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DE102012103254A1 - Method for transferring substrate e.g. glass pane into vacuum treatment plant, involves transporting substrate composite into transfer chamber and reducing spacing within substrate composite in transport direction of substrates - Google Patents

Method for transferring substrate e.g. glass pane into vacuum treatment plant, involves transporting substrate composite into transfer chamber and reducing spacing within substrate composite in transport direction of substrates Download PDF

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DE102012103254A1
DE102012103254A1 DE201210103254 DE102012103254A DE102012103254A1 DE 102012103254 A1 DE102012103254 A1 DE 102012103254A1 DE 201210103254 DE201210103254 DE 201210103254 DE 102012103254 A DE102012103254 A DE 102012103254A DE 102012103254 A1 DE102012103254 A1 DE 102012103254A1
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DE
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substrate
substrates
chamber
transport direction
composite
Prior art date
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Application number
DE201210103254
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German (de)
Inventor
Jens Weiß
Martin Herschmann
Rainer Schubert
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Von Ardenne GmbH
Original Assignee
Von Ardenne Anlagentechnik GmbH
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Publication date
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Abstract

The method involves introducing a substrate composite (2) from two substrates (5,6) into a lock chamber (C1) arranged behind in transport direction of the substrate. The substrate composite is transported into a transfer chamber (C3). The spacing within the substrate composite in transport direction of the substrates is reduced.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Einschleusen von Substraten in eine Vakuumbehandlungsanlage. The invention relates to a method for introducing substrates into a vacuum treatment plant.

Derartige Anlagen werden zur Behandlung großflächiger Substrate, beispielsweise Glasscheiben, eingesetzt. Dabei kommen unterschiedlichste Behandlungen in Betracht, zum Beispiel Prozesse, bei denen das Substrat oder eine auf dem Substrat vorhandene Schicht strukturell oder energetisch verändert, Material auf dem Substrat abgeschieden oder vom Substrat entfernt wird. Neben der Substratbeschichtung mit verschiedenen Schichten werden auch Plasmabehandlungen oder Sputterätzen in Vakuumbehandlungsanlagen vorgenommen. Such systems are used to treat large-area substrates, such as glass panes. A wide variety of treatments come into consideration, for example processes in which the substrate or a layer present on the substrate changes structurally or energetically, material is deposited on the substrate or removed from the substrate. In addition to the substrate coating with different layers, plasma treatments or sputter etching are also carried out in vacuum treatment plants.

Die Behandlung erfolgt dabei in einem Durchlauf durch die Anlage. Derartige Anlagen sind als längserstreckte Anlagen ausgebildet, in denen die Substrate von einer Eingangsseite zu einer Ausgangsseite auf einer Transportvorrichtung hindurchbewegt werden. Diese Vakuumbehandlungsanlagen werden mit einer funktionalen und einer physikalischen Aufteilung definiert. The treatment is carried out in one pass through the plant. Such systems are designed as elongate systems in which the substrates are moved from an input side to an output side on a transport device. These vacuum treatment plants are defined with a functional and a physical distribution.

Die funktionale Aufteilung beschreibt eine durch die Funktion der einzelnen Teile bestimmte Konfiguration einer Vakuumbehandlungsanlage. Die funktionale Aufteilung ist nicht zwingend sichtbar. The functional layout describes a configuration of a vacuum treatment system determined by the function of the individual parts. The functional division is not necessarily visible.

Die Teile der funktionalen Aufteilung sind Kammern und Kompartments. Eine Kammer ist eine Einheit mit einer oder mehreren zusammenwirkenden Funktionen in den Grenzen einer oder mehrerer verbundener Anlagenkammern. The parts of the functional layout are chambers and compartments. A chamber is a unit having one or more cooperative functions within the confines of one or more connected equipment chambers.

