Die
Erfindung bezieht sich auf das Gebiet der elektronischen Reproduktionstechnik
und betrifft ein Verfahren zur Gravur von Druckformen in einer elektronischen
Graviermaschine.The
Invention relates to the field of electronic reproduction technology
and relates to a method for engraving printing forms in an electronic
Engraving machine.
In
der DE 25 08 734 C werden
bereits Aufbau und Wirkungsweise einer elektronischen Graviermaschine
zur Gravur von Druckformen beschrieben. Ein Gravierorgan weist einen
von einem Graviersteuersignal angetriebenen Gravierstichel als Schneidwerkzeug
auf. Während
sich das Gravierorgan in Achsrichtung an einem rotierenden Druckzylinder
entlang bewegt, schneidet der Gravierstichel gravierlinienweise
in einem orthogonalen Gravurraster angeordnete Näpfchen in den Druckzylinder.
Das orthogonale Gravurraster ist in Umfangsrichtung des Druckzylinders
(Gravierrichtung) und in Achsrichtung des Druckzylinders (Vorschubrichtung)
ausgerichtet.In the DE 25 08 734 C The structure and mode of operation of an electronic engraving machine for engraving printing forms have already been described. An engraving element has an engraving stylus driven by an engraving control signal as a cutting tool. While the engraving element moves in the axial direction along a rotating printing cylinder, the engraving stylus cuts wells arranged in the orthogonal engraving grid into the printing cylinder. The orthogonal engraving grid is aligned in the circumferential direction of the printing cylinder (engraving direction) and in the axial direction of the printing cylinder (feed direction).
Das
Graviersteuersignal wird durch Überlagerung
eines periodischen Rastersignals mit einem Graviersignal gebildet,
das durch Digital/Analog-Wandlung aus gespeicherten Gravurdaten
gewonnen wird. Das periodische Rastersignal erzeugt das Gravurraster,
und die Graviersignalwerte repräsentieren
die in Form der Näpfchen
zu reproduzierenden Dichtewerte zwischen "Licht" und "Tiefe".The
Engraving control signal is by overlay
a periodic raster signal is formed with an engraving signal,
by digital / analog conversion from stored engraving data
is won. The periodic grid signal generates the engraving grid,
and represent the engraving signal values
the in the form of the well
reproducible density values between "light" and "depth".
Bei
der Gravur von Druckformen für
einen hochwertigen Druck bereitet die glatte, geschlossene Wiedergabe
von Konturen ein besonderes Problem. Die Gravierorte der Näpfchen auf
einer Druckform sind durch das Gravurraster fest vorgegeben, Konturen
verlaufen dagegen willkürlich
zum Gravurraster, so daß schräg zum Gravurraster
verlaufende Konturen durch die im Gravurraster gravierten Näpfchen ohne
besondere Maßnahmen
nur mit störenden Treppenstrukturen
reproduziert werden können.at
the engraving of printing forms for
high-quality printing prepares the smooth, closed reproduction
of contours a particular problem. The engraving locations of the wells
a printing form is predetermined by the engraving grid, contours
run against it arbitrarily
to the engraving grid, so that at an angle to the engraving grid
running contours through the wells engraved in the engraving grid without
special measures
only with annoying stair structures
can be reproduced.
Eine
glatte Wiedergabe von Konturen kann bei der Gravur von Druckformen
grundsätzlich
durch eine höhere
Auflösung,
d.h. durch Verwendung eines feineren Gravurrasters, erreicht werden.
Die Gravur von Näpfchen
in einem feinen Gravurraster mittels eines Bearbeitungsstrahls,
beispielsweise eines Laserstrahls, bereitet keine Schwierigkeiten,
erfolgt die Gravur jedoch mit einem mechanischen Gravierstichel,
lassen sich in nachteiliger Weise nur Näpfchen mit relativ kleinem
Volumen gravieren, so daß im Druck
oft nicht die erforderliche Druckdichte erreicht wird. Dies ist
insbesondere im Verpackungsdruck von Nachteil, bei dem beispielsweise
auf Zigarettenverpackungen feine Schriften mit einer großen Druckdichte
erzeugt werden sollen.A
Smooth rendering of contours can be used when engraving printing forms
in principle
by a higher one
Resolution,
i.e. by using a finer engraving grid.
The engraving of cells
in a fine engraving grid using a processing beam,
for example a laser beam, does not pose any difficulties,
however, the engraving takes place with a mechanical engraving stylus,
can be disadvantageously only cells with a relatively small
Engrave volume so that in print
often the required print density is not achieved. This is
a disadvantage especially in packaging printing, for example
on cigarette packaging fine fonts with a high printing density
should be generated.
Aus
der DE 24 53 610 A ist
es grundsätzlich schon
bekannt, eine glattere Wiedergabe von Konturen bei der Belichtung
von Druckformen dadurch zu erreichen, daß Rasterpunkte, die im Bereich
einer Kontur Zwischendichtewerte darstellen, mittels eines ablenkbaren
Belichtungsstrahls aus den an sich durch das Druckraster vorgegebenen
Belichtungspositionen in den Konturverlauf verlagert werden.From the DE 24 53 610 A it is basically already known to achieve a smoother reproduction of contours in the exposure of printing forms in that halftone dots, which represent intermediate density values in the area of a contour, are shifted from the exposure positions, which are predetermined per se by the printing grid, into the contour course by means of a deflectable exposure beam.
Nach
diesem Prinzip läßt sich
z.B. auch mit einer Laser-Graviermaschine eine glattere Wiedergabe
von Konturen erreichen, da Näpfchen
an Konturen auf einfache Weise durch eine gesteuerte Ablenkung des
Bearbeitungsstrahls verlagert werden können.To
this principle can be
e.g. smoother reproduction even with a laser engraving machine
of contours as well
on contours in a simple way by a controlled deflection of the
Machining beam can be shifted.
Um
auch bei der Gravur von Druckformen mittels eines Gravierstichels
eine glattere Konturenwiedergabe zu erzielen, ist es schon bekannt,
Näpfchen
im Bereich von Konturen durch eine besondere Ansteuerung des Gravierstichels
oder durch eine gesteuerte mechanische Verschiebung des Gravierstichels
gegenüber
der Druckform zu verlagern.Around
also when engraving printing forms using an engraving stylus
to achieve a smoother contour rendering, it is already known
wells
in the area of contours through a special control of the engraving stylus
or by a controlled mechanical displacement of the engraving stylus
across from
to shift the printing form.
In
der DE 27 59 718 C wird
ein Verfahren zur Gravur von Druckformen mit einem Gravierstichel
beschrieben, bei dem an einer Kontur liegende Näpfchen dadurch in Gravierrichtung
verlagert werden, daß der
Gravierstichel mit zwei zeitlich versetzten Gravierinformationen
pro Näpfchen
angesteuert wird.In the DE 27 59 718 C. describes a method for engraving printing forms with an engraving stylus, in which wells lying on a contour are displaced in the engraving direction in that the engraving stylus is actuated with two temporally offset engraving information per well.
In
der DE 27 39 977 C wird
ein Verfahren zur Gravur von Druckformen mit einem Gravierstichel
beschrieben, bei dem für
eine Kontur relevante Näpfchen
durch eine gesteuerte Phasenverschiebung zwischen Rastersignal und
Graviersignal in Gravierrichtung verlagert werden.In the DE 27 39 977 C describes a method for engraving printing forms with an engraving stylus, in which wells relevant for a contour are shifted in the engraving direction by a controlled phase shift between raster signal and engraving signal.
