DE102016118262A1 - Measuring arrangement and method for determining a topography of a technical surface - Google Patents
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Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Messanordnung und ein Verfahren zum Bestimmen einer Topografie einer technischen Oberfläche (01). Die Messanordnung umfasst eine Lichtquelle (03) zum Aussenden eines Lichtstrahles auf die Oberfläche (01) und eine positionssensitive Fotodetektoreinheit (06) zum Wandeln des von der Oberfläche (01) auf einen sich in einer ersten Messrichtung (x) erstreckenden Messabschnitt der Fotodetektoreinheit (06) reflektierten Lichtes in mindestens ein erstes Messsignal und ein zweites Messsignal. Eine Summe aus dem ersten Messsignal und dem zweiten Messsignal repräsentiert das auf den Messabschnitt reflektierte Licht. Das erste Messsignal ist abhängig von der Position in der ersten Messrichtung (x) des auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes. Die Messanordnung umfasst weiterhin eine Auswerteeinheit (07), die zu einer laufenden Bestimmung einer mittleren Lage einer Streuwinkelverteilung des auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes durch Bildung eines Verhältnisses des ersten Messsignals zu der Summe aus dem ersten Messsignal und dem zweiten Messsignal konfiguriert ist.The present invention relates to a measuring arrangement and a method for determining a topography of a technical surface (01). The measuring arrangement comprises a light source (03) for emitting a light beam onto the surface (01) and a position-sensitive photodetector unit (06) for converting the measuring section of the photodetector unit (06) extending from the surface (01) in a first measuring direction (x) ) reflected light in at least a first measurement signal and a second measurement signal. A sum of the first measurement signal and the second measurement signal represents the light reflected on the measurement section. The first measuring signal is dependent on the position in the first measuring direction (x) of the light reflected onto the measuring section. The measuring arrangement further comprises an evaluation unit (07), which is configured to continuously determine a mean position of a scattering angle distribution of the light reflected on the measuring section by forming a ratio of the first measuring signal to the sum of the first measuring signal and the second measuring signal.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft zunächst eine Messanordnung zum Bestimmen einer Topografie einer technischen Oberfläche. Die Messanordnung stellt ein Profilometer dar, mit welchem eine geometrische Gestalt der technischen Oberfläche ausgemessen werden kann. Im Weiteren betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Bestimmen einer Topografie einer technischen Oberfläche. The present invention initially relates to a measuring arrangement for determining a topography of a technical surface. The measuring arrangement represents a profilometer with which a geometric shape of the technical surface can be measured. Furthermore, the invention relates to a method for determining a topography of a technical surface.
In der Empfehlung „Geometrische Produktspezifikation: Oberflächenbeschaffenheit; Winkelaufgelöste Streulichtmesstechnik; Definition, Kenngrößen und Anwendung“ des Verbandes der Automobilindustrie e. V.,
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht ausgehend vom Stand der Technik darin, das Bestimmen einer Topografie einer technischen Oberfläche auf der Grundlage der Streulichtmesstechnik aufwandsärmer vornehmen zu können. The object of the present invention, starting from the state of the art, is to be able to carry out the determination of a topography of a technical surface on the basis of the scattered light measuring technique with less effort.
Die genannte Aufgabe wird gelöst durch eine Messanordnung gemäß dem beigefügten Anspruch 1 sowie durch ein Verfahren gemäß dem beigefügten nebengeordneten Anspruch 10. The stated object is achieved by a measuring arrangement according to the appended claim 1 and by a method according to the appended independent claim 10.
Die erfindungsgemäße Messanordnung dient zum optischen Bestimmen einer Topografie einer technischen Oberfläche auf der Grundlage der Streulichtmesstechnik. Die Messanordnung dient insbesondere zur optischen Vermessung der mikroskopischen Topografie der technischen Oberfläche in zumindest einer Dimension. Die Messanordnung umfasst eine Lichtquelle zum Aussenden eines Lichtstrahles auf die Oberfläche. Die Lichtquelle ist über die Oberfläche verfahrbar, wobei die Lichtquelle relativ über die Oberfläche verfahrbar ist, sodass unerheblich ist, ob sich die Lichtquelle oder die Oberfläche bewegt. Die Lichtquelle ist insbesondere mit einem konstanten Abstand zu einer mittleren Ebene der Oberfläche, d. h. in einer konstanten Höhe, über die Oberfläche verfahrbar. Die Lichtquelle ist insbesondere zum Aussenden des Lichtstrahles schräg auf die Oberfläche ausgebildet. The measuring arrangement according to the invention is used for optically determining a topography of a technical surface on the basis of the scattered light measuring technique. The measuring arrangement is used in particular for the optical measurement of the microscopic topography of the technical surface in at least one dimension. The measuring arrangement comprises a light source for emitting a light beam to the surface. The light source is movable over the surface, wherein the light source is relatively movable over the surface, so it is irrelevant whether the light source or the surface moves. In particular, the light source is at a constant distance from a median plane of the surface, i. H. at a constant height, movable over the surface. The light source is designed in particular for emitting the light beam obliquely on the surface.
Die Messanordnung umfasst weiterhin eine mit der Lichtquelle mechanisch verbundene positionssensitive Fotodetektoreinheit. Die Fotodetektoreinheit ist bevorzugt fest mit der Lichtquelle verbunden. Die positionssensitive Fotodetektoreinheit ist dazu ausgebildet, Licht positionsabhängig zu messen. Die Positionsabhängigkeit ist analog, d. h. nicht diskret. Die positionssensitive Fotodetektoreinheit umfasst einen sich in einer ersten Messrichtung erstreckenden Messabschnitt. Die erste Messrichtung gleicht bevorzugt auch einer Richtung des Verfahrens der Lichtquelle und der Fotodetektoreinheit. Die positionssensitive Fotodetektoreinheit ist zum Wandeln des von der technischen Oberfläche auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes in mindestens ein erstes Messsignal und ein zweites Messsignal ausgebildet. Das erste Messsignal und das zweite Messsignal sind bevorzugt analog, d. h. nicht diskret. Eine Summe aus dem ersten Messsignal und dem zweiten Messsignal repräsentiert das auf den Messabschnitt reflektierte Licht, d. h. eine Summe bzw. ein Integral des auf den Messabschnitt reflektierten Streulichtes. Das erste Messsignal ist abhängig von der Position in der ersten Messrichtung des auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes. Das erste Messsignal ist somit abhängig von der Intensität des auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes und von der Position dieses Lichtes in der ersten Messrichtung, d. h. wie dieses Licht in der ersten Messrichtung örtlich verteilt ist. Das erste Messsignal ist bevorzugt linear abhängig von der Position in der ersten Messrichtung des auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes. Bevorzugt ist auch das zweite Messsignal abhängig von der Position in der ersten Messrichtung des auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes. Bevorzugt ist auch das zweite Messsignal linear abhängig von der Position in der ersten Messrichtung des auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes. The measuring arrangement furthermore comprises a position-sensitive photodetector unit which is mechanically connected to the light source. The photodetector unit is preferably permanently connected to the light source. The position-sensitive photodetector unit is designed to measure light in a position-dependent manner. The position dependence is analogous, d. H. not discreet. The position-sensitive photodetector unit comprises a measuring section extending in a first measuring direction. The first measuring direction preferably also corresponds to a direction of the method of the light source and the photodetector unit. The position-sensitive photodetector unit is designed for converting the light reflected from the technical surface onto the measuring section into at least one first measuring signal and one second measuring signal. The first measurement signal and the second measurement signal are preferably analog, d. H. not discreet. A sum of the first measurement signal and the second measurement signal represents the light reflected on the measurement section, i. H. a sum or an integral of the scattered light reflected on the measuring section. The first measuring signal is dependent on the position in the first measuring direction of the light reflected on the measuring section. The first measuring signal is thus dependent on the intensity of the light reflected on the measuring section and on the position of this light in the first measuring direction, i. H. how this light is distributed locally in the first measuring direction. The first measuring signal is preferably linearly dependent on the position in the first measuring direction of the light reflected onto the measuring section. Preferably, the second measuring signal is also dependent on the position in the first measuring direction of the light reflected onto the measuring section. Preferably, the second measuring signal is also linearly dependent on the position in the first measuring direction of the light reflected onto the measuring section.