Die Kammern der funktionalen Aufteilung können auch mit der Bezeichnung der Funktion, der sie hauptsächlich dienen, bezeichnet werden. Die Kammer zum Einbringen oder Ausbringen von Substraten wird als Schleusenkammer und die Kammer zur Behandlung der Substrate als Prozesskammer bezeichnet. Zwischen einer Schleusenkammer und der Prozesskammer ist meist eine Transferkammer vorgesehen, in welcher ein Übergang von diskontinuierlichem Transport in der Schleusenkammer zu kontinuierlichem Transport in der Prozesskammer stattfindet. Zwischen einer Schleusenkammer und der entsprechenden Transferkammer kann eine weitere Kammer, die sogenannte Pufferkammer, vorgesehen sein. Damit ergibt sich für eine übliche Vakuumbehandlungsanlage die Abfolge Eingangsschleusenkammer, Pufferkammer, Transferkammer, Prozesskammer, Transferkammer, Pufferkammer und Ausgangsschleusenkammer. Da alle Kammern evakuierbar sind, können sie auch allgemein als Vakuumkammern bezeichnet werden. The chambers of the functional division may also be designated by the name of the function they serve mainly. The chamber for introducing or discharging substrates is referred to as a lock chamber and the chamber for treating the substrates as a process chamber. Between a lock chamber and the process chamber, a transfer chamber is usually provided, in which there is a transition from discontinuous transport in the lock chamber to continuous transport in the process chamber. A further chamber, the so-called buffer chamber, may be provided between a lock chamber and the corresponding transfer chamber. This results for a conventional vacuum treatment plant, the sequence input lock chamber, buffer chamber, transfer chamber, process chamber, transfer chamber, buffer chamber and exit lock chamber. Since all chambers are evacuable, they can also be commonly referred to as vacuum chambers.

Ein Kompartment ist eine funktionelle Einheit einer Kammer einer längserstreckten Vakuumbehandlungsanlage, der eindeutig eine Funktion zukommt und die mit anderen derartigen funktionellen Einheiten in Längserstreckung der Vakuumbehandlungsanlage aufeinander folgend angeordnet ist. A compartment is a functional unit of a chamber of an elongated vacuum treatment plant, which clearly has a function and which is arranged successively with other such functional units in the longitudinal extent of the vacuum treatment plant.

Auch die Kompartments können mit der Bezeichnung ihrer Funktion benannt werden, zum Beispiel als Pumpkompartment, Sputterkompartment oder auch als Gasseparationskompartment. Also, the compartments can be named with the name of their function, for example as a pumping compartment, sputtering compartment or as a gas separation compartment.

Die physische Aufteilung definiert eine sichtbare Konfiguration einer Vakuumbehandlungsanlage. Die physische Konfiguration entspricht nicht zwingend der funktionalen Konfiguration. The physical layout defines a visible configuration of a vacuum processing facility. The physical configuration does not necessarily correspond to the functional configuration.

Die Teile der physischen Aufteilung sind Anlagenkammern und Sektionen. Als Anlagenkammer einer Vakuumbehandlungsanlage wird eine stoffschlüssig verbundene Baueinheit, die innerhalb oder außerhalb des Vakuumraumes Versteifungselemente beinhaltet, bezeichnet. Mit den Versteifungselementen sind Wandungen verbunden, die einen Vakuumraum einschließen. Die Wandungen werden aus Kammerboden, Kammerwänden und Kammerdeckel gebildet. Eine Wandung kann auch aus einem auf einer Dichtungsfläche aufgelegten Deckel gebildet sein. The parts of the physical division are plant chambers and sections. As a plant chamber of a vacuum treatment plant is a cohesively connected assembly, which includes stiffening elements inside or outside of the vacuum space. With the stiffening elements walls are connected, which include a vacuum space. The walls are formed of chamber floor, chamber walls and chamber lid. A wall can also be formed from a lid placed on a sealing surface.

Der Transport eines Substrates durch die Vakuumbehandlungsanlage findet in der Prozesskammer kontinuierlich, in den anderen Kammern diskontinuierlich statt. The transport of a substrate through the vacuum treatment plant takes place continuously in the process chamber and discontinuously in the other chambers.

Dazu wird ein Ventil an der Eingangsseite der Eingangsschleusenkammer geöffnet und das Substrat in die Eingangsschleusenkammer eingebracht. Die Position des Glassubstrats wird mittels Sensor an der Eingangsseite der Eingangsschleusenkammer festgestellt. Anschließend wird das Ventil geschlossen und die Eingangsschleusenkammer auf einen vorgegebenen Druck evakuiert. For this purpose, a valve is opened at the inlet side of the inlet lock chamber and the substrate is introduced into the inlet lock chamber. The position of the glass substrate is detected by means of a sensor on the input side of the entrance lock chamber. Subsequently, the valve is closed and the inlet lock chamber is evacuated to a predetermined pressure.

Wenn der vorgegebene Druck erreicht ist, wird ein Ventil an der Eingangsseite der Pufferkammer geöffnet, das Substrat in die Pufferkammer transportiert, das Ventil wieder geschlossen und die Pufferkammer auf einen vorgegebenen Druck evakuiert. When the predetermined pressure is reached, a valve on the input side of the buffer chamber is opened, the substrate is transported into the buffer chamber, the valve is closed again and the buffer chamber is evacuated to a predetermined pressure.