In
der US 5 663 803 A wird
ein anderes Verfahren zur Gravur von Druckformen mit einem Gravierstichel
angegeben, bei dem der Gravierstichel zur Verlagerung von Näpfchen in
Gravierrichtung zusätzlich
durch ein Korrektursignal angesteuert wird, das aus dem Bewegungsprofil
des Gravierstichels an der Kontur abgeleitet wird. Ein ähnliches
Verfahren ist auch aus der US
5 886 792 A bekannt.In the US 5,663,803 A Another method for engraving printing forms with an engraving stylus is specified, in which the engraving stylus for displacing cells in the engraving direction is additionally controlled by a correction signal which is derived from the movement profile of the engraving stylus on the contour. A similar process is also out of the US 5 886 792 A known.
In
der US 5 847 837 ist
ein Graviersystem und ein Verfahren zur Gravur von Näpfchen beschrieben,
wobei die Näpfchen
sich überlappen,
und die Näpfchenvolumina
ohne Verminderung der Bildauflösung
vergrößert werden.In the US 5,847,837 describes an engraving system and a method for engraving wells, the wells overlapping one another and the well volumes being increased without reducing the image resolution.
In
der EP 0 925 188 B wird
ein weiteres Verfahren zur Gravur von Druckformen mit einem Gravierstichel
beschrieben, der durch ein piezoelektrisches Aktorelement angetrieben
wird. Bei diesem Verfahren werden Näpfchen an einer Kontur dadurch in
Vorschubrichtung verlagert, daß der
Gravierstichel mittels eines Stellgliedes axial verschoben wird.
Eine Verlagerung von Näpfchen
in Gravierrichtung wird dadurch erreicht, daß eine Lesetaktfolge zum Auslesen
von gespeicherten Gravurdaten oder die Einschaltpunkte für das Graviersteuersignal
zeitlich verändert
werden.In the EP 0 925 188 B describes a further method for engraving printing forms with an engraving stylus which is driven by a piezoelectric actuator element. In this method, cups are shifted on a contour in the feed direction in that the engraving stylus is axially displaced by means of an actuator. A Displacement of cups in the engraving direction is achieved in that a reading cycle sequence for reading out stored engraving data or the switch-on points for the engraving control signal are changed over time.
In
der DE 199 52 996 A ist
ein Gravierorgan angegeben, bei dem eine Welle parallel zur Drehachse
des Druckzylinders angeordnet und ein Gravierstichel direkt an der
Welle befestigt ist. In diesem Fall wird an einer Kontur eine Verlagerung
von Näpfchen in
Vorschubrichtung durch eine gesteuerte axiale Verschiebung der Welle
mit dem Gravierstichel durch ein elektrisch steuerbares Stellglied
vorgenommen.In the DE 199 52 996 A an engraving element is specified in which a shaft is arranged parallel to the axis of rotation of the printing cylinder and an engraving stylus is attached directly to the shaft. In this case, a displacement of cups in the feed direction is carried out by a controlled axial displacement of the shaft with the engraving stylus by an electrically controllable actuator.
In
der DE 100 17 547 A wird
ein ganz anderes Verfahren zur Gravur von Druckformen vorgestellt.
Dort wird aus dem Graviersteuersignal ein Histogramm und durch Auswertung
des Histogramms ein Kontursteuersignal gewonnen. Das Graviersteuersignal
wird dann zwecks verbesserter Konturenwiedergabe durch eine von
dem Kontursteuersignal gesteuerte Signalschwelle oder nach einer
von dem Kontursteuersignal ausgewählten Korrekturkurve geändert.In the DE 100 17 547 A a completely different process for engraving printing forms is presented. There a histogram is obtained from the engraving control signal and a contour control signal is obtained by evaluating the histogram. The engraving control signal is then changed for the purpose of improved contour reproduction by a signal threshold controlled by the contour control signal or according to a correction curve selected by the contour control signal.
Bei
diesem Verfahren wird eine Glättung
von Konturen unter Beibehaltung der Näpfchenpositionen im Gravurraster
dadurch erzielt, daß diejenigen Näpfchen,
welche Zwischendichtewerte wiedergeben, eliminiert und diejenigen
Näpfchen, welche
die vollen Dichtewerte "Licht" und "Tiefe" repräsentieren, an
der Kontur konzentriert werden.at
this procedure becomes a smoothing
of contours while maintaining the well positions in the engraving grid
achieved by the fact that wells
which reflect intermediate density values, eliminated and those
Cups, which
represent the full density values "light" and "depth"
the contour can be concentrated.
Aus
der EP 1 044 808 A ist
ein Verfahren zur Gewinnung von Gravurdaten für die Gravur von Druckformen
bekannt, bei dem zur detaillierteren Wiedergabe von Strichelementen
ein von einem Grundraster abweichendes Arbeitsraster in Abhängigkeit
von den Geometrie der Strichelemente gewählt wird.From the EP 1 044 808 A. A method for obtaining engraving data for the engraving of printing forms is known, in which a working grid deviating from a basic grid is selected depending on the geometry of the line elements for the more detailed reproduction of line elements.
In
der noch nicht veröffentlichen
deutschen Patentanmeldung 101 16 250.2 wird ein Verfahren für eine Liniengravur
angegeben, bei dem zur besseren Wiedergabe von Details der Abstand
der Gravierlinien voneinander in Abhängigkeit von der zu gravierenden
Information bereichsweise verkleinert wird.In
who doesn't publish yet
German patent application 101 16 250.2 is a method for line engraving
specified, with the distance for better reproduction of details
of the engraving lines depending on the one to be engraved
Information is reduced in some areas.
Aufgabe
der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren zur Gravur von
Druckformen in einer elektronischen Graviermaschine derart zu verbessern,
daß bei
Verwendung eines mechanischen Gravierstichels als Schneidwerkzeug
für die
Näpfchen auf
einfache Weise eine glattere Wiedergabe von Konturen unter Beibehaltung
eines großen
Näpfchenvolumens
und damit einer hohen Druckdichte beim späteren Druck erzielt wird.task
The present invention is a method for engraving
To improve printing forms in an electronic engraving machine in such a way
that at
Use of a mechanical engraving stylus as a cutting tool
for the
Well on
simple way of maintaining a smoother rendering of contours
of a big one
Näpfchenvolumens
and thus a high printing density is achieved in later printing.
Diese
Aufgabe wird durch die Merkmale des Anspruchs 1 gelöst.This
The object is solved by the features of claim 1.
Vorteilhafte
Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben.advantageous
Refinements and developments of the invention are specified in the subclaims.
Die
Erfindung wird nachfolgend anhand der 1 bis 5 näher erläutert.The invention is based on the 1 to 5 explained in more detail.
