, betrieben wird.
  • Erfindungsgemäß kann vorgesehen sein, dass das Verstellelement zur Verstellung des Ausgangsglieds beheizbar ist. Grundsätzlich kann das Verstellelement auf unterschiedliche Art und Weise betrieben werden, um zu erreichen, dass das Verstellelement das Ausgangsglied, nach der Lösung der kraftschlüssigen Verbindung zwischen dem Ausgangsglied und dem Fixierelement, im gewünschten Maß ausrichtet. Es hat sich jedoch als besonders geeignet herausgestellt, wenn das Verstellelement zur Verstellung des Ausgangsglieds beheizbar ausgebildet ist.
  • Das Verstellelement kann insbesondere als Thermalaktuator bzw. Thermoaktuator („thermal actuator“), zum Beispiel als sogenannter High-Output-Paraffin (HOP)-Aktuator, ausgebildet sein. Bei Thermalaktuatoren handelt es sich um Aktuatoren, die ein Dehnstoffelement, zum Beispiel ein Wachs, ein Öl, ein Hartparaffin oder auch ein Metall beinhalten, welches temperaturabhängig eine Volumenänderung erfährt, die derart signifikant ist, dass diese in eine Bewegung, beispielsweise eines Kolbens, umgewandelt werden kann. Derartige Thermalaktuatoren benötigen üblicherweise nur einen geringen Energiebedarf zur Erwärmung, der vorzugsweise durch eine Bestromung bereitgestellt werden kann. Thermalaktuatoren benötigen nur einen geringen Platzbedarf.
  • Von Vorteil ist es, wenn das Verstellelement derart erwärmt wird, dass dieses eine mechanische Verbindung mit dem Ausgangsglied herstellt bzw. auf dieses eine Kraft ausübt, bevor das Fixierelement die kraftschlüssige Fixierung des Ausgangsglieds löst. Dadurch wird vermieden, dass nach dem Lösen der kraftschlüssigen Verbindung zwischen dem Fixierelement und dem Ausgangsglied das auszurichtende Element seine Position ungewünscht verändert bzw. absinkt.
  • Im Einstellzustand kann dann das Verstellelement die Ausrichtung des Ausgangsglieds derart beeinflussen, dass das Element definiert ausgerichtet wird.
  • Nach der Ausrichtung des Ausgangsglieds durch das Verstellelement bzw. wenn das Element im gewünschten Maße und unter Berücksichtigung der Positioniergenauigkeit ausgerichtet ist, kann das Fixierelement die kraftschlüssige Verbindung wieder schließen. Vorzugsweise wird das Fixierelement in einer Ausführung als Klemmring dabei wieder auf die Normaltemperatur bzw. die Umgebungstemperatur abgekühlt, um die kraftschlüssige Verbindung wieder herzustellen. Anschließend kann vorzugsweise auch das Verstellelement wieder abgekühlt werden, so dass vorzugsweise eine mechanische Verbindung zwischen dem Ausgangsglied und dem Verstellelement wieder getrennt wird bzw. das Verstellelement keine Kraft mehr auf das Ausgangsglied ausübt.
  • Von Vorteil ist es, wenn das Verstellelement im Betriebszustand vom Ausgangsglied mechanisch getrennt ist und/oder keine Kraft auf das Ausgangsglied ausübt.
  • Von Vorteil ist es ferner, wenn das Verstellelement im Einstellzustand die der Aktuatoreinrichtung zugeordnete Gewichtskraft des Elements vollständig trägt.
  • Erfindungsgemäß kann vorgesehen sein, dass der erste Einstellungsbereich der ersten Aktuatoreinheit dem Drei- bis Zwanzigfachen, vorzugsweise dem Vier- bis Fünfzehnfachen, besonders bevorzugt dem Fünf- bis Fünfzehnfachen, weiter bevorzugt dem Sechs- bis Zwölffachen, besonders bevorzugt dem Sieben- bis Elffachen und ganz besonders bevorzugt dem Acht- bis Zehnfachen des zweiten Einstellungsbereichs der zweiten Aktuatoreinheit entspricht.
  • Die vorgenannten Werte haben sich als besonders geeignet herausgestellt, um zu erreichen, dass die erste Aktuatoreinheit einen großen Einstellungsbereich abdeckt und die zweite Aktuatoreinheit aufgrund eines deutlich kleineren Einstellungsbereichs eine hohe Positioniergenauigkeit aufweisen kann.
  • Von Vorteil ist es, wenn der Einstellungsbereich der ersten Aktuatoreinrichtung 700 bis 1500 µm, vorzugsweise 800 bis 1200 µm, besonders bevorzugt 800 bis 1000 µm und insbesondere 900 µm +/- 50 µm beträgt und/oder dass der Einstellungsbereich der zweiten Aktuatoreinheit 10 bis 200 µm, vorzugsweise 50 bis 200 µm, weiter bevorzugt 50 bis 150 µm, besonders bevorzugt 80 bis 120 µm und insbesondere 100 µm +/- 10 µm beträgt.
  • Die vorgenannten Werte haben sich für viele Anwendungen als geeignet herausgestellt. Die vorgenannten Werte eignen sich insbesondere, wenn das auszurichtende Element ein optisches Element einer Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere ein Spiegel einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage, ist.
  • Erfindungsgemäß kann ferner vorgesehen sein, dass die Einstellgenauigkeit der zweiten Aktuatoreinheit eine Genauigkeit von besser als 100 pm, vorzugsweise besser als 50 pm, besonders bevorzugt besser als 10 pm aufweist. Die vorgenannten Werte haben sich insbesondere als besonders geeignet herausgestellt, wenn es sich bei dem auszurichtenden Element um ein optisches Element einer Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere einen Spiegel einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage, handelt.
  • Von Vorteil ist es, wenn das auszurichtende Element ein optisches Element einer Projektionsbelichtungsanlage ist.
  • Es kann vorgesehen sein, insbesondere um ein optisches Element einer Projektionsbelichtungsanlage, auszurichten, mehrere, vorzugsweise drei Aktuatoreinrichtungen zu einer Betätigungseinrichtung zusammenfassen, um das optische Element auszurichten.
  • Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Ausrichtung eines Elements mit einer Aktuatoreinrichtung, welche eine an einer Tragstruktur festgelegte erste Aktuatoreinheit, die für einen ersten Einstellungsbereich ausgelegt ist, und eine an dem Element festgelegte zweite Aktuatoreinheit, die für einen zweiten Einstellungsbereich ausgelegt ist, aufweist, wonach die zweite Aktuatoreinheit mit einem Ausgangsglied der ersten Aktuatoreinheit wirkverbunden wird derart, dass durch eine Verstellung des Ausgangsglieds die Positionierung der zweiten Aktuatoreinheit verstellt wird, wobei die erste Aktuatoreinheit ein Fixierelement und ein Verstellelement aufweist, wonbei das erfindungsgemäße Verfahren vorsieht, dass das Fixierelement an der Tragstruktur festgelegt wird und das Fixierelement in einem Betriebszustand des Elements das Ausgangsglied kraftschlüssig festlegt und wonach das Fixierelement in einem Einstellzustand des Elements, in dem das Element innerhalb des ersten Einstellungsbereichs ausgerichtet wird, die kraftschlüssige Verbindung löst, wonach das Verstellelement das Ausgangsglied verstellt und wonach das Fixierelement nach der Verstellung des Ausgangsglieds die kraftschlüssige Verbindung wieder schließt.