Die Messanordnung umfasst weiterhin eine Auswerteeinheit, die zu einer laufenden Bestimmung einer mittleren Lage einer Streuwinkelverteilung des von der Oberfläche auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes durch eine Bildung eines Verhältnisses des ersten Messsignals zu der Summe aus dem ersten Messsignal und dem zweiten Messsignal konfiguriert ist. Die mittlere Lage der Streuwinkelverteilung stellt eine Schwerpunktlage des von der Oberfläche reflektierten Lichtes dar. Für die Bestimmung der mittleren Lage der Streuwinkelverteilung des von der Oberfläche reflektierten Lichtes ist die Auswerteeinheit dazu ausgebildet, zunächst das Verhältnis des ersten Messsignals zu der Summe aus dem ersten Messsignal und dem zweiten Messsignal laufend zu bilden, da auf der Grundlage dieses Verhältnisses die mittlere Lage der Streuwinkelverteilung bestimmbar ist, wobei ggf. detektorspezifische Konstanten zu berücksichtigen sind. Die mittlere Lage der Streuwinkelverteilung repräsentiert eine Höhe der technischen Oberfläche an demjenigen Ort, welcher den Lichtstrahl auf den Messabschnitt reflektiert. Wird die Lichtquelle mit der positionssensitiven Fotodetektoreinheit über die Oberfläche verfahren, so wird die sich ändernde Höhe laufend bestimmt, woraus sich die Topografie der Oberfläche ergibt. The measuring arrangement further comprises an evaluation unit, which is configured to continuously determine a mean position of a scattering angle distribution of the light reflected from the surface onto the measuring section by forming a ratio of the first measuring signal to the sum of the first measuring signal and the second measuring signal. The middle position of the scattering angle distribution represents a center of gravity of the light reflected from the surface. For determining the mean position of the scattering angle distribution of the light reflected from the surface, the evaluation unit is designed to first measure the ratio of the first measurement signal to the sum of the first measurement signal and to continuously form the second measurement signal, since on the basis of this ratio, the average position of the scattering angle distribution can be determined, where appropriate, detector-specific constants are taken into account. The mean position of the scattering angle distribution represents a height of the technical surface at the location which the Reflected light beam on the measuring section. If the light source with the position-sensitive photodetector unit is moved over the surface, the changing height is determined continuously, resulting in the topography of the surface.
Ein besonderer Vorteil der erfindungsgemäßen Messanordnung besteht darin, dass sie die Bestimmung der mittleren Lage der Streuwinkelverteilung des von der technischen Oberfläche reflektierten Lichtes aus nur zwei Messsignalen ermöglicht, sodass eine Auswertung vieler einzelner Signale von zeilenförmig angeordneten Fotodioden, die beispielsweise in Form eines CCD ausgebildet sind, nicht notwendig ist. Entsprechend kann die Bestimmung der mittleren Lage der Streuwinkelverteilung des von der technischen Oberfläche reflektierten Lichtes und somit auch die Bestimmung der Topografie der Oberfläche aufwandsärmer und schneller erfolgen, sodass die erfindungsgemäße Messanordnung vorteilhaft bei Qualitätskontrollen im Produktionsumfeld anwendbar ist; beispielsweise zur Qualitätskontrolle von Bohrlöchern. A particular advantage of the measuring arrangement according to the invention is that it enables the determination of the average position of the scattering angle distribution of the light reflected from the technical surface from only two measuring signals, so that an evaluation of many individual signals of line-shaped arranged photodiodes, which are formed for example in the form of a CCD , is not necessary. Accordingly, the determination of the mean position of the scattering angle distribution of the light reflected from the technical surface and thus also the determination of the topography of the surface can be carried out with less effort and faster, so that the measuring arrangement according to the invention is advantageously applicable to quality controls in the production environment; for example, for the quality control of boreholes.
Bei einer zur Messung einer Varianz der Streuwinkelverteilung ausgebildeten Kategorie bevorzugter Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Messanordnung ist die positionssensitive Fotodetektoreinheit weiterhin zum Wandeln des von der technischen Oberfläche auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes in ein drittes Messsignal und in ein viertes Messsignal ausgebildet. Die Summe aus dem dritten Messsignal und dem vierten Messsignal repräsentiert das auf den Messabschnitt reflektierte Licht, d. h. eine Summe des auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes. Während das erste Messsignal linear abhängig von der Position in der ersten Messrichtung des auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes ist, ist das dritte Messsignal quadratisch abhängig von der Position in der ersten Messrichtung des von der Oberfläche auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes. Somit ist das dritte Messsignal gemäß einer quadratischen Funktion abhängig von der Verteilung in der ersten Messrichtung des auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes. Diese quadratische Funktion umfasst über den Messabschnitt hinweg bevorzugt einen steigenden Funktionsabschnitt und einen fallenden Funktionsabschnitt, sodass ein Maximum oder ein Minimum innerhalb des Messabschnittes vorliegt; bevorzugt in der Mitte des Messabschnittes in der ersten Messrichtung. Auch das vierte Messsignal ist bevorzugt quadratisch abhängig von der Position in der ersten Messrichtung des von der Oberfläche auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes, jedoch mit einem zum dritten Messsignal entgegengesetzten Verlauf. Die Auswerteeinheit ist ergänzend zu einer laufenden Bestimmung einer Varianz der Streuwinkelverteilung des auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes durch eine ergänzende Bildung eines Verhältnisses des dritten Messsignals zu der Summe aus dem dritten Messsignal und dem vierten Messsignal konfiguriert. Die Varianz der Streuwinkelverteilung stellt eine Standardabweichung des Streulichtes in der zweiten Potenz dar. Für die Bestimmung der Varianz der Streuwinkelverteilung des von der Oberfläche reflektierten Lichtes ist die Auswerteeinheit ergänzend dazu ausgebildet, das Verhältnis des dritten Messsignals zu der Summe aus dem dritten Messsignal und dem vierten Messsignal zu bilden, da auf der Grundlage dieses Verhältnisses und des Verhältnisses des ersten Messsignals zu der Summe aus dem ersten Messsignal und dem zweiten Messsignal die Varianz der Streuwinkelverteilung des von der Oberfläche reflektierten Lichtes bestimmbar ist, wobei ggf. detektorspezifische Konstanten zu berücksichtigen sind. In a category of preferred embodiments of the inventive measuring arrangement designed to measure a variance of the scattering angle distribution, the position-sensitive photodetector unit is further configured to convert the light reflected from the technical surface onto the measuring section into a third measuring signal and into a fourth measuring signal. The sum of the third measurement signal and the fourth measurement signal represents the light reflected on the measurement section, i. H. a sum of the light reflected on the measuring section. While the first measuring signal is linearly dependent on the position in the first measuring direction of the light reflected onto the measuring section, the third measuring signal is quadratically dependent on the position in the first measuring direction of the light reflected from the surface onto the measuring section. Thus, the third measurement signal according to a quadratic function is dependent on the distribution in the first measurement direction of the light reflected on the measurement section. This quadratic function preferably comprises an increasing functional section and a falling functional section over the measuring section, so that there is a maximum or a minimum within the measuring section; preferably in the middle of the measuring section in the first measuring direction. The fourth measuring signal is also preferably quadratically dependent on the position in the first measuring direction of the light reflected from the surface onto the measuring section, but with a course opposite to the third measuring signal. The evaluation unit is in addition to an ongoing determination of a variance of the scattering angle distribution of the reflected light on the measuring section by a complementary formation of a ratio of the third measurement signal to the sum of the third measurement signal and the fourth measurement signal configured. The variance of the scattering angle distribution represents a standard deviation of the scattered light in the second power. For the determination of the variance of the scattering angle distribution of the light reflected from the surface, the evaluation unit is designed to supplement the ratio of the third measurement signal to the sum of the third measurement signal and the fourth Forming the measurement signal, since on the basis of this ratio and the ratio of the first measurement signal to the sum of the first measurement signal and the second measurement signal, the variance of the scattering angle distribution of the reflected light from the surface can be determined, if necessary, detector-specific constants are taken into account.