Es
zeigen:It
demonstrate:
1 ein prinzipielles Blockschaltbild
einer elektronischen Graviermaschine zur Gravur von Druckformen, 1 a basic block diagram of an electronic engraving machine for engraving printing forms,
2 eine Untersuchungsmatrix
für Gravurdaten, 2 an examination matrix for engraving data,
3 einen Ablaufplan zur Entscheidungsfindung, 3 a schedule for decision making,
4a eine Näpfchenanordnung
in einem Ausschnitt der gravierten Druckform, für den Fall, daß im Bereich
einer Kontur eine Näpfchenverschiebung
unzulässig
ist, 4a a well arrangement in a section of the engraved printing form, in the event that a well displacement is not permitted in the area of a contour,
4b eine Näpfchenanordnung
in einem Ausschnitt der gravierten Druckform für den Fall, daß im Bereich
einer Kontur eine Näpfchenverschiebung nach
links durchgeführt
wird, 4b a well arrangement in a section of the engraved printing form in the event that a well is shifted to the left in the area of a contour,
4c eine Näpfchenanordnung
in einem Ausschnitt der gravierten Druckform für den Fall, daß im Bereich
einer Kontur eine Näpfchenverschiebung nach
rechts durchgeführt
wird, 4c a well arrangement in a section of the engraved printing form in the event that a well is shifted to the right in the area of a contour,
4d eine Näpfchenanordnung
in einem Ausschnitt der gravierten Druckform für den Fall, daß keine
Näpfchenverschiebung
durchgeführt
wird und 4d a well arrangement in a section of the engraved printing form in the event that no well displacement is carried out and
5 eine schematische Darstellung
zur Umsortierung von Gravurdaten. 5 a schematic representation for the re-sorting of engraving data.
1 zeigt ein prinzipielles
Blockschaltbild einer elektronischen Graviermaschine zur Gravur von
Druckformen. Die Graviermaschine ist beispielsweise ein HelioKlischograph® der
Firma Hell Gravure Systems, Kiel, DE. 1 shows a basic block diagram of an electronic engraving machine for engraving printing forms. The engraving machine is, for example, a HelioKlischograph ® from Hell Gravure Systems, Kiel, DE.
Ein
Druckzylinder (1) wird von einem Zylinderantrieb (2)
gedreht. Ein Gravierorgan (3) mit einem Gravierstichel
(4) als Schneidwerkzeug ist auf einem Gravierwagen (5)
montiert, der mittels einer von einem Gravierwagenantrieb (6)
angetriebenen Spindel (7) in Achsrichtung des Druckzylinders
(1) verfahrbar ist.A pressure cylinder ( 1 ) is driven by a cylinder drive ( 2 ) turned. An engraving organ ( 3 ) with an engraving stylus ( 4 ) as a cutting tool is on an engraving trolley ( 5 ) mounted by means of an engraving carriage drive ( 6 ) driven spindle ( 7 ) in the axial direction of the impression cylinder ( 1 ) is movable.
Während der
Gravur schneidet der durch ein Graviersteuersignal GS gesteuerte
Gravierstichel (4) Näpfchen
(9) in den rotierenden Druckzylinder (1), die
auf in Umfangsrichtung verlaufenden, kreisförmigen Gravierlinien (8)
angeordnet sind. Dabei bewegt sich das Gravierorgan (3)
zur flächenhaften
Gravur schrittweise von Gravierlinie (8) zu Gravierlinie
(8) in Achsrichtung an dem Druckzylinder (1) entlang.During engraving, the engraving stylus (controlled by an engraving control signal GS ( 4 ) Cup ( 9 ) in the rotating pressure cylinder ( 1 ) on circular engraving lines running in the circumferential direction ( 8th ) are arranged. The engraving element moves ( 3 ) for extensive engraving step by step from the engraving line ( 8th ) to engraving line ( 8th ) in the axial direction on the pressure cylinder ( 1 ) along.
Die
Gravierorte der Näpfchen
(9) auf den Gravierlinien (8) sind durch ein orthogonales
Gravurraster festgelegt, das in Umfangsrichtung (Gravierrichtung)
und in Achsrichtung (Vorschubrichtung) des Druckzylinders (1)
orientiert ist.The engraving locations of the cells ( 9 ) on the engraving lines ( 8th ) are defined by an orthogonal engraving grid that extends in the circumferential direction (engraving direction) and in the axial direction (feed direction) of the printing cylinder ( 1 ) is oriented.
Der
Gravierlinienabstand d zwischen den Gravierlinien (8) entspricht
der Vorschubschrittweite des Gravierorgans (3) und ist
von der axialen Rasterweite w des verwendeten Gravurrasters gemäß Gleichung
(I) abhängig: The engraving line spacing d between the engraving lines ( 8th ) corresponds to the feed increment of the engraving element ( 3 ) and is dependent on the axial grid width w of the engraving grid used according to equation (I):
Die
durch das Gravurraster vorgegebenen Gravierorte auf den Gravierlinien
(8) sind durch Ortskoordinaten x und y eines der Mantelfläche des Druckzylinders
(1) zugeordneten XY-Koordinatensystems definiert, dessen
X-Koordinatenachse in Achsrichtung und dessen Y-Koordinatenachse
in Umfangsrichtung des Druckzylinders (1) ausgerichtet ist.The engraving locations specified by the engraving grid on the engraving lines ( 8th ) are one of the lateral surface of the printing cylinder due to the location coordinates x and y ( 1 ) assigned XY coordinate system, whose X coordinate axis in the axial direction and whose Y coordinate axis in the circumferential direction of the printing cylinder ( 1 ) is aligned.
Der
Gravierwagenantrieb (6) erzeugt die Ortskoordinate x, welche
laufend die axialen Positionen des Gravierstichels (4)
gegenüber
dem Druckzylinder (1) und damit die jeweilige axiale Lage
der aktuellen Gravierorte auf den Gravierlinien (8) angibt. Ein
mit dem Druckzylinder (1) mechanisch gekoppelter Positionsgeber
(10) erzeugt die Ortskoordinate y, welche laufend die Umfangslage
des rotierenden Druckzylinders (1) gegenüber dem
Gravierstichel (4) und damit die jeweilige umfangsmäßige Lage
der aktuellen Gravierorte auf den Gravierlinien (8) signalisiert.
Die Ortskoordinaten x und y werden über Leitungen (11)
einem zentralen Graviersteuerwerk (12) zugeführt.The engraving carriage drive ( 6 ) generates the location coordinate x, which continuously shows the axial positions of the engraving stylus ( 4 ) compared to the impression cylinder ( 1 ) and thus the respective axial position of the current engraving locations on the engraving lines ( 8th ) indicates. One with the impression cylinder ( 1 ) mechanically coupled position transmitter ( 10 ) generates the spatial coordinate y, which is continuously the circumferential position of the rotating printing cylinder ( 1 ) opposite the engraving stylus ( 4 ) and thus the respective circumferential position of the current engraving locations on the engraving lines ( 8th ) signals. The location coordinates x and y are 11 ) a central engraving control unit ( 12 ) fed.