  • Von Vorteil ist es, wenn der erste Einstellungsbereich der ersten Aktuatoreinheit für eine Grobeinstellung, vorzugsweise während der Ersteinstellung und/oder der Grundeinstellung und/oder der Inbetriebnahme des Elements verwendet wird, während der zweite Einstellungsbereich der zweiten Aktuatoreinrichtung im Betriebszustand des Elements zur Ausrichtung des Elements verwendet wird.
  • Von Vorteil ist es ferner, wenn während der Ausrichtung des Elements mittels der ersten Aktuatoreinrichtung die Ausrichtung des Elements gemessen und die Einstellung mittels der ersten Aktuatoreinheit erfolgt, bis eine definierte Ausrichtung des Elements erreicht wird.
  • Von Vorteil ist es, wenn die erste Aktuatoreinheit eine Regelfunktion bzw. Feedbackfunktion aufweist, so dass die erste Aktuatoreinheit das Ausgangsglied gezielt ausrichten und die Ausrichtung entsprechend abschließen kann. Grundsätzlich ist es jedoch auch möglich, auf eine Regelung bzw. Feedbackfunktion bei der ersten Aktuatoreinheit zu verzichten und durch ein separates Messsystem die jeweilig erreicht Ausrichtung des Elements zu messen. Insbesondere wenn es sich bei dem auszurichtenden Element um ein optisches Element einer Projektionsbelichtungsanlage handelt, können die vorhandenen Messsystemen die Ausrichtung des optischen Elements prüfen und die erste Aktuatoreinheit entsprechend steuern.
  • Von Vorteil ist es, wenn das Verstellelement zur Verstellung des Ausgangsglieds beheizt wird.
  • Merkmale und Vorteile, die bereits im Zusammenhang mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung vorstehend oder nachfolgend beschrieben sind, sind entsprechend auf das erfindungsgemäße Verfahren übertragbar - und umgekehrt.
  • Die erfindungsgemäße Vorrichtung und das erfindungsgemäße Verfahren eignen sich besonders für Projektionsbelichtungsanlagen für die Halbleiterlithografie mit einem Beleuchtungssystem mit einer Strahlungsquelle sowie einer Optik, welche wenigstens ein auszurichtendes optisches Element aufweist, wobei das auszurichtende optische Element mit einer Aktuatoreinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 18 und/oder der vorstehenden Beschreibung ausrichtbar und/oder lagerbar und/oder verstellbar und/oder manipulierbar und/oder deformierbar ist.
  • Die Erfindung eignet sich grundsätzlich für eine Vielzahl von Anwendungen um Abbildungsfehler einer Projektionsbelichtungsanlage zu korrigieren, da erfindungsgemäß ein großer Einstellungsbereich bei gleichzeitig hoher Einstellgenauigkeit korrigiert werden kann.
  • Die Erfindung kann in vorteilhafter Weise auch zur Korrektur von Passefehlern in Projektionsbelichtungsanlagen verwendet werden, deren Projektionsobjektive starke Freiformflächen aufweisen, wie beispielsweise Projektionsobjektive für die EUV-Lithografie mit großer numerischer Apertur (sog. „High-NA“-EUV-Projektionsobjektive“).
  • Die erfindungsgemäße Lösung ermöglicht es auch, insbesondere hinsichtlich EUV-Projektionsbelichtungsanlagen in vorteilhafter Weise Abbildungsfehler, die durch eine unerwünschte Erwärmung der optischen Elemente, beispielsweise der Spiegel oder dem Wafer, hervorgerufen werden, zu korrigieren.
  • Die Erfindung eignet sich besonders zur Verwendung mit mikrolithographischen DUV („Deep Ultra Violet“) - und EUV-Projektionsbelichtungsanlagen.
  • Eine mögliche Verwendung der Erfindung betrifft auch die Immersionslithographie, wobei auch Prozessfehler, die einen großen Aktuatorrange erfordern, mit hoher Genauigkeit korrigierbar sind.
  • Ergänzend sei darauf hingewiesen, dass Begriffe wie „umfassend“, „aufweisend“ oder „mit“ keine anderen Merkmale oder Schritte ausschließen. Ferner schließen Begriffe wie „ein“ oder „das“, die auf eine Einzahl von Schritten oder Merkmalen hinweisen, keine Mehrzahl von Merkmalen oder Schritten aus - und umgekehrt.
  • Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Zeichnung näher beschrieben.
  • Die Figuren zeigen jeweils bevorzugte Ausführungsbeispiele, in denen einzelne Merkmale der vorliegenden Erfindung in Kombination miteinander dargestellt sind. Merkmale eines Ausführungsbeispiels sind auch losgelöst von den anderen Merkmalen des gleichen Ausführungsbeispiels umsetzbar und können dementsprechend von einem Fachmann ohne Weiteres zu weiteren sinnvollen Kombinationen und Unterkombinationen mit Merkmalen anderer Ausführungsbeispiele verbunden werden.
  • In den Figuren sind funktionsgleiche Elemente mit denselben Bezugszeichen versehen.
  • Es zeigen schematisch:
    • 1 eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage,
    • 2 eine DUV-Projektionsbelichtungsanlage;
    • 3 eine immersionslithographische Projektionsbelichtungsanlage;
    • 4 eine prinzipmäßige Darstellung eines auszurichtenden Elements, in einer Ausführungsform als optisches Element einer Projektionsbelichtungsanlage mit einer Betätigungseinrichtung, welche drei erfindungsgemäße Aktuatoreinrichtungen zur Ausrichtung des optischen Elements aufweist;
    • 5 eine prinzipmäßige Darstellung einer Aktuatoreinrichtung nach 4;
    • 6 einen Schnitt durch eine prinzipmäßig dargestellte Aktuatoreinrichtung mit einer ersten Aktuatoreinheit und einer zweiten Aktuatoreinheit;
    • 7 eine Schnittdarstellung auf die erste Aktuatoreinheit nach der Linie VII-VII der 6; und
    • 8 eine prinzipmäßige Darstellung eines Fixierelements in einer Ausbildung als Klemmring, welcher auf ein als Kolben ausgebildetes Ausgangsglied aufgeschrumpft ist.
