DE10053831C1 - Spannungsversorgungsanordnung für Halbleiterspeicheranordnung - Google Patents
Spannungsversorgungsanordnung für HalbleiterspeicheranordnungInfo
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Abstract
Die Erfindung betrifft eine Spannungsversorgungsanordnung für eine Halbleiterspeicheranordnung mit einem einseitig terminierten Bussystem (2), bei der eine Terminierungs-Spannungsversorgung (Vttn) und ein Terminierungswiderstand (Rtermn) in einen DRAM (Dn) integriert sind.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Spannungsversorgungs
anordnung für eine Halbleitervorrichtung, insbesondere eine
Halbleiterspeicheranordnung, mit einem Controller und einem
Bussystem, das einerseits an den Controller und andererseits
über einen Terminierungswiderstand an eine Terminierungs-
Spannungsversorgung angeschlossen und mit dem die Halbleiter
speicheranordnung verbunden ist.
Aus der DE 44 45 846 A1 ist eine Schaltungsanordnung für den
Abschluss einer zu einer integrierten CMOS-Schaltung führen
den Leitung bekannt. Als Abschlusswiderstand wird dabei ein
Feldeffekttransistor innerhalb der integrierten Schaltung an
geordnet. Dabei wird, da die Versorgungsspannung insgesamt
0 V beträgt, ein p-Kanal-FET eingesetzt.
Wieterhin beschreibt die DE 43 22 658 A1 einen Abschlusswi
derstandsschaltkreis für eine Busleitung, in welcher eine
Stromquellenleitung, eine Signalleitung und eine Erdungslei
tung zwischen Computergeräten über jeweilige Abschlüsse ver
bunden sind. Ein Eingangsanschluss eines Reglers ist mit der
Stromquellenleitung verbunden, und der Abschluss ist zwischen
dem Ausgangsabschluss des Reglers und der Signalleitung vor
gesehen. Eine Zenerdiode liegt so zwischen dem Ausgangsan
schluss und der Erdungsleitung, dass der Kathodenanschluss
und der Anodenanschluss jeweils mit dem Ausgangsanschluss des
Reglers bzw. der Erdungsleitung verbunden sind.
Fig. 2 zeigt eine bestehende Spannungsversorgungsanordnung
für eine Halbleiterspeicheranordnung 1 aus DRAMs D1, D2, . . .,
Dn. Diese Halbleiterspeicheranordnung 1 ist an ein Bussystem
2 angeschlossen, das sich auf einer gedruckten Schaltungs
platte PCB (PCB = Printed Circuit Board) befindet. Dieses
Bussystem 2 ist an seinem einen Ende mit einem Speicher-
Controller MEMC verbunden und dabei insbesondere an einen
Treiber (Driver) DRV und an einen Empfänger (Receiver) REC
angeschlossen. Anstelle einer Halbleiterspeicheranordnung
kann auch eine andere Halbleitervorrichtung mit der Span
nungsversorgungsanordnung verbunden sein.
An seinem ausgangsseitigen anderen Ende weist das Bussystem 2
einen in SMD-Technik (SMD = Surface Mounted Device) auf der
gedruckten Schaltungsplatte PCB vorgesehenen externen Termi
nierungswiderstand Rterm auf, der außerdem an eine externe
Spannungsversorgung Vtt angeschlossen ist, die zwischen dem
Potenzial VSS und diesem externen Terminierungswiderstand
Rterm liegt. Bei dieser externen Spannungsversorgung Vtt kann
es sich um einen Transformator mit einem Spannungsregelele
ment handeln. Die von der externen Spannungsversorgung Vtt
gelieferte Terminierungsspannung ist so eingestellt, dass ei
ne Eingangs-/Ausgangs- bzw. I/O-Schaltung I/O für den Spei
chercontroller MEMC und die DRAMs D1, D2, . . ., Dn, die über
das Bussystem 2 die Halbleiterspeicheranordnung 1 antreibt,
sich betriebsmäßig in einem geeigneten Arbeitspunkt befindet.
Der Terminierungswiderstand Rterm absorbiert hierzu eine vom
Speicher-Controller MEMC oder die DRAMs D1, D2, . . ., Dn über
das Bussystem 2 geschickte Welle und ist dabei so bemessen,
dass sein Widerstandswert der charakteristischen Impedanz der
Leitung des Bussystems 2 entspricht.