Das
Graviersteuersignal GS für
das Gravierorgan (3) wird in einem Gravierverstärker (13)
durch Überlagerung
eines Graviersignals G mit einem periodischen Rastersignals R gewonnen,
das in dem Graviersteuerwerk (12) gebildet und dem Gravierverstärker (13) über eine
Leitung (14) zugeführt
wird. Das Rastersignal R bewirkt eine periodische Hubbewegung des
Gravierstichels (4) zur Erzeugung des Gravurrasters, und
die Werte des Graviersignals G sind ein Maß für die Abmessungen und damit
für die Dichtewerte
der zu gravierenden Näpfchen
(9) im Dichtebereich zwischen "Licht" und "Tiefe".The engraving control signal GS for the engraving element ( 3 ) is in an engraving amplifier ( 13 ) obtained by superimposing an engraving signal G with a periodic raster signal R, which in the engraving control unit ( 12 ) and the engraving amplifier ( 13 ) via a line ( 14 ) is supplied. The raster signal R causes a periodic stroke movement of the engraving stylus ( 4 ) to generate the engraving grid, and the values of the engraving signal G are a measure of the dimensions and thus of the density values of the wells to be engraved ( 9 ) in the density range between "light" and "depth".
Das
Graviersignal G wird durch Digital/Analog-Wandlung von Gravurdaten
GD in einem D/A-Wandler (15) gewonnen. Jedem zu gravierenden
Näpfchen
(9) ist ein Gravurdatum GD mit einem Wertebereich von beispielsweise "1" bis "255" zugeordnet,
wobei das Gravurdatum "1" dem Dichtewert "Tiefe" (Volltonnäpfchen),
das Gravurdatum "161" dem Dichtewert "Licht" (lichtes Näpfchen)
und das Gravurdatum "255" einem Dichtewert "Superweiß" entspricht, bei
dem der Gravierstichel (4) oberhalb der Druckformoberfläche in einer
Ruhestellung positioniert ist. Zur besseren Wiedergabe von Konturen
in Gravierrichtung können
jedem Näpfchen
gemäß der DE 27 59 718 C mindestens
zwei zeitlich versetzte Gravurdaten GD zugeordnet sein.The engraving signal G is obtained by digital / analog conversion of engraving data GD in a D / A converter ( 15 ) won. Each well to be engraved ( 9 ) is assigned an engraving date GD with a value range of, for example, "1" to "255", the engraving date "1" being the density value "depth" (full-tone cup), the engraving date "161" being the density value "light" (light cup) and that Engraving date "255" corresponds to a density value "Super white", at which the engraving stylus ( 4 ) is positioned above the printing form surface in a rest position. For better reproduction of contours in the engraving direction, each well can be used according to the DE 27 59 718 C. at least two time-shifted engraving data GD can be assigned.
Die
Gravurdaten GD[x][y] sind gravierlinienweise in einem in X-Richtung
(Vorschubrichtung) und Y-Richtung (Gravierrichtung) orientierten
Gravurdatenspeicher (16) abgelegt, in dem jedem Gravierort
in dem Gravurraster ein Speicherplatz zugeordnet ist. Die Speicherplätze sind
durch Speicheradressen x und y adressierbar, die den Ortskoordinaten
der Gravierorte entsprechen.The engraving data GD [x] [y] are engraved line by wedge in an engraving data memory oriented in the X direction (feed direction) and Y direction (engraving direction) ( 16 ) in which a storage location is assigned to each engraving location in the engraving grid. The memory locations can be addressed by memory addresses x and y, which correspond to the location coordinates of the engraving locations.
Die
Speicheradresse x adressiert jeweils eine aktuelle zu gravierende
Gravierlinie (8) und die Speicheradresse y die Gravurdaten
GD der auf der aktuellen Gravierlinie (8) zu gravierenden
Näpfchen (9).
Die Speicheradressen x und y werden in dem Graviersteuerwerk (12)
erzeugt und dem Gravurdatenspeicher (16) über Adreßleitungen
(17) zugeführt.The memory address x addresses a current engraving line to be engraved ( 8th ) and the memory address y the engraving data GD of the on the current engraving line ( 8th ) to engrave wells ( 9 ). The memory addresses x and y are stored in the engraving control unit ( 12 ) and the engraving data memory ( 16 ) via address lines ( 17 ) fed.
Eine
in dem Graviersteuerwerk (12) erzeugte und dem Gravurdatenspeicher
(16) über
eine Leitung (18) zugeführte
Lesetaktfolge TS synchronisiert das Auslesen
der Gravurdaten GD aus dem Gravurdatenspeicher (16) mit
der Vorschubbewegung des Gravierorgans (3) und der Rotationsbewegung
des Druckzylinders (1).One in the engraving control unit ( 12 ) generated and the engraving data memory ( 16 ) via a line ( 18 ) supplied clock pulse sequence T S synchronizes the reading of the engraving data GD from the engraving data memory ( 16 ) with the feed movement of the engraving member ( 3 ) and the rotational movement of the impression cylinder ( 1 ).
Die
Gravurdaten GD für
das jeweilige Gravurraster werden in einem Rasterrechner (19)
aus Quelldaten QD interpoliert, die in einem Quelldatenspeicher
(20) in einer von dem jeweiligen Gravurraster unabhängigen Originalauflösung adressierbar
gespeichert sind. Die Interpolation der Gravurdaten GD aus den Quelldaten
QD kann vollständig
vor der Gravur oder aber "on
the fly" während der
Gravur des Druckzylinders (1) erfolgen.The engraving data GD for the respective engraving grid are stored in a grid computer ( 19 ) interpolated from source data QD, which is stored in a source data memory ( 20 ) are stored addressably in an original resolution independent of the respective engraving grid. The interpolation of the engraving data GD from the source data QD can be done completely before the engraving or "on the fly" during the engraving of the printing cylinder ( 1 ) respectively.
Die
Quelldaten QD werden beispielsweise durch optoelektronische Abtastung
von Vorlagen und durch Zusammenrechnen nach einem Layoutplan zu dem
Quelldatenbestand der zur gravierenden Druckform in einer Workstation
gewonnen. Die Interpolation von Gravurdaten GD aus gespeicherten
Quelldaten QD erfolgt beispielsweise nach der DE 43 35 214 C .The source data QD are obtained, for example, by optoelectronic scanning of templates and by adding them together according to a layout plan for the source data stock of the printing form to be engraved in a workstation. The interpolation of engraving data GD from stored source data QD takes place, for example, after DE 43 35 214 C. ,
Eine
glattere Wiedergabe von Konturen wird gemäß der Neuerung dadurch erreicht,
daß Zwischengravierlinien
eingefügt
werden, daß ein
Größenvergleich
zwischen benachbarten Näpfchen durchgeführt wird,
um die Zulässigkeit
und die Richtung einer Näpfchenverschiebung
festzustellen, und daß bei
Zulässigkeit
kleinere Näpfchen
im Bereich von Konturen durch axiales Verschieben auf die Zwischengravierlinien
in der festgestellten Richtung an größere Näpfchen der Konturen zwecks
einer Konturenglättung
herangezogen werden.A
According to the innovation, smoother reproduction of contours is achieved by
that intermediate engraving lines
added
be that a
size comparison
between neighboring cells
about admissibility
and the direction of a cell shift
determine, and that at
admissibility
smaller cells
in the area of contours by moving axially on the intermediate engraving lines
in the direction determined to larger cells of the contours
a contour smoothing
be used.
Das
Verfahren gemäß der Neuerung
wird nachfolgend näher
erläutert.The
Procedure according to the innovation
will be closer below
explained.