  • 1 zeigt exemplarisch den prinzipiellen Aufbau einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage 400 für die Halbleiterlithographie, für die die Erfindung Anwendung finden kann. Ein Beleuchtungssystem 401 der Projektionsbelichtungsanlage 400 weist neben einer Strahlungsquelle 402 eine Optik 403 zur Beleuchtung eines Objektfeldes 404 in einer Objektebene 405 auf. Beleuchtet wird ein im Objektfeld 404 angeordnetes Retikel 406, das von einem schematisch dargestellten Retikelhalter 407 gehalten ist. Eine lediglich schematisch dargestellte Projektionsoptik 408 dient zur Abbildung des Objektfeldes 404 in ein Bildfeld 409 in einer Bildebene 410. Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 406 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 409 in der Bildebene 410 angeordneten Wafers 411, der von einem ebenfalls ausschnittsweise dargestellten Waferhalter 412 gehalten ist. Die Strahlungsquelle 402 kann EUV-Strahlung 413, insbesondere im Bereich zwischen 5 Nanometer und 30 Nanometer, emittieren. Zur Steuerung des Strahlungswegs der EUV-Strahlung 413 werden optisch verschieden ausgebildete und mechanisch verstellbare optische Elemente 415, 416, 418, 419, 420 eingesetzt. Die optischen Elemente sind bei der in 1 dargestellten EUV-Projektionsbelichtungsanlage 400 als verstellbare Spiegel in geeigneten und nachfolgend nur beispielhaft erwähnten Ausführungsformen ausgebildet.
  • Die mit der Strahlungsquelle 402 erzeugte EUV-Strahlung 413 wird mittels eines in der Strahlungsquelle 402 integrierten Kollektors derart ausgerichtet, dass die EUV-Strahlung 413 im Bereich einer Zwischenfokusebene einen Zwischenfokus durchläuft, bevor die EUV-Strahlung 413 auf einen Feldfacettenspiegel 415 trifft. Nach dem Feldfacettenspiegel 415 wird die EUV-Strahlung 413 von einem Pupillenfacettenspiegel 416 reflektiert. Unter Zuhilfenahme des Pupillenfacettenspiegels 416 und einer optischen Baugruppe 417 mit Spiegeln 418, 419, 420 werden Feldfacetten des Feldfacettenspiegels 415 in das Objektfeld 404 abgebildet.
  • In 2 ist eine beispielhafte DUV-Projektionsbelichtungsanlage 100 dargestellt. Die Projektionsbelichtungsanlage 100 weist ein Beleuchtungssystem 103, eine Retikelstage 104 genannten Einrichtung zur Aufnahme und exakten Positionierung eines Retikels 105, durch welches die späteren Strukturen auf einem Wafer 102 bestimmt werden, einen Waferhalter 106 zur Halterung, Bewegung und exakten Positionierung des Wafers 102 und eine Abbildungseinrichtung, nämlich ein Projektionsobjektiv 107, mit mehreren optischen Elementen 108, die über Fassungen 109 in einem Objektivgehäuse 140 des Projektionsobjektivs 107 gehalten sind, auf.
  • Die optischen Elemente 108 können als einzelne refraktive, diffraktive und/oder reflexive optische Elemente 108, wie z. B. Linsen, Spiegel, Prismen, Abschlussplatten und dergleichen ausgebildet sein.
  • Das grundsätzliche Funktionsprinzip der Projektionsbelichtungsanlage 100 sieht vor, dass die in das Retikel 105 eingebrachten Strukturen auf den Wafer 102 abgebildet werden.
  • Das Beleuchtungssystem 103 stellt einen für die Abbildung des Retikels 105 auf den Wafer 102 benötigten Projektionsstrahl 111 in Form elektromagnetischer Strahlung bereit. Als Quelle für diese Strahlung kann ein Laser, eine Plasmaquelle oder dergleichen Verwendung finden. Die Strahlung wird in dem Beleuchtungssystem 103 über optische Elemente so geformt, dass der Projektionsstrahl 111 beim Auftreffen auf das Retikel 105 die gewünschten Eigenschaften hinsichtlich Durchmesser, Polarisation, Form der Wellenfront und dergleichen aufweist.
  • Mittels des Projektionsstrahls 111 wird ein Bild des Retikels 105 erzeugt und von dem Projektionsobjektiv 107 entsprechend verkleinert auf den Wafer 102 übertragen. Dabei können das Retikel 105 und der Wafer 102 synchron verfahren werden, so dass praktisch kontinuierlich während eines sogenannten Scanvorganges Bereiche des Retikels 105 auf entsprechende Bereiche des Wafers 102 abgebildet werden.
  • In 3 ist eine dritte Projektionsbelichtungsanlage 200 in Ausbildung als immersionslithographische DUV-Projektionsbelichtungsanlage beispielhaft dargestellt. Zum weiteren Hintergrund einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage 200 wird beispielsweise auf die WO 2005/069055 A2 verwiesen, deren entsprechender Inhalt durch Bezugnahme in die vorliegende Beschreibung integriert sei; auf die genaue Funktionsweise wird an dieser Stelle deshalb nicht im Detail eingegangen.
  • Erkennbar ist, vergleichbar mit der DUV-Projektionsbelichtungsanlage 100 gemäß 2, eine Retikelstage 104, durch welche die späteren Strukturen auf dem Wafer 102, der auf dem Waferhalter 106 bzw. Wafertisch angeordnet ist, bestimmt werden. Die Projektionsbelichtungsanlage 200 der 3 weist hierzu ebenfalls mehrere optische Elemente, insbesondere Linsen 108 und Spiegel 201, auf.
  • Die Verwendung der Erfindung ist nicht auf den Einsatz in Projektionsbelichtungsanlagen 100, 200, 400, insbesondere auch nicht mit dem beschriebenen Aufbau, beschränkt.
  • Die erfindungsgemäße Vorrichtung und das erfindungsgemäße Verfahren eignet sich grundsätzlich zur Ausrichtung beliebiger Elemente, insbesondere für Anwendungen, bei denen die Elemente mit einem vergleichsweise großen Einstellungsbereich und einer vergleichsweise hohen Positioniergenauigkeit ausgerichtet bzw. eingestellt werden sollen.
  • Die Erfindung sowie das nachfolgende Ausführungsbeispiel sind ferner nicht auf eine spezifische Bauform beschränkt zu verstehen. Die nachfolgenden Figuren stellen die Erfindung lediglich beispielhaft und stark schematisiert dar.
  • Die 4 bis 8 zeigen mögliche Ausführungsbeispiele und Varianten einer erfindungsgemäßen Aktuatoreinrichtung 1.
  • Die 4 zeigt einen aus dem Stand der Technik bekannten Aufbau zur Ausrichtung eines Elements 2 in einer Ausführungsform als optisches Element. Der in 4 dargestellte Aufbau eignet sich auch in besonderer Weise, um die erfindungsgemäße Aktuatoreinrichtung 1 bzw. eine Mehrzahl von erfindungsgemäßen Aktuatoreinrichtungen 1 zur Ausrichtung eines optischen Elements 2 einzusetzen. Zu weiteren Ausgestaltungen des prinzipmäßigen Aufbaus zur Ausrichtung eines optischen Elements 2, die auch im Rahmen der Erfindung realisiert werden können, wird auf die WO 2005/026801 A2 verwiesen.
  • Bei dem in den 4 und 6 dargestellten optischen Element 2 kann es sich insbesondere um eines der in den 1, 2 und 3 gezeigten optischen Elemente 415, 416, 418, 419, 420, 108, 201 bzw. einen Teil der optischen Elemente 415, 416, 418, 419, 420, 108, 201 handeln.