Nach Erreichen des Solldruckes in der Pufferkammer wird ein Ventil an der Eingangsseite der Transferkammer geöffnet, das Substrat in die Transferkammer transportiert und das Ventil wieder geschlossen. In der Transferkammer wird der Druck so eingestellt, dass die Prozessbedingungen in der benachbarten Prozesskammer nicht gestört werden. Weiterhin findet in der Transferkammer der Übergang von diskontinuierlichem Transport zu kontinuierlichem Transport statt. Hierzu ist neben einem Transportband als Transportmittel im vorderen Teil der Transferkammer mindestens ein Passingband als Transportmittel im hinteren Teil der Transferkammer vorgesehen. Das Transportband oder Passingband besteht dabei aus mehreren in Transportrichtung hintereinander angeordneten Transportwalzen, die über einen Antrieb mit der gleichen Drehrichtung und Drehgeschwindigkeit in Rotation versetzt werden können. Bevor das hintere Ende eines Substrats in die Prozesskammer eintritt, wird der Transport des nachfolgenden Substrats so angepasst, dass die Lücke zwischen den beiden Substraten minimiert wird und beide Substrate mit gleicher Geschwindigkeit transportiert werden. After reaching the desired pressure in the buffer chamber, a valve is opened at the input side of the transfer chamber, the substrate is transported into the transfer chamber and the valve is closed again. In the transfer chamber, the pressure is adjusted so that the process conditions in the adjacent process chamber are not disturbed. Furthermore, the transition from discontinuous transport to continuous transport takes place in the transfer chamber. This is next to one Conveyor belt as transport in the front part of the transfer chamber at least one Passingband provided as a means of transport in the rear part of the transfer chamber. The conveyor belt or pass band consists of several in the transport direction successively arranged transport rollers, which can be set in rotation via a drive with the same direction of rotation and speed. Before the back end of a substrate enters the process chamber, the transport of the subsequent substrate is adjusted so that the gap between the two substrates is minimized and both substrates are transported at the same speed.

In der Prozesskammer werden die Substrate dann mit konstanter Geschwindigkeit transportiert. Beim Erreichen der zweiten Transferkammer wird das beschriebene Verfahren in umgekehrter Reihenfolge durchgeführt, bis das Substrat die Vakuumbehandlungsanlage auf der Ausgansseite die Anlage verlässt. In the process chamber, the substrates are then transported at a constant speed. Upon reaching the second transfer chamber, the described process is performed in reverse order until the substrate leaves the plant on the exit side of the vacuum treatment plant.

Jede Vakuumbehandlungsanlage ist für eine vorgegebene Substratlänge und Substratbreite, d. h. für ein Standardsubstrat, ausgelegt. Die Substrate weisen dabei eine Substratbreite auf und die Breite der Vakuumkammern entspricht dieser Breite, d. h. die Breite der Vakuumkammern ist so groß wie die Substratbreite zuzüglich einer Zusatzbreite, die technisch zum Beispiel durch die Transportvorrichtung bedingt ist. Darüber hinaus weisen die Substrate eine Substratlänge auf und die Schleusenkammern, Pufferkammern und Transferkammern entsprechen dieser Länge, d. h. die Länge dieser Vakuumkammern ist so groß wie die Substratlänge zuzüglich einer Zusatzlänge. Die Prozesskammer ist üblicherweise deutlich länger als die Substratlänge, da eine Vielzahl von Behandlungsschritten eine entsprechende Behandlungsstrecke erfordert. Each vacuum processing system is for a given substrate length and substrate width, i. H. for a standard substrate. The substrates have a substrate width and the width of the vacuum chambers corresponds to this width, d. H. the width of the vacuum chambers is as large as the substrate width plus an additional width, which is technically conditioned, for example, by the transport device. In addition, the substrates have a substrate length and the lock chambers, buffer chambers and transfer chambers correspond to this length, i. H. the length of these vacuum chambers is as long as the substrate length plus an additional length. The process chamber is usually much longer than the substrate length, since a large number of treatment steps requires a corresponding treatment path.