Die externe Ausführung des Terminierungswiderstandes Rterm
und der Terminierungssgannungsversorgung Vtt führt dazu, dass
hinsichtlich einer ständig erwünschten Erhöhung der Packungs
dichte der Spannungsversorgungsanordnung für die Halbleiter
speichervorrichtung 1 nicht der Speicher-Controller MEMC oder
das Bussystem 2, sondern vielmehr gerade die externe Verdrah
tung aus diesem Terminierungswiderstand Rterm und der Span
nungsversorgung Vtt limitierend wirkt. Mit anderen Worten,
höhere Packungsdichten lassen sich wegen dieser viel Raum be
anspruchenden externen Verdrahtung nicht erzielen.
Ein weiterer Nachteil der bestehenden Spannungsversorgungs
anordnung liegt in der in SMD-Technik auf der gedruckten
Schaltungsplatte PCB angebrachten Platzierung des Terminie
rungswiderstandes Rterm. Durch die Montage in SMD-Technik be
wirken die parasitären Effekte des Terminierungswiderstandes
Rterm nämlich eine Reduzierung der Terminierungsbandbreite.
Es ist daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Span
nungsversorgungsanordnung für eine Halbleiterspeicheranord
nung zu schaffen, bei der der Terminierungswiderstand und die
Terminierungs-Versorgungsspannung äußerst stabil sind, sodass
parasitäre Erscheinungen im Terminierungswiderstand praktisch
nicht auftreten.
Diese Aufgabe wird bei einer Spannungsversorgungsanordnung
der eingangs genannten Art erfindungsgemäß durch die im kennzeichnenden
Teil des Patentanspruches 1 enthaltenen Merkmale
gelöst.
Die Halbleiterspeicheranordnung besteht aus mehreren DRAMs,
und in jeden DRAM sind ein Terminierungswiderstand und eine
Terminierungs-Spannungsversorgung integriert. Bei einer sol
chen, aus mehreren DRAMs bestehenden Halbleiterspeicheranord
nung sind dann aber nur die Terminierungs-Spannungsversorgung
und der Terminierungswiderstand des busmäßig geeignetsten
DRAMs, nämlich des vom Speicher-Controller auf dem Bussystem
am weitesten entfernten DRAMs, aktiviert. Damit ist es mög
lich, alle DRAMs mit einem Terminierungswiderstand und einer
Terminierungsspannungsversorgung auszustatten, sodass die
DRAMs in gleicher Weise hergestellt werden können. Werden die
DRAMs dann mit dem Bussystem verbunden, so wird ein bustech
nisch sinnvoller DRAM, nämlich ausgehend von dem Speicher-
Controller der auf dem Bussystem letzte DRAM, hinsichtlich
seines Terminierungswiderstandes und seiner Terminierungs
spannungsversorgung aktiviert, während in allen übrigen DRAMs
der Terminierungswiderstand und die Terminierungsspannungs
versorgung deaktiviert bleiben.
Auf diese Weise wird eine Integration des Terminierungswider
standes und der Terminierungsspannungsversorgung in die Halb
leiterspeicheranordnung vorgenommen, sodass auf eine externe
Verdrahtung für den Terminierungswiderstand und die Terminie
rungsspannungsversorgung verzichtet werden kann.
Infolge der Integration des Terminierungswiderstandes und der
Terminierungsspannungsversorgung in die einzelnen DRAMs bzw.
allgemein in die Halbleiterspeicheranordnung werden parasitäre
Erscheinungen reduziert und beispielsweise auch Ground-
Bounce-Effekte drastisch vermindert. Außerdem kann eine er
hebliche Erhöhung der Packungsdichte erreicht werden, da kei
ne Limitierung infolge einer externen Verdrahtung für den
Terminierungswiderstand und die Terminierungsspannungsversor
gung mehr vorliegt.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand der Zeichnungen näher
erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 ein schematisches Schaltbild der erfindungsgemäßen
Spannungsversorgungsanordnung und
Fig. 2 ein schematisches Schaltbild der bestehenden Span
nungsversorgungsanordnung.
Fig. 2 ist bereits eingangs erläutert worden.
In Fig. 1 werden einander entsprechende Teile mit den glei
chen Bezugszeichen wie in Fig. 2 versehen.