In
einem Verfahrensschritt [A] wird zunächst zwecks Erhöhung der
axialen Auflösung
bei der Gravur die Anzahl der Gravierlinien (8) vergrößert, indem jeweils
zwischen zwei benachbarte, an sich durch das Gravurraster vorgegebene
Hauptgravierlinien (8')
mindestens eine Zwischengravierlinie (8'')
eingefügt
wird.In a process step [A], the number of engraving lines ( 8th ) enlarged by in each case between two adjacent main engraving lines (which are predetermined by the engraving grid) ( 8th' ) at least one intermediate engraving line ( 8th'' ) is inserted.
Dadurch
verringert sich der Gravierlinienabstand d, und die erforderliche
Vorschubschrittweite des Gravierorgans (3) von Gravierlinie
zu Gravierlinie ergibt sich gemäß Gleichung
(II) zu: mit:
w = axiale Rasterweite
des Gravurrasters und
p = Anzahl der gewählten ZwischengravierlinienThis reduces the engraving line spacing d, and the required feed increment of the engraving member ( 3 ) from engraving line to engraving line results according to equation (II): With:
w = axial grid of the engraving grid and
p = number of selected intermediate engraving lines
sWird
beispielsweise eine Zwischengravierlinie (8'')
eingefügt,
verringert sich mit p = 1 der Gravierlinienabstand auf d = w/4,
werden zwei Zwischengravierlinien (8'')
eingefügt,
verringert sich mit p = 2 der Gravierlinienabstand auf d = w/6.For example, if an intermediate engraving line ( 8th'' ) inserted, if the engraving line spacing decreases to d = w / 4 with p = 1, two intermediate engraving lines ( 8th'' ) inserted, the engraving line spacing is reduced to d = w / 6 with p = 2.
Die
Anzahl der Zwischengravierlinien (8'') kann
manuell über
einen Programmiereingang (21) in das Graviersteuerwerk
(12) eingegeben werden. In dem Graviersteuerwerk (12)
wird dann ein Steuerbefehl S auf einer Leitung (22) an
den Gravierwagenantrieb (6) erzeugt, mit dem die an den
neuen Gravierlinienabstand angepaßte Vorschubschrittweite des Gravierorgans
(3) eingestellt wird. Gleichzeitig wir die Adressierung
des Gravurdatenspeichers (16) entsprechend dem kleineren
Gravierlinienabstand geändert.The number of intermediate engraving lines ( 8th'' ) can be done manually via a programming input ( 21 ) in the engraving control unit ( 12 ) can be entered. In the engraving control unit ( 12 ) then a control command S on a line ( 22 ) to the engraving carriage drive ( 6 ) with which the feed increment of the engraving element (adapted to the new engraving line spacing) 3 ) is set. At the same time, the addressing of the engraving data memory ( 16 ) changed according to the smaller engraving line spacing.
Das
Anzahl der Zwischengravierlinien (8'') zwischen
jeweils zwei Hauptgravierlinien (8') ist normalerweise über die
gesamte axiale Länge
des Druckzylinders (1) konstant. Es liegt aber im Rahmen der
Erfindung, das Einfügen
von Zwischengravierlinien (8'') auf axiale
Bereiche des Druckzylinders (1), in denen Konturen liegen,
zu begrenzen, um die Gravierzeit zu verkürzen.The number of intermediate engraving lines ( 8th'' ) between two main engraving lines ( 8th' ) is usually along the entire axial length of the impression cylinder ( 1 ) constant. However, it is within the scope of the invention to insert intermediate engraving lines ( 8th'' ) on axial areas of the impression cylinder ( 1 ) in which there are contours in order to shorten the engraving time.
Es
liegt ferner im Rahmen der Erfindung, in denjenigen axialen Bereichen
des Druckzylinders (1), in denen Konturen mit unterschiedlichen
axialen Auflösungen
graviert werden sollen, eine unterschiedliche Anzahl von Zwischengravierlinien
(8'') einzustellen.It is also within the scope of the invention in those axial areas of the pressure cylinder ( 1 ) in which contours with different axial resolutions are to be engraved, a different number of intermediate engraving lines ( 8th'' ) to set.
Die
Anzahl von Zwischengravierlinien (8'') kann
in bevorzugter Weise durch eine automatische Konturenuntersuchung
im Gravurdatenbestand ermittelt und eingestellt werden.The number of intermediate engraving lines ( 8th'' ) can be determined and set in a preferred manner by an automatic contour examination in the engraving database.
In
einem Verfahrensschritt [B] wird jedes zu gravierende Näpfchen (9)
durch einen Größenvergleich
mit den benachbarten, innerhalb eines Umfeldes liegenden Näpfchen darauf
hin untersucht, ob eine axiale Verschiebung eines Näpfchens
(9) auf eine Zwischengravierlinie (8'') im Bereich einer Kontur aufgrund
der Raster- und Näpfchengeometrie
zulässig
ist und wenn ja, in welcher Richtung die axiale Verschiebung der
Näpfchen
(9) erfolgen muß,
um eine gute Glättung
zu erreichen.In a process step [B], each well to be engraved ( 9 ) by means of a size comparison with the neighboring wells lying within an environment to determine whether an axial displacement of a well ( 9 ) on an intermediate engraving line ( 8th'' ) is permissible in the area of a contour due to the grid and cell geometry and, if so, in which direction the axial displacement of the cell ( 9 ) must be done to achieve a good smoothing.
Der
Größenvergleich
kann anhand der Näpfchenflächen, d.h.
derjenigen Flächen,
welche die Näpfchen
(9) in der Druckformoberfläche einnehmen, der Näpfchenvolumina,
der linearen Abmessungen, wie der Längsdiagonalen und der Querdiagonalen,
oder aber anhand der Quelldaten QD oder der Gravurdaten GD vorgenommen
werden.The size comparison can be made on the basis of the well areas, ie the areas that the wells ( 9 ) in the printing form surface, the cell volumes, the linear dimensions, such as the longitudinal diagonal and the transverse diagonal, or on the basis of the source data QD or the engraving data GD.
In
einem praktischen Ausführungsbeispiel erfolgt
der Größenvergleich
der Näpfchen
(9) anhand der im Gravurdatenspeicher (16) gravierlinienweise abgelegten
Gravurdaten GD mit Hilfe einer Untersuchungsmatrix (23),
die in dem Gravurdatenspeicher (16) schrittweise von Speicherplatz
zu Speicherplatz über
die Gravurdaten GD verschoben wird.In a practical embodiment, the size of the cells is compared ( 9 ) based on the data in the engraving data memory ( 16 ) Engraving data GD stored in engraving lines with the help of an examination matrix ( 23 ) stored in the engraving data memory ( 16 ) is gradually shifted from memory location to memory location via the engraving data GD.
2 zeigt eine Untersuchungsmatrix
(23) mit beispielsweise 3 × 3-Matrixelementen (24),
wobei in jeder Position der Untersuchungsmatrix (23) das Gravurdatum
GD[x][y] eines zu untersuchenden Näpfchens (9) in dem
zentralen Matrixelement (24*) und die Gravurdaten GD[x][y]
der benachbarten Näpfchen
(9) in den das zentrale Matrixelement (24*) umgebenden
Matrixelementen (24) liegen. 2 shows an examination matrix ( 23 ) with, for example, 3 × 3 matrix elements ( 24 ), whereby in every position of the examination matrix ( 23 ) the engraving date GD [x] [y] of a well to be examined ( 9 ) in the central matrix element ( 24 * ) and the engraving data GD [x] [y] of the neighboring cells ( 9 ) in which the central matrix element ( 24 * ) surrounding matrix elements ( 24 ) lie.