  • Wie sich aus der 4 ergibt, wird das optische Element von einer Betätigungseinrichtung 3 gelagert bzw. ausgerichtet, welche eine Mehrzahl, im Ausführungsbeispiel drei, Aktuatoreinrichtungen 1 zur Ausrichtung des optischen Elements 2 aufweist.
  • Es hat sich als besonders geeignet herausgestellt, ein optisches Element 2 mit Hilfe von drei Aktuatoreinrichtungen 1 zu lagern. Die Erfindung ist allerdings nicht auf eine konkrete Anzahl von Aktuatoreinrichtungen 1 beschränkt. Die Aktuatoreinrichtungen 1 sind über einen jeweiligen Befestigungspunkt 4 mit dem optischen Element 2 verbunden.
  • Über die Befestigungspunkte 4 lässt sich das optische Element 2 mittels der Aktuatoreinrichtung 1 in alle Achsrichtungen eines Koordinatensystems X, Y, Z, wie in 4 prinzipmäßig dargestellt, ausrichten bzw. einstellen.
  • In 4 ist ferner eine Tragstruktur 5 dargestellt, welche mit einem nur prinzipmäßig dargestellten Gehäuseteil 6 verbunden ist.
  • In 5 ist beispielhaft eine einzelne Aktuatoreinrichtung 1 dargestellt, die auch in der in 4 dargestellten Betätigungseinrichtung 3 Verwendung finden kann.
  • Die in 5 dargestellte Aktuatoreinrichtung 1 zur Ausrichtung des optischen Elements 2 weist eine erste Aktuatoreinheit 7 für einen ersten Einstellungsbereich auf. Die erste Aktuatoreinheit 7 ist dabei an der Tragstruktur 5 festgelegt. Prinzipmäßig ist dies auch aus der 4 ersichtlich.
  • Ferner weist die in 5 dargestellte Aktuatoreinrichtung 1 eine seriell mit der ersten Aktuatoreinheit 7 verbundene zweite Aktuatoreinheit 8 für einen zweiten Einstellungsbereich auf. Die zweite Aktuatoreinheit 8 ist dabei an dem auszurichtenden Element, im Ausführungsbeispiel dem optischen Element 2, so wie dies beispielhaft in der 4 dargestellt ist, festgelegt. In 5 ist das optische Element 2 nicht gezeigt. Zur Verbindung mit dem optischen Element 2 kann dabei der Befestigungspunkt 4 dienen.
  • Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass ein Ausgangsglied 9 der ersten Aktuatoreinheit 7 mit der zweiten Aktuatoreinheit 8 wirkverbunden ist derart, dass durch eine Verstellung des Ausgangsglieds 9 die Positionierung der zweiten Aktuatoreinheit 8 verstellbar ist.
  • Im Ausführungsbeispiel trägt die erste Aktuatoreinheit 7 bzw. das Ausgangsglied 9 die zweite Aktuatoreinheit 8, wozu auch auf die prinzipmäßige Darstellung der 6 verwiesen wird.
  • Im Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, dass die erste Aktuatoreinheit 7 ausgebildet ist, um eine Grobeinstellung des optischen Elements 2 vorzunehmen, während die zweite Aktuatoreinheit 8 zur Feineinstellung ausgebildet ist. Es kann vorgesehen sein, dass der erste Einstellungsbereich dem Drei- bis Zwanzigfachen, vorzugsweise dem Vier- bis Fünfzehnfachen, besonders bevorzugt dem Fünf- bis Fünfzehnfachen, weiter bevorzugt dem Sechs- bis Zwölffachen, besonders bevorzugt dem Sieben- bis Elffachen und ganz besonders bevorzugt dem Acht- bis Zehnfachen des zweiten Einstellungsbereichs der zweiten Aktuatoreinheit 8 entspricht.
  • Es ist insbesondere von Vorteil, wenn der erste Einstellungsbereich der ersten Aktuatoreinheit 7 700 bis 1500 µm, vorzugsweise 800 bis 1200 µm, besonders bevorzugt 800 bis 1000 um und insbesondere 900 µm +/- 50 µm beträgt und/oder dass der Einstellungsbereich der zweiten Aktuatoreinheit 8 10 bis 200 µm, vorzugsweise 50 bis 200 µm, weiter bevorzugt 50 bis 150 µm, besonders bevorzugt 80 bis 120 µm und insbesondere 100 um +/- 10 um beträgt.
  • Im Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, dass die Einstellgenauigkeit der zweiten Aktuatoreinheit 8 eine Genauigkeit von besser als 100 pm, vorzugsweise besser als 50 pm, besonders bevorzugt besser als 10 pm aufweist.
  • Im Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, dass der erste Einstellungsbereich der ersten Aktuatoreinheit 7 für eine Grobeinstellung, vorzugsweise während der Ersteinstellung und/oder der Grundeinstellung und/oder der Inbetriebnahme des Elements 2 verwendet wird, während der zweite Einstellungsbereich der zweiten Aktuatoreinrichtung 8 im Betriebszustand zur Ausrichtung des Elements 2 verwendet wird.
  • Im Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, dass während der Ausrichtung des Elements 2 mittels der ersten Aktuatoreinheit 7 die Ausrichtung des Elements 2 gemessen und die Einstellung mittels der ersten Aktuatoreinheit 7 erfolgt, bis eine definierte Ausrichtung des Elements 2 erreicht wird.
  • Die Messung während der Ausrichtung des optischen Elements 2 mittels der ersten Aktuatoreinheit 7 kann bei Projektionsbelichtungsanlagen 100, 200, 400 durch ein Messsystem erfolgen, über das die Projektionsbelichtungsanlage 100, 200, 400 ohnehin verfügt, um die Ausrichtung des optischen Elements 2 zu prüfen.
  • Die zweite Aktuatoreinheit 8 kann einen grundsätzlich bekannten Aufbau aufweisen, wozu auch auf die WO 2005/026801 A2 verwiesen wird.
  • Es kann sich bei der zweiten Aktuatoreinheit 8 auch nur um einen einfachen Linearmotor bzw. einen Lorentz-Aktuator oder ein Tauchspulenaktuator handeln.
  • Im Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, dass die zweite Aktuatoreinheit 8 einen Aufbau aufweist, der sich grundsätzlich, insbesondere zur Ausrichtung von optischen Elementen 415, 416, 418, 419, 420, 108, 201 von Projektionsbelichtungsanlagen 100, 200, 400, besonders bewährt hat. Hierauf ist die Erfindung jedoch nicht beschränkt. Die erfindungsgenmäße Aktuatoreinrichtung 1 weist die bestehenden Vorteile auch auf, wenn die erste Aktuatoreinheit 7 mit einer beliebigen zweiten Aktuatoreinheit 8 verbunden ist.
