Claims (3)
Vorrichtung zum Beschichten von fadenförmigen Substraten im Vakuum, dadurch gekennzeichnet, daß auf einer Achse (5) im Abstand voneinander zwei Scheiben (3,4), die der Halterung der Substrate (2) dienen, befestigt sind und die Achse (5) an einem Ende fest, am anderen Ende drehbar mit je einem Rad (6,7) verbunden ist, wobei die Laufflächen der Räder (6,7) auf einer zentral angetriebenen Platte (8) liegen, die eine Aussparung für einen von der gleichen Antriebsachse (9) bewegten Planeten (10) besitzt, der eine Gabel (11) trägt, die die Achse (5) jeweils zwischen Rad (6,7) und Scheibe (3,4) reibungsarm führt.Apparatus for coating thread-like substrates in a vacuum, characterized in that on an axis (5) at a distance from each other two discs (3,4), which serve to support the substrates (2) are fixed, and the axis (5) on a End is fixed, at the other end rotatably connected to a respective wheel (6,7), wherein the running surfaces of the wheels (6,7) lie on a centrally driven plate (8) having a recess for one of the same drive axle (9 ) has moving planet (10), which carries a fork (11), which leads the axle (5) between each wheel (6,7) and disc (3,4) friction.
Hierzu 1 Seite ZeichnungFor this 1 page drawing
Anwendungsgebiet der ErfindungField of application of the invention
Die Erfindung bezieht sich auf das Gebiet des Maschinenbaus und betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten von z. B. Anodendrähten.The invention relates to the field of mechanical engineering and relates to an apparatus for coating z. B. anode wires.
Charakteristik des bekannten Standes der TechnikCharacteristic of the known state of the art
Es sind bereits zahlreiche Vorrichtungen zum Beschichten von Substraten im Vakuum beschrieben worden (DD 127088, DD 223171, DE 2813180, DE 3138351). Die bekannten technischen Lösungen betreffen Vorrichtungen, die als bewegliche Substrataufnahmen im Abstand von Materiequellen (Verdampfer, Sputtertargets) in einer Vakuumkammer angeordnet sind. Der von einer Materiequelle beim Beschichtungsvorgang ausgehende Materiestrom hat eine Dichteverteilung, die eine homogene Schichtdicke über Längen bzw. Flächen der Substrate nicht gewährleistet. Für fadenförmige Substrate sind bisher noch keine Vorrichtungen beschriebe."! worden.Numerous devices for coating substrates in vacuum have already been described (DD 127088, DD 223171, DE 2813180, DE 3138351). The known technical solutions relate to devices which are arranged as movable substrate receptacles at a distance from matter sources (evaporator, sputtering targets) in a vacuum chamber. The matter flow originating from a source of matter during the coating process has a density distribution which does not guarantee a homogeneous layer thickness over the lengths or areas of the substrates. For thread-like substrates so far no devices are described.
Ziel der ErfindungObject of the invention
Ziel der Erfindung ist es, eine für fadenförmige Substrate geeignete Vorrichtung zum Beschichten dieser Substrate zu entwickeln.The aim of the invention is to develop a device suitable for thread-like substrates for coating these substrates.
Darlegung des Wesens der ErfindungExplanation of the essence of the invention
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zum Beschichten fadenförmiger Substrate im Vakuum anzugeben, die eine über die gesamte Oberfläche homogene Schichtdicke auf den Substraten gewährleistet. Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß bei einer Vorrichtung zum Beschichten fadenförmiger Substrate im Vakuum auf einer Achse im Abstand voneinander zwei Scheiben, die der Halterung der Substrate dienen, befestigt sind und die Achse an einem Ende fest, am anderen Ende drehbar mit je einem Rad verbunden ist, wobei die Laufflächen der Räder auf einer zentral angetriebenen Platte liegen, die eine Aussparung für einen von der gleichen Antriebsachse bewegten Planeten besitzt, der eine Gabel trägt, die die Achse jeweils zwischen Rad und Scheibe reibungsarm führt. Die zentrale Antriebsachse treibt die Platte und den Planeten durch den Materiestrom (1. Bewegung). Hierbei dreht sich der Planet um seine MittelachseThe invention has for its object to provide a device for coating filamentous substrates in a vacuum, which ensures a homogeneous over the entire surface layer thickness on the substrates. According to the invention the object is achieved in that in a device for coating filamentous substrates in vacuum on an axis spaced from each other two discs, which serve to support the substrates are fixed and the axis fixed at one end, rotatable at the other end with one each Wheel is connected, wherein the running surfaces of the wheels lie on a centrally driven plate which has a recess for a planet moved by the same drive axis, which carries a fork, which leads the axis friction between each wheel and disc. The central drive shaft drives the plate and the planet through the matter flow (1st movement). Here, the planet rotates about its central axis
(2. Bewegung). Durch die Relativbewegung der auf dem Planeten befestigten und die Achse des Substratträgers führenden Gabel einerseits und den auf der zentral angetriebenen Platte laufenden Rädern der Achse andererseits bewegen sich die Substrate um die Achse(2nd movement). By the relative movement of the fixed on the planet and the axis of the substrate carrier leading fork on the one hand and the running on the centrally driven plate wheels of the axis on the other hand, the substrates move about the axis
(3. Bewegung).(3rd movement).