Bei einer zu einer zweidimensionalen Messung der Streuwinkelverteilung ausgebildeten Kategorie bevorzugter Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Messanordnung erstreckt sich der Messabschnitt in die erste Messrichtung und in eine zweite zur ersten Messrichtung senkrechte Messrichtung. Die positionssensitive Fotodetektoreinheit ist ergänzend zum Wandeln des von der Oberfläche auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes in ein fünftes Messsignal und in ein sechstes Messsignal ausgebildet. Die Summe aus dem fünften Messsignal und dem sechsten Messsignal repräsentiert das auf den Messabschnitt reflektierte Licht, d. h. eine Summe des auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes. Das fünfte Messsignal ist abhängig von der Position in der zweiten Messrichtung des auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes. Das fünfte Messsignal ist somit abhängig von der Intensität des auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes und von der Position dieses Lichtes in der zweiten Messrichtung, d. h. wie dieses Licht in der zweiten Messrichtung örtlich verteilt ist. Das fünfte Messsignal ist bevorzugt linear abhängig von der Position in der zweiten Messrichtung des auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes. Bevorzugt ist auch das sechste Messsignal vorzugsweise linear abhängig von der Position in der zweiten Messrichtung des auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes. Die zweite Kategorie bevorzugter Ausführungsformen erlaubt die optische Vermessung der Topografie der technischen Oberfläche in zwei Dimensionen, wobei die Lichtquelle mit der Fotodetektoreinheit lediglich gerastert in einer Richtung verfahren werden muss. In a category of preferred embodiments of the measuring arrangement according to the invention designed for a two-dimensional measurement of the scattering angle distribution, the measuring section extends in the first measuring direction and in a second measuring direction perpendicular to the first measuring direction. The position-sensitive photodetector unit is designed in addition to converting the light reflected from the surface onto the measuring section into a fifth measuring signal and into a sixth measuring signal. The sum of the fifth measurement signal and the sixth measurement signal represents the light reflected onto the measurement section, i. H. a sum of the light reflected on the measuring section. The fifth measuring signal is dependent on the position in the second measuring direction of the light reflected on the measuring section. The fifth measuring signal is thus dependent on the intensity of the light reflected on the measuring section and on the position of this light in the second measuring direction, i. H. how this light is distributed locally in the second measuring direction. The fifth measuring signal is preferably linearly dependent on the position in the second measuring direction of the light reflected onto the measuring section. The sixth measuring signal is preferably also linearly dependent on the position in the second measuring direction of the light reflected onto the measuring section. The second category of preferred embodiments allows the optical measurement of the topography of the technical surface in two dimensions, wherein the light source with the photodetector unit only has to be scanned in one direction.
Bevorzugt sind die Merkmale der zur Messung der Varianz der Streuwinkelverteilung ausgebildeten Kategorie bevorzugter Ausführungsformen und die Merkmale der zur zweidimensionalen Messung der Streuwinkelverteilung ausgebildeten Kategorie bevorzugter Ausführungsformen in Kombination realisiert, sodass die Messanordnung zum Bestimmen der mittleren Lage der Streuwinkelverteilung in zwei Dimensionen und zum Bestimmen der Varianz der Streuwinkelverteilung ausgebildet ist. Die Merkmale der zur Messung der Varianz der Streuwinkelverteilung ausgebildeten Kategorie bevorzugter Ausführungsformen und die Merkmale der zur zweidimensionalen Messung der Streuwinkelverteilung ausgebildeten Kategorie bevorzugter Ausführungsformen können aber auch einzeln realisiert sein, sodass die positionssensitive Fotodetektoreinheit beispielsweise zum Wandeln des von der Oberfläche reflektierten Lichtes in das fünfte Messsignal und in das sechste Messsignal, aber nicht zum Wandeln des von der Oberfläche reflektierten Lichtes in das dritte Messsignal und in das vierte Messsignal ausgebildet ist. Die Zählung der Messsignale, lichtempfindlichen Schichten, Fotodetektoren usw. dient nur zu deren Unterscheidung. Preferably, the features of the category of preferred embodiments designed for measuring the variance of the scattering angle distribution and the features of the category of preferred embodiments designed for two-dimensional measurement of the scattering angle distribution are realized in combination, so that the measuring arrangement for determining the mean position of the scattering angle distribution in two dimensions and for determining the variance of the Spread angle distribution is formed. However, the features of the category of preferred embodiments designed for measuring the variance of the scattering angle distribution and the features of the category of preferred embodiments designed for two-dimensional measurement of the scattering angle distribution can also be realized individually, such that the position-sensitive photodetector unit converts the light reflected from the surface into the fifth measurement signal, for example and in the sixth measurement signal, but not for converting the light reflected from the surface into the third measurement signal and into the fourth measurement signal. The counting of the measurement signals, photosensitive layers, photodetectors, etc. serves only to distinguish them.
Bei einer ersten Gruppe bevorzugter Ausführungsformen ist die positionssensitive Fotodetektoreinheit durch einen analogen Fotodetektor gebildet, der eine sich entlang des Messabschnittes erstreckende lichtempfindliche Schicht aufweist. Die lichtempfindliche Schicht erstreckt sich bevorzugt homogen. An einem ersten Ende der sich in die erste Messrichtung erstreckenden lichtempfindlichen Schicht ist ein erster elektrischer Kontakt zum Abgreifen des ersten Messsignals angeordnet. An einem zweiten Ende der sich in die erste Messrichtung erstreckenden lichtempfindlichen Schicht ist ein zweiter elektrischer Kontakt zum Abgreifen des zweiten Messsignals angeordnet. In a first group of preferred embodiments, the position sensitive photodetector unit is formed by an analog photodetector having a photosensitive layer extending along the measuring section. The photosensitive layer preferably extends homogeneously. At a first end of the photosensitive layer extending in the first measuring direction, a first electrical contact for picking up the first measuring signal is arranged. At a second end of the light-sensitive layer extending in the first measuring direction, a second electrical contact for tapping the second measuring signal is arranged.