  • Es ist ein besonderer Vorteil der erfindungsgemäßen Aktuatoreinrichtung 1, dass diese einen modularen Aufbau aufweist. Die erste Aktuatoreinheit 7 kann grundsätzlich mit einer beliebigen zweiten Aktuatoreinheit 8 kombiniert werden, ohne dass konstruktive bzw. prinzipmäßige Änderungen an der zweiten Aktuatoreinheit 8 vorgenommen werden müssen. Dies hat den Vorteil, dass die zweite Aktuatoreinheit 8, die an dem auszurichtenden Element, im Ausführungsbeispiel dem optischen Element 2, festgelegt ist, in ihrem Funktionsprinzip unverändert verbleiben kann, so dass Änderungen, die an einem komplexen System, wie zum Beispiel einer Projektionsbelichtungsanlage, vorgenommen werden müssen, um die erfindungsgemäße Lösung zu realisieren, vergleichsweise gering sind. Der bewährte Aufbau der zweiten Aktuatoreinheit 8 kann grundsätzlich beibehalten werden, wobei in vorteilhafter Weise der zweite Einstellungsbereich der zweiten Aktuatoreinheit 8 entsprechend reduziert und somit die Genauigkeit erhöht werden kann. Weitere, insbesondere prinzipmäßige Änderungen sind an der zweiten Aktuatoreinheit 8 nicht notwendig.
  • Nachdem der Aufbau der zweiten Aktuatoreinheit 8 prinzipmäßig unverändert bleiben kann und derartige Aktuatoreinheiten aus dem Stand der Technik hinlänglich bekannt sind, wird nachfolgend anhand der 5 nur ein möglicher, jedoch vorteilhafter Aufbau prinzipmäßig erläutert.
  • Die in 5 dargestellte zweite Aktuatoreinheit 8 weist (optional) eine Gewichtskompensationseinrichtung 10 und zwei Betätigungselemente 11 zur Ausrichtung des optischen Elements 2 auf. Ein derartiger Aufbau eignet sich in besonderer Weise, um ein optisches Element 2 auszurichten, hierauf ist die Erfindung allerdings nicht beschränkt. Es kann insbesondere auch vorgesehen sein, dass die zweite Aktuatoreinheit 8 nur aus einer Gewichtskompensationseinrichtung 10 ausgebildet ist bzw. besteht oder die zweite Aktuatoreinheit 8 durch ein oder mehrere, insbesondere zwei oder drei, Betätigungselemente 11 ausgebildet ist.
  • Bei den Betätigungselementen 11 kann es sich um bekannte Aktuatoren handeln, insbesondere Aktuatoren, die durch Magnetkräfte gesteuert werden können. Die Betätigungselemente 11 können beispielsweise als Lorentz-Aktuatoren oder Tauchspulenaktuatoren ausgebildet sein. Das gleiche gilt auch für die Gewichtskompensationseinrichtung 10. Sowohl die Gewichtskompensationseinrichtung 10 als auch die Betätigungselemente 11 können jedoch auch mechanisch betätigt werden, insbesondere kann beispielsweise für die Gewichtskompensationseinrichtung 10 auch eine Feder zur Aufnahme der Gewichtskraft vorgesehen sein.
  • Aus dem Stand der Technik sind Betätigungselemente 11 bzw. Aktuatoren und Gewichtskompensationseinrichtungen 10 in vielfältigen Ausprägungen bekannt, die im Rahmen der Erfindung zur Realisierung der zweiten Aktuatoreinheit 8 Verwendung finden können.
  • Wie sich der 5 entnehmen lässt, ist die zweite Aktuatoreinheit 8 derart ausgebildet, dass diese eine zweidimensionale Bewegung ermöglicht, die über den Befestigungspunkt 4 auf das optische Element 2 übertragbar ist. Hierzu ist eine entsprechende gelenkige Verbindung vorgesehen, die im Ausführungsbeispiel als Teil des Befestigungspunkts 4 ausgebildet ist.
  • Die zweite Aktuatoreinheit 8 weist einen Fußpunkt 12 auf, bei dessen Verstellung auch die Gewichtskompensationseinrichtung 10 und die Betätigungselemente 11 entsprechend verstellt werden.
  • Es sei nochmals erwähnt, dass die Darstellung gemäß den 4 und 5 nur exemplarisch erfolgt, um eine mögliche Realisierung der Erfindung anhand einer besonders geeigneten Ausführungsform darzustellen, wobei die Erfindung hierauf jedoch nicht beschränkt ist.
  • Die erfindungsgemäße Lösung eignet sich insbesondere zur Ausrichtung eines optischen Elements 2, das als Spiegel ausgebildet ist. Die vorliegende Erfindung eignet sich dabei besonders für eine Projektionsbelichtungsanlage 100, 200 oder 400, auch hierauf ist die Erfindung jedoch nicht beschränkt.
  • Im Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, dass der Fußpunkt 12 der zweiten Aktuatoreinheit 8 mit dem Ausgangsglied 9 der ersten Aktuatoreinheit 7 verbunden ist. Eine Ausrichtung des Ausgangsglieds 9 führt somit dazu, dass die gesamte zweite Aktuatoreinheit 8 entsprechend verstellt wird.
  • Im Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, dass das Ausgangsglied 9 eine Hubbewegung ausführt und die zweite Aktuatoreinheit 8 somit angehoben oder abgesenkt, d. h. orthogonal zur Ebene des optischen Elements 2 in Richtung auf dieses zu oder von diesem weg bewegt wird.
  • Im Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, dass die erste Aktuatoreinheit 7 ausgebildet ist, um nur eine Hubbewegung und keine Bewegung in eine andere Richtung durchzuführen, so dass die erste Aktuatoreinheit 7 lediglich ein Anheben oder Absenken der zweiten Aktuatoreinheit 8 bewirkt.
  • Hier sind selbstverständlich auch andere Ausgestaltungen möglich.
  • Die 6 und 7 zeigen einen besonders vorteilhaften Aufbau der ersten Aktuatoreinheit 7, um das Ausgangsglied 9 und somit die zweite Aktuatoreinheit 8 zu verstellen und die eingestellte Position zu fixieren.
  • Strichliniert und prinzipmäßig ist in 6 auch das optische Element 2 dargestellt.
  • Wie sich aus den 6 und 7 ergibt, weist die erste Aktuatoreinheit 7 ein Verstellelement 13 und ein an der Tragstruktur 5 festlegbares Fixierelement 14 auf. Die Festlegung des Fixierelements 14 an der Tragstruktur 5 erfolgt dadurch, dass das Fixierelement 14 in einem Gehäuse 15 der ersten Aktuatoreinheit 7 festgelegt ist und das Gehäuse 15 selbst wiederum an der Tragstruktur 5 festgelegt ist. Auch das Verstellelement 13 ist in dem Gehäuse 15 und somit entsprechend an der Tragstruktur 5 festgelegt.