In
jeder Position erfaßt
die Untersuchungsmatrix (23) somit drei Gravurdaten GD[x][y]
einer Hauptgravierlinie (8')
mit der Speicheradresse [x] und jeweils drei Gravurdaten GD[x][y]
der beiden unmittelbar benachbarten Hauptgravierlinien (8') mit den Speicheradressen
[x – 1]
und [x + 1].The examination matrix ( 23 ) thus three engraving data GD [x] [y] of a main engraving line ( 8th' ) with the memory address [x] and three engraving data GD [x] [y] of the two immediately adjacent main engraving lines ( 8th' ) with the memory addresses [x - 1] and [x + 1].
Die
jeweils in die Untersuchungsmatrix (23) fallenden Gravurdaten
GD[x][y] werden in einem Rechner (25) ausgewertet, um gemäß dem Ablaufplan
nach 3 folgende Entscheidungen
a) und b) zu treffen: The respective in the examination matrix ( 23 ) falling engraving data GD [x] [y] are stored in a computer ( 25 ) evaluated to according to the schedule 3 make the following decisions a) and b):
a)
Ist eine axiale Verschiebung eines untersuchten Näpfchens
(9) von einer Hauptgravierlinie (8') auf eine Zwischengravierlinie
(8'') zulässig?a) Is there an axial displacement of an examined well ( 9 ) from a main engraving line ( 8th' ) on an intermediate engraving line ( 8th'' ) allowed?
Bei
der axialen Verschiebung eines Näpfchens
(9) auf eine Zwischengravierlinie (8'') muß sichergestellt sein, daß es aufgrund
seiner Größe keine
Näpfchen
(9) auf einer Hauptgravierlinie (8') berührt oder sich mit diesen überlappt
und daß gegebenenfalls
minimale Näpfchenabstände, beispielsweise Durchstiche
und Stege zwischen den Näpfchen
(9), nicht verloren gehen.With the axial displacement of a well ( 9 ) on an intermediate engraving line ( 8th'' ) it must be ensured that due to its size there are no cells ( 9 ) on a main engraving line ( 8th' ) touches or overlaps with each other and that there may be minimal cell distances, e.g. punctures and webs between the cells ( 9 ), do not get lost.
Die
Zulässigkeit
einer axialen Verschiebung eines Näpfchens (9) ist von
der Rasterweite des jeweiligen Gravurrasters, dem gewählte Gravierlinienabstand,
den Breiten von Durchstichen und/oder Stegen und von den linearen
Ausdehnungen der Näpfchen
(9), wie den Längsdiagonalen
und den Querdiagonalen, abhängig
und wird durch einen Größenvergleich
von Geometriewerten oder von aus den Geometriewerten abgeleiteten
Gravurdaten GD festgestellt.The permissibility of an axial displacement of a well ( 9 ) depends on the grid size of the respective engraving grid, the selected engraving line spacing, the widths of punctures and / or webs and on the linear dimensions of the cells ( 9 ), such as the longitudinal diagonals and the transverse diagonals, and is determined by a size comparison of geometry values or of engraving data GD derived from the geometry values.
4a zeigt eine Näpfchenanordnung
in einem Ausschnitt der gravierten Druckform für den Fall, daß im Bereich
einer Kontur eine Näpfchenverschiebung
unzulässig
ist. Eine axiale Verschiebung der Näpfchen (9') von einer
Hauptgravierlinie (8')
auf eine Zwischengravierlinie (8'')
ist aufgrund der Größenverhältnisse
der Näpfchen
(9) nicht möglich,
da sich die Näpfchen
(9') bei
einer axialen Verschiebung auf eine Zwischengravierlinie (8'') mit den auf der Hauptgravierlinie
(8') liegenden
Näpfchen
(9'', 9''') berühren bzw. überlappen
würden. 4a shows a well arrangement in a section of the engraved printing form in the event that a well displacement in the area of a contour is not permitted. An axial displacement of the cells ( 9 ' ) from a main engraving line ( 8th' ) on an intermediate engraving line ( 8th'' ) is due to the size of the cells ( 9 ) not possible because the cells ( 9 ' ) with an axial shift to an intermediate engraving line ( 8th'' ) with those on the main engraving line ( 8th' ) lying cells ( 9 '' . 9 ''' ) would touch or overlap.
In
dem praktischen Ausführungsbeispiel
wird die Entscheidung a) jeweils durch einen Größenvergleich des Gravurdatums
GD[x][y] des untersuchten Näpfchens
(9) mit einem aus der oben genannten Geometrie ermittelten,
zulässigen
Gravurdatum GDZUL gemäß Gleichung (III) und dem Ablaufplan (3; S1)
getroffen: GD[x][y] ≥ GDZUL (III) In the practical exemplary embodiment, the decision a) is in each case made by comparing the size of the engraving date GD [x] [y] of the well examined ( 9 ) with a permissible engraving date GD ZUL determined from the above-mentioned geometry according to equation (III) and the schedule ( 3 ; S 1 ) hit: GD [x] [y] ≥ GD ZUL (III)
In
einem Rechenbeispiel möge
bei einem Gravurraster "70" und einem Rasterwinkel "0" die axiale Rasterweite des Gravurrasters
w = 230 μm,
die Querdiagonale ei nes Näpfchens
mit dem Dichtewert "Tiefe" (Volltonnäpfchen)
dQ = 190μm
bei einer Durchstichbreite dD = 30μm, die Querdiagonale
eines Näpfchens
mit dem Dichtewert "Licht" (lichtes Näpfchen)
dQ = 30μm
und die gewünschte
Stegbreite dS = 5μm betragen. Der Gravierlinienabstand
nach Gleichung (II) möge
bei der angenommenen Rasterweite w = 230μm und einer eingefügten Zwischengravierlinie
(p = 1) d = 57,5μm
sein.In a calculation example with an engraving grid of "70" and a grid angle of "0", the axial grid width of the engraving grid w = 230 μm, the transverse diagonal of a cup with the density value "depth" (solid bowl) d Q = 190μm with a piercing width d D = 30μm, the transverse diagonal of a well with the density value "light" (light well) d Q = 30μm and the desired web width d S = 5μm. The engraving line spacing according to equation (II) may be d = 57.5 μm with the assumed raster width w = 230 μm and an inserted intermediate engraving line (p = 1).
Daraus
ergibt sich eine maximal zulässige Querdiagonale
eines zu verschiebendes Näpfchens von
dQZUL = 2 (d – dD/2 – dS) = 2(57,5μm – 15μm – 5μm) = 75μm. Eine maximal zulässige Querdiagonale
dQZUL = 75μm entspricht etwa einem maximal
zulässigem
Gravurdatum GDZUL = 115, so daß alle Näpfchen mit
einen Gravurdatum GD ≥ GDZUL = 115 verschoben werden dürfen, da
Berührungen
und Überlappungen
mit benachbarten Volltonnäpfchen
ausgeschlossen sind.This results in a maximum permissible transverse diagonal of a well to be shifted from d QZUL = 2 (d - d D / 2 - d S ) = 2 (57.5μm - 15μm - 5μm) = 75μm. A maximum permissible transverse diagonal d QZUL = 75μm corresponds approximately to a maximum permissible engraving date G DZUL = 115, so that all cups with an engraving date GD ≥ G DZUL = 115 may be moved, since touching and overlapping with neighboring full-tone cups are excluded.