Sollen nun kleinere Substrate als Standardsubstrate in einer Vakuumbehandlungsanlage behandelt werden, so können diese einzeln in die Vakuumbehandlungsanlage eingeschleust und in der Vakuumbehandlungsanlage transportiert werden. Hierbei ist es in der Regel nicht möglich die Lücken zwischen den einzelnen Substraten in der Transferkammer zu schließen, so dass in der Prozesskammer weiterhin große Lücken zwischen den einzelnen Substraten vorhanden sind. Dies führt zu einer drastischen Verschmutzung der Vakuumbehandlungsanlage, insbesondere der Transportvorrichtung, zu einem geringen Durchsatz, zu einer schlechten Ausnutzung der eingesetzten Beschichtungsmaterialien und zu einer unerwünschten Rückseitenbeschichtung der Substrate. Darüber hinaus werden die Beschichtungsbedingungen gestört, zum Beispiel die Homogenität eines Plasmas wird beeinflusst und es können Druckschwankungen in der Prozesskammer auftreten, so dass zum Beispiel die Homogenität bezüglich Dicke und Qualität der auf den Substraten aufgebrachte Schichten gestört werden. If now smaller substrates are to be treated as standard substrates in a vacuum treatment plant, they can be individually introduced into the vacuum treatment plant and transported in the vacuum treatment plant. In this case, it is generally not possible to close the gaps between the individual substrates in the transfer chamber, so that large gaps between the individual substrates continue to be present in the process chamber. This leads to a drastic contamination of the vacuum treatment plant, in particular the transport device, to a low throughput, to a poor utilization of the coating materials used and to an undesirable back coating of the substrates. In addition, the coating conditions are disturbed, for example, the homogeneity of a plasma is affected and there may be pressure fluctuations in the process chamber, so that, for example, the homogeneity in thickness and quality of the deposited on the substrates layers are disturbed.

Aus dem Stand der Technik ist bekannt, dass mehrere Substrate in einem Substratverbund in die Vakuumbehandlungsanlage eingebracht und durch die Vakuumbehandlungsanlage transportiert werden. So können zum Beispiel bei einer Anlage die für Substrate mit einer Substratlänge von 6500 mm ausgelegt ist, Substrate mit der Länge 3000 mm in einem Substratverbund bestehend aus zwei in Transportrichtung hintereinander angeordneten Substrate durch die Anlage transportiert werden. Dabei wird jeder Substratverbund als ein Standardsubstrat betrachtet. It is known from the prior art that a plurality of substrates in a composite substrate are introduced into the vacuum treatment plant and transported through the vacuum treatment plant. Thus, for example, in a system designed for substrates with a substrate length of 6,500 mm, substrates with a length of 3000 mm can be transported through the system in a substrate composite consisting of two substrates arranged behind one another in the transport direction. Each substrate composite is considered as a standard substrate.

Hierdurch werden die benannten Probleme deutlich reduziert. Allerdings verbleiben auch hier Lücken in einem Substratverbund, die zu den benannten Problemen führen. Diese Lücken sind zum Teil durch das Auflegen der Substrate auf einen vorgelagerten Tisch bedingt. Weiterhin muss beim Einbringen der Substrate ein Sicherheitsabstand zwischen den Substraten eines Substratverbundes eingehalten werden, um bei den hohen Beschleunigungen ein Zusammenstoßen der Substrate und damit ein Zerbrechen der Substrate zu vermeiden. This significantly reduces the named problems. However, here also gaps remain in a composite substrate, which lead to the named problems. These gaps are partly due to the placement of the substrates on an upstream table. Furthermore, during the introduction of the substrates, a safety margin must be maintained between the substrates of a composite substrate in order to avoid collision of the substrates and thus breakage of the substrates at the high accelerations.

Aufgabe der Erfindung ist es daher, die benannten Probleme weiter zu reduzieren, um kostengünstig die Behandlung von Substraten mit kleineren Abmaßen als die der Standardsubstrate mit hoher Qualität durchführen zu können. The object of the invention is therefore to further reduce the named problems in order to be able to inexpensively carry out the treatment of substrates with smaller dimensions than the standard substrates with high quality.

Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren zum Einschleusen von Substraten in eine Vakuumbehandlungsanlage mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen des Verfahrens sind Gegenstand abhängiger Unteransprüchen. This object is achieved by a method for introducing substrates into a vacuum treatment plant having the features of claim 1. Advantageous embodiments of the method are the subject of dependent claims.

Das erfindungsgemäße Verfahren zum Einschleusen von Substraten in eine Vakuumbehandlungsanlage beinhaltet die Verfahrensschritte Einbringen eines Substratverbundes aus mindestens zwei in Transportrichtung hintereinander angeordneten Substraten in eine Schleusenkammer, Transport des Substratverbundes in eine Transferkammer und Reduzierung der Abstände in Transportrichtung der Substrate innerhalb des Substratverbundes. The method according to the invention for introducing substrates into a vacuum treatment installation comprises the steps of introducing a substrate composite from at least two substrates arranged behind one another in the transport direction into a lock chamber, transporting the substrate assembly into a transfer chamber and reducing the distances in the transport direction of the substrates within the substrate composite.