Hierdurch wird erreicht, daß die Substrate den in seiner räumlichen Ausdehnung unterschiedlich dichten Materiestrom so durchlaufen, daß über die gesamte Länge der Substrate eine allseitig gleichmäßig dicke Schicht erzeugt wird. Die Anzahl an Durchläufen der Substrate unter der Sputterquelle bis zur zyklischen Wiederkehr der gleichen Stellung der Substrate zur Sputterquelle kann variiert werden durch die Variation der geometrischen Abmessungen der Vorrichtung. Selbstverständlich ist es, daß die Substrate im Abstand voneinander auf bzw. an den Scheiben befestigt sind, da sonst die Rückseite der Substrate nicht mit beschichtet werden kann.In this way it is achieved that the substrates through the differently dense in its spatial extent material flow so that over the entire length of the substrates a uniformly thick layer is generated on all sides. The number of passes of the substrates under the sputtering source to the cyclic return of the same position of the substrates to the sputtering source can be varied by varying the geometric dimensions of the device. Of course, it is that the substrates are spaced apart on or attached to the discs, otherwise the back of the substrates can not be coated with.
Ausführungsbeispielembodiment
Die Erfindung ist nachstehend an einem Ausf ührungsboispiel näher erläutert, das sich auf eine Vorrichtung zum Beschichten von fadenförmigen Substraten bezieht. Die zugehörige Zeichnung zeigt einen Querschnitt der Vorrichtung. Innerhalb eines nicht dargestellten Rezipienten befinden sich im Bereich einer Sputterquelle 116 Stück 0,02mm dicke Quarzfäden als Substrate 2. Die Substrat', 2 s>nd zwischen Scheiben 3; 4 im gleichen Abstand voneinander aufgespannt. Die Scheiben 3; 4 haben einen Durchmesser von 18mm und sind fest auf einer Achse 5 im Abstand von 80 mm angeordnet. Die Achse 5 hat an ihren Enden zwei Räder 6; 7, wobei das eine Rad 6 fest und das andere Rad 7 drehbar mit ihr verbunden ist. Beide Räder laufen auf einer Platte 8. Die Platte 8 ist fest mit einer zentralen Antriebsachse 9 verbunden und besitzt eine Aussparung, unter der sich ein Planet 10 befindet, der sich um eine gedachte Achse 12 dreht. Auf diesam Planeten 10 ist eine Gabel 11 befestigt. In der Gabel 11 wird die Achse 5 beiderseits jeweils zwischen Rad 6; 7 und Scheibe 3; 4 reibungsarm geführt. Die Sputterquelle 1 befindet sich außermittig über der Laufbahn der Substrate 2. Ihr Abstand zu den Substraten 2 beträgt 50mm.The invention is explained in more detail below on an exemplary embodiment which relates to a device for coating thread-like substrates. The accompanying drawing shows a cross section of the device. Within a recipient, not shown, 116 pieces of 0.02 mm thick quartz threads are located as substrates 2 in the region of a sputtering source. The substrate 2, 2 s> nd between disks 3; 4 clamped at the same distance from each other. The discs 3; 4 have a diameter of 18mm and are fixedly arranged on an axis 5 at a distance of 80 mm. The axle 5 has at its ends two wheels 6; 7, wherein one wheel 6 fixed and the other wheel 7 is rotatably connected thereto. Both wheels run on a plate 8. The plate 8 is fixedly connected to a central drive shaft 9 and has a recess under which a planet 10 is located, which rotates about an imaginary axis 12. On this planet 10 a fork 11 is attached. In the fork 11, the axis 5 on both sides between each wheel 6; 7 and disc 3; 4 friction led. The sputter source 1 is off-center over the track of the substrates 2. Their distance from the substrates 2 is 50mm.