Ist
die axiale Verlagerung eines untersuchten Näpfchens (9) auf eine
Zwischengravierlinie (8'') zulässig, wird
Entscheidung b) gefällt,
anderenfalls wird die Untersuchungsmatrix (23) auf den
nächsten Speicherplatz
des Gravurdatenspeichers (16) verschoben, um ein neues
Näpfchen
(9) zu untersuchen.Is the axial displacement of an examined well ( 9 ) on an intermediate engraving line ( 8th'' ) is permitted, decision b) is made, otherwise the examination matrix ( 23 ) to the next storage location of the engraving data memory ( 16 ) moved to a new cell ( 9 ) to investigate.
b)
Soll eine axiale Verschiebung des untersuchten Näpfchens (9) stattfinden
oder nicht und wenn ja, in welcher Richtung?b) If an axial displacement of the examined cell ( 9 ) take place or not and if so, in which direction?
Um
diese Entscheidung zu treffen, wird ein Größenvergleich zwischen den links
und rechts des untersuchten Näpfchens
(9') benachbart
liegenden Näpfchen
(9'', 9''')
durchgeführt.In order to make this decision, a size comparison is made between the left and right of the examined cell ( 9 ' ) adjacent cells ( 9 '' . 9 ''' ) carried out.
Wird
beim Größenvergleich
festgestellt, daß entweder
die links oder die recht benachbart liegenden Näpfchen (9'', 9''') ein Übergewicht
aufweisen, erfolgt eine axiale Verschiebung des untersuchten Näpfchens
(9') auf
eine Zwischengravierlinie (8'') in Richtung
derjenigen benachbarten Näpfchen
(9''), die beim
Größenvergleich
das Übergewicht
haben.If the size comparison shows that either the left or the right adjacent cells ( 9 '' . 9 ''' ) are overweight, there is an axial displacement of the examined well ( 9 ' ) on an intermediate engraving line ( 8th'' ) in the direction of those neighboring cells ( 9 '' ) who are overweight when comparing sizes.
4b zeigt eine Näpfchenanordnung
für den
Fall, daß im
Bereich einer Kontur die links liegenden Näpfchen (9'') gegenüber den rechts liegenden Näpfchen (9''')
ein Übergewicht
haben und die untersuchten, kleineren Näpfchen (9') nach links
auf eine Zwischengravierlinie (8'')
axial verschoben und damit zwecks Konturenglättung an die größeren Näpfchen (9'') herangerückt werden. 4b shows a well arrangement for the case that in the area of a contour the wells on the left ( 9 '' ) opposite the wells on the right ( 9 ''' ) are overweight and the examined smaller wells ( 9 ' ) to the left on an intermediate engraving line ( 8th'' ) axially displaced and thus to smooth the contours of the larger cells ( 9 '' ) can be brought closer.
4c zeigt eine Näpfchenanordnung
für den
Fall, daß im
Bereich einer Kontur die rechts liegenden Näpfchen (9''')
gegenüber
den links liegenden Näpfchen
(9'') ein Übergewicht
haben und die untersuchten, kleineren Näpfchen (9') nach rechts auf
eine Zwischengravierlinie (8'') axial verschoben und
damit zwecks Konturenglättung
an die größeren Näpfchen (9''')
herangerückt
werden. 4c shows a well arrangement for the case that in the area of a contour the wells on the right ( 9 ''' ) opposite the wells on the left ( 9 '' ) are overweight and the examined smaller wells ( 9 ' ) to the right on an intermediate engraving line ( 8th'' ) axially displaced and thus to smooth the contours of the larger cells ( 9 ''' ) can be brought closer.
Wird
beim Größenvergleich
kein Übergewicht
festgestellt, unterbleibt eine Kontur vor und eine axiale Verlagerung
des untersuchten Näpfchens
(9') auf
eine Zwischengravierlinie (8''), auch wenn
eine Verlagerung gemäß Entscheidung
a) zulässig
wäre.If no overweight is found in the size comparison, there is no contour and no axial displacement of the examined cell ( 9 ' ) on an intermediate engraving line ( 8th'' ), even if a relocation according to decision a) would be permissible.
4d zeigt eine entsprechende
Näpfchenanordnung
für den
Fall, daß im
Bereich einer Kontur keine axiale Verschiebung der untersuchten
Näpfchen
(9') durchgeführt wird,
da die links und rechts liegenden Näpfchen (9'', 9''') gleich groß sind. 4d shows a corresponding well Arrangement in the event that there is no axial displacement of the cells examined in the area of a contour ( 9 ' ) is carried out because the wells on the left and right ( 9 '' . 9 ''' ) are the same size.
Der
Größenvergleich
wird in dem beschriebenen Ausführungsbeispiel
ebenfalls anhand der Gravurdaten GD[x][y] mit Hilfe der Untersuchungsmatrix
(23) durchgeführt,
indem in jeder Position der Untersuchungsmatrix (23) zunächst die
innerhalb der Untersuchungsmatrix (23) liegenden drei Gravurdaten
GD[x][y] jeder der beiden benachbarten Gravierlinien (x – 1) und
(x + 1) gemäß den Gleichung
(IV) und dem Ablaufplan (3;
S2) aufaddiert werden. ΣA = GD[x – 1][y – 1] + GD[x – 1][y]
+ GD[x – 1][y
+ 1] (IV) ΣB = GD[x + 1][y – 1] + GD[x
+ 1][y] + GD[x + 1][y + 1] (IV) The size comparison in the described exemplary embodiment is also based on the engraving data GD [x] [y] with the aid of the examination matrix ( 23 ) carried out in each position of the examination matrix ( 23 ) first the one within the investigation matrix ( 23 ) lie three engraving data GD [x] [y] of each of the two adjacent engraving lines (x - 1) and (x + 1) according to equation (IV) and the flow chart ( 3 ; S 2 ) can be added together. ΣA = GD [x - 1] [y - 1] + GD [x - 1] [y] + GD [x - 1] [y + 1] (IV) ΣB = GD [x + 1] [y - 1] + GD [x + 1] [y] + GD [x + 1] [y + 1] (IV)
Zur
Feststellung eines eventuell vorhandenen Übergewichts werden dann die
Summen ΣA
und ΣB gemäß dem Ablaufplan
(3; S3 und
S4) miteinander verglichen.To determine a possible excess weight, the sums ΣA and ΣB are then calculated according to the schedule ( 3 ; S 3 and S 4 ) compared with each other.
Wird
ein Übergewicht
(ΣA > ΣB oder ΣB > ΣA)
festgestellt, erfolgt eine axiale Verschiebung des untersuchten
Näpfchens
(9') auf
eine Zwischengravierlinie (8'') in Richtung
der benachbarten Näpfchen (9'', 9'''), deren Gravurdaten
GD das Übergewichts haben.If an overweight (ΣA> ΣB or ΣB> ΣA) is determined, the examined well is axially displaced ( 9 ' ) on an intermediate engraving line ( 8th'' ) in the direction of the neighboring cells ( 9 '' . 9 ''' ), whose engraving data GD are overweight.