Die Ausführungsformen der ersten Gruppe gehören bevorzugt auch der zur Messung der Varianz der Streuwinkelverteilung ausgebildeten Kategorie bevorzugter Ausführungsformen an. In diesem Fall bildet der analoge Fotodetektor einen ersten Fotodetektor, wobei die positionssensitive Fotodetektoreinheit weiterhin einen zweiten analogen Fotodetektor umfasst, der eine sich entlang des Messabschnittes erstreckende lichtempfindliche Schicht mit einem von der Position in der ersten Messrichtung abhängigen elektrischen Widerstand aufweist. An einem ersten Ende der sich in die erste Messrichtung erstreckenden lichtempfindlichen Schicht des zweiten Fotodetektors ist ein dritter elektrischer Kontakt zum Abgreifen des dritten Messsignals angeordnet. An einem zweiten Ende der sich in die erste Messrichtung erstreckenden lichtempfindlichen Schicht des zweiten Fotodetektors ist ein vierter elektrischer Kontakt zum Abgreifen des vierten Messsignals angeordnet. Der erste Fotodetektor und der zweite Fotodetektor sind bevorzugt hinter einem Strahlteiler angeordnet, sodass das von der Oberfläche reflektierte Licht in den Strahlteiler eintritt und dort geteilt wird, um anschließend auf den ersten Fotodetektor und auf den zweiten Fotodetektor zu treffen. Alternativ bevorzugt sind der erste Fotodetektor und der zweite Fotodetektor übereinander angeordnet, sodass sie bezogen auf die Ausbreitungsrichtung des reflektierten Lichtes nacheinander angeordnet sind. The embodiments of the first group preferably also include the category of preferred embodiments designed to measure the variance of the scattering angle distribution. In this case, the analog photodetector forms a first photodetector, the position sensitive photodetector unit further comprising a second analog photodetector having a photosensitive layer extending along the measuring section with an electrical resistance dependent on the position in the first measuring direction. At a first end of the photosensitive layer of the second photodetector extending in the first measuring direction, a third electrical contact is arranged for picking up the third measuring signal. At a second end of the light-sensitive layer of the second photodetector extending in the first measuring direction, a fourth electrical contact for picking up the fourth measuring signal is arranged. The first photodetector and the second photodetector are preferably arranged behind a beam splitter, so that the light reflected from the surface enters and is split into the beam splitter to subsequently strike the first photodetector and the second photodetector. Alternatively preferably, the first photodetector and the second photodetector are arranged one above the other so that they are arranged one after the other with respect to the propagation direction of the reflected light.
Folglich muss derjenige der beiden Fotodetektoren, welcher näher an der technischen Oberfläche anzuordnen ist, teilweise lichtdurchlässig sein. Entsprechend ist der erste Fotodetektor bzw. der zweite Fotodetektor teilweise lichtdurchlässig. Consequently, the one of the two photodetectors, which is to be arranged closer to the technical surface, must be partially translucent. Accordingly, the first photodetector or the second photodetector is partially translucent.
Die Ausführungsformen der ersten Gruppe gehören bevorzugt auch der zur zweidimensionalen Messung der Streuwinkelverteilung ausgebildeten Kategorie bevorzugter Ausführungsformen an. Hierfür erstreckt sich die lichtempfindliche Schicht des Fotodetektors über den Messabschnitt in die erste Messrichtung und in die zweite Messrichtung. An einem ersten Ende der sich in die zweite Messrichtung erstreckenden lichtempfindlichen Schicht ist ein dritter elektrischer Kontakt zum Abgreifen des fünften Messsignals angeordnet. An einem zweiten Ende der sich in die zweite Messrichtung erstreckenden lichtempfindlichen Schicht ist ein vierter elektrischer Kontakt zum Abgreifen des sechsten Messsignals angeordnet. The embodiments of the first group preferably also include the category of preferred embodiments designed for two-dimensional measurement of the scattering angle distribution. For this purpose, the photosensitive layer of the photodetector extends over the measuring section in the first measuring direction and in the second measuring direction. At a first end of the photosensitive layer extending in the second measuring direction, a third electrical contact for picking up the fifth measuring signal is arranged. At a second end of the photosensitive layer extending in the second measuring direction, a fourth electrical contact for picking up the sixth measuring signal is arranged.
Bei einer zweiten Gruppe bevorzugter Ausführungsformen ist die positionssensitive Fotodetektoreinheit durch einen analogen Fotodetektor gebildet, der eine erste sich entlang des Messabschnittes in die erste Messrichtung erstreckende lichtempfindliche Schicht und eine zweite sich entlang des Messabschnittes in die erste Messrichtung erstreckende lichtempfindliche Schicht aufweist. Die erste lichtempfindliche Schicht und die zweite lichtempfindliche Schicht besitzen jeweils eine Empfindlichkeit für das auf den Messabschnitt reflektierte Licht. Die Empfindlichkeit der ersten lichtempfindlichen Schicht und die Empfindlichkeit der zweiten lichtempfindlichen Schicht verändern sich in der ersten Messrichtung, ausgehend von einem ersten Ende zu einem zweiten Ende des Messabschnittes, entgegengesetzt zueinander. Folglich steigt die Empfindlichkeit der einen lichtempfindlichen Schicht in der ersten Messrichtung, während die Empfindlichkeit der anderen lichtempfindlichen Schicht in der ersten Messrichtung sinkt. Die erste lichtempfindliche Schicht weist einen ersten elektrischen Kontakt zum elektrischen Abgreifen des ersten Messsignals auf. Die zweite lichtempfindliche Schicht weist einen zweiten elektrischen Kontakt zum elektrischen Abgreifen des zweiten Messsignals auf. In a second group of preferred embodiments, the position sensitive photodetector unit is formed by an analog photodetector having a first photosensitive layer extending along the measuring section in the first measuring direction and a second photosensitive layer extending along the measuring section in the first measuring direction. The first photosensitive layer and the second photosensitive layer each have a sensitivity to the light reflected on the measuring section. The sensitivity of the first photosensitive layer and the sensitivity of the second photosensitive layer change in the first measuring direction, starting from a first end to a second end of the measuring section, opposite to each other. Consequently, the sensitivity of one photosensitive layer in the first measuring direction increases, while the sensitivity of the other photosensitive layer in the first measuring direction decreases. The first photosensitive layer has a first electrical contact for electrically tapping the first measurement signal. The second photosensitive layer has a second electrical contact for electrically tapping the second measurement signal.
Bevorzugt sind die erste lichtempfindliche Schicht und die zweite lichtempfindliche Schicht jeweils kammartig mit keilförmigen Zinken ausgebildet. Die keilförmigen Zinken der ersten lichtempfindlichen Schicht und die keilförmigen Zinken der zweiten lichtempfindlichen Schicht sind jeweils in der ersten Messrichtung, jedoch mit unterschiedlichem Richtungssinn ausgerichtet, sodass sie aufeinander zu ausgerichtet sind. Die kammartige erste lichtempfindliche Schicht und die kammartige zweite lichtempfindliche Schicht weisen gleiche geometrische Abmessungen auf und sind ineinandergreifend angeordnet, sodass die keilförmigen Zinken der ersten lichtempfindlichen Schicht und die keilförmigen Zinken der zweiten lichtempfindlichen Schicht formschlüssig ineinandergreifen. Preferably, the first photosensitive layer and the second photosensitive layer are each formed like a comb with wedge-shaped prongs. The wedge-shaped prongs of the first photosensitive layer and the wedge-shaped prongs of the second photosensitive layer are respectively aligned in the first measuring direction, but with different sense of direction, so that they face each other are aligned. The comb-like first photosensitive layer and the comb-like second photosensitive layer have the same geometrical dimensions and are intermeshed so that the wedge-shaped prongs of the first photosensitive layer and the wedge-shaped prongs of the second photosensitive layer intermesh with each other.