Vor dem Ausschleusen der Substrate aus der Vakuumbehandlungsanlage hinaus werden üblicherweise die Abstände innerhalb eines Substratverbundes wieder vergrößert, um beim Ausschleusen mit hohen Geschwindigkeiten ein Zusammenstoßen der Substrate zu verhindern. Before the removal of the substrates from the vacuum treatment plant addition, the distances are usually increased again within a composite substrate to prevent the collapse of the substrates when discharging at high speeds.

Bevorzugt werden beim Einbringen des Substratverbundes in die Schleusenkammer, die Abstände in Transportrichtung innerhalb des Substratverbundes bestimmt. Dabei wird das Substrat in der Regel mit hoher Geschwindigkeit überführt, so dass die Bestimmung der Abstände nur grob erfolgen kann. Zur Bestimmung der Abstände kann zum Beispiel am Eingang der Schleusenkammer ein Sensor, bevorzugt ein optischer Sensor, vorgesehen sein, der das Vorhandensein oder Nichtvorhandensein eines Substrates am Eingang der Schleusenkammer detektiert. Mit der Information des Sensors und dem Voranschreiten des Transportmittels können sodann die Abstände bestimmt werden. When introducing the substrate composite into the lock chamber, which are preferred Distances in the transport direction within the composite substrate determined. In this case, the substrate is usually transferred at high speed, so that the determination of the distances can be made only roughly. To determine the distances, for example, at the entrance of the lock chamber, a sensor, preferably an optical sensor, be provided which detects the presence or absence of a substrate at the entrance of the lock chamber. With the information of the sensor and the progress of the means of transport then the distances can be determined.

Daher werden bei der Überführung eines Substratverbundes vom diskontinuierlichen Transport zum kontinuierlichen Transport in der Transferkammer die Abstände in Transportrichtung innerhalb des Substratverbundes nur grob reduziert. Es wird aufgrund der fehlerbehafteten Abstandsmessung ein Sicherheitsabstand beachtet. Hierzu ist üblicherweise neben einem Transportband als Transportmittel im vorderen Teil der Transferkammer mindesten ein Passingband als Transportmittel im hinteren Teil der Transferkammer vorgesehen. Nachdem das hinter Ende eines Substrates eines Substratverbundes das Transportband im vorderen Teil der Transferkammer verlässt, hierzu kann zum Beispiel ein Sensor, bevorzugt ein optischer Sensor, am Ende des Transportbandes im vorderen Teil der Transferkammer vorgesehen sein, wird der Transport des nachfolgenden Substrats des Substratverbundes so angepasst, dass die Lücke zwischen den beiden Substraten reduziert wird. Therefore, when transferring a composite substrate from the discontinuous transport to the continuous transport in the transfer chamber, the distances in the transport direction within the composite substrate are only roughly reduced. Due to the faulty distance measurement, a safety margin is observed. For this purpose, in addition to a conveyor belt as the transport means in the front part of the transfer chamber at least one pass band is provided as a means of transport in the rear part of the transfer chamber. After the rear end of a substrate of a composite substrate leaving the conveyor belt in the front part of the transfer chamber, this can for example be a sensor, preferably an optical sensor, be provided at the end of the conveyor belt in the front part of the transfer chamber, the transport of the subsequent substrate of the composite substrate so adjusted so that the gap between the two substrates is reduced.

Um die Abstände in Transportrichtung innerhalb eines Substratverbundes weiter zu reduzieren wird in der Transferkammer nach der groben Reduzierung der Abstände in Transportrichtung innerhalb eines Substratverbundes eine zweite Bestimmung der Abstände in Transportrichtung innerhalb eines Substratverbundes durchgeführt. Da hierbei die Bestimmung der Abstände bei einer geringeren Geschwindigkeit als bei der Überführung zwischen zwei Vakuumkammern erfolgt, können die Abstände mit guter Genauigkeit gemessen werden. Diese zweite Bestimmung kann zum Beispiel durch einen Sensor, bevorzugt einen optischen Sensor, am Ende eines Transportbandes im vorderen Teil der Transferkammer durchgeführt werden. In order to further reduce the distances in the transport direction within a composite substrate in the transfer chamber after the coarse reduction of the distances in the transport direction within a composite substrate, a second determination of the distances in the transport direction within a composite substrate. Since the distances are determined at a lower speed than during the transfer between two vacuum chambers, the distances can be measured with good accuracy. This second determination can be carried out, for example, by a sensor, preferably an optical sensor, at the end of a conveyor belt in the front part of the transfer chamber.