  • Wie nachfolgend noch näher beschrieben wird, ist das Fixierelement 14 ausgebildet, das Ausgangsglied 9 in einem Betriebszustand des optischen Elements 2 kraftschlüssig festzulegen. Bei dem Betriebszustand handelt es sich dabei bei einer Projektionsbelichtungsanlage um den Zustand, in dem die Projektionsbelichtungsanlage betrieben wird, um Halbleiterbauelemente herzustellen. Im Ausführungsbeispiel erfolgt die kraftschlüssige Verbindung (Kraftschluss bzw. Reibschluss) dadurch, dass das Fixierelement 14 das Ausgangsglied 9 durch Klemmen festlegt. Das Fixierelement 14 wird hierzu im Betriebszustand auf das Ausgangsglied 9 aufgeschrumpft. Wie nachfolgend noch näher dargestellt, ist das Fixierelement im Ausführungsbeispiel als Klemmring 14 ausgebildet.
  • Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass das Fixierelement bzw. der im Ausführungsbeispiel vorgesehene Klemmring 14 die kraftschlüssige Verbindung in einem Einstellzustand des optischen Elements 2 löst, um eine Verstellung des Ausgangsglieds 9 mittels des Verstellelements 13 zu ermöglichen.
  • Bei einer Projektionsbelichtungsanlage findet die Einstellung im Allgemeinen nur einmal vor der Inbetriebnahme statt. Hierzu erfolgt eine Wellenfrontmessung, bei der die Toleranzen festgestellt werden. Um die Toleranzen des Systems auszugleichen, wird anschließend mittels der ersten Aktuatoreinheit 7 eine Grobeinstellung vorgenommen.
  • Selbstverständlich ist es möglich, auch während des späteren Betriebszustands in regelmäßigen oder unregelmäßigen Abständen vorzusehen, dass die Anlage in den Einstellzustand zurückversetzt wird, beispielsweise um alterungsbedingte Effekte durch eine erneute Grobeinstellung auszugleichen. Üblicherweise ist dies jedoch nicht erforderlich.
  • Im Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, dass das Ausgangsglied 9 als Welle, Zylinder oder vorzugsweise als Kolben ausgebildet ist. Hierzu wird auf die prinzipmäßigen Darstellungen in den 6 bis 8 verwiesen.
  • Im Ausführungsbeispiel ist ferner vorgesehen, dass der Klemmring 14 eine Aufnahmeöffnung 14a aufweist, welche wenigstens einen Teil des vorzugsweise kolbenförmig ausgebildeten Ausgangsglieds 9 umfangsseitig umfasst. Die Aufnahmeöffnung 14a weist dabei im Betriebszustand einen ersten Durchmesser auf, um das Ausgangsglied 9 kraftschlüssig zu fixieren. Die Aufnahmeöffnung 14a weist hingegen im Einstellzustand einen zweiten, vergrößerten Durchmesser derart auf, dass die kraftschlüssige Verbindung mit dem Ausgangsglied 9 gelöst ist.
  • Die 8 zeigt eine prinzipmäßige kraftschlüssige und durch Klemmen erzeugte Verbindung zwischen dem Klemmring 14 und dem vorzugsweise kolbenförmig ausgebildeten Ausgangsglied 9. Dabei ist eine Übermaßpassung vorgesehen derart, dass der Klemmring 14 und das Ausgangsglied 9 bei Normaltemperatur bzw. bei Umgebungstemperatur durch Klemmen bzw. Aufschrumpfen miteinander verbunden sind. Um die dadurch bewirkte kraftschlüssige Verbindung zu lösen, ist dann vorgesehen, dass der Klemmring 14 beheizt wird. Im Ausführungsbeispiel lässt sich somit der Einstellzustand dadurch erreichen, dass der Klemmring 14 beheizt wird. Im Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, dass der Klemmring 14 zur Beheizung Stromanschlüsse 16 aufweist. Alternativ kann auch eine andere Bestromung oder Beheizung vorgesehen sein. Im Ausführungsbeispiel ist (nicht dargestellt) vorgesehen, dass der Klemmring 14 ein oder mehrere Drähte aufweist bzw. mit diesen versehen ist, welche mit den Stromanschlüssen 16 verbunden sind, um den Klemmring 14 zu erwärmen.
  • Im Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, dass der Klemmring 14 im Einstellzustand eine Temperatur von 40 °C bis 100 °C, vorzugsweise 50 °C bis 90 °C, besonders bevorzugt 50 °C bis 80 °C und ganz besonders bevorzugt 50 °C bis 70 °C, insbesondere 60 °C +/-5 °C aufweist.
  • Im Ausführungsbeispiel ist ferner vorgesehen, dass der Klemmring 14 im Betriebszustand eine Temperatur von 10 °C bis 30 °C, vorzugsweise 15 °C bis 25 °C, besonders bevorzugt 20 °C bis 25 °C und ganz besonders bevorzugt 22 °C +/- 2 °C bzw. bei Umgebungstemperatur aufweist.
  • Der Klemmring 14 ist im Ausführungsbeispiel vorzugsweise aus Edelstahl ausgebildet. Das Verstellelement 13 ist im Ausführungsbeispiel vorzugsweise aus einer Eisen-Nickel-Verbindung, vorzugsweise Invar, ausgebildet. Dadurch wird erreicht, dass sich das Ausgangsglied 9, wenn der Klemmring 14 erwärmt wird, nicht bzw. nicht im selben Maße ausdehnt wie der Klemmring 14.
  • Um eine Ausdehnung des Klemmrings 14 zu ermöglichen bzw. nicht übermäßig zu behindern, ist im Ausführungsbeispiel vorgesehen, dass der Klemmring 14 über Stege 17 und/oder Verbindungsglieder und/oder Gelenke mit dem Gehäuse 15 verbunden ist.
  • Im Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, dass die Stege 17 und/oder die Verbindungsglieder und/oder die Gelenke in Radialrichtung flexibel und/oder nachgiebig sind und/oder ausweichen, um eine radiale Wärmedehnung des Klemmrings 14 zu ermöglichen, jedoch in Axialrichtung Z (siehe 6) steif und/oder unbeweglich ausgebildet sind, um in Axialrichtung Z des Ausgangsglied 9 wirkende Kräfte aufzunehmen und über das Gehäuse 15 in die Tragstruktur 5 einzuleiten.
  • Wie sich aus der prinzipmäßigen Darstellung der 7 entnehmen lässt, verlaufen die dort dargestellten Stege 17 nicht in Radialrichtung bzw. sind nicht auf den Mittelpunkt des Ausgangsglieds 9 bzw. des Klemmrings 14 ausgerichtet, so dass, wenn sich der Klemmring 14 in Radialrichtung wärmebedingt ausdehnt, auf die Stege 17 Querkräfte wirken, die dazu führen, dass die Stege 17 ausweichen bzw. flexibel nachgeben und somit eine wärmebedingte Ausdehnung des Klemmrings 14 nicht verhindert wird.
  • Das Gehäuse 15 kann im Ausführungsbeispiel aus einem beliebigen geeigneten Material hergestellt sein, insbesondere einem Material, das sowohl eine Wärmeausdehnung des Klemmrings 14 ermöglicht als auch sicherstellt, dass der Klemmring 14 so mit dem Gehäuse 15, gegebenenfalls über Stege 17, verbunden ist, dass die von dem optischen Element 2 aufzunehmenden Kräfte zuverlässig in die Tragstruktur 5 eingeleitet werden können. Es ist dabei auch möglich, das Gehäuse 15 aus Edelstahl oder Invar auszubilden.