Bei der erfindungsgemäßen Spannungsversorgungsanordnung sind
in jedem DRAM D1, D2, . . ., Dn ein interner Terminierungs
widerstand Rterm1, Rterm2, . . ., Rtermn und eine interne Ter
minierungs-Spannungsversorgung Vtt1, Vtt2, . . ., Vttn vorgese
hen, welche durch einen Kondensator C als Hochfrequenz-Kurz
schluss überbrückt ist. Die Terminierungswiderstände Rterm1,
Rterm2, . . ., Rtermn können in üblicher Weise aus integrierten
Widerständen, wie beispielsweise Schichtwiderständen und der
gleichen, bestehen, während für die Terminierungs-Spannungs
versorgungen Vtt1, Vtt2, . . ., Vttn Spannungspumpen oder Spannungsteiler
eingesetzt werden können. Eine Spannungspumpe
wird dann herangezogen, wenn die Terminierungs-Spannungs
versorgung Vtt einen höheren Wert haben soll als die höchste
externe Spannung.
In vorteilhafter Weise sind bei aktiver Ausführung die Termi
nierungswiderstände Rterm1, Rterm2, . . ., Rtermn und/oder die
Terminierungs-Spannungsversorgungen Vtt1, Vtt2, . . ., Vttn
einstellbar, sodass deren Werte an die charakteristische Im
pedanz der durch das Bussystem 2 gebildeten Leitung anpassbar
ist.
Die DRAMs D1, D2, . . ., Dn werden alle mit ihren Terminie
rungswiderständen Rterm1, Rterm2, . . ., Rtermn und ihren Ter
minierungs-Spannungsversorgungen Vtt1, Vtt2, . . ., Vttn herge
stellt, obwohl an sich lediglich der von dem Speicher-
Controller MEMC aus längs des Bussystems 2 letzte (oder bus
mäßig am besten geeignete) DRAM Dn einen Terminierungswider
stand und eine Terminierungs-Versorgungsspannnung, also den
Terminierungswiderstand Rtermn und die Terminierungsspan
nungsversorgung Vttn, benötigt, um das Bussystem 2 in geeig
neter Weise abzuschließen. Damit ist eine einheitliche Her
stellung aller DRAMs D1, D2, . . ., Dn gewährleistet.
Die nicht benötigten Terminierungswiderstände Rterm1, Rterm2,
. . ., Rterm(n - 1) und Terminierungs-Spannungsversorgungen Vtt1,
Vtt2, . . ., Vtt(n - 1), die in den DRAMs "vor" dem letzten DRAM
Dn längs des Bussystem 2 liegen, werden ausgeschaltet bzw.
deaktiviert (vgl. "off" in DRAM D1 und DRAM D2), sodass nur
der Terminierungswiderstand Rtermn und die Terminierungs-
Spannungsversorgung Vttn im "letzten" DRAM Dn aktiviert sind.
Der "letzte" DRAM im obigen Beispiel braucht nicht unbedingt
der DRAM Dn zu sein. Vielmehr ist unter ihm jeder bustech
nisch sinnvoll ausgewählte DRAM zu verstehen, der Signalinte
grität der auf dem Bussystem 2 übertragenen Signale gewähr
leistet.
Infolge der Einstellbarkeit bzw. Regelbarkeit des Terminie
rungswiderstandes Rtermn und der Terminierungs-Spannungs
versorgung Vttn kann eine hervorragende Anpassung des Ab
schlusses des Bussystems 2 an dessen Impedanz erreicht wer
den, wodurch parasitäre Erscheinungen weitgehend unterdrückt
und beispielsweise Ground-Bounce-Effekte stark vermindert
werden. Hierzu trägt auch die integrierte Ausführung der Ter
minierungswiderstände und der Terminierungs-Spannungs
versorgung anstelle von deren SMD-Montage auf der gedruckten
Schaltung PCB bei.
Außerdem kann die Packungsdichte erheblich gesteigert werden,
da auf eine externe Verdrahtung für den Terminierungswider
stand sowie die Terminierungs-Spannungsversorgung verzichtet
wird.
Der Terminierungswiderstand und die Terminierungs-Spannungs
versorgung liegen parallel am Eingang der jeweiligen DRAMs
D1, D2, . . ., Dn, deren übrige Beschaltung schematisch durch
einen Treiber DRV' und einen Empfänger REC' angedeutet ist.