Diese zweite, genaue Bestimmung der Abstände in Transportrichtung innerhalb des Substratverbundes kann zur weiteren Anpassung der Abstände in Transportrichtung innerhalb des Substratverbundes verwendet werden. Nachdem das hinter Ende eines Substrates eines Substratverbundes das Transportband im hinteren Teil der Transferkammer verlässt, hierzu kann zum Beispiel ein Sensor, bevorzugt ein optischer Sensor, am Ende des Transportmittel im hinteren Teil der Transferkammer vorgesehen sein, wird der Transport des nachfolgenden Substrats des Substratverbundes, so angepasst, dass die Lücke zwischen den beiden Substraten weiter angepasst wird. Hierbei kann eine weitere Reduzierung des Abstandes vollzogen werden, es kann allerdings sein, dass aufgrund eines zu geringen Sicherheitsabstandes zwischen den Substraten der Abstand vergrößert wird. This second, accurate determination of the distances in the transport direction within the composite substrate can be used for further adaptation of the distances in the transport direction within the composite substrate. After the rear end of a substrate of a composite substrate leaves the conveyor belt in the rear part of the transfer chamber, for this purpose, for example, a sensor, preferably an optical sensor, be provided at the end of the transport in the rear part of the transfer chamber, the transport of the subsequent substrate of the composite substrate, adjusted so that the gap between the two substrates is further adjusted. In this case, a further reduction of the distance can be performed, but it may be that due to a too small safety distance between the substrates of the distance is increased.

Üblicherweise werden die Substrate nach dem Überführen vom diskontinuierlichen Transport zum kontinuierlichen Transport in der Transferkammer in einer anschließenden Prozesskammer einer Behandlung unterzogen. Usually, after the transfer from the discontinuous transport to the continuous transport in the transfer chamber in a subsequent process chamber, the substrates are subjected to a treatment.

In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung werden in der Transferkammer die Abstände in Transportrichtung zwischen zwei nachfolgenden Substratverbunden ebenfalls reduziert. In a preferred embodiment of the invention, the distances in the transport direction between two subsequent substrate composites are also reduced in the transfer chamber.

Dabei können die Abstände in Transportrichtung innerhalb eines Substratverbundes und die Abstände in Transportrichtung zwischen zwei nachfolgenden Substratverbunden in der Prozesskammer identisch eingestellt werden. Dies hat den Vorteil, dass im Prozessbereich die Prozessbedingungen möglichst gering beeinflusst werden, da die Lücken zwischen den Substraten alle identisch und sind. The distances in the transport direction within a composite substrate and the distances in the transport direction between two subsequent substrate composites in the process chamber can be set identical. This has the advantage that the process conditions in the process area are influenced as little as possible, since the gaps between the substrates are all identical and identical.

Im Folgenden wird ein Ausführungsbeispiel der Erfindung anhand der 1 näher erläutert. In the following, an embodiment of the invention with reference to the 1 explained in more detail.

1 zeigt eine Vakuumbehandlungsanlage mit mehreren Vakuumkammern C1 bis C7, wobei explizit die Kammern C1 bis C4 dargestellt sind. 1 shows a vacuum processing system with a plurality of vacuum chambers C1 to C7, wherein explicitly the chambers C1 to C4 are shown.

Der Transport der Substrate durch die Vakuumbehandlungsanlage 1 findet in der Prozesskammer C4 kontinuierlich, in den anderen Kammern C1–C3 und C5–C7 diskontinuierlich statt. The transport of the substrates through the vacuum treatment plant 1 takes place continuously in the process chamber C4 and discontinuously in the other chambers C1-C3 and C5-C7.

Dazu wird ein Ventil an der Eingangsseite der Eingangsschleusenkammer C1 geöffnet und beim Überführen eines Substratverbundes 2 von einem vorgelagerten Transportsystem in die Vakuumbehandlungsanlage 1 hinein wird der Abstand in Transportrichtung innerhalb des Substratverbundes mittels optischen Sensor S1 bestimmt. Da die Überführung des Substratverbundes 2 in die Vakuumbehandlungsanlage 1 mit hohen Geschwindigkeiten erfolgt, ist die Bestimmung dieses Abstandes noch fehlerbehaftet. Anschließend wird das Ventil geschlossen und die Eingangsschleusenkammer C1 auf einen vorgegebenen Druck evakuiert. For this purpose, a valve is opened at the input side of the entrance lock chamber C1 and during the transfer of a composite substrate 2 from an upstream transport system into the vacuum treatment plant 1 In the distance in the transport direction within the composite substrate is determined by means of optical sensor S1. Since the transfer of the substrate composite 2 in the vacuum treatment plant 1 At high speeds, the determination of this distance is still flawed. Subsequently, the valve is closed and the inlet lock chamber C1 is evacuated to a predetermined pressure.