  • Im Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, dass das Verstellelement 13 ausgebildet ist, um eine Hubbewegung auszuführen, um das Ausgangsglied 9 in Axialrichtung Z (siehe 6) anzuheben oder abzusenken. Die Hubbewegung des Ausgangsglieds 9 und somit auch der zweiten Aktuatoreinheit 8 ist in 6 mit dem Doppelpfeil symbolisiert. Im Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, dass das Verstellelement nur eine Hubbewegung und keine Bewegungen in andere Richtungen ausführen kann. Das Ausgangsglied 9 bzw. die zweite Aktuatoreinheit 8 können somit durch das Verstellelement 13 nur angehoben oder abgesenkt werden. Dies genügt allerdings, um die gewünschte Grobeinstellung innerhalb des ersten Einstellungsbereichs vorzunehmen.
  • Das Verstellelement 13 kann im Ausführungsbeispiel grundsätzlich in beliebiger Art und Weise ausgebildet sein. Es hat sich zur Realisierung der Erfindung, insbesondere auch zur Anwendung in Projektionsbelichtungsanlagen 100, 200, 400 jedoch als besonders geeignet herausgestellt, wenn das Verstellelement 13 als Thermalaktuator bzw. Thermoaktuator ausgebildet ist. Thermalaktuatoren bewirken eine Linearbewegung dadurch, dass diese erwärmt werden. Dabei wird in dem Thermalaktuator ein Material erwärmt, welches eine signifikante Wärmeausdehnung aufweist, zum Beispiel Wachs. Im Ausführungsbeispiel ist somit vorgesehen, dass zur Verstellung des Ausgangsglieds 9 das Verstellelement 13 beheizt wird. Derartige Thermalaktuatoren sind aus dem Stand der Technik, beispielsweise auch aus der Raumfahrt, bekannt, so dass auf deren grundsätzliche Funktionsweise nachfolgend nicht näher eingegangen wird.
  • Im Ausführungsbeispiel ist (optional) vorgesehen, dass das Verstellelement 13 bzw. ein beweglicher Kolben des Verstellelements bereits an das Ausgangsglied 9 herangefahren ist und eine mechanische Verbindung hergestellt ist, bevor die kraftschlüssige Verbindung zwischen dem Ausgangsglied 9 und dem Klemmring 14 gelöst wird. Dadurch soll vermieden werden, dass das optische Element 2 durch das Lösen der kraftschlüssigen Verbindung seine Position verändert bzw. absinkt. Anschließend kann durch eine entsprechende Beheizung oder Abkühlung des Verstellelements 13 die Position des Ausgangsglieds 9 entsprechend verändert werden. Nachdem das Ausgangsglied 9 durch das Verstellelement 13 innerhalb des ersten Einstellungsbereichs im gewünschten Maß verstellt wurde, das heißt, dass eine Grobeinstellung vorgenommen wurde, ist vorgesehen, wieder eine kraftschlüssige Verbindung zwischen dem Klemmring 14 und dem Ausgangsglied 9 herzustellen, so dass die von dem optischen Element 2 eingeleiteten Kräfte wieder über das Ausgangsglied 9 auf den Klemmring 14 und von dort über das Gehäuse 15 in die Tragstruktur 5 eingeleitet werden. Dadurch ist wieder der Betriebszustand hergestellt, in dem auch vorgesehen ist, dass das Verstellelement 13 nicht mehr beheizt ist und somit die mechanische Verbindung zwischen dem Verstellelement 13 und dem Ausgangsglied 9 wieder gelöst wird. Im Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, dass das Verstellelement im Betriebszustand keine Kraft auf das Ausgangsglied 9 ausübt.
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Claims (24)

  1. Aktuatoreinrichtung (1) zur Ausrichtung eines Elements (2), mit wenigstens einer an einer Tragstruktur (5) festlegbaren ersten Aktuatoreinheit (7) für einen ersten Einstellungsbereich und einer an dem Element (2) festlegbaren zweiten Aktuatoreinheit (8) für einen zweiten Einstellungsbereich, wobei die zweite Aktuatoreinheit (8) mit einem Ausgangsglied (9) der ersten Aktuatoreinheit (7) wirkverbunden ist derart, dass durch eine Verstellung des Ausgangsglieds (9) die Positionierung der zweiten Aktuatoreinheit (8) verstellbar ist dadurch gekennzeichnet, dass die erste Aktuatoreinheit (7) ein Verstellelement (13) und ein an der Tragstruktur (5) festlegbares Fixierelement (14) aufweist, wobei das Fixierelement (14) ausgebildet ist, das Ausgangsglied (9) in einem Betriebszustand des Elements (2) kraftschlüssig festzulegen und wobei das Fixierelement (14) ferner ausgebildet ist, die kraftschlüssige Verbindung in einem Einstellzustand des Elements (2) zu lösen, um eine Verstellung des Ausgangsglieds (9) mittels des Verstellelements (13) zu ermöglichen.
  2. Aktuatoreinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Aktuatoreinheit (1) ein Gehäuse (15) aufweist, welches an der Tragstruktur (5) festlegbar ist, wobei das Fixierelement (14) und/oder das Verstellelement (13) in dem Gehäuse (15) festgelegt sind.
  3. Aktuatoreinrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Fixierelement (14) ausgebildet ist, das Ausgangsglied (9) durch Klemmen kraftschlüssig festzulegen.
  4. Aktuatoreinrichtung nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Fixierelement (14) im Betriebszustand auf wenigstens einen Teil des Ausgangsglieds (9) aufgeschrumpft ist.
  5. Aktuatoreinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Fixierelement als Klemmring (14) ausgebildet ist.
  6. Aktuatoreinrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass der Klemmring (14) eine Aufnahmeöffnung (14a) aufweist, welche wenigstens einen Teil des Ausgangsglieds (9) umfangsseitig umfasst und wobei die Aufnahmeöffnung (14a) im Betriebszustand einen ersten Durchmesser aufweist, um das Ausgangsglied (9) kraftschlüssig zu fixieren, und wobei die Aufnahmeöffnung (14a) im Einstellzustand einen zweiten, vergrößerten Durchmesser derart aufweist, dass die kraftschllüssige Verbindung mit dem Ausgangsglied (9) gelöst ist, um eine Verstellung des Ausgangsglieds (9) mittels des Verstellelements (13) zu ermöglichen.
  7. Aktuatoreinrichtung nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, dass der Klemmring (14) im Einstellzustand beheizt ist.
  8. Aktuatoreinrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Klemmring (14) zur Beheizung Stromanschlüsse (16) aufweist und/oder bestrombar ist.
  9. Aktuatoreinrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass der Klemmring (14) über Stege (17) und/oder Verbindungsglieder und/oder Gelenke mit dem Gehäuse (15) verbunden ist.