1
Spannungsversorgungsanordnung
für Halbleiterspeicheranordnung
2
Bussystem
D1, D2, . . ., Dn DRAMs
MEMC Controller
pCB gedruckte Schaltungsplatte
Vtt, Vtt1, Vtt2, . . ., Vttn Terminierungs- Spannungsversorgung
Rterm, Rterm1, Rterm2, . . ., Rtermn Terminierungswiderstand
DRV, DRV' Treiber
REC, REC' Empfänger
C Kondensator
I/O I/O-Schaltung
D1, D2, . . ., Dn DRAMs
MEMC Controller
pCB gedruckte Schaltungsplatte
Vtt, Vtt1, Vtt2, . . ., Vttn Terminierungs- Spannungsversorgung
Rterm, Rterm1, Rterm2, . . ., Rtermn Terminierungswiderstand
DRV, DRV' Treiber
REC, REC' Empfänger
C Kondensator
I/O I/O-Schaltung
Claims (4)
1. Spannungsversorgungsanordnung für Halbleiterspeicher
anordnung (1), mit einem Controller (MEMC) und einem Bus-
System (2), das einerseits an den Controller (MEMC) und an
dererseits über einen Terminierungswiderstand (Rtermn) an ei
ne Terminierungs-Spannungsversorgung (Vttn) angeschlossen und
mit dem die Halbleiterspeicheranordnung (1) verbunden ist,
dadurch gekennzeichnet, dass
der Terminierungswiderstand (Rtermn) und die Terminierungs- Spannungsversorgung (Vttn) in die Halbleiterspeicheranordnung (1) integriert sind,
die Halbleiterspeicheranordnung (1) aus mehreren DRAMs (D1, D2, . . ., Dn) besteht und in jedem DRAM(D1, D2, . . ., Dn) ein Terminierungswiderstand (Rterm1, Rterm2, . . ., Rtermn) und ei ne Terminierungs-Spannungsversorgung (Vtt1, Vtt2, . . ., Vttn) integriert sind, und
nur die Terminierungs-Spannungsversorgung (Vttn) und der Terminierungswiderstand (Rtermn) des vom Controller (MEMC) auf dem Bussystem (2) am weitesten entfernten DRAMs (Dn) ak tiviert ist.
der Terminierungswiderstand (Rtermn) und die Terminierungs- Spannungsversorgung (Vttn) in die Halbleiterspeicheranordnung (1) integriert sind,
die Halbleiterspeicheranordnung (1) aus mehreren DRAMs (D1, D2, . . ., Dn) besteht und in jedem DRAM(D1, D2, . . ., Dn) ein Terminierungswiderstand (Rterm1, Rterm2, . . ., Rtermn) und ei ne Terminierungs-Spannungsversorgung (Vtt1, Vtt2, . . ., Vttn) integriert sind, und
nur die Terminierungs-Spannungsversorgung (Vttn) und der Terminierungswiderstand (Rtermn) des vom Controller (MEMC) auf dem Bussystem (2) am weitesten entfernten DRAMs (Dn) ak tiviert ist.
2. Spannungsversorgungsanordnung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Terminierungsspannungsversorgung eine Vtt-
Spannungsversorgung ist.
3. Spannungsversorgungsanordnung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, dass
das Bussystem (2) auf einer gedruckten Schaltungsplatte (PCB)
angeordnet ist.
4. Spannungsversorgungsanordnung nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Spannung der Vtt-Spannungsversorgung der höchsten exter
nen Spannung der Halbleitervorrichtung (1) entspricht.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10053831A DE10053831C1 (de) | 2000-10-30 | 2000-10-30 | Spannungsversorgungsanordnung für Halbleiterspeicheranordnung |
US10/012,851 US6690612B2 (en) | 2000-10-30 | 2001-10-30 | Voltage supply for semiconductor memory |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10053831A DE10053831C1 (de) | 2000-10-30 | 2000-10-30 | Spannungsversorgungsanordnung für Halbleiterspeicheranordnung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10053831C1 true DE10053831C1 (de) | 2002-05-08 |
Family
ID=7661598
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10053831A Expired - Fee Related DE10053831C1 (de) | 2000-10-30 | 2000-10-30 | Spannungsversorgungsanordnung für Halbleiterspeicheranordnung |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6690612B2 (de) |
DE (1) | DE10053831C1 (de) |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8100 | Publication of patent without earlier publication of application | ||
D1 | Grant (no unexamined application published) patent law 81 | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
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|
R081 | Change of applicant/patentee |
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R081 | Change of applicant/patentee |
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