Wenn der vorgegebene Druck erreicht ist, wird ein Ventil an der Eingangsseite der Pufferkammer C2 geöffnet, der Substratverbund 2 in die Pufferkammer C2 transportiert, das Ventil wieder geschlossen und die Pufferkammer C2 auf einen vorgegebenen Druck evakuiert. When the predetermined pressure is reached, a valve on the input side of the buffer chamber C2 is opened, the composite substrate 2 transported to the buffer chamber C2, the valve is closed again and the buffer chamber C2 evacuated to a predetermined pressure.

Nach Erreichen des Solldrucks in der Pufferkammer wird ein Ventil an der Eingangsseite der Transferkammer C3 geöffnet, das Substrat in die Transferkammer C3 transportiert und das Ventil wieder geschlossen. In der Transferkammer C3 wird der Druck so eingestellt, dass Beschichtungsmittel in der benachbarten Prozesskammer C4 nicht beschädigt werden. Weiterhin findet in der Transferkammer C3 der Übergang von diskontinuierlichem Transport zu kontinuierlichem Transport statt. Hierzu ist im Ausführungsbeispiel neben einem Transportband als Transportmittel im vorderen Teil der Transferkammer 3 ein Passingband 4 als Transportmittel im hinteren Teil der Transferkammer vorgesehen. After reaching the target pressure in the buffer chamber, a valve on the input side of the transfer chamber C3 is opened, the substrate is transported into the transfer chamber C3 and the valve is closed again. In the transfer chamber C3, the pressure is adjusted so that coating agents in the adjacent process chamber C4 are not damaged. Furthermore, in the transfer chamber C3, the transition from discontinuous transport to continuous transport takes place. For this purpose, in the exemplary embodiment next to a conveyor belt as a transport in the front part of the transfer chamber 3 a passing band 4 provided as a transport in the rear part of the transfer chamber.

Bei der Annäherung vom diskontinuierlichen zum kontinuierlichen Transport eines Substratverbundes 2 in der Transferkammer C3 wird zusätzlich zur Reduzierung des Abstandes zum vorangehenden Substratverbund 2 die Lücke im Substratverbund zwischen einem ersten Substrat 5 und einem zweiten Substrat 6 reduziert. Hierzu wird nachdem das erste Substrat 5 das Transportband im vorderen Teil der Transferkammer 3 verlassen hat, was mittels optischer Sensor S2 festgestellt werden kann, das zweite Substrat 6 mit Hilfe des Transportbands im vorderen Teil der Transferkammer 3 derart beschleunigt, dass der Abstand zwischen den Substraten 5 und 6 reduziert wird. Dabei wird ein Sicherheitsabstand eingehalten. Weiterhin wird mittels optischer Sensor S2 der reduzierte Abstand zwischen den beiden Substraten in einer zweiten Messung genau bestimmt. Verlässt nun beim Weitertransport das erste Substrat 5 das Passingband 4, was mittels Sensor S3 festgestellt werden kann, wird wiederum die Transportgeschwindigkeit des Passingbandes 4 derart angepasst, dass ein vorgegebener Abstand zwischen den beiden Substraten 5 und 6 eingestellt wird. Im Ausführungsbeispiel der 1 wurden die Abstände so eingestellt, dass sämtliche Abstände, die Abstände zwischen den Substratverbunden 2 und auch die Abstände innerhalb der Substratverbunde 2, gleich sind. In the approach from the discontinuous to the continuous transport of a composite substrate 2 in the transfer chamber C3 is in addition to reducing the distance to the previous substrate composite 2 the gap in the substrate composite between a first substrate 5 and a second substrate 6 reduced. For this purpose, after the first substrate 5 the conveyor belt in the front part of the transfer chamber 3 has left, which can be determined by means of optical sensor S2, the second substrate 6 with the help of the conveyor belt in the front part of the transfer chamber 3 accelerated so that the distance between the substrates 5 and 6 is reduced. A safety distance is maintained. Furthermore, the reduced distance between the two substrates is precisely determined by means of an optical sensor S2 in a second measurement. Leaves the first substrate during further transport 5 the passing band 4 , which can be detected by means of sensor S3, in turn, the transport speed of the passing band 4 adapted such that a predetermined distance between the two substrates 5 and 6 is set. In the embodiment of 1 The distances were set so that all distances, the distances between the substrate connected 2 and also the distances within the substrate composites 2 , are the same.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