  10. Aktuatoreinrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Stege (17) und/oder die Verbindungsglieder und/oder die Gelenke in Radialrichtung flexibel und/oder nachgiebig sind und/oder ausweichen, um eine radiale Wärmedehnung des Klemmrings (14) zu ermöglichen, jedoch in Axialrichtung (Z) steif und/oder unbeweglich ausgebildet sind, um in Axialrichtung (Z) des Ausgangsglieds (9) wirkende Kräfte aufzunehmen und über das Gehäuse (15) in die Tragstruktur (5) einzuleiten.
  11. Aktuatoreinrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass der Klemmring (14) im Einstellzustand eine Temperatur von 40 °C bis 100 °C, vorzugsweise 50 °C bis 90 °C, besonders bevorzugt 50 °C bis 80 °C und ganz besonders bevorzugt 50 °C bis 70 °C, insbesondere 60 °C +/- 5 °C aufweist.
  12. Aktuatoreinrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass der Klemmring (14) im Betriebszustand eine Temperatur von 10 °C bis 30 °C, vorzugsweise 15 °C bis 25 °C, besonders bevorzugt 20 °C bis 25 °C und ganz besonders bevorzugt 22 °C +/- 2 °C aufweist.
  13. Aktuatoreinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass das Verstellelement (13) zur Verstellung des Ausgangsglieds (9) beheizbar ist.
  14. Aktuatoreinrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass das Verstellelement (13) im Betriebszustand vom Ausgangsglied (9) mechanisch getrennt ist und/oder keine Kraft auf das Ausgangsglied (9) ausübt.
  15. Aktuatoreinrichtung nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, dass das Verstellelement (13) ausgebildet ist, um eine Hubbewegung auszuführen, um das Ausgangsglied (9) in Axialrichtung (Z) anzuheben oder abzusenken.
  16. Aktuatoreinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Einstellungsbereich der ersten Aktuatoreinheit (7) dem Drei- bis Zwanzigfachen, vorzugsweise dem Vier- bis Fünfzehnfachen, besonders bevorzugt dem Fünf- bis Fünfzehnfachen, weiter bevorzugt dem Sechs- bis Zwölffachen, besonders bevorzugt dem Sieben- bis Elffachen und ganz besonders bevorzugt dem Acht- bis Zehnfachen des zweiten Einstellungsbereichs der zweiten Aktuatoreinheit (8) entspricht.
  17. Aktuatoreinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass der Einstellungsbereich der ersten Aktuatoreinheit (7) 700 bis 1500 µm, vorzugsweise 800 bis 1200 µm, besonders bevorzugt 800 bis 1000 µm und insbesondere 900 µm +/- 50 um beträgt und/oder dass der Einstellungsbereich der zweiten Aktuatoreinheit (8) 10 bis 200 um, vorzugsweise 50 bis 200 µm, weiter bevorzugt 50 bis 150 µm, besonders bevorzugt 80 bis 120 µm und insbesondere 100 µm +/- 10 µm beträgt.
  18. Aktuatoreinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass das auszurichtende Element (2) ein optisches Element (415,416,418,419, 420,108,201) einer Projektionsbelichtungsanlage (100,200,400) ist.
  19. Projektionsbelichtungsanlage (100,200,400) für die Halbleiterlithographie mit einem Beleuchtungssystem (103,401) mit einer Strahlungsquelle (402) sowie einer Optik (107,403), welche wenigstens ein auszurichtendes optisches Element (415,416,418,419,420,108,201) aufweist, wobei das auszurichtende optische Element (415,416,418,419,420,108,201) mit einer Aktuatoreinrichtung (1) nach einem der Ansprüche 1 bis 18 ausrichtbar und/oder lagerbar und/oder verstellbar und/oder manipulierbar und/oder deformierbar ist.
  20. Verfahren zur Ausrichtung eines Elements (2) mit einer Aktuatoreinrichtung (1), welche eine an einer Tragstruktur (5) festgelegte erste Aktuatoreinheit (7), die für einen ersten Einstellungsbereich ausgelegt ist, und eine an dem Element (2) festgelegte zweite Aktuatoreinheit (8), die für einen zweiten Einstellungsbereich ausgelegt ist, aufweist, wonach die zweite Aktuatoreinheit (8) mit einem Ausgangsglied (9) der ersten Aktuatoreinheit (7) wirkverbunden wird derart, dass durch eine Verstellung des Ausgangsglieds (9) die Positionierung der zweiten Aktuatoreinheit (8) verstellt wird, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Aktuatoreinheit (7) ein Fixierelement (14) und ein Verstellelement (13) aufweist, wonach das Fixierelement (14) an der Tragstruktur (5) festgelegt wird und das Fixierelement (14) in einem Betriebszustand des Elements (2) das Ausgangsglied (9) kraftschlüssig festlegt und wonach das Fixierelement (14) in einem Einstellzustand des Elements (2), in dem das Element (2) innerhalb des ersten Einstellungsbereichs ausgerichtet wird, die kraftschlüssige Verbindung löst, wonach das Verstellelement (13) das Ausgangsglied (9) verstellt und wonach das Fixierelement (14) nach der Verstellung des Ausgangsglieds (9) die kraftschlüssige Verbindung wieder schließt.
  21. Verfahren nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Einstellungsbereich der ersten Aktuatoreinheit (7) für eine Grobeinstellung, vorzugsweise während der Ersteinstellung und/oder der Grundeinstellung und/oder der Inbetriebnahme des Elements (2) verwendet wird, während der zweite Einstellungsbereich der zweiten Aktuatoreinheit (8) für eine Feineinstellung im Betriebszustand des Elements (2) zur Ausrichtung des Elements (2) verwendet wird.
  22. Verfahren nach Anspruch 20 oder 21, dadurch gekennzeichnet, dass während der Ausrichtung des Elements (2) mittels der ersten Aktuatoreinheit (7) die Ausrichtung des Elements (2) gemessen und die Einstellung mittels der ersten Aktuatoreinheit (7) erfolgt, bis eine definierte Ausrichtung des Elements (2) erreicht wird.
  23. Verfahren nach Anspruch 20, 21 oder 22, dadurch gekennzeichnet, dass das Verstellelement (13) zur Verstellung des Ausgangsglieds (9) beheizt wird.
  24. Verfahren nach einem der Ansprüche 20 bis 23, dadurch gekennzeichnet, dass das Verfahren zur Erhöhung der Abbildungsgenauigkeit einer Projektionsbelichtungsanlage (100,200,400) verwendet wird, wobei das auszurichtende Element (2) wenigstens ein optisches Element (415,416,418,419,420,108,201) der Projektionsbelichtungsanlage (100,200,400) ist, wonach die Ausrichtung des optischen Elements (415,416,418,419,420,108,201) in einem Einstellzustand dadurch erfolgt, dass die erste Aktuatoreinheit (7) die zweite Aktuatoreinheit (8) positioniert und hierzu das Fixierelement (14) die kraftschlüssige Verbindung mit dem Ausgangsglied (9) löst, wonach im Betriebszustand die Ausrichtung des optischen Elements (415,416,418, 419,420,108,201) durch die zweite Aktuatoreinheit (8) erfolgt.
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