Alternativ bevorzugt sind die erste lichtempfindliche Schicht und die zweite lichtempfindliche Schicht jeweils rosettenartig ausgebildet. Alternativ zur Form einer Rosette können auch andere rotationssymmetrische Formen ausgebildet sein. Alternatively, preferably, the first photosensitive layer and the second photosensitive layer are respectively formed rosette-like. Alternatively to the shape of a rosette, other rotationally symmetrical shapes may be formed.
Die Ausführungsformen der zweiten Gruppe gehören bevorzugt auch der zur Messung der Varianz der Streuwinkelverteilung ausgebildeten Kategorie bevorzugter Ausführungsformen an. In diesem Fall bildet der analoge Fotodetektor einen ersten Fotodetektor, wobei die positionssensitive Fotodetektoreinheit weiterhin einen zweiten analogen Fotodetektor umfasst, der eine dritte sich entlang des Messabschnittes in die erste Messrichtung erstreckende lichtempfindliche Schicht und eine vierte sich entlang des Messabschnittes in die erste Messrichtung erstreckende lichtempfindliche Schicht aufweist. Die dritte lichtempfindliche Schicht und die vierte lichtempfindliche Schicht besitzen jeweils eine Empfindlichkeit für das auf den Messabschnitt reflektierte Licht. Die Empfindlichkeit der dritten lichtempfindlichen Schicht und die Empfindlichkeit der vierten lichtempfindlichen Schicht verändern sich in der ersten Messrichtung, ausgehend vom ersten Ende zum zweiten Ende des Messabschnittes, entgegengesetzt zueinander. Die dritte lichtempfindliche Schicht weist einen dritten elektrischen Kontakt zum elektrischen Abgreifen des dritten Messsignals auf. Die vierte lichtempfindliche Schicht weist einen vierten elektrischen Kontakt zum elektrischen Abgreifen des vierten Messsignals auf. Die dritte lichtempfindliche Schicht und die vierte lichtempfindliche Schicht sind jeweils kammartig mit Zinken ausgebildet. Die Zinken der dritten lichtempfindlichen Schicht und die Zinken der vierten lichtempfindlichen Schicht sind jeweils in der ersten Messrichtung, jedoch mit unterschiedlichem Richtungssinn ausgerichtet, sodass sie aufeinander zu ausgerichtet sind. Die kammartige dritte lichtempfindliche Schicht und die kammartige vierte lichtempfindliche Schicht weisen gleiche geometrische Abmessungen auf und sind ineinandergreifend angeordnet, sodass die Zinken der dritten lichtempfindlichen Schicht und die keilförmigen Zinken der vierten lichtempfindlichen Schicht formschlüssig ineinandergreifen. Eine Breite der Zinken der dritten lichtempfindlichen Schicht und eine Breite der keilförmigen Zinken der vierten lichtempfindlichen Schicht verändert sich in der ersten Messrichtung jeweils gemäß einer quadratischen Funktion. Diese quadratische Funktion umfasst über den Messabschnitt hinweg bevorzugt einen steigenden Funktionsabschnitt und einen fallenden Funktionsabschnitt, sodass ein Maximum oder ein Minimum innerhalb des Messabschnittes vorliegt; bevorzugt in der Mitte des Messabschnittes in der ersten Messrichtung. Der erste Fotodetektor und der zweite Fotodetektor sind bevorzugt hinter einem Strahlteiler angeordnet, sodass das von der Oberfläche reflektierte Licht in den Strahlteiler eintritt und dort geteilt wird, um anschließend auf den ersten Fotodetektor und auf den zweiten Fotodetektor zu treffen. Alternativ bevorzugt sind der erste Fotodetektor und der zweite Fotodetektor übereinander angeordnet, sodass sie bezogen auf die Ausbreitungsrichtung des reflektierten Lichtes nacheinander angeordnet sind. Folglich muss derjenige der beiden Fotodetektoren, welcher näher an der technischen Oberfläche anzuordnen ist, teilweise lichtdurchlässig sein. Entsprechend ist der erste Fotodetektor bzw. der zweite Fotodetektor teilweise lichtdurchlässig. The embodiments of the second group preferably also include the category of preferred embodiments designed for measuring the variance of the scattering angle distribution. In this case, the analog photodetector forms a first photodetector, wherein the position sensitive photodetector unit further comprises a second analog photodetector comprising a third photosensitive layer extending along the measurement section in the first measurement direction and a fourth photosensitive layer extending along the measurement section in the first measurement direction having. The third photosensitive layer and the fourth photosensitive layer each have a sensitivity to the light reflected on the measuring section. The sensitivity of the third photosensitive layer and the sensitivity of the fourth photosensitive layer change in the first measuring direction, starting from the first end to the second end of the measuring section, opposite to each other. The third photosensitive layer has a third electrical contact for electrically tapping the third measurement signal. The fourth photosensitive layer has a fourth electrical contact for electrically tapping the fourth measurement signal. The third photosensitive layer and the fourth photosensitive layer are each formed in a comb-like fashion with prongs. The tines of the third photosensitive layer and the tines of the fourth photosensitive layer are respectively aligned in the first measuring direction, but with different sense of direction, so that they are aligned with each other. The comb-like third photosensitive layer and the comb-like fourth photosensitive layer have the same geometric dimensions and are arranged interlocking, so that the tines of the third photosensitive layer and the wedge-shaped prongs of the fourth photosensitive layer interlock positively. A width of the tines of the third photosensitive layer and a width of the wedge-shaped tines of the fourth photosensitive layer vary in the first measuring direction each according to a quadratic function. This quadratic function preferably comprises an increasing functional section and a falling functional section over the measuring section, so that there is a maximum or a minimum within the measuring section; preferably in the middle of the measuring section in the first measuring direction. The first photodetector and the second photodetector are preferably arranged behind a beam splitter, so that the light reflected from the surface enters and is split into the beam splitter to subsequently strike the first photodetector and the second photodetector. Alternatively preferably, the first photodetector and the second photodetector are arranged one above the other so that they are arranged one after the other with respect to the propagation direction of the reflected light. Consequently, the one of the two photodetectors, which is to be arranged closer to the technical surface, must be partially translucent. Accordingly, the first photodetector or the second photodetector is partially translucent.