1 1
Vakuumbehandlungsanlage Vacuum treatment plant
2 2
Substratverbund substrate composite
3 3
Transportband im vorderen Teil der Transferkammer Conveyor belt in the front part of the transfer chamber
4 4
Passingband Passingband
5 5
Erstes Substrat First substrate
6 6
Zweites Substrat Second substrate
C1 C1
Eingangsschleusenkammer Entrance lock chamber
C2 C2
Pufferkammer buffer chamber
C3 C3
Transferkammer transfer chamber
C4 C4
Prozesskammer process chamber
C5 C5
Transferkammer transfer chamber
C6 C6
Pufferkammer buffer chamber
C7 C7
Ausgangsschleusenkammer Exit lock chamber
S1 S1
optischer Sensor optical sensor
S2 S2
optischer Sensor optical sensor
S3 S3
optischer Sensor optical sensor

Claims (7)

Verfahren zum Einschleusen von Substraten in eine Vakuumbehandlungsanlage (1) mit folgenden Verfahrensschritten: – Einbringen eines Substratverbundes (2) aus mindestens zwei in Transportrichtung hintereinander angeordneten Substraten in eine Schleusenkammer (C1); – Transport des Substratverbundes (2) in eine Transferkammer (C3); – Reduzierung der Abstände in Transportrichtung der Substrate innerhalb des Substratverbundes (2). Method for introducing substrates into a vacuum treatment plant ( 1 ) with the following process steps: introduction of a substrate composite ( 2 ) of at least two in the transport direction successively arranged substrates in a lock chamber (C1); - Transport of the substrate composite ( 2 ) in a transfer chamber (C3); Reduction of the distances in the transport direction of the substrates within the composite substrate ( 2 ). Verfahren zum Einschleusen von Substraten in eine Vakuumbehandlungsanlage (1) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass beim Einbringen des Substratverbundes (2) in die Schleusenkammer (C1), die Abstände in Transportrichtung innerhalb des Substratverbundes (2) bestimmt werden. Method for introducing substrates into a vacuum treatment plant ( 1 ) according to claim 1, characterized in that when introducing the composite substrate ( 2 ) in the lock chamber (C1), the distances in the transport direction within the composite substrate ( 2 ). Verfahren zum Einschleusen von Substraten in eine Vakuumbehandlungsanlage (1) nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass in der Transferkammer (C3) eine zweite Bestimmung der Abstände in Transportrichtung innerhalb eines Substratverbundes (2) durchgeführt wird. Method for introducing substrates into a vacuum treatment plant ( 1 ) according to claim 2, characterized in that in the transfer chamber (C3) a second determination of the distances in the transport direction within a composite substrate ( 2 ) is carried out. Verfahren zum Einschleusen von Substraten in eine Vakuumbehandlungsanlage (1) nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Bestimmung der Abstände in Transportrichtung innerhalb des Substratverbundes (2) zur weiteren Anpassung der Abstände in Transportrichtung innerhalb des Substratverbundes (2) verwendet wird. Method for introducing substrates into a vacuum treatment plant ( 1 ) according to claim 3, characterized in that the second determination of the distances in the transport direction within the composite substrate ( 2 ) for further adaptation of the distances in the transport direction within the composite substrate ( 2 ) is used. Verfahren zum Einschleusen von Substraten in eine Vakuumbehandlungsanlage (1) nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass anschließend die Substrate in einer Prozesskammer (C4) behandelt werden. Method for introducing substrates into a vacuum treatment plant ( 1 ) according to one of the preceding claims, characterized in that subsequently the substrates are treated in a process chamber (C4). Verfahren zum Einschleusen von Substraten in eine Vakuumbehandlungsanlage (1) nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in der Transferkammer (C3) die Abstände in Transportrichtung zwischen zwei nachfolgenden Substratverbunde (2) reduziert wird. Method for introducing substrates into a vacuum treatment plant ( 1 ) according to one of the preceding claims, characterized in that in the transfer chamber (C3) the distances in the transport direction between two subsequent substrate composites ( 2 ) is reduced. Verfahren zum Einschleusen von Substraten in eine Vakuumbehandlungsanlage (1) nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Abstände in Transportrichtung innerhalb eines Substratverbundes (2) und die Abstände in Transportrichtung zwischen zwei nachfolgenden Substratverbunden (2) in der Prozesskammer (C4) identisch eingestellt werden. Method for introducing substrates into a vacuum treatment plant ( 1 ) according to claim 6, characterized in that the distances in the transport direction within a composite substrate ( 2 ) and the distances in the transport direction between two subsequent substrate composites ( 2 ) are set identically in the process chamber (C4).
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