Wird
dagegen kein Übergewicht
(ΣA ≌ ΣB) der benachbart
liegenden Näpfchen
(9'', 9''')
gegenüber
dem untersuchten Näpfchen
(9') festgestellt,
unterbleibt eine axiale Verlagerung des untersuchten Näpfchens
(9') auf
eine Zwischengravierlinie (8'') und die Untersuchungsmatrix
(23) wird auf den nächsten Speicherplatz
des Gravurdatenspeichers (16) verschoben, um ein neues
Näpfchen
zu untersuchen.On the other hand, if there is no obesity (ΣA ≌ ΣB) of the adjacent wells ( 9 '' . 9 ''' ) compared to the well investigated ( 9 ' ) is determined, there is no axial displacement of the examined cell ( 9 ' ) on an intermediate engraving line ( 8th'' ) and the examination matrix ( 23 ) to the next storage location of the engraving data memory ( 16 ) postponed to examine a new cell.
Um
die Konturenwiedergabe weiter zu verbessern, ist es von Vorteil,
zur Ermittlung eines Übergewichts
anstelle der aus den Quelldaten QD interpolierten Gravurdaten GD
die Quelldaten QD selbst heranzuziehen.Around
to further improve the contour rendering, it is an advantage
to determine an overweight
instead of the engraving data GD interpolated from the source data QD
to use the source data QD itself.
In
einem Verfahrensschritt [C] werden dann die in dem Gravurdatenspeicher
(16) abgelegte und untersuchten Gravurdaten GD mittels
des Rechners (25) umsortiert, indem in dem Gravurdatenspeicher (16)
zunächst
die Speicherplätze
pro Gravierlinie (8) um die Anzahl von einzufügenden Zwischengravierlinien
(8'') erweitert
werden und die Adressierung der Speicherplätze des Gravurdatenspeichers
(16) derart vorgenommen wird, daß jeweils nach einem Vorschubschritt
des Gravierorgans (3) eine Hauptgravierlinie (8') oder eine
Zwischengravierlinien (8'') adressiert
wird.In a method step [C], the data stored in the engraving data memory ( 16 ) stored and examined engraving data GD by means of the computer ( 25 ) resorted by in the engraving data memory ( 16 ) first the storage locations per engraving line ( 8th ) by the number of intermediate engraving lines to be inserted ( 8th'' ) are expanded and the addressing of the memory locations of the engraving data memory ( 16 ) is carried out in such a way that after a feed step of the engraving member ( 3 ) a main engraving line ( 8th' ) or an intermediate engraving line ( 8th'' ) is addressed.
Anschließend werden
die Gravurdaten GD im Bereich einer Kontur in Abhängigkeit
von den zuvor getroffenen Entscheidungen für eine Verschiebung von einem
alten Speicherplatz einer Hauptgravierlinie (8') auf einen
entsprechenden neu geschaffenen Speicherplatz einer Zwischengravierlinie
(8'') in X-Richtung
umgespeichert.Then the engraving data GD in the area of a contour are dependent on the decisions made previously for a shift from an old storage location of a main engraving line ( 8th' ) to a corresponding newly created storage location of an intermediate engraving line ( 8th'' ) stored in the X direction.
Um
Vorbereitungszeit einzusparen, erweist es sich als zweckmäßig, die
Interpolation der Gravurdaten GD aus den Quelldaten QD und/oder
die Verfahrensschritte [B] und [C] nicht zeitlich nacheinander,
sondern gleichzeitig durchzuführen.
In diesem Fall erfolgt vor der Gravur die Datenbearbeitung nur für die Start-Gravierlinie
und einige weitere Gravierlinien (8), während die Datenbearbeitung
für die übrigen Gravierlinien
(8) bei der Gravur "on
the fly" durchgeführt wird.In order to save preparation time, it proves to be expedient not to carry out the interpolation of the engraving data GD from the source data QD and / or the method steps [B] and [C] one after the other, but simultaneously. In this case, before the engraving, the data is only processed for the start engraving line and a few other engraving lines ( 8th ), while data processing for the remaining engraving lines ( 8th ) the engraving is carried out "on the fly".
5 zeigt schematisch die
Umsortierung von Gravurdaten GD in einem Bereich des Gravurdatenspeichers
(16). Dargestellt sind ausschnittsweise die als Kreise
symbolisierten Speicherplätze
von drei Hauptgravierlinien (8') und zwei dazwischen liegenden
Zwischengravierlinien (8'') nach der beschriebenen
Erweiterung des Gravurdatenspeichers (16). Bei der Umsortierung
werden im Bereich von Konturen Gravurdaten GD von ihren Speicherplätzen der Hauptgravierlinien
(8') auf
die entsprechenden Speicherplätze
der Zwischengravierlinien (8'') verschoben.
Die nach der Umsortierung mit Gravurdaten GD belegten Speicherplätze sind
mit "x" in den Kreisen markiert. 5 shows schematically the re-sorting of engraving data GD in an area of the engraving data memory ( 16 ). The memory locations symbolized as circles of three main engraving lines ( 8th' ) and two intermediate engraving lines ( 8th'' ) after the described expansion of the engraving data memory ( 16 ). When resorting, in the area of contours, engraving data GD are saved from their storage locations of the main engraving lines ( 8th' ) to the corresponding storage locations of the intermediate engraving lines ( 8th'' ) postponed. The storage locations occupied after the reordering with engraving data GD are marked with "x" in the circles.
Nach
der Umsortierung der Gravurdaten GD kann die Gravur der Druckform
beginnen.To
the resort of the engraving data GD can the engraving of the printing form
kick off.
Falls
nach der Umsortierung der Gravurdaten GD festgestellt wird, daß auf die
Speicherplätze von
Zwischengravierlinien (8'') keine Gravurdaten GD
umgespeichert wurden, können
diese Zwischengravierlinien (8'')
zwecks Verkürzung
der Gravierzeit eliminiert werden, indem die Vorschubschrittweite des
Gravierorgans (3) in dem entsprechenden Bereich auf den
Normalabstand zwischen zwei Hauptgravierlinien (8') gesetzt wird
und der Gravierstichel (4) während des Vorschubschritts
mit einem dem Gravurdatum GD = 255 ("Superweiß") entsprechenden Graviersteuersignalwert
GS angesteuert wird, bei dem der Gravierstichel (4) nicht
mit der Druckformoberfläche
in Berührung
kommt.If it is determined after the reordering of the engraving data GD that the storage locations of intermediate engraving lines ( 8th'' ) no engraving data GD has been saved, these intermediate engraving lines ( 8th'' ) in order to reduce the engraving time by eliminating the feed increment of the engraving member ( 3 ) in the corresponding area to the normal distance between two main engraving lines ( 8th' ) is set and the engraving stylus ( 4 ) during the feed step with a engraving control signal value GS corresponding to the engraving date GD = 255 ("super white"), at which the engraving stylus ( 4 ) does not come into contact with the printing form surface.
Um
auch die Wiedergabe von Konturen in Gravierrichtung zu verbessern,
kann eines der bekannten und bereits in der Beschreibungseinleitung genannten
Verfahren verwendet werden.Around
also improve the reproduction of contours in the engraving direction,
can be one of the known and already mentioned in the introduction
Procedures are used.