Die Ausführungsformen der zweiten Gruppe gehören bevorzugt auch der zur zweidimensionalen Messung der Streuwinkelverteilung ausgebildeten Kategorie bevorzugter Ausführungsformen an. Hierfür umfasst die positionssensitive Fotodetektoreinheit einen dritten Fotodetektor, der eine fünfte sich entlang des Messabschnittes in die zweite Messrichtung erstreckende lichtempfindliche Schicht und eine sechste sich entlang des Messabschnittes in die zweite Messrichtung erstreckende lichtempfindliche Schicht aufweist. Die fünfte lichtempfindliche Schicht und die sechste lichtempfindliche Schicht besitzen jeweils eine Empfindlichkeit für das auf den Messabschnitt reflektierte Licht. Die Empfindlichkeit der fünften lichtempfindlichen Schicht und die Empfindlichkeit der sechsten lichtempfindlichen Schicht verändern sich in der zweiten Messrichtung, ausgehend von einem dritten Ende zu einem vierten Ende des Messabschnittes, entgegengesetzt zueinander. Folglich steigt die Empfindlichkeit der einen lichtempfindlichen Schicht in der zweiten Messrichtung, während die Empfindlichkeit der anderen lichtempfindlichen Schicht in der zweiten Messrichtung sinkt. Die fünfte lichtempfindliche Schicht weist einen fünften elektrischen Kontakt zum elektrischen Abgreifen des fünften Messsignals auf. Die sechste lichtempfindliche Schicht weist einen sechsten elektrischen Kontakt zum elektrischen Abgreifen des sechsten Messsignals auf. Bevorzugt sind die fünfte lichtempfindliche Schicht und die sechste lichtempfindliche Schicht jeweils kammartig mit keilförmigen Zinken ausgebildet. Die keilförmigen Zinken der fünften lichtempfindlichen Schicht und die keilförmigen Zinken der sechsten lichtempfindlichen Schicht sind jeweils in der zweiten Messrichtung, jedoch mit unterschiedlichem Richtungssinn ausgerichtet, sodass sie aufeinander zu ausgerichtet sind. Die kammartige fünfte lichtempfindliche Schicht und die kammartige sechste lichtempfindliche Schicht weisen gleiche geometrische Abmessungen auf und sind ineinandergreifend angeordnet, sodass die keilförmigen Zinken der fünften lichtempfindlichen Schicht und die keilförmigen Zinken der sechsten lichtempfindlichen Schicht formschlüssig ineinandergreifen. The embodiments of the second group preferably also include the category of preferred embodiments designed for two-dimensional measurement of the scattering angle distribution. For this purpose, the position-sensitive photodetector unit comprises a third photodetector, which has a fifth light-sensitive layer extending along the measuring section in the second measuring direction and a sixth light-sensitive layer extending along the measuring section in the second measuring direction. The fifth photosensitive layer and the sixth photosensitive layer each have a sensitivity to the light reflected on the measuring section. The sensitivity of the fifth photosensitive layer and the sensitivity of the sixth photosensitive layer change in the second measuring direction from a third end to a fourth end of the measuring section, opposite to each other. Consequently, the sensitivity of one photosensitive layer in the second measuring direction increases, while the sensitivity of the other photosensitive layer in the second measuring direction decreases. The fifth photosensitive layer has a fifth electrical contact for electrically picking up the fifth measurement signal. The sixth photosensitive layer has a sixth electrical contact for electrically picking up the sixth measuring signal. Preferably, the fifth photosensitive layer and the sixth photosensitive layer are respectively formed like a comb with wedge-shaped prongs. The wedge-shaped tines of the fifth photosensitive layer and the wedge-shaped tines of the sixth photosensitive layer are respectively aligned in the second measuring direction, but with different sense of direction, so that they are aligned with each other. The comb-like fifth photosensitive layer and the comb-like sixth photosensitive layer have the same geometrical dimensions and are intermeshed so that the wedge-shaped prongs of the fifth photosensitive layer and the wedge-shaped prongs of the sixth photosensitive layer intermesh with each other.
Der erste Fotodetektor und der dritte Fotodetektor sind bevorzugt hinter einem Strahlteiler angeordnet, sodass das von der Oberfläche reflektierte Licht in den Strahlteiler eintritt und dort geteilt wird, um anschließend auf den ersten Fotodetektor und auf den dritten Fotodetektor zu treffen. The first photodetector and the third photodetector are preferably arranged behind a beam splitter, so that the light reflected from the surface enters and is split into the beam splitter to subsequently strike the first photodetector and the third photodetector.
Bei einer dritten Gruppe bevorzugter Ausführungsformen umfasst die positionssensitive Fotodetektoreinheit einen optischen Strahlteiler. Bezogen auf die Ausbreitungsrichtung des reflektierten Lichtes sind hinter dem Strahlteiler ein erster positionsabhängiger Filter und ein zweiter positionsabhängiger Filter angeordnet. Bezogen auf die Ausbreitungsrichtung des reflektierten Lichtes ist hinter dem ersten positionsabhängigen Filter ein erster Fotodetektor zum Wandeln des von der Oberfläche auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes in das erste Messsignal angeordnet. Bezogen auf die Ausbreitungsrichtung des reflektierten Lichtes ist hinter dem zweiten positionsabhängigen Filter ein zweiter Fotodetektor zum Wandeln des von der Oberfläche auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes in das zweite Messsignal angeordnet. In a third group of preferred embodiments, the position sensitive photodetector unit comprises an optical beam splitter. Based on the propagation direction of the reflected light, a first position-dependent filter and a second position-dependent filter are arranged behind the beam splitter. Based on the propagation direction of the reflected light, a first photodetector for converting the light reflected from the surface onto the measuring section into the first measuring signal is arranged behind the first position-dependent filter. Based on the propagation direction of the reflected light, a second photodetector for converting the light reflected from the surface onto the measuring section into the second measuring signal is arranged behind the second position-dependent filter.
Der erste positionsabhängige Filter und der zweite positionsabhängige Filter weisen bevorzugt jeweils eine sich in die erste Messrichtung linear verändernde Lichtdurchlässigkeit auf, wobei sich die Lichtdurchlässigkeit des ersten positionsabhängigen Filters und die Lichtdurchlässigkeit des zweiten positionsabhängigen Filters entgegengesetzt zueinander verändern. Daher sind der erste Fotodetektor und der zweite Fotodetektor selbst nicht positionssensitiv. Der erste positionsabhängige Filter und der zweite positionsabhängige Filter sind bevorzugt jeweils durch einen Graukeilfilter gebildet. The first position-dependent filter and the second position-dependent filter preferably each have a light transmittance which changes linearly in the first measuring direction, wherein the light transmittance of the first position-dependent filter and the light transmittance of the second position-dependent filter change in opposite directions. Therefore, the first photodetector and the second photodetector itself are not position sensitive. The first position-dependent filter and the second position-dependent filter are preferably each formed by a gray wedge filter.
Die Ausführungsformen der dritten Gruppe können abgewandelt sein, indem auf den zweiten positionsabhängigen Filter verzichtet wird. An dem zweiten Fotodetektor ist dann ein modifiziertes zweites Messsignal abgreifbar, welches bereits das gesamte auf den Messabschnitt reflektierte Licht repräsentiert. Das modifizierte zweite Messsignal entspricht somit bereits der Summe aus dem ersten Messsignal und dem nicht modifizierten zweiten Messsignal. Entsprechend ist die Auswerteeinheit zu einer laufenden Bestimmung der mittleren Lage der Streuwinkelverteilung des auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes durch Bildung eines Verhältnisses des ersten Messsignals zum modifizierten zweiten Messsignal konfiguriert. The embodiments of the third group may be modified by dispensing with the second position-dependent filter. At the second photodetector then a modified second measurement signal can be tapped, which already represents the entire light reflected on the measuring section. The modified second measurement signal thus already corresponds to the sum of the first measurement signal and the unmodified second measurement signal. Accordingly, the evaluation unit is configured to make a continuous determination of the average position of the scattering angle distribution of the light reflected onto the measuring section by forming a ratio of the first measuring signal to the modified second measuring signal.
Die Ausführungsformen der dritten Gruppe gehören bevorzugt auch der zur Messung der Varianz der Streuwinkelverteilung ausgebildeten Kategorie bevorzugter Ausführungsformen an. In diesem Fall umfasst die positionssensitive Fotodetektoreinheit einen dritten positionsabhängigen Filter und einen vierten positionsabhängigen Filter. Bezogen auf die Ausbreitungsrichtung des reflektierten Lichtes ist hinter dem dritten positionsabhängigen Filter ein dritter Fotodetektor zum Wandeln des von der Oberfläche auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes in das dritte Messsignal angeordnet. Bezogen auf die Ausbreitungsrichtung des reflektierten Lichtes ist hinter dem vierten positionsabhängigen Filter ein vierter Fotodetektor zum Wandeln des von der Oberfläche auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes in das vierte Messsignal angeordnet. Der dritte positionsabhängige Filter und der vierte positionsabhängige Filter weisen jeweils eine sich in die erste Messrichtung gemäß einer quadratischen Funktion verändernde Lichtdurchlässigkeit auf, wobei sich die Lichtdurchlässigkeit des dritten positionsabhängigen Filters und die Lichtdurchlässigkeit des vierten positionsabhängigen Filters entgegengesetzt zueinander verändern. Diese quadratische Funktion umfasst über den Messabschnitt hinweg bevorzugt einen steigenden Funktionsabschnitt und einen fallenden Funktionsabschnitt, sodass ein Maximum oder ein Minimum innerhalb des Messabschnittes vorliegt; bevorzugt in der Mitte des Messabschnittes in der ersten Messrichtung. Der dritte Fotodetektor und der vierte Fotodetektor sind selbst nicht positionssensitiv. The embodiments of the third group preferably also include the category of preferred embodiments designed for measuring the variance of the scattering angle distribution. In this case, the position-sensitive photodetector unit comprises a third position-dependent filter and a fourth position-dependent filter. Based on the propagation direction of the reflected light, a third photodetector for converting the light reflected from the surface onto the measuring section into the third measuring signal is arranged behind the third position-dependent filter. Based on the propagation direction of the reflected light, a fourth photodetector for converting the light reflected from the surface onto the measuring section into the fourth measuring signal is arranged behind the fourth position-dependent filter. The third position-dependent filter and the fourth position-dependent filter each have a light transmittance varying in the first measuring direction according to a quadratic function, wherein the transmittance of the third position-dependent filter and the transmittance of the fourth position-dependent filter are opposite to each other. This quadratic function preferably comprises an increasing functional section and a falling functional section over the measuring section, so that there is a maximum or a minimum within the measuring section; preferably in the middle of the measuring section in the first measuring direction. The third photodetector and the fourth photodetector are not position sensitive themselves.
Die Ausführungsformen der dritten Gruppe gehören bevorzugt auch der zur zweidimensionalen Messung der Streuwinkelverteilung ausgebildeten Kategorie bevorzugter Ausführungsformen an. In diesem Fall bildet der Strahlteiler einen ersten Strahlteiler, wobei die positionssensitive Fotodetektoreinheit einen zweiten Strahlteiler umfasst. Bezogen auf die Ausbreitungsrichtung des reflektierten Lichtes sind hinter dem zweiten Strahlteiler ein fünfter positionsabhängiger Filter und ein sechster positionsabhängiger Filter angeordnet. Bezogen auf die Ausbreitungsrichtung des reflektierten Lichtes ist hinter dem fünften positionsabhängigen Filter ein fünfter Fotodetektor zum Wandeln des von der Oberfläche auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes in das fünfte Messsignal angeordnet. Bezogen auf die Ausbreitungsrichtung des reflektierten Lichtes ist hinter dem sechsten positionsabhängigen Filter ein sechster Fotodetektor zum Wandeln des von der Oberfläche auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes in das sechste Messsignal angeordnet. Der fünfte positionsabhängige Filter und der sechste positionsabhängige Filter weisen jeweils eine sich in die zweite Messrichtung linear verändernde Lichtdurchlässigkeit auf, wobei sich die Lichtdurchlässigkeit des fünften positionsabhängigen Filters und die Lichtdurchlässigkeit des sechsten positionsabhängigen Filters entgegengesetzt zueinander verändern. Der fünfte Fotodetektor und der sechste Fotodetektor sind selbst nicht positionssensitiv. The embodiments of the third group preferably also include the category of preferred embodiments designed for two-dimensional measurement of the scattering angle distribution. In this case, the beam splitter forms a first beam splitter, wherein the position sensitive photodetector unit comprises a second beam splitter. Based on the propagation direction of the reflected light, a fifth position-dependent filter and a sixth position-dependent filter are arranged behind the second beam splitter. Based on the propagation direction of the reflected light, a fifth photodetector for converting the light reflected from the surface onto the measuring section into the fifth measuring signal is arranged behind the fifth position-dependent filter. Based on the propagation direction of the reflected light, a sixth photodetector for converting the light reflected from the surface onto the measuring section into the sixth measuring signal is arranged behind the sixth position-dependent filter. The fifth position-dependent filter and the sixth position-dependent filter each have a light transmittance which changes linearly in the second measuring direction, the light transmittance of the fifth position-dependent filter and the light transmittance of the sixth position-dependent filter change opposite to each other. The fifth photodetector and the sixth photodetector are themselves not position sensitive.
Nachfolgend sind bevorzugte Merkmale für alle Kategorien und Gruppen bevorzugter Ausführungsformen beschrieben. Preferred features for all categories and groups of preferred embodiments are described below.
Die Lichtquelle ist bevorzugt durch eine Laserquelle gebildet. Die Laserquelle ist bevorzugt durch eine Halbleiterlaserdiode gebildet. The light source is preferably formed by a laser source. The laser source is preferably formed by a semiconductor laser diode.
Die Messanordnung umfasst bevorzugt ein strahlformendes Element zum Formen des Lichtstrahles der Lichtquelle. Das strahlformende Element ist bevorzugt durch ein diffraktives optisches Element (DOE), durch eine optische Freiformfläche, durch ein Linsensystem und/oder durch ein Spiegelsystem gebildet. The measuring arrangement preferably comprises a beam-shaping element for shaping the light beam of the light source. The beam-shaping element is preferably formed by a diffractive optical element (DOE), by an optical freeform surface, by a lens system and / or by a mirror system.
Die Lichtquelle, die positionssensitive Fotodetektoreinheit und ggf. das strahlformende Element sind bevorzugt fest miteinander verbunden und bevorzugt in einem Gehäuse angeordnet. Die Lichtquelle ist ggf. mit dem strahlformenden Element bevorzugt in die positionssensitive Fotodetektoreinheit integriert. Bevorzugt ist die Lichtquelle ggf. mit dem strahlformenden Element in die positionssensitive Fotodetektoreinheit eingelassen. The light source, the position-sensitive photodetector unit and possibly the beam-shaping element are preferably firmly connected to each other and preferably arranged in a housing. If appropriate, the light source is preferably integrated with the beam-shaping element in the position-sensitive photodetector unit. Preferably, the light source is optionally incorporated with the beam-shaping element in the position-sensitive photodetector unit.
Die positionssensitive Fotodetektoreinheit umfasst ergänzend oder alternativ zu den oben beschriebenen Filtern bevorzugt mindestens ein Farbfilter mit einem Farbverlauf. Der Farbverlauf kann linear, gemäß einer quadratischen Funktion, rosettenartig oder entsprechend einer anderen rotationssymmetrischen Form ausgebildet sein. In addition or as an alternative to the filters described above, the position-sensitive photodetector unit preferably comprises at least one color filter with a color gradient. The color gradient can be formed linearly, according to a quadratic function, rosette-like or according to another rotationally symmetrical shape.
Die Auswerteeinheit ist bevorzugt durch einen Mikrocontroller, durch einen Mikrorechner oder durch einen PC gebildet. The evaluation unit is preferably formed by a microcontroller, by a microcomputer or by a PC.
Die Auswerteeinheit ist bevorzugt weiterhin dazu konfiguriert, die Topografie der reflektierenden Oberfläche ausgehend von der laufend bestimmten mittleren Lage der Streuwinkelverteilung zu bestimmen und bevorzugt auch mit Normwerten zu vergleichen und/oder auszugeben. The evaluation unit is preferably further configured to determine the topography of the reflective surface on the basis of the currently determined average position of the scattering angle distribution and preferably also to compare and / or output with standard values.
Das erfindungsgemäße Verfahren dient zum Bestimmen einer Topografie einer technischen Oberfläche. Es umfasst einen Schritt, in welchem ein auf die technische Oberfläche gerichteter Lichtstrahl über die technische Oberfläche verfahren wird. In einem weiteren Schritt wird das von der technischen Oberfläche auf einen sich in eine erste Messrichtung erstreckenden Messabschnitt reflektierte Licht in mindestens ein erstes Messsignal und ein zweites Messsignal gewandelt. Die Summe aus dem ersten Messsignal und dem zweiten Messsignal repräsentiert das von der technischen Oberfläche auf den Messabschnitt reflektierte Licht. Das erste Messsignal ist abhängig von der Position in der ersten Messrichtung des auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes. In einem weiteren Schritt wird eine mittlere Lage einer Streuwinkelverteilung des auf den Messabschnitt reflektierten Lichtes laufend bestimmt, indem ein Verhältnis des ersten Messsignals zur Summe aus dem ersten Messsignal und dem zweiten Messsignal laufend gebildet wird. The method according to the invention serves to determine a topography of a technical surface. It comprises a step in which a light beam directed onto the technical surface is moved over the technical surface. In a further step, the light reflected from the technical surface to a measuring section extending in a first measuring direction is converted into at least a first measuring signal and a second measuring signal. The sum of the first measurement signal and the second measurement signal represents the light reflected from the technical surface onto the measurement section. The first measuring signal is dependent on the position in the first measuring direction of the light reflected on the measuring section. In a further step, a mean position of a scattering angle distribution of the light reflected on the measuring section is continuously determined by continuously forming a ratio of the first measuring signal to the sum of the first measuring signal and the second measuring signal.
Das erfindungsgemäße Verfahren dient bevorzugt zum Verwenden der erfindungsgemäßen Messanordnung und deren bevorzugten Ausführungsformen. Das erfindungsgemäße Verfahren weist bevorzugt auch Merkmale auf, die im Zusammenhang mit der erfindungsgemäßen Messanordnung und deren bevorzugten Ausführungsformen angegeben sind. The method according to the invention preferably serves to use the measuring arrangement according to the invention and its preferred embodiments. The method according to the invention preferably also has features which are specified in connection with the measuring arrangement according to the invention and its preferred embodiments.
Weitere Vorteile, Einzelheiten und Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung bevorzugter Ausführungsformen der Erfindung, unter Bezugnahme auf die Zeichnung. Es zeigen: Further advantages, details and developments of the invention will become apparent from the following description of preferred embodiments of the invention, with reference to the drawing. Show it:
Das Gehäuse
Die folgenden mathematischen Zusammenhänge setzen voraus, dass am Beginn der lichtempfindlichen Schicht
Der Zähler der oben angeführten Formel zur Bestimmung des Schwerpunktes xM ist mit dem ersten Messsignal S1 gemäß nachfolgender Formel verknüpft, in welcher C1 eine fotodetektorspezifische Konstante ist:
Somit ist der Schwerpunkt xM der Streulichtwinkelverteilung gemäß nachfolgender Formel aus dem ersten Messsignal S1 und dem zweiten Messsignal S2 bestimmbar: Thus, the center of gravity x M of the scattered light angle distribution according to the following formula The first measurement signal S 1 and the second measurement signal S 2 can be determined:
Diese Formel umfasst das Verhältnis des ersten Messsignals S1 zu der Summe aus dem ersten Messsignal S1 und dem zweiten Messsignal S2. This formula comprises the ratio of the first measurement signal S 1 to the sum of the first measurement signal S 1 and the second measurement signal S 2 .
Am Beginn der ersten lichtempfindlichen Schicht
Die Varianz Ag der Streuwinkelverteilung ergibt sich gemäß nachfolgender Formel, in welcher N für die Anzahl der Einzelwerte steht: The variance Ag of the scattering angle distribution is given by the following formula, in which N stands for the number of individual values:
Während der Subtrahend dieser Formel dem Quadrat des Schwerpunktes xm entspricht, ist der Minuend aus dem dritten Messsignal und dem vierten Messsignal bestimmbar. While the subtrahend of this formula corresponds to the square of the center of gravity x m , the minuend can be determined from the third measurement signal and the fourth measurement signal.
BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS
- 0101
- technische Oberfläche technical surface
- 0202
- Gehäuse casing
- 0303
- Laser-Lichtquelle Laser light source
- 0404
- Linsensystem lens system
- 0505
- 0606
- Fotodetektoreinheit Photodetector unit
- 0707
- Steuer- und Auswerteelektronik Control and evaluation electronics
- 0808
- PC PC
- 0909
- lichtempfindliche Schicht photosensitive layer
- 1010
- 1111
- erstes Ende first end
- 1212
- erster elektrischer Kontakt first electrical contact
- 1313
- zweites Ende second end
- 1414
- zweiter elektrischer Kontakt second electrical contact
- 1515
- 1616
- erste lichtempfindliche Schicht first photosensitive layer
- 1717
- zweite lichtempfindliche Schicht second photosensitive layer
- 1818
- Zinken prong
- 1919
- 2020
- 2121
- Strahlteiler beamsplitter
- 2222
- Filter filter
- 2323
- Fotodetektor photodetector
- 2424
- 2525
- 2626
- erstes Ende first end
- 2727
- dritter elektrischer Kontakt third electrical contact
- 2828
- zweites Ende second end
- 2929
- vierter elektrischer Kontakt fourth electrical contact
- 3030
- 3131
- dritte lichtempfindliche Schicht third photosensitive layer
- 3232
- vierte lichtempfindliche Schicht fourth photosensitive layer
- 3333
- Zinken prong
- 3434
- 3535
- 3636
- erstes Ende first end
- 3737
- dritter elektrischer Kontakt third electrical contact
- 3838
- zweites Ende second end
- 3939
- vierter elektrischer Kontakt fourth electrical contact
- 4040
- 4141
- erstes Ende first end
- 4242
- fünfter elektrischer Kontakt fifth electrical contact
- 4343
- zweites Ende second end
- 4444
- sechster elektrischer Kontakt sixth electrical contact
- 4545
- 4646
- erstes Ende first end
- 4747
- siebenter elektrischer Kontakt seventh electrical contact
- 4848
- zweites Ende second end
- 4949
- achter elektrischer Kontakt eighth electrical contact
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION
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Zitierte Nicht-PatentliteraturCited non-patent literature
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|---|---|
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R012 | Request for examination validly filed | ||
| R016 | Response to examination communication | ||
| R016 | Response to examination communication | ||
| R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
| R020 | Patent grant now final | ||